JPH0127409B2 - - Google Patents

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JPH0127409B2
JPH0127409B2 JP57133371A JP13337182A JPH0127409B2 JP H0127409 B2 JPH0127409 B2 JP H0127409B2 JP 57133371 A JP57133371 A JP 57133371A JP 13337182 A JP13337182 A JP 13337182A JP H0127409 B2 JPH0127409 B2 JP H0127409B2
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JP
Japan
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carbon atoms
photographic
silver
layer
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JP57133371A
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JPS5923344A (ja
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Naohiko Sugimoto
Tetsuo Kojima
Yasuo Kuraki
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0127409B2 publication Critical patent/JPH0127409B2/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
    • G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
    • G03C7/392—Additives
    • G03C7/396—Macromolecular additives
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/162—Protective or antiabrasion layer

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はハロゲン化銀写真感光材料（以下、
「写真感光材料」と記す）に関するものであり、
特に帯電防止性及び圧力かぶりを改良した写真感
光材料に関するものである。 写真感光材料は一般に電気絶縁性を有する支持
体および写真層から成つているので写真感光材料
の製造工程中ならびに使用時に同種または異種物
質の表面との間の接触摩擦または剥離をうけるこ
とによつて静電電荷が蓄積されることが多い。こ
の蓄積された静電電荷は多くの障害を引起すが、
最も重大な障害は現像処理前に蓄積された静電電
荷が放電することによつて感光性乳剤層が感光し
写真フイルムを現像処理した際に点状スポツト又
は樹枝状や羽毛状の線班を生ずることである。こ
れがいわゆるスタチツクマークと呼ばれているも
ので写真フイルムの商品価値を著しく損ね場合に
よつては全く失なわしめる。例えば医療用又は工
業用Ｘ−レイフイルム等に現われた場合には非常
に危険な判断につながることは容易に認識される
であろう。この現象は現像してみて初めて明らか
になるもので非常に厄介な問題の一つである。ま
たこれらの蓄積された静電電荷はフイルム表面へ
塵埃が付着したり、塗布が均一に行なえないなど
の第２次的な故障を誘起せしめる原因にもなる。 かかる静電電荷は前述したように写真感光材料
の製造および使用時にしばしば蓄積されるのであ
る。例えば製造工程に於ては写真フイルムとロー
ラーとの接触摩擦あるいは写真フイルムの巻取
り、巻戻し工程中での支持体面と乳剤面の剥離等
によつて発生する。またはＸ−レイフイルムの自
動撮影機中での機械部分あるいは螢光増感紙との
間の接触剥離等が原因となつて発生したり、カラ
ーネガフイルム、カラー反転フイルムに於ては、
カメラ内や現像所における接合機、自動現像機で
ゴム、金属、プラスチツク等のローラー、バーと
の接触剥離により発生する。その他包装材料との
接触などでも発生する。かかる静電電荷の蓄積に
よつて誘起される写真感光材料のスタチツクマー
クは写真感光材料の感度の上昇および処理速度の
増加によつて顕著となる。特に最近においては、
写真感光材料の高感度化および高速塗布、高速撮
影、高速自動処理化等の苛酷な取り扱いを受ける
機会が多くなつてことによつて一層スタチツクマ
ークの発生が生じやすくなつている。 これらの静電気による障害をなくすためには写
真感光材料に帯電防止剤を添加することが好まし
い。しかしながら、写真感光材料に利用できる帯
電防止剤は、他の分野で一般に用いられている帯
電防止剤がそのまま使用できる訳ではなく、写真
感光材料に特有の種々の制約を受ける。即ち写真
感光材料に利用し得る帯電防止剤には帯電防止性
能が優れていることの他に、例えば写真感光材料
の感度、カブリ、粒状性、シヤープネス等の写真
特性に悪影響を及ぼさないこと、写真感光材料の
膜強度に悪影響を与えないこと（すなわち摩擦や
引掻きに対して傷が付き易くならないこと）、耐
接着性に悪影響を及ぼさないこと（すなわち写真
感光材料の表面同志或いは他の物質の表面とくつ
つき易くなつたりしないこと）、写真感光材料の
処理液の疲労を早めないこと、写真感光材料の各
構成層間の接着強度を低下させないこと等々の性
能が要求され、写真感光材料へ帯電防止剤を適用
することは非常に多くの制約を受ける。 静電気による障害をなくすための一つの方法は
感光材料表面の電気伝導性を上げて蓄積電荷が放
電する前に静電電荷を短時間に逸散せしめるよう
にすることである。 したがつて、従来から写真感光材料の支持体や
各種塗布表面層の導電性を向上させる方法が考え
られ種々の吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の
界面活性剤、ポリマー等の利用が試みられてき
た。例えば米国特許第2882157号、同2972535号、
同3062785号、同3262807号、同3514291号、同
3615531号、3753716号、3938999号等に記載され
ているようなポリマー、例えば、米国特許第
2982651号、同3428456号、同3457076号、同
3454625号、同3552972号、同3655387号等に記載
されているような界面活性剤、例えば米国特許第
3062700号、同3245833号、同3525621号等に記載
されているような金属酸化物、コロイドシリカ等
が知られている。 しかしながらこれら多くの物質はフイルム支持
体の種類や写真組成物の違いによつて特異性を示
し、ある特定のフイルム支持体および写真乳剤や
その他の写真構成要素には良い結果を与えるが他
の異なつたフイルム支持体および写真構成要素で
は帯電防止に全く役に立たないばかりでなく、写
真性にも悪影響を及ぼす場合がある。 一方帯電防止効果は極めてすぐれているが写真
乳剤の感度、カブリ、粒状性、シヤープネス等の
写真特性に悪影響を及ぼすため使用できないこと
もしばしばある。例えばポリエチレンオキサイド
系化合物は帯電防止効果を有することが一般に知
られているが、カブリの増加、減感、粒状性の劣
化等の写真特性への悪影響をもたらすことが多
い。特に医療用直接Ｘ−レイ感材のように支持体
の両面に写真乳剤が塗布されている感材では写真
特性に悪影響を与えないで帯電防止性を効果的に
付与する技術を確立することは困難であつた。こ
のように写真感光材料へ帯電防止剤を適用するこ
とは非常に困難で、且つその用途範囲が限定され
ることが多い。 写真感光材料の静電気による障害をなくすため
のもう一つの方法は、感光材料表面の帯電列を調
節し、先に述べたような摩擦や接触に対して静電
気の発生を小さくすることである。 例えば、英国特許第1330356号、同1524631号、
米国特許第3666478号、同3589906号、特公昭52−
26687号、特開昭49−46733号、同51−32322号等
に示されるような含弗素界面活性剤をこの目的の
ために写真感光材料へ利用することが試みられて
きた。 しかしながらこれらの含弗素界面活性剤を含む
写真感光材料の静電気特性は、一般に負帯電性で
正帯電性の塗布剤等との組合せにより任意の帯電
列を持つたゴムローラー、デルリンローラー、ナ
イロンバー等に合わせることが可能であるが、従
来の含弗素界面活性剤では例えばゴムの帯電列に
合わした場合にはそれより側の帯電列に位置する
デルリン等によつて樹枝状スタチツクが、逆にデ
ルリンに合わした場合にはそれより負の帯電列に
位置するゴム等によりシミ状スタチツクが発生す
るのが常であつた。これを補うために高分子電解
質を併用して表面抵抗を下げる方法等があるがこ
れらは種々の副作用をもたらし例えば耐接着性を
悪化したり写真性に悪影響を及ぼす。従つて充分
な帯電防止性を得る程度までこれらを含有させる
ことは不可能であつた。 次にスタチツクマークを防ぐ方法として、紫外
線吸収剤を用いる方法がある。 この方法は、スタチツクマークを生ぜしめる放
電発光の分光エネルギー分布が200nm〜500nmで
あり、特に300nm〜400nmにかけての強度が著し
く、この範囲の光エネルギーがスタチツクマーク
発生の原因になつていることが知られていること
から来ている。従来より、例えば、特公昭50−
10726号公報、特開昭51−26021号明細書、仏国特
許第2036679号明細書、等に記載されているよう
に、紫外線吸収剤により、特に300〜400nmの紫
外線光を遮光することによりスタチツクマーク発
生を防止する試みがなされてきた。 通常、カラー感材の帯電防止のために、以上の
いくつかの方法を組合せて用いることで、スタチ
