JPH01261821A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
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- JPH01261821A JPH01261821A JP63090717A JP9071788A JPH01261821A JP H01261821 A JPH01261821 A JP H01261821A JP 63090717 A JP63090717 A JP 63090717A JP 9071788 A JP9071788 A JP 9071788A JP H01261821 A JPH01261821 A JP H01261821A
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- Japan
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- wafer
- exposure
- optical system
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 35
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は縮小投影露光装置に関し、特に周辺露光機構を
有する縮小投影露光装置に関する。
有する縮小投影露光装置に関する。
従来、この種の縮小投影露光装置は、半導体ウェハーの
周辺を露光する周辺露光機構を備えていないために、ウ
ェハーの周辺露光を行なう場合にはパターン投影用の製
品露光用レチクルを取外し、周辺露光用レチクルを縮小
投影露光装置にセットし直して周辺露光を行なっていた
。
周辺を露光する周辺露光機構を備えていないために、ウ
ェハーの周辺露光を行なう場合にはパターン投影用の製
品露光用レチクルを取外し、周辺露光用レチクルを縮小
投影露光装置にセットし直して周辺露光を行なっていた
。
また、その他の周辺露光装置としてはコンタクト式露光
装置と、光ファイバーを用いたウェハー周辺露光装置と
がある。
装置と、光ファイバーを用いたウェハー周辺露光装置と
がある。
上述した従来の縮小投影露光装置を用いてウェハーの周
辺露光を行なう場合には製品用の製品露光用レチクルを
取外し１周辺露光用レチクルを装置にセットし直す必要
があり１作業に時間がかかるという欠点がある。また、
周辺露光専用装置として縮小投影露光装置を使用する場
合は、特に限られた装置台数で露光作業を行なっている
場合、装置の作業能力を超えてしまうという欠点もある
。
辺露光を行なう場合には製品用の製品露光用レチクルを
取外し１周辺露光用レチクルを装置にセットし直す必要
があり１作業に時間がかかるという欠点がある。また、
周辺露光専用装置として縮小投影露光装置を使用する場
合は、特に限られた装置台数で露光作業を行なっている
場合、装置の作業能力を超えてしまうという欠点もある
。
また、コンタクト式露光装置を用いる場合はマスクとパ
ターンを接触させるためマスクのゴミやウェハー平行出
し板によるキズ、ゴミがパターンをくずす可能性があり
、光ファイバーによる周辺露光装置はウェハーを回転さ
せながら露光するためウェハー周辺に近いチップパター
ンをくずすことが考えられ、これを防ぐためには製品毎
に光のスポットサイズやウェハーの回転数を変えて周辺
露光を行なわなければならないという煩雑さがある。
ターンを接触させるためマスクのゴミやウェハー平行出
し板によるキズ、ゴミがパターンをくずす可能性があり
、光ファイバーによる周辺露光装置はウェハーを回転さ
せながら露光するためウェハー周辺に近いチップパター
ンをくずすことが考えられ、これを防ぐためには製品毎
に光のスポットサイズやウェハーの回転数を変えて周辺
露光を行なわなければならないという煩雑さがある。
本発明の目的は上記課題を解消した縮小投影露光装置を
提供することにある。
提供することにある。
上記課題を解消するため、本発明の縮小投影露光装置に
おいては、回路パターンを半導体ウェハー上に縮小投影
する第１の光学系と、前記ウェハーの周辺不要部分を露
光する第２の光学系とを有し、両光学系間に渡って前記
半導体ウェハーを搭載するステージを移動可能に配設し
たものである。
おいては、回路パターンを半導体ウェハー上に縮小投影
する第１の光学系と、前記ウェハーの周辺不要部分を露
光する第２の光学系とを有し、両光学系間に渡って前記
半導体ウェハーを搭載するステージを移動可能に配設し
たものである。
また１本発明の縮小投影露光装置は半導体ウェハー上に
パターンを縮小投影する単一の光学系に、製品パターン
を有する製品露光用レチクルとウェハーの周辺不要部分
を露光する周辺露光用レチクルを保持し、前記光学系に
前記製品露光用レチクルと周辺露光用レチクルを選択的
に装填するホルダーを装備したことによっても実現され
る。
パターンを縮小投影する単一の光学系に、製品パターン
を有する製品露光用レチクルとウェハーの周辺不要部分
を露光する周辺露光用レチクルを保持し、前記光学系に
前記製品露光用レチクルと周辺露光用レチクルを選択的
に装填するホルダーを装備したことによっても実現され
る。
以下に本発明の実施例を図によって説明する。
（実施例１）
本実施例は２基の光学系を組合せた例である。
第１の光学系Ｉは回路パターンをウェハー上に縮小投影
する系、第２の光学系■はウェハーの周辺不要部分を露
光する系である。第１の光学系■は光源１と、遮光板２
と、縮小投影レンズ４とを備え、第２の光学系■は前記
光源１の光線を反射して系に投光するミラー７と、遮光
板８と、縮小投影レンズ１０とを備えている。各々の光