ツクマークの生じない感材を製造しているが、特
に乳剤層側又はゼラチンバツク層において有効な
方法は帯電相手物質への依存性が小さい含フツ素
カチオン性界面活性剤を用いる方法と紫外線吸収
剤を組合せる方法である。しかしながらこの方法
によつて帯電防止性は飛躍的に向上するにもかか
わらず、写真圧力特性が特に悪化することが判つ
た。 従つて本発明の第一の目的はスタチツクマーク
の発生をほとんど防止した写真感光材料を提供す
ることにある。 本発明の第二の目的は、写真圧力特性の良好な
写真感光材料を提供することにある。 本発明者らは鋭意研究した結果、本発明のこれ
らの目的は次のような写真感光材料により達成さ
れる事を見出した。即ち、 支持体上に少なくとも１つの感光性ハロゲン化
銀乳剤層と、少なくとも１つの非感光性層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料において、下記一般
式〔〕で表わされる単量体から誘導される繰り
返し単位を有する重合体又は共重合体紫外線吸収
性ポリマーラテツクス及び含フツ素カチオン界面
活性剤を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料によつて達成されることを見出し
た。 一般式〔〕 式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１〜４の低級
アルキル基、を表わし、Ｘは−CONH−、−COO
−またはフエニレン基を表わし、Ａは炭素原子数
１〜20のアルキレン基で示される連結基を表わ
し、Ｙは−COO−、−OCO−、又は−Ｏ−を表わ
す。 またｍとｎは各々０または１の整数を表わす。 Ｑは下記一般式〔〕又は〔〕で示される紫
外線吸収性基を表わす。 一般式〔〕 式中、R1とR2は各々炭素原子数１〜20のアル
キル基を表わし、更に、R1とR2は互いに同一も
しくは異つていてもよい。更にR1とR2は結合し
て一体化してもよく、その場合は環状アミノ基を
形成するのに必要な原子団を表わす。R3はシア
ノ基、−COOR5，−CONHR5，−COR5又は−
SO2R5を表わし、R4はシアノ基、−COOR6，−
CONHR6，−COR6又は−SO2R6を表わし、R5と
R6は各々炭素原子数１〜20のアルキル基、同６
〜20のアリール基を表わし、更にR5とR6は結合
して一体化してもよく一体化した場合は１，３−
ジオキソシクロヘキサン、の核を形成するのに必
要な原子団を表わす。 但し、R1，R2，R3，R4のうち少なくとも１つ
は先に述べた連結基を介しビニル基と結合するも
のとする。 一般式〔〕 式中、R11，R12，R13，R14，R15は各々水素原
子、ハロゲン原子、炭素数１〜20のアルキル基、
炭素数１〜20のアルコキシ基、炭素数１〜20のア
ルキルアミノ基、を表わし、R11とR12、R12と
R13、R13とR14又はR14とR15は閉環して５〜６員
環を形成してもよい。 R16は水素原子、炭素数１〜20のアルキル基を
表わす。 R17はシアノ基、−COOR19、−CONHR19、−
COR19、又は−SO2R19を表わす。 R18はシアノ基、−COOR20、−CONHR20、−
COR20、又は−SO2R20を表わす。 R19とR20は各々、炭素数１〜20のアルキル基
又は炭素数６〜20のアリール基を表わす。 但し、R11，R12，R13，R14，R15，R16，R17及
びR18の内の少なくとも１つは先に述べた連結基
を介してビニル基と結合するものとする。 一般式〔〕において好ましくはR1とR2は
各々炭素数１〜20のアルキル基を表わし、R3は
シアノ基、又は−SO2R5を表わし、R4はシアノ
基、又は−COOR6を表わす。R5とR6は各々炭素
数１〜20のアルキル基又は炭素数６〜20のアリー
ル基を表わす。 一般式〔〕において特に好ましくはR1とR2
は炭素数１〜６のアルキル基を表わし、R3は−
SO2R5を表わし、R4は−COOR6を表わす。R5
は、置換してもよいフエニル基（例えばフエニル
基、トリル基等）を表わし、R6は炭素数１〜20
のアルキル基を表わす。 一般式〔〕 式中、R11，R12，R13，R14及びR15は各々水素
原子、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子
等）、炭素数１〜20のアルキル基（例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル
基、ｔ−アミル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチ
ル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、
ヒドロキシエチル基、クロロプロピル基、ベンジ
ル基、シアノエチル基等）、炭素数１〜20のアル
コキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、２
−エチルヘキシルオキシ基、メトキシメトキシ
基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ等）、
炭素数１〜20のアルキルアミノ基（例えば、メチ
ルアミノ基、エチルアミノ基、ベンジルアミノ
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等）、
を表わし、R11とR12、R12とR13、R13とR14又は
R14とR15は閉環して５または６員環を形成して
もよい（例えば、メチレンジオキシ基等）。R16
は水素原子、炭素数１〜20のアルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−
オクチル基等）、を表わす。R17はシアノ基、−
COOR19、−CONHR19、−COR19、又は−SO2R19
を表わし、R18はシアノ基、−COOR20、−
CONHR20、−COR20又は−SO2R20を表わし、R19
とR20は各々先に述べた様なアルキル基、アリー
ル基を表わす。 更にR11，R12，R13，R14，R15、R16，R17，
R18のうち少なくとも１つは先に述べた連結基を
介し、ビニル基と結合するものとする。 一般式〔〕に於てR11，R12，R13，R14及び
R15は各々水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
20のアルキル基、炭素数６〜20のアリール基、炭
素数１〜20のアルキル基アミノ基、を表わし、
R11とR12、R12とR13、R13とR14又はR14とR15は
閉環してもよい。R16は水素原子、炭素数１〜20
のアルキル基を表わし、R17はシアノ基、−
COOR19、−CONHR19、−COR19、又は−SO2R19
を表わし、R18はシアノ基、−COOR20、−
CONHR20、−COR20、又は−SO2R20を表わし、
R19とR20は各々炭素数１〜20のアルキル基、炭
素数６〜20のアリール基を表わす。更にR11，
R12，R13，R14，R15、R16，R17及びR18のうち少
なくとも１つは先に述べた連結基を介し、ビニル
基と結合するものとする。 前記一般式〔〕で表わされる化合物において
特に好ましくは、Ｒは水素原子、炭素数１〜４の
低級アルキル基、または塩素を表わし、Ｘは−
COO−を表わし、ｍとｎは０を表わす。Ｑは一
般式〔〕で示される紫外線吸収性基を表わし、
一般式〔〕に於てR11，R12，R14及びR15は
各々水素原子を表わし、R13は水素原子又は炭素
数１〜５のアルキル基を表わし、R16は水素原
子、R17はシアノ基、R18は−COOR20を表わし、
R20は炭素数１〜20のアルキレン基を示し、ビニ
ル基と結合するものとする。 又、紫外線吸収性単量体と共重合する際に使用
する単量体（コモノマー）は、アクリル酸、α−
クロロアクリル酸、α−アルアクリル酸（例え
ば、メタアクリル酸などのアクリル酸類から誘導
されるエステル、好ましくは低級アルキルエステ
ルおよびアミド（例えば、アクリルアミド、メタ
アクリルアミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、メ
チルアクリレート、メチルメタアクリレート、エ
チルアクリレート、エチルメタアクリレート、ｎ
−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキ
シルアクリレート、オクチルメタアクリレートお
よびラウリルメタアクリレート、メチレンビスア
クリルアミド等）、ビニルエステル（例えば、ビ
ニルアセテート、ビニルプロピオネートおよびビ
ニルラウレート等）、アクリロニトリル、メタア
クリロニトリル、芳香族ビニル化合物（例えば、
スチレンおよびその誘導体、例えば、ビニルトル
エン、ジビニルベンゼン、ビニルアセトフエノ
ン、スルホスチレンおよびスチレンスルフイン酸
等）、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、
ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル
（例えば、ビニルエチルエーテル等）、マレイン酸
エステル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビ
ニルピリジン、２−および４−ビニルピリジン等
がある。 このうち特にアクリル酸エステル、メタアクリ
ル酸エステル、芳香族ビニル化合物が好ましい。 上記コモノマー化合物の２種以上を一緒に使用
することもできる。 例えば、ｎ−ブチルアクリレートとジビニルベ
ンゼン、スチレンとメチルメタアクリレート、メ
チルアクリレートとメタアクリル酸等を使用でき
る。 前記一般式〔〕に相当する紫外線吸収性単量
体と共重合させるためのエチレン系不飽和単量体
は形成される共重合体の物理的性質および／また
は化学的性質例えば溶解度、写真コロイド組成物
の結合剤、例えばゼラチンあるいは他の写真用添
加剤例えば公知の写真用の紫外線吸収剤、公知の
写真用酸化防止剤、及び公知のカラー画像形成剤
との相溶性、その可撓性、熱安定性等が好影響を
受けるように選択することができる。 例えば添加する親水性コロイド層を硬くする目
的でラテツクスそのものを硬くする場合は、ガラ
ス転移点（Tg）の高いコモノマー（例えばスチ
レン、メチルメタアクリレート）を用いるのが好
ましい。 本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーラテ
ツクスは乳化重合法で作つてもよく、あるいは紫
外線吸収性単量体と重合で得られた親油性ポリマ
ーを有機溶媒中（例えば酢酸エチル）に溶かした
ものをゼラチン水溶液中にて界面活性剤とともに
撹拌してラテツクスの形で分散して作つてもよ
い。 これらの方法はホモ重合体の形成および共重合
体の形成にも応用でき、後者の場合、コモノマー
は液体コモノマーであれば乳化重合の場合に常態
で固体である紫外線吸収性単量体のための溶媒と
しても作用するため好ましいエチレン系不飽和固
体単量体のフリーラジカル重合は化学的開始剤の
熱分解または酸化性化合物における還元剤の作用
（レドツクス開始剤）または物理的作用例えば紫
外線または他の高エネルギー輻射、高周波等によ
り形成されるフリーラジカルの単量体分子に付加
することによつて開始される。 主な化学的開始剤としては、パーサルフエート
（例えば、アンモニウムあるいはカリウムパーサ
ルフエート等）、過酸化水素、過酸化物（例えば、
ベンゾイルパーオキサイド、クロロベンゾイルパ
ーオキサイド等）、アゾニトリル化合物（例えば、
４，4′−アゾビス（４−シアノバレリアン酸）、
アゾビスイソブチロニトリル等）などがあげられ
る。普通のレドツクス開始剤には過酸化水素−鉄
（）塩、過硫酸カリウム−重硫酸カリウム、セ
リウム塩アルコール等がある。 開始剤の例およびその作用はF.A.Bovey著
「Emulsion Polymerization Intersoince
Publishes Inc.New York発行 1955年 第59−
第93頁に記載されている。 乳化重合の際用いられる乳化剤としては界面活
性を持つ化合物が用いられ好ましくはスルホネー
トおよびサルフエート、カチオン化合物、両性化
合物および高分子保護コロイドが挙げられる。こ
れらの群の例およびそれらの作用はBelgische
Chemische Industrie第28巻第16〜20頁（1963
年）に記載されている。 一方親油性ポリマー紫外線吸収剤をゼラチン水
溶液中にラテツクスの形で分散する際、親油性ポ
リマー紫外線吸収剤を溶解するために用いる有機
溶媒は分散液を塗布する前あるいは（あまり好ま
しくないが）塗布した分散液の乾燥中の気化の際
に除かれる。溶媒を除去する方法としてはたとえ
ば、ゼラチンネードル型で水洗することにより除
去しうるようにある程度水溶性のもの、および噴
霧乾燥、真空または水蒸気パージング法によつて
除かれるものがある。 又、この除去しうる有機溶媒としてはエステル
（例えば低級アルキルエステル）、低級アルキルエ
ーテル、ケトン、ハロゲン化炭化水素（例えば塩
化メチレンまたはトリクロロエチレン等）、フツ
素化炭化水素、アルコール（例えば、ｎ−ブチル
ないしオクチルまでのアルコール）およびそれら
の組合せを包含する。 親油性ポリマー紫外線吸収剤を分散する分散剤
としては、どのような形式のものを用いてもよい
が、イオン性界面活性剤特にアニオン性型のもの
が好適である。 また、Ｃ−セチルベタイン、Ｎ−アルキルアミ
ノプロピオン酸塩、Ｎ−アルキルイミノプロピオ
ン酸塩のような両性型のものも用いることもでき
る。 分散安定性を増大させ、塗布した乳剤のたわみ
性を改善するために、永久的溶媒すなわち、高沸
点（200℃以上）の水不混和性有機溶媒を少量
（紫外線吸収性ポリマーの50重量％以下）加えて
もよい。この永久的溶媒の濃度は固体粒状形に維
持させている間に重合体を可塑化しうるように充
分低くする必要がある。また永久的溶媒を用いる
に当つては、最終の乳剤層または親水性コロイド
層の皮膜の厚さをできるだけ薄くして高い鮮鋭度
を維持するためにできるかぎり少量である方が好
ましい。 本発明の紫外線吸収性ポリマーラテツクス中に
占める紫外線吸収剤部分（一般式（）のモノマ
ー）の割合は通常５〜100重量％が望ましいが、
膜厚、安定性の点では特に50〜100重量％が好ま
しい。 以下に本発明の前記一般式〔〕で表わされる
紫外線吸収性単量体の代表例を示すが、これによ
つて本発明の化合物が限定されるものではない。 次に本発明に用いられる重合体又は共重合体紫
外線吸収剤の好ましい組成の具体例を示す。 Ｐ−１〜Ｐ−36：例示化合物(1)〜（36）のホモ
ポリマー Ｐ−37：例示化合物(5)：メチルメタアクリレー
ト＝７：３（重量比）のコポリマー Ｐ−38：例示化合物(5)：メチルメタアクリレー
ト＝５：５のコポリマー Ｐ−39：例示化合物(5)：メチルアクリレート＝
７：３のコポリマー Ｐ−40：例示化合物(8)：スチレン＝５：５のコ
ポリマー Ｐ−41：例示化合物(8)：ブチルアクリレート＝
7.5：2.5のコポリマー Ｐ−42：例示化合物(1)：メチルメタアクリレー
ト＝７：３のコポリマー Ｐ−43：例示化合物(1)：メチルメタアクリレー
ト＝５：５のコポリマー Ｐ−44：例示化合物(8)：メチルアクリレート＝
７：３のコポリマー Ｐ−45：例示化合物(2)：メチルメタアクリレー
ト＝５：５のコポリマー Ｐ−46：例示化合物（16）：メチルメタアクリ
レート＝７：３のコポリマー Ｐ−47：例示化合物（16）：メチルアクリレー
ト＝５：５のコポリマー Ｐ−48：例示化合物（26）：メチルメタクリレ
ート＝８：２（重量比）のコポリマー Ｐ−49：例示化合物（26）：メチルメタクリレ
ート＝５：５（重量比）のコポリマー Ｐ−50：例示化合物（36）：ｎ−ブチルアクリ
レート＝７：３（重量比）のコポリマー Ｐ−51：例示化合物（28）：メチルメタアクリ
レート＝７：３（重量比）のコポリマー Ｐ−52：例示化合物（31）：メチルメタアクリ
レート＝８：２（重量比）のコポリマー Ｐ−53：例示化合物（36）：ｎ−ブチルアクリ
レート＝５：５（重量比）のコポリマー 一般式〔〕に相当する紫外線吸収性単量体
は、例えば米国特許4200464号、同4195999号、
Beilsteins Handbuchder Organischen Chemie
（第４版）10巻521頁（1942年）特開昭51−56620
号等に記載の方法により合成される化合物とアク
リル酸またはα−置換アクリル酸の酸ハライド例
えばアクリロイルおよびメタアクリロイルクロラ
イドとの反応により合成することもできるし、特
公昭49−28122、特開昭48−11102に記載されてい
る如く２−シアノ−３−フエニルアクリル酸とヒ
ドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチル
メタアクリレート、グリシジルアクリレート等と
の反応によつても合成することができる。 本発明に用いる化合物の代表的な合成例を以下
に示す。 〔Ａ〕 単量体化合物 合成例１ （例示化合物(5)） トルアルデヒド（400dl）とシアノ酢酸（311
ｇ）と酢酸（60ml）と酢酸アンモニウム（25.6
ｇ）をエチルアルコール（1.6）中で４時間加
熱還流する。反応後、減圧下にエチルアルコール
を600mlまで濃縮し、氷水１にあけると結晶が
析出する。析出した結晶を吸引過し、エチルア
ルコール２から再結晶すると、210〜215℃で溶
解する２−シアノ−３−（４−メチルフエニル）−
アクリル酸を560ｇの収量で得る。この化合物
（320ｇ）と塩化チオニル（252ｇ）をアセトニト
リル（200ml）中１時間加熱溶解し、反応後減圧
下にアセトニトリルと塩化チオニルを留去し、得
られた固体をヒドロキシエチルメタアクリレート
（244.8ｇ）、ピリジン（149ｇ）、アセトニトリル
（２）の浴液に添加する。反応温度を40℃以下
におさえながら、２時間反応させる。反応後、反
応液を氷水にあけ晶析し、得られた結晶をエチル
アルコール（３）から再結晶すると74〜75℃で
溶融する目的物360ｇを得る。 IR，NMR、元素分析結果により目的物を確認
した。 元素分析値（C17H17NO4） 理論値 Ｈ：5.72％ Ｃ：68.22％ Ｎ：4.68％ 実験値 Ｈ：5.75％ Ｃ：68.16％ Ｎ：4.76％ λCH3OH nax＝311nm 合成例２ （例示化合物(8)） ベンズアルデヒド（200ｇ）と、シアノ酢酸
（176ｇ）と酢酸（30ml）と酢酸アンモニウム
（14.5ｇ）をエチルアルコール（800ml）中で４時
間加熱還流する。反応後減圧下にエチルアルコー
ルを400mlまで濃縮し、氷水１にあけ晶析し、
得られた結晶をアセトニトリル250mlから再結晶
すると、184〜188℃で溶融する２−シアノ−３−
フエニルアクリル酸を265ｇの収量で得る。この
化合物（150ｇ）と、塩化チオニル（176ｇ）をア
セトニトリル（100ml）中１時間加熱溶解し、反
応後減圧下にアセトニトリルと塩化チオニルを留
去し、得られた固体をヒドロキシエチルメタアク
リレート（124ｇ）、ピリジン（75ｇ）、アセトニ
トリル（１）の溶液に添加する。反応温度を40
℃以下におさえながら２時間反応させる。反応
後、反応液を氷水にあけ晶析し、得られた結晶を
エチルアルコール（１）から再結晶すると、68
〜70℃で溶融する目的物205ｇを得る。 IR，NMR、元素分析結果により目的物を確認
した。 元素分析値（C16H14NO4） 理論値 Ｈ：4.96％ Ｃ：67.60％ Ｎ：4.93％ 実験値 Ｈ：4.87％ Ｃ：67.65％ Ｎ：4.99％ λCH3OH nax＝298nm 合成例３ （例示化合物(1)） ４−ヒドロキシベンズアルデヒド（30ｇ）とシ
アノ酢酸エチルエステル（31.7ｇ）と酢酸（4.5
ml）と酢酸アンモニウム（1.9ｇ）をエチルアル
コール（100ml）中で４時間加熱還流する。反応