学系は独立した縮小投影露光装置であるが、半導体ウェ
ハー５を搭載するステージを共用させている。すなわち
可動ウェハースチーシロは両光学系１．ＩＩ間に渡って
移動可能に配設されている。なお、第２の光学系■にも
専用の光源を設けてもよい。
する系、第２の光学系■はウェハーの周辺不要部分を露
光する系である。第１の光学系■は光源１と、遮光板２
と、縮小投影レンズ４とを備え、第２の光学系■は前記
光源１の光線を反射して系に投光するミラー７と、遮光
板８と、縮小投影レンズ１０とを備えている。各々の光
学系は独立した縮小投影露光装置であるが、半導体ウェ
ハー５を搭載するステージを共用させている。すなわち
可動ウェハースチーシロは両光学系１．ＩＩ間に渡って
移動可能に配設されている。なお、第２の光学系■にも
専用の光源を設けてもよい。
第１の光学系Ｉには半導体ウェハー５に対する製品露光
用パターン（回路パターン）を有する製品露光用レチク
ル３をセットし、第２の光学系■にはウェハー５の周辺
不要部分を露光する周辺露光用レチクル９をセットする
。
用パターン（回路パターン）を有する製品露光用レチク
ル３をセットし、第２の光学系■にはウェハー５の周辺
不要部分を露光する周辺露光用レチクル９をセットする
。
まず、ウェハー５を載置した可動ウェハースチーシロを
第１の光学系！の光軸に配置する。光源１を出光した光
を、遮光板２で回路パターンの露光ショットの大きさに
定め、製品露光用レチクル３を通過させ、その回路パタ
ーンを縮小投影レンズ４で縮小し、ウェハー５上に縮小
された回路パターンを投影露光する。ウェハー５上への
回路パターンの露光を完了した後５次いで可動ウェハー
スチーシロを第２の光学系■の光軸に移し、光学系■で
はミラー７によって反射された光源１からの光を、遮光
板８でウェハー周辺露光ショットの大きさに定め、周辺
露光用の透明レチクル及び縮小投影レンズ１０を経てウ
ェハー５の周辺部を露光する。
第１の光学系！の光軸に配置する。光源１を出光した光
を、遮光板２で回路パターンの露光ショットの大きさに
定め、製品露光用レチクル３を通過させ、その回路パタ
ーンを縮小投影レンズ４で縮小し、ウェハー５上に縮小
された回路パターンを投影露光する。ウェハー５上への
回路パターンの露光を完了した後５次いで可動ウェハー
スチーシロを第２の光学系■の光軸に移し、光学系■で
はミラー７によって反射された光源１からの光を、遮光
板８でウェハー周辺露光ショットの大きさに定め、周辺
露光用の透明レチクル及び縮小投影レンズ１０を経てウ
ェハー５の周辺部を露光する。
（実施例２）
第２図は本発明の第２の実施例を示す構成図である０本
実施例は単一の光学系を用い、レチクルを交換する例で
ある。すなわち、光源１．遮光板２、縮小投影レンズ４
を有する光学系に製品露光用レチクル３と、周辺露光用
レチクル９とを保持させたレチクルホルダー１１を摺動
可能に装備したものである。
実施例は単一の光学系を用い、レチクルを交換する例で
ある。すなわち、光源１．遮光板２、縮小投影レンズ４
を有する光学系に製品露光用レチクル３と、周辺露光用
レチクル９とを保持させたレチクルホルダー１１を摺動
可能に装備したものである。
本実施例ではウェハーステージ１２は光学系の定位置に
設置されており、まずレチクルホルダー１１上の製品露
光用レチクル３を光学系にセットし。
設置されており、まずレチクルホルダー１１上の製品露
光用レチクル３を光学系にセットし。
パターンの露光後、レチクルホルダー１１を移動させて
、製品露光用レチクル３を周辺霧光用レチクル９に切り
替えてこれを光学系にセットし、同一位置でウェハー周
辺の露光を行なう。
、製品露光用レチクル３を周辺霧光用レチクル９に切り
替えてこれを光学系にセットし、同一位置でウェハー周
辺の露光を行なう。
以上説明したように本発明の縮小投影露光装置によれば
、ウェハー上への回路パターン露光終了後、簡単にウェ
ハー周辺露光を行なうことができ、作業時間を短縮でき
る。また１周辺露光用レチクルは自動あるいは手動でセ
ットできる透明なレチクルを使用し、各々の製品に対し
ては自動的に遮光板の遮光部の大きさを調整することに
より、各製品毎にレチクルを取替えることなくウェハー
上の所望の部分への露光が可能となり、製品露光ショッ
トのパターンをくずすことなく、ウェハーの周辺露光が
でき、高品質の製品が得られる効果がある。
、ウェハー上への回路パターン露光終了後、簡単にウェ
ハー周辺露光を行なうことができ、作業時間を短縮でき
る。また１周辺露光用レチクルは自動あるいは手動でセ
ットできる透明なレチクルを使用し、各々の製品に対し
ては自動的に遮光板の遮光部の大きさを調整することに
より、各製品毎にレチクルを取替えることなくウェハー
上の所望の部分への露光が可能となり、製品露光ショッ
トのパターンをくずすことなく、ウェハーの周辺露光が
でき、高品質の製品が得られる効果がある。
第１図は第１の発明の縮小投影露光装置の一実施例を示
す構成図、第２図は第２の発明の縮小投影露光装置の一
実施例を示す構成図である。
す構成図、第２図は第２の発明の縮小投影露光装置の一
実施例を示す構成図である。
Claims (2)
- （１）回路パターンを半導体ウェハー上に縮小投影する
第１の光学系と、前記ウェハーの周辺不要部分を露光す
る第２の光学系とを有し、両光学系間に渡って前記半導
体ウェハーを搭載するステージを移動可能に配設したこ
とを特徴とする縮小投影露光装置。 - （２）半導体ウェハー上にパターンを縮小投影する単一
の光学系に、製品パターンを有する製品露光用レチクル
とウェハーの周辺不要部分を露光する周辺露光用レチク
ルを保持し、前記光学系に前記製品露光用レチクルと周
辺露光用レチクルを選択的に装填するホルダーを装備し