後、反応液を氷水500mlにあけ晶析し、得られた
結晶をメチルアルコール（400ml）から再結晶す
ると、89〜91℃で溶融するエチル−２−シアノ−
３−（４−ヒドロフエニル）−アクリレートを65ｇ
の収量である。この化合物（10.9ｇ）とピリジン
（4.3ｇ）をテトラヒドロフラン（100ml）に溶解
し、アクリルロイルクロライド（4.5ｇ）を滴下
する。反応温度を40℃以下におさえながら２時間
反応させ、反応後反応液を氷水にあけ晶析し、得
られた結晶をメチルアルコール（100ml）から再
結晶すると、82〜85℃で溶融する目的物11ｇを得
る。IR，NMR、元素分析結果により目的物を確
認した。 元素分析値（C15H13NO4） 理論値 Ｈ：4.83％ Ｃ：66.41％ Ｎ：5.16％ 実験値 Ｈ：4.91％ Ｃ：66.42％ Ｎ：5.08％ λCH3OH nax＝323nm 合成例４ （例示化合物（26）） ３−アニリノアクロレインアニル（45dl）とエ
チル−（４−ビニルフエニル）スルホニルアセテ
ート（51ｇ）を窒素気流下無水酢酸（50ml）中で
85〜90℃に２時間加熱する。減圧下に無水酢酸を
除き、エチルアルコール（250ml）とジエチルア
ミン（73ｇ）を加えて２時間還流する。反応液を
氷水にあけると、淡黄色の沈澱物を生ずる。得ら
れた沈澱物をエチルアルコール（300ml）から再
結晶すると、117〜118℃で溶融する目的物58ｇを
得る。 λCH3COOC2H5 nax＝372nm IR，NMR、元素分析結果により目的物を確認
した。 元素分析値（C19H25NO4S） 理論値 Ｈ：6.93％ Ｃ：62.78％ Ｎ：3.85％ 実験値 Ｈ：6.88％ Ｃ：62.87％ Ｎ：3.80％ 合成例５ （例示化合物（28）） ３−アニリノアクロレインアニル（29dl）とエ
チルフエニルスルホニルアセテート（30ｇ）を無
水酢酸（30ml）中で85〜90℃に２時間加熱する。
減圧下に無水酢酸を除きエチルアルコール（200
ml）とエチルヒドロキシエチルアミノ（12ｇ）を
加えて２時間還流する。反応液を氷水にあけると
淡黄色の沈澱物を生ずる。得られた沈澱物を酢酸
エチルから再結晶すると、107℃で溶融するエチ
ル−５−（Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロキシエチルア
ミノ）−２−フエニルスルホニル−２，４−ペン
タジエノエート36ｇを得る。 この化合物（30ｇ）とピリジン（７ml）をアセ
トニトリル（100ml）に溶解し、メタアクリロイ
ルクロライド（16ｇ）を適下する。反応温度を40
℃以下におさえながら２時間反応させる。反応
後、アセトニトリルを留去し、残渣をカラムクロ
マト（メルク社製 Kieselgel 60）にかけ、ｎ−
ヘキサン−酢酸エチル留出物を集め、溶媒を留去
すると、油状の目的物25ｇを得る。 λCH3COOC2H5 nax＝372nm IR，NMR、元素分析結果により目的物を確認
した。 元素分析値（C21H27NO6S） 理論値 Ｈ：6.46％ Ｃ：59.84％ Ｎ：3.32％ 実験値 Ｈ：6.54％ Ｃ：59.71％ Ｎ：3.35％ 〔Ｂ〕 重合体化合物 合成例６ 例示化合物(5)のホモポリマーラテツク
ス オレイルメチルタウライドのナトリウム塩10ｇ
の600mlの水溶液を撹拌下徐々に窒素気流を通じ
つつ90℃に加熱した。この混合物に過硫酸カリウ
ム350mgの20ml水溶液を加えた。次いで紫外線吸
収性単量体(5)50ｇをエタノール200mlに加熱溶解
し、添加した。添加後、１時間85〜90℃で加熱撹
拌した後、過硫酸カリウム150mgの10ml水溶液を
加え、さらに１時間反応した後、エタノールを水
の共沸混合物として留去した。形成したラテツク
スを冷却しPHを1N−水酸化ナトリウムで6.0に調
整したのち過した。ラテツクスの重合体濃度は
7.81％を示した。またラテツクス液は水溶媒系で
330nmの吸収極大を示した。 合成例 ７ 例示化合物(8)とｎ−ブチルアクリレートのコポ
リマーラテツクスオレイルメチルタウライドのナ
トリウム塩15ｇの800mlの水溶液を撹拌下徐々に
窒素気流を通じつつ90℃に加熱した。この混合物
に過硫酸カリウム525mgの20ml水溶液を加えた。 次いで紫外線吸収性単量体(8)50ｇとｎ−ブチル
アクリレート25ｇをエタノール200mlに加熱溶解
し、添加した。添加後１時間85〜90℃で加熱撹拌
した後、過硫酸カリウム225mgの10ml水溶液を加
え、さらに１時間反応した後、エタノール及び未
反応のｎ−ブチルアクリレートを水の共沸混合物
として留去した。形成したラテツクスを冷却し、
PHを1N−水酸化ナトリウムで6.0に調整したのち
過した。ラテツクスの重合体濃度は10.23％、
窒素分析値は形成された共重合体が65.8％の紫外
線吸収性モノマーユニツトを含有していることを
示した。またラテツクス液は水溶媒系で316nmの
吸収極大を示した。 合成例 ８ 例示化合物(5)と、メチルメタアクリレートとの
コポリマーラテツクスオレイルメチルタウライド
のナトリウム塩75ｇの４の水溶液を撹拌下徐々
に窒素気流を通じつつ90℃に加熱した。この混合
物に過硫酸カリウム2.6ｇの50ml水溶液を加えた。 次いで紫外線吸収性単量体(5)300ｇとメチルメ
タアクリレート60ｇを１のエタノールに溶解
し、添加した。添加後１時間85〜90℃で加熱撹拌
した後過硫酸カリウム1.1ｇの20ml水溶液を加え、
さらに１時間反応した後、エタノール及び、未反
応のメチルメタアクリレートを水の共沸混合物と
して留去した。形成したラテツクスを冷却し、PH
を1N−水酸化ナトリウムで6.0に調整したのち
過した。ラテツクスの重合体濃度は9.42％、窒素
分析値は形成された共重合体が78.9％の紫外線吸
収性モノマーユニツトを含有していることを示し
た。またラテツクス液は水溶媒系で327nmの吸収
極大を示した。 合成例 ９ 例示化合物(1)とメチルメタアクリレートのコポ
リマーラテツクスオレイルメチルタウライドのナ
トリウム塩15ｇの１の水溶液を撹拌下徐々に窒
素気流を通じつつ90℃に加熱した。この混合物に
過硫酸カリウム225mgの20ml水溶液を加え、次い
でメチルメタアクリレート10ｇを添加し、１時間
85〜90℃で加熱撹拌下重合しラテツクス(a)を合成
した。次にこのラテツクス(a)に、紫外線吸収性単
量体(1)50ｇとメチルメタアクリレート10ｇを溶解
したエタノール200mlを添加し、次いで過硫酸カ
リウム300mgの20ml水溶液を加え、さらに１時間
反応した後、過硫酸カリウム225mgの20ml水溶液
を添加した。引き続き１時間反応後エタノール及
び未反応のメチルメタアクリレートを水の共沸混
合物として留去した。形成したラテツクスを冷却
し、PHを1N−水酸化ナトリウムで6.0に調整した
のち過した。ラテツクスの重合度は8.38％、窒
素分析値は形成された共重合体が62.3％の紫外線
吸収性モノマーユニツトを含有していることを示
した。 合成例 10 親油性ポリマー紫外線吸収剤の合成例−１ 紫外線吸収性単量体(8)21ｇとメチルアクリレー
ト９ｇとをジオキサン150mlに溶解し、窒素気流
下70℃で加熱撹拌しながらジオキサン５mlに溶解
した２，2′−アゾビス−（２，４−ジメチルバレ
ロニトリル）270mgを加えた後５時間反応した。
次にこの生成物を氷水２中に注ぎ、析出する固
体を別し、さらに十分、水で洗浄した。この生
成を乾燥することにより親油性ポリマー紫外線吸
収剤25.3ｇを得た。この親油性ポリマー紫外線吸
収剤は窒素分析により形成された共重合体が、
64.5％の紫外線吸収モノマーユニツトを含有して
いることを示した。 λCH3COOC2H5 nax＝300nm 紫外線吸収性ポリマーラテツクス(A)の製法 まず以下のようにして(a)と(b)の２種の溶液を調
整した。 (a) 骨ゼラチンの10重量％水溶液（PH5.6、35℃
において）70ｇを32℃に加熱溶解する。 (b) 上記親油性ポリマー５ｇを38℃において酢酸
エチル20ｇに溶解し、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム塩の70重量％メタノール溶液を
加える。次いで(a)と(b)を爆発防止混合機に入
れ、１分間高速で撹拌した後、混合機を停止
し、酢酸エチルを減圧留去した。このようにし
て親油性ポリマー紫外線吸収剤を希ゼラチン水
溶液中に分散したラテツクスを作つた。 合成例 11 親油性ポリマー紫外線吸収剤の合成例−２ 紫外線吸収性単量体(5)63ｇとメチルメタアクリ
レート27ｇとをジオキサン450mlに溶解し、窒素
気流下70℃で加熱撹拌しながら、ジオキサン15ml
に溶解した２，2′−アゾビス−（２，４−ジメチ
ルバレロニトリル）810mgを加えた後５時間反応
した。次にこの生成物を氷水５中に注ぎ析出す
る固体を別し、さらに十分水、メタノールで洗
浄した。この生成物を乾燥することにより、親油
性ポリマー紫外線吸収剤78ｇを得た。この親油性
ポリマー紫外線吸収剤は窒素分析により形成され
た共重合体が66.3％の紫外線吸収モノマーユニツ
トを含有していることを示した。 λCH3COOC2H5 nax＝315nm 紫外線吸収性ポリマーラテツクス(B)の製法 前記ポリマーラテツクス(A)の製法と同様の処理
をし、ポリマーラテツクス(B)を作つた。 合成例 12 例示化合物（26）とメチルメタアクリレートと
のコポリマーラテツクスオレイルメチルウライド
のナトリウム塩150ｇの７の水溶液を撹拌下
徐々に窒素気流を通じつつ90℃に加熱した。この
混合物に過硫酸カリウム5.6ｇの100ml水溶液を加
えた。次いで紫外線吸収性単量体(1)600ｇと、メ
チルメタアクリレート120ｇを１のエタノール
に溶解し、添加した。添加後１時間85〜90℃で加
熱撹拌した後過硫酸カリウム2.2ｇの30ml水溶液
を加え、さらに１時間反応した後、エタノール及
び未反応のメチルメタアクリレートを水の共沸混
合物として除いた。形成したラテツクスを冷却
し、PHを1N−水酸化ナトリウムで6.0に調整した
のち過した。ラテツクスの重合体濃度は10.03
％、窒素分析値は形成された共重合体が76.7％の
紫外線吸収性モノマーユニツトを含有しているこ
とを示した。またラテツクス液は水溶媒系で
381nmの吸収極大を示した。 合成例 13 親油性ポリマー紫外線吸収剤の合成例−１ 紫外線吸収性単量体（28）21ｇとメチルアクリ
レート９ｇとをジオキサン150mlに溶解し、窒素
気流下70℃で加熱撹拌しながらジオキサン５mlに
溶解した２，2′−アゾビス−（２，４−ジメチル
バレロニトリル）270mgを加えた後５時間反応し
た。次にこの生成物を氷水２中に注ぎ、析出す
る固体を別し、さらに十分水で洗浄した。この
生成物を乾燥することにより親油性ポリマー紫外
線吸収剤23.9ｇを得た。この親油性ポリマー紫外
線吸収剤は窒素分析により形成された共重合体
が、63.1％の紫外線吸収性モノマーユニツトを含
有していることを示した。 λCH3COOC2H5 nax＝372nm 紫外線吸収性ポリマーラテツクス(A)の製法 まず以下のようにして(i)と(ii)の２種の溶液を調
整した。 (i) 骨ゼラチンの10重量％水溶液（PH5.6、35℃
において）70ｇを32℃に加熱溶解する。 (ii) 上記親油性ポリマー５ｇを38℃において酢酸
エチル20ｇに溶解し、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム塩の70重量％メタノール溶液を
加える。次いで(i)と(ii)を爆発防止混合機に入
れ、１分間高速で撹拌した後、混合機を停止
し、酢酸エチルを減圧留去した。このようにし
て親油性ポリマー紫外線吸収剤を希ゼラチン水
溶液中に分散したラテツクスを作つた。 本発明の紫外線吸収剤ポリマーラテツクスはハ
ロゲン化銀写真感光材料の表面保護層、中間層、
ハロゲン化銀乳剤層などの親水性コロイド層に添
加して用いるが、特に表面保護層又は表面保護層
に隣接する親水性コロイド層に用いるのが好まし
い。特に表面保護層を２層にしその下層側に添加
するのが好ましい。 本発明に於ける紫外線吸収剤ポリマーラテツク
スの使用量については特に制限はないが１平方メ
ートル当り10〜2000mg、特に50〜1000mgであるこ
とが好ましい。 本発明に用いられる含フツ素カチオン性界面活
性剤は下記一般式〔〕で表わされる化合物であ
る。 〔〕 Rf−Ａ−ＸＹ 但し、Rfは炭素原子数１〜20個の炭化水素基
であり、少なくとも１つの水素原子はフツ素原子
で置換されている。 Ａは化学結合手又は２価基を表わす。Ｘはカチ
オン性基を表わす。Ｙはカウンターアニオンを表
わす。 Rfの例としては−CnF2o+1、（ｎ＝１〜20、特
に３〜12）、HCnF2o−、−CnF2o-1、−C3mF6n-1
（ｍ＝１〜４）を挙げることが出来る。 Ａの例としては
【式】（R′： Ｈ、炭素数１〜６のアルキルで−OHで置換され
ていてもよい。Ｐ：０〜６）、−CONR′−（CH2）
ｐ、−Ｏ−A′−SO2NR′−（CH2）p−（A′：アルキレ
ン、アリーレン）、−Ｏ−A′−CONR′−（CH2）p
−、−Ｏ−A′−Ｏ−（CH2）p−、−Ｏ−A′（CH2）p
−、−Ｏ（CH2CH2O）q（CH2）p−、（ｑ＝１〜20）、
−Ｏ−（（CH2）p−、−NR′−（CH2）p−、
【式】−CONR′−（CH2）p −Ｏ−、
【式】を挙げ ることが出来る。 Ｘの例としては−Ｎ（R′）3、−Ｎ
（CH2CH2OCH3）3、
【式】
【式】
【式】
【式】を挙げることが出来 る。 Ｙの例としてはＩ，Cl，Br，CH3SO4、
【式】を挙げることが出来る。 本発明に用いられる含フツ素カチオン性界面活
性剤については、例えば特開昭51−15124号、同
50−11322号、同52−127974号、同48−52223号、
同53−84712号、特公昭48−43130号、特願昭56−
30923号、米国特許第3775126号、同3850640号、
同4175969号、同3884699号、同3779768号、リサ
ーチ・デイスクロジヤー誌1978年12月号No.17611
等にも記載されている。 以下に本発明に好ましく用いられる含フツ素カ
チオン性界面活性剤の具体的化合物例を挙げる。
【表】
【表】
【表】
【表】 本発明の含フツ素カチオン性界面活性剤の添加
場所は写真感光材料の構成層の少なくとも一層で
あるが、かかる構成層としては、ハロゲン化銀乳
剤層以外の層、例えば表面保護層、バツク層、中
間層、下塗層などであることが好ましい。バツク
層が２層から成る場合は、そのいづれの層でもよ
く、又、表面保護層の上に、さらにオーバーコー
トして用いることも出来る。 本発明の効果を最も顕著に奏する為には、本発
明の化合物を、表面保護層、バツク層又はオーバ
ーコート層に添加することが好ましい。 本発明に用いられる含フツ素カチオン性界面活
性剤を写真感光材料に適用するに当つては水ある
いはメタノール、イソプロパノール、アセトン等
の有機溶媒又はそれらの混合溶媒に溶解後、表面
保護層又はバツク層等の塗布液に添加しデイツプ
コート、エアーナイフコート、あるいは米国特許
2681294号に記載のホツパーを使用するエクスル
ージヨンコートの方法により塗布するか、米国特
許3508947号、同2941898号、同3526528号などに
記載の方法により２種又はそれ以上の層を同時に
塗布するか、あるいは帯電防止液中に浸漬する。
又必要に応じて保護層の上に更に本発明の化合物
を含む帯電防止液を塗設する。 本発明の含フツ素カチオン性界面活性剤の使用
量は写真感光材料の一平方メートルあたり、
0.0001〜2.0ｇ存在せしめるのがよく特に0.0005〜
0.05ｇが望ましい。 しかし上記の範囲は使用する写真フイルムベー
スの種類、写真、組成物、形態又は塗布方式によ
つて異なることは勿論である。 本発明の写真感光材料の支持体として使用され
るものは例えばセルロースナイトレートフイル
ム、セルロースアセテートフイルム、ポリスチレ
ンフイルム、ポリエチレンテレフタレートフイル
ム、ポリカーボネートフイルム、その他これらの
積層物、等がある。更に詳細にはバライタ又はα
−オレフインポリマー特にポリエチレン、等炭素
原子２〜10個のα−オレフインのポリマーを塗布
またはラミネートした紙、を挙げることが出来
る。 本発明の写真感光材料において各写真構成層は
また次のようなバインダーを含むことができる。 例えば親水性コロイドとしてゼラチン、コロイ
ド状アルブミン、カゼインなどの蛋白質；カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース等のセルロース化合物；でんぷん誘導体等の
糖誘導体；合成親水性コロイド例えばポリビニル
アルコール、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリ
アクリル酸共重合体、ポリアクリルアミド等が挙
げられる。必要に応じてこれらのコロイドの二つ
以上の混合物を使用する。 この中で最も用いられるのはゼラチンであるが
ここに言うゼラチンはいわゆる石灰処理ゼラチ
ン、酸処理ゼラチンおよび酸素処理ゼラチンを指
す。 本発明に用いられる写真感光材料のハロゲン化
銀乳剤は通常、水溶性銀塩（例えば硝酸銀）溶化
液と水溶性ハロゲン塩（例えば臭化カリウム）溶
液とをゼラチンに如き水溶性高分子溶液の存在下
で混合してつくられる。このハロゲン化銀として
は塩化銀、臭化銀のほかに混合ハロゲン化銀例え
ば塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀等を用いるこ
とができる。 写真乳剤は必要に応じてシアニン、メロシアニ
ン、カルボシアニン等のポリメチン増感色素類の
単独あるいは組合せ使用、またはそれらとスチリ
ル染料等との組合せ使用によつて分光増感や強色
増感を行なうことができる。 また本発明に用いられる写真感光材料の写真乳
剤には感光材料の製造工程、保存中あるいは処理
中の感度低下やカブリの発生を防ぐために種々の
化合物を添加することができる。それらの化合物
は４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，3a，
７−テトラザインデン−３−メチル−ベンゾチア
ゾール、１−フエニル−５−メルカプトテトラゾ
ールをはじめ多くの複素環化合物、含水銀化合
物、メルカプト化合物、金属塩類など極めて多く
の化合物が古くから知られている。 ハロゲン化銀写真乳剤がカラー写真感光材料と
して用いられる場合にはカプラーをハロゲン化銀
乳剤層中に含ませてもよい。この様なカプラーと
しては４当量型のジケトメチレン系イエローカプ
ラー、２当量型のジケトメチレン系イエローカプ
ラー、４当量型又は２当量型のピラゾロン系マゼ
ンタカプラーやインダゾロン系マゼンタカプラ
ー、α−ナフトール系シアンカプラーやフエノー
ル系シアンカプラーなどを用いることが出来る。 本発明の写真感光材料におけるハロゲン化銀乳
剤層およびその他の層は各種の有機または無機の
硬化剤（単独または組合せて）により硬化されう
る。代表的な例としてはコクロル酸、ホルムアル
デヒド、トリメチロールメラミン、グリオキザー
ル、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサ
ン、２，３−ジヒドロキシ−５−メチル−１，４
−ジオキサン、サクシンアルデヒド、グルタルア
ルデヒドの如きアルデヒド系化合物；ジビニルス
ルホン、メチレンビスマレイミド、１，３，５−
トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジ
ン、１，３，５−トリビニルスルホニル−ヘキサ
ヒドロ−ｓ−トリアジンビス（ビニルスルホニル
メチル）エーテル、１，３−ビス（ビニルスルホ
ニルメチル）プロパノール−２、ビス（α−ビニ
ルスルホニルアセトアミド）エタンの如き活性ビ
ニル系化合物；２，４−ジクロロ−６−ヒドロキ