たことを特徴とする縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090717A JPH0713939B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090717A JPH0713939B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 縮小投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01261821A true JPH01261821A (ja) | 1989-10-18 |
| JPH0713939B2 JPH0713939B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=14006294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63090717A Expired - Lifetime JPH0713939B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713939B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07183188A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
| JP2005197678A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-21 | Samsung Electronics Co Ltd | 露光方法及びこれを遂行するためのレチクル、レチクルアセンブリー及び露光装置 |
| JP2006278820A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Nikon Corp | 露光方法及び装置 |
| WO2007055237A1 (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Nikon Corporation | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| KR100865355B1 (ko) * | 2001-02-16 | 2008-10-24 | 에이에스엠엘 유에스, 인크. | 리소그래피 인쇄 공구에서의 다수의 레티클의 사용 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6060724A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-08 | Toshiba Corp | 半導体露光装置 |
| JPS6179227A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-22 | Sony Corp | 感光性レジストを用いたパタ−ン形成方法 |
| JPS62128121A (ja) * | 1985-11-28 | 1987-06-10 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
-
1988
- 1988-04-13 JP JP63090717A patent/JPH0713939B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6060724A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-08 | Toshiba Corp | 半導体露光装置 |
| JPS6179227A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-22 | Sony Corp | 感光性レジストを用いたパタ−ン形成方法 |
| JPS62128121A (ja) * | 1985-11-28 | 1987-06-10 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07183188A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
| KR100865355B1 (ko) * | 2001-02-16 | 2008-10-24 | 에이에스엠엘 유에스, 인크. | 리소그래피 인쇄 공구에서의 다수의 레티클의 사용 |
| JP2005197678A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-21 | Samsung Electronics Co Ltd | 露光方法及びこれを遂行するためのレチクル、レチクルアセンブリー及び露光装置 |
| JP2006278820A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Nikon Corp | 露光方法及び装置 |
| WO2007055237A1 (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Nikon Corporation | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0713939B2 (ja) | 1995-02-15 |
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