シ−ｓ−トリアジン・ナトリウム塩、２，４−ジ
クロロ−６−メトキシ−ｓ−トリアジンの如き活
性ハロゲン化合物；２，４，６−トリエチレンイ
ミノ−ｓ−トリアジンの如きエチレンイミン系化
合物；などを挙げることが出来る。 本発明の写真構成層には含フツ素カチオン性界
面活性剤と共に他の界面活性剤を単独または混合
して添加してもよい。それらは塗布助剤として用
いられるものであるが、時としてその他の目的、
例えば乳化分散、増感その他の写真特性の改良、
帯電列調整等のためにも適用される。 これらの界面活性剤はサポニン等の天然界面活
性剤、アルキレンオキシド系、グリセリン系、グ
リシドール系などのノニオン界面活性剤、高級ア
ルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスル
ホニウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン
酸、スルホン酸、リン酸、硫酸エステル、リン酸
エステル等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、
アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコ
ールの硫酸またはリン酸エステル類等の両性界面
活性剤にわけられる。 これら使用しうる界面活性剤化合物例の一部は
米国特許第2271623号、同2240472号、同288226
号、同2739891号、同3068101号、同3158484号、
同3201253号、同3210191号、同3294540号、同
3415649号、同3441413号、同3442654号、同
3475174号、同3545974号、同3666478号、同
3507660号、英国特許第1198450号をはじめ小田良
平他著「界面活性剤の合成とその応用（槙書店、
1964年）およびA.W.ペリイ著「サーフエイスア
クテイブエージエンツ」（インターサイエンスパ
ブリケーシヨンインコーポレイテイド、1958年）、
J.P.シスリー「エンサイクロペデイア オブ ア
クテイブエージエンツ第２巻」（ケミカルパブリ
ツシユカンパニー、1964年）などの成書に記載さ
れている。 本発明に於て、含フツ素カチオン性界面活性剤
以外のフツ素界面活性剤を併用することできる
が、このようなフツ素系界面活性剤としては、以
下の化合物例をあげることができる。例えば、英
国特許1330356号、同1524631号、米国特許
3666478号、同3689906号、特公昭52−26689号、
特開昭49−46733号、同51−32322号、等に記載さ
れているフツ素系界面活性剤がある。 又、本発明に於ては、滑性化組成物、例えば米
国特許第3079837号、同第3080317号、同第
3545970号、同第3294537号及び日本公開特許昭52
−129520号に示されるような変性シリコーン等を
写真構成層中に含むことができる。 本発明の写真感光材料は写真構成層中に米国特
許第3411911号、同3411912号、特公昭45−5331号
等に記載のポリマーラテツクスを、又マツト剤と
してシリカ、硫酸ストロンチウム、硫酸バリウ
ム、ポリメチルメタクリレート等を含むことがで
きる。 本発明の写真感光材料には色形成カプラー、す
なわち発色現像処理において芳香族１級アミン現
像薬（例えば、フエニレンジアミン誘導体や、ア
ミノフエノール誘導体など）との酸化カツプリン
グによつて発色しうる化合物を例えば、マゼンタ
カプラーとして、５−ピラゾロンカプラー、ピラ
ゾロベンツイミダゾールカプラー、シアノアセチ
ルマロンカプラー、開鎖アシルアセトニトリルカ
プラー等があり、イエローカプラーとして、アシ
ルアセトアミドカプラー（例えばベンゾイルアセ
トアニリド類、ピバロイルアセトアニリド類）、
等があり、シアンカプラーとして、ナフトールカ
プラー、およびフエノールカプラー、等がある。
これらのカプラーは分子中にバラスト基をよばれ
る疎水基を有する非拡散のものが望ましい。カプ
ラーは銀イオンに対し４当量性あるいは２当量性
のどちらでもよい。また色補正の効果をもつカラ
ードカプラー、あるいは現像にともなつて現像抑
制剤を放出するカプラー（いわゆるDIRカプラ
ー）であつてもよい。 またDIRカプラー以外にも、カツプリング反応
の生成物が無色であつて現像抑制剤を放出する無
呈色DIRカツプリング化合物を含んでもよい。 本発明の感光材料は色カブリ防止剤としてハイ
ドロキノン誘導体、アミノフエノール誘導体、没
食子酸誘導体、アスコルビン酸誘導体などを含有
してもよい。 本発明を実施するに際して下記の公知の退色防
止剤を併用することもでき、また本発明に用いる
色像安定剤は単独または２種以上併用することも
できる。公知の退色防止剤としては、ハイドロキ
ノン誘導体、没食子酸誘導体、ｐ−アルコキシフ
エノール類、ｐ−オキシフエノール誘導体及びビ
スフエノール類等がある。 本発明は支持体上に少なくとも２つの異なる分
光感度を有する多層カラー写真材料に好ましく適
用できる。多層カラー色写真材料は、通常支持体
上に赤感性乳剤層、緑感性乳剤層、および青感性
乳剤層を各々少なくとも一つ有する。これらの順
序は必要に応じて任意にえらべる。赤感性乳剤層
にシアン形成カプラーを、緑感性乳剤層にマゼン
タ形成カプラーを、青感性乳剤層にイエロー形成
カプラーをそれぞれ含むのが通常であるが、場合
により異なる組合せをとることもできる。 写真像を得るための露光は通常の方法を用いて
行なえばよい。すなわち、自然光（日光）、タン
グステン電灯、螢光灯、水銀灯、キセノンアーク
灯、炭素アーク灯、キセノンフラツシユ灯、陰極
線管フライングスポツトなど公知の多種の光源を
いずれでも用いることができる。 本発明の感光材料の写真処理には、公知の方法
のいずれも用いることができる。処理液には公知
のものを用いることができる。処理温度は普通18
℃から50℃の間に選ばれるが、18℃より低い温度
または50℃をこえる温度としてもよい。目的に応
じ銀画像を形成する現像処理（黒白写真処理）あ
るいは、色素像を形成すべき現像処理から成るカ
ラー写真処理のいずれでも適用できる。 カラー現像液は、一般に発色現像主薬を含むア
ルカリ性水溶液から成る。発色現像主薬は公知の
一級芳香族アミン現像剤、例えばフエニレンジア
ミン類（例えば４−アミノ−N′N−ジエチルア
ニリン、３−メチル−４−アミノ−Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリン、４−アミノ−Ｎ−エチル−Ｎ−β
−ヒドロキシエチルアニリン、３−メチル−４−
アミノ−Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチル
アニリン、３−メチル−４−アミノ−Ｎ−エチル
−Ｎ−β−メタンスルホアミドエチルアニリン、
４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−β−
メトキシエチルアニリンなど）を用いることがで
きる。 この他L.F.A.Mason著PhotograPhic
Processing Chemistry（Focal Press刊、1966年）
の226〜229頁、米国特許2193015号、同2592364
号、特開昭48−64933号などに記載のものを用い
てもよい。 本発明により、写真感光材料の製造工程中及
び／又は使用時に起るスタチツクに起因した故障
及び圧力かぶりが改善された。 例えば本発明の実施により写真感光材料の乳剤
面とバツク面との接触、乳剤面と乳剤面との間の
接触および写真感光材料が一般によく接触する物
質例えばゴム、金属、プラスチツク及び螢光増感
紙等との接触に起因するスタチツクマークの発生
は著しく減少した。 次に本発明の効用を実施例を挙げて具体的に説
明するが本発明はこれに限定されるものではな
い。 実施例 １ セルローストリアセテートフイルム支持体上
に、下記に示すような組成の各層よりなる多層カ
ラー感光材料を作製した。 第１層：ハレーシヨン防止層（AHL） 黒色コロイド銀を含むゼラチン層 第２層：中間層（ML） ２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノンの乳
化分散物を含むゼラチン層 第３層：第１赤感乳剤層（RL1） 沃臭化銀乳剤（沃化銀：５モル％）……銀塗布
量 1.79ｇ／m2 増感色素……銀１モルに対して ６×10-5モル 増感色素……銀１モルに対して 1.5×10-5モル カプラーＡ……銀１モルに対して0.04モル カプラーＣ−１……銀１モルに対して 0.0015モル カプラーＣ−２……銀１モルに対して 0.0015モル カプラーＤ……銀１モルに対して 0.0006モル 第４層：第２赤感乳剤層（RL2） 沃臭化銀乳剤（沃化銀：４モル％）……銀塗布
量 1.4ｇ／m2 増感色素……銀１モルに対して ３×10-5モル 増感色素……銀１モルに対して 1.2×10-5モル カプラーＡ……銀１モルに対して0.02モル カプラーＣ−１……銀１モルに対して 0.0008モル カプラーＣ−２……銀１モルに対して 0.0008モル 第５層：中間層（ML） 第２層と同じ 第６層：第１緑感乳剤層（GL1） 沃臭化銀乳剤（沃化銀：４モル％）……塗布銀
量 1.5ｇ／m2 増感色素……銀１モルに対して ３×10-5モル 増感色素……銀１モルに対して １×10-5モル カプラーＢ……銀１モルに対して0.05モル カプラーＭ−１……銀１モルに対して 0.008モル カプラーＤ……銀１モルに対して 0.0015モル 第７層：第２緑感乳剤層（GL2） 沃臭化銀乳剤（沃化銀：５モル％）……塗布銀
量 1.6ｇ／m2 増感色素……銀１モルに対して 2.5×10-5モル 増感色素……銀１モルに対して 0.8×10-5モル カプラーＢ……銀１モルに対して0.02モル カプラーＭ−１……銀１モルに対して 0.003モル カプラーＤ……銀１モルに対して 0.0003モル 第８層：イエローフイルター層（YFL） ゼラチン水溶液中に黄色コロイド銀と2.5−ジ
−ｔ−オクチルハイドロキノンの乳化分散物とを
含むゼラチン層。 第９層：第１青感乳剤層（BL1） 沃臭化銀乳剤（沃化銀：６モル％）……塗布銀
量 1.5ｇ／m2 カプラーＹ−１……銀１モルに対して 0.25モル 第10層：第２青感乳剤層（BL2） 沃臭化銀（沃化銀：６モル％）……塗布銀量 1.1ｇ／m2 カプラーＹ−１……銀１モルに対して 0.06モル 第11層：保護層（PL） ポリメチルメタアクリレート粒子（直径約
1.5μ）ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
（100mg／m2相当）を含むゼラチン層を塗布。 各層には上記組成物の他に、ゼラチン硬化剤や
界面活性剤を添加した。 試料を作るのに用いた化合物 増感色素：アンヒドロ−５，5′−ジクロロ−
３，3′−ジ−（γ−スルホプロピル）−９−エチ
ル−チアカルホシアニンヒドロキサイド・ピリ
ジニウム塩 増感色素：アンヒドロ−９−エチル−３，3′−
ジ−（γ−スルホプロピル）−４，５，4′−5′−
ジベンゾチアカルボシアニンヒドロキサイド・
トリエチルジアミン塩 増感色素：アンヒドロ−９−エチル−５，5′−
ジクロロ−３，3′−ジ−（γ−スルホプロピル）
オキサカルボシアニン・ナトリウム塩 増感色素：アンヒドロ−５，６，5′，6′−テト
ラクロロ−１，1′−ジエチル−３，3′−ジ−
｛β−〔β−（γ−スルホプロポキシ）エトキシ〕
エチルイミダゾロカルボシアニンヒドロキサイ
ドナトリウム塩 上記試料を試料とした。 試料の保護層に含フツ素カチオン性界面活性
剤の化合物Ｆ−29を３mg／m2含むと共に、更に合
成例10および11で調整されたポリマーラテツクス
(A)および(B)を、各々の単量体(8)，(5)および下記構
造（40）を有する紫外線吸収剤の単量体と比較す
るために、(8)，(5)および（40）の乳化分散物(C)，
(D)およびＥを下記のように調製し、それぞれ4.3
ｇ／m2混合塗布した試料をそれぞれ，，，
，とした。 まず以下のようにしてと(a)と(b)の２種の溶液を
調製した。 (a) 骨ゼラチンの10重量％水溶液（PH＝5.6，35
℃において）1000ｇを40℃に加熱溶解する。 (b) 上記単量体827.4ｇを38℃においてジプチル
フタレート40ｇおよび補助溶媒である酢酸エチ
ル135ｇの混合溶媒に溶解し、ドデシルベンス
ゼンスルホン酸ナトリウム塩の72重量％メタメ
ール溶液23ｇを加える。次いでで(a)と(b)を爆発
防止混合機に入れ、１分間高速で撹拌した後混
合機を停止し、酢酸エチルを減圧留去した。こ
のようにして単量体８の乳化分散物(c)を調製し
た。 乳化分散物(c)と同様に単量体528.7ｇ及び単量
体（27）46.4ｇを用いてそれぞれ乳化分散物(D)及
び乳化分散物(E)を調製した。 単量体(5)，(8)および（27）の乳化分散に除し、
ジブチルフタレートを用いないと乳化後、ごく短
時間の間に粗大結晶が析出し、紫外線吸収性が変
化するばかりでなく、塗布性が著しく悪化した。 これらの試料について下記の如き方法で帯電防
止性及び写真圧力かぶりを測定し、表１に示す結
果を得た。 〈帯電防止性〉 未露光の試料を25℃10％RHで
２時間調湿した後、同一空調条件の暗室中におい
て、試料をゴムローラ及びデルリンローラで摩擦
した後、下記の現像液で現像しスタチツクマーク
の発生度を調べた。 〈写真圧力かぶり〉 パトローネに組み込まれた
フイルムを常温60％RHにて１日調湿後カメラに
12枚分巻き込み、このカメラを60℃で３日間熱処
理後フイルムを取り出して、前記現像処理を行な
う。巻き込まれた部分のYellow濃度及び巻き込
まれていない部分のYellow濃度を濃度計
（MACBETH濃度計）で測定し、巻き込まれた
部分の圧力かぶり特性を末だ巻き込まれていない
それに対して示した。 １ カラー画像 ……３分15秒 ２ 漂 白 ……６分30秒 ３ 水 洗 ……３分15秒 ４ 定 着 ……６分30秒 ５ 水 洗 ……３分15秒 ６ 安 定 ……３分15秒 各工程に用いた処理液組成は下記のものであ
る。 カラー現像液 ニトリロ三酢酸ナトリウム 1.0ｇ 亜硫酸ナトリウム 4.0ｇ 炭酸ナトリウム 30.0ｇ 臭化カリ 1.4ｇ ヒドロキシルアミン硫酸塩 2.4ｇ ４−（Ｎ−エチル−Ｎ−βヒドロキシエチルア
ミノ）−２−メチル−アニリン硫酸塩 4.5ｇ 水を加えて １ 漂白液 臭化アンモニウム 160.0ｇ アンモニア水（28％） 25.0ml エチレンジアミン−四酢酸ナトリウム鉄塩
130ｇ 氷酢酸 14ml 水を加えて １ 定着液 テトラポリリン酸ナトリウム 2.0ｇ 亜硫酸ナトリウム 4.0ｇ チオ硫酸アンモニウム（70％） 175.0ml 重亜硫酸ナトリウム 4.6ｇ 水を加えて １ 安定液 ホルマリン 8.0ml 水を加えて １ 得られた結果を第１表に示す。
【表】 ＊ 巻き込まれていない部分の濃度
上表中、スタチツクマークの発生度の評価は Ａ：スタチツクマークの発生が全く認められず Ｂ： 〃 少し認められる Ｃ： 〃 かなり認められる Ｄ： ほぼ全面に認めら
れる の４段階に分けて行つた。 第１表から明らかなように、本発明の弗素系カ
チオン性界面活性剤及び紫外線吸収ポリマーラテ
ツクスを用いて帯電防止した試料及びは、ス
タチツクマークの発生が殆んど認められないすぐ
れた帯電防止効果を有するとともに圧力かぶり特
性になんらの悪影響を与えないことがわかる。 実施例 ２ 実施例−１の試料の表面保護層の代りに以下
に示す第11層及び第12層を設けた。
【表】 第11層及び第12層にさらに第２表に示す如く紫
外線吸収剤（4.3ｇ／m2）及び帯電防止剤（５
mg／m2）を添加し試料〜XIIを調製した。実施例
−１と同様な処理をし、第２表に示す結果を得
た。
【表】 ＊ 巻き込まれていない部分の濃度
第３表から明らかなように、帯電防止性及び圧
力カブリ性能を満足する試料は本発明の含フツ素
カチオン性界面活性剤及び紫外線吸収ポリマーラ
テツクスを用いた試料のみである。 実施例 ３ 実施例−２と同様にして、第３表に示す如き組
成の表面保護層を有する試料〜を調製
し、下記の如き結果を得た。
【表】 第３表から明らかな如く、本発明に係る試料
〜は、スタチツクの発生もなく、圧力カブ
リを生じる事もない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 支持体上に少なくとも１つの感光性ハロゲン
    化銀乳剤層と、少なくとも１つの非感光性層を有
    するハロゲン化銀写真感光材料において、下記一
    般式〔〕で表わされる単量体から誘導される繰
    り返し単位を有する重合体又は共重合体紫外線吸
    収性ポリマーラテツクス及び含フツ素カチオン性
    界面活性剤を含有することを特徴とするハロゲン
    化銀写真感光材料。 一般式〔〕 式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１〜４の低級
    アルキル基、を表わし、Ｘは−CONH−、−COO
    −またはフエニレン基を表わし、Ａは炭素原子数
    １〜20のアルキレン基で示される連結基を表わ
    し、Ｙは−COO−、−OCO−、又は−Ｏ−を表わ
    す。 またｍとｎは各々０または１の整数を表わす。 Ｑは下記一般式〔〕又は〔〕で示される紫
    外線吸収性基を表わす。 一般式〔〕 式中、R1とR2は各々炭素原子数１〜20のアル
    キル基を表わし、更に、R1とR2は互いに同一も
    しくは異つていてもよい。更にR1とR2は結合し
    て一体化してもよく、その場合は環状アミノ基を
    形成するのに必要な原子団を表わす。R3はシア
    ノ基、−COOR5，−CONHR5，−COR5又は−
    SO2R5を表わし、R4はシアノ基、−COOR6，−
    CONHR6，−COR6又は−SO2R6を表わし、R5と
    R6は各々炭素原子数１〜20のアルキル基、同６
    〜20のアリール基を表わし、更にR5とR6は結合
    して一体化してもよく一体化した場合は１，３−
    ジオキソシクロヘキサン、の核を形成するのに必
    要な原子団を表わす。 但し、R1，R2，R3，R4のうち少なくとも１つ
    は先に述べた連結基を介しビニル基と結合するも
    のとする。 一般式〔〕 式中、R11，R12，R13，R14，R15は各々水素原
    子、ハロゲン原子、炭素数１〜20のアルキル基、
    炭素数１〜20のアルコキシ基、炭素数１〜20のア
    ルキルアミノ基、を表わし、R11とR12、R12と
    R13、R13とR14又はR14とR15は閉環して５〜６員
    環を形成してもよい。 R16は水素原子、炭素数１〜20のアルキル基表
    わす。 R17はシアノ基、−COOR19、−CONHR19、−
    COR19、又は−SO2R19を表わす。 R18はシアノ基、−COOR20、−CONHR20、−
    COR20、又は−SO2R20を表わす。 R19とR20は各々、炭素数１〜20のアルキル基
    又は炭素数６〜20のアリール基を表わす。 但し、R11，R12，R13，R14，R15，R16，R17及
    びR18の内の少なくとも１つは先に述べた連結基
    を介してビニル基と結合するものとする。
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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5926733A (ja) * 1982-08-05 1984-02-13 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPS60439A (ja) * 1983-06-17 1985-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd 製版用ハロゲン化銀写真感光材料
JPS60232550A (ja) 1984-05-02 1985-11-19 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
IT1186757B (it) * 1985-07-11 1987-12-16 Minnesota Mining & Mfg Composti assorbitori di uv 3-amminoallilidenmalononitrile ed elementi fotografici che li congengono
JPH0625855B2 (ja) * 1986-05-06 1994-04-06 コニカ株式会社 帯電防止性及び耐接着性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料
JPH04257859A (ja) * 1991-02-12 1992-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光・感熱性記録材料
EP0520393B1 (en) * 1991-06-25 1996-11-27 EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) Photographic element containing stress absorbing protective layer
ATE158873T1 (de) * 1991-06-25 1997-10-15 Eastman Kodak Co Photographisches element, enthaltend eine spannung absorbierende zwischenschicht
US5286619A (en) * 1992-04-15 1994-02-15 Konica Corporation Silver halide photographic light-sensitive material
US5385815A (en) 1992-07-01 1995-01-31 Eastman Kodak Company Photographic elements containing loaded ultraviolet absorbing polymer latex
US5384235A (en) * 1992-07-01 1995-01-24 Eastman Kodak Company Photographic elements incorporating polymeric ultraviolet absorbers
US5399480A (en) * 1993-09-14 1995-03-21 Eastman Kodak Company Attachment of gelatin-grafted polymer particles to pre-precipitated silver halide grains
JP3111302B2 (ja) * 1993-11-22 2000-11-20 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料
US5372922A (en) * 1993-12-29 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of preparing photographic elements incorporating polymeric ultraviolet absorbers
US5858633A (en) * 1994-12-21 1999-01-12 Eastman Kodak Company Photographic elements containing 3-alkyl group substituted 2-hydroxyphenylbenzotriazole UV absorbing polymers
US6303281B1 (en) * 1996-02-21 2001-10-16 Eastman Kodak Company Photographic element having improved scratch and abrasion resistance
US5766834A (en) * 1996-05-17 1998-06-16 Eastman Kodak Company Photographic element containing ultraviolet absorbing polymer
US5786133A (en) * 1996-11-19 1998-07-28 Eastman Kodak Company Antistatic layer for photographic elements
GB9810372D0 (en) * 1998-05-14 1998-07-15 Bp Exploration Operating Polymers and their uses
US6824964B1 (en) * 2002-04-30 2004-11-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming method
JP4864623B2 (ja) * 2006-09-27 2012-02-01 富士フイルム株式会社 δ−アミノペンタジエン酸エステル誘導体の製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE757036A (fr) * 1969-10-07 1971-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd Materiels photosensibles de photographie en couleurs ayant une meilleure solidite a la lumiere
GB1346764A (en) * 1970-06-09 1974-02-13 Agfa Gevaert Ultraviolet absorbing filter layers
JPS589408B2 (ja) * 1974-02-13 1983-02-21 富士写真フイルム株式会社 写真感光材料
JPS5729691B2 (ja) * 1975-03-15 1982-06-24
US4200464A (en) * 1975-10-16 1980-04-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide color photographic materials containing a UV filter compound
US4203716A (en) * 1976-11-24 1980-05-20 Eastman Kodak Company Photographic elements having hydrophilic colloid layers containing hydrophobic addenda uniformly loaded in latex polymer particles
JPS53128333A (en) * 1977-04-15 1978-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd Prevention of influences of ultraviolet ray upon photosensitive material of silver halogenide
JPS5432552A (en) * 1977-08-17 1979-03-09 Konishiroku Photo Ind Method of making impregnating polymer latex composition
US4175969A (en) * 1978-03-17 1979-11-27 Gaf Corporation Antistatic photographic X-ray film having a uniform protective surface coating of surfactant oligomer of tetrafluoroethylene
IT1206995B (it) * 1979-10-12 1989-05-17 Minnesota Mining & Mfg Assorbenti ultravioletti polimerici materiale fotografico che li contiene e metodo per introdurli in detto materiale fotografico
EP0027284B1 (en) * 1979-10-15 1983-09-14 Agfa-Gevaert N.V. Copolymer latex and photographic silver halide materials containing such latex
JPS5737347A (en) * 1980-08-15 1982-03-01 Fuji Photo Film Co Ltd Photographic sensitive material
JPS57202539A (en) * 1981-06-08 1982-12-11 Fuji Photo Film Co Ltd Filled polymer latex composition
US4366238A (en) * 1981-06-25 1982-12-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide photographic materials

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Publication number Publication date
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