JPH01250846A - 透明体の欠陥検査装置 - Google Patents
透明体の欠陥検査装置Info
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- JPH01250846A JPH01250846A JP63079836A JP7983688A JPH01250846A JP H01250846 A JPH01250846 A JP H01250846A JP 63079836 A JP63079836 A JP 63079836A JP 7983688 A JP7983688 A JP 7983688A JP H01250846 A JPH01250846 A JP H01250846A
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、検査対象たる透明体に光を照射したときに該
透明体の欠陥から散乱される散乱光を観測することによ
り、該透明体の欠陥を検査する透明体の欠陥検査装置に
かかり、特に、前記透明体に照射する光としてレーザ光
を用いたものに関する。
透明体の欠陥から散乱される散乱光を観測することによ
り、該透明体の欠陥を検査する透明体の欠陥検査装置に
かかり、特に、前記透明体に照射する光としてレーザ光
を用いたものに関する。
[従来の技術]
例えば、フォトリソグラフィー法においてフォトマスク
用基板等に用いられるガラス材その他の透明体、あるい
は精密光学レンズその他精密光学用に用いられる透明体
は、その内部に微小な欠陥、例えば、異物としての微小
な結晶粒、微小な気泡もしくは脈理(不均質な部分)の
存在も許されない。
用基板等に用いられるガラス材その他の透明体、あるい
は精密光学レンズその他精密光学用に用いられる透明体
は、その内部に微小な欠陥、例えば、異物としての微小
な結晶粒、微小な気泡もしくは脈理(不均質な部分)の
存在も許されない。
このなめ、このような目的に使用される透明体には、厳
格な欠陥検査が必要とされている。
格な欠陥検査が必要とされている。
このような透明体の欠陥を検査する方法としては、従来
、例えば、第5図及び第6図に示される方法が知られて
いる(ともに、日本光学硝子工業会規格に基づく検査方
法である)。
、例えば、第5図及び第6図に示される方法が知られて
いる(ともに、日本光学硝子工業会規格に基づく検査方
法である)。
第5図に示される方法は、ガラス等の透明体中に光束を
通過させた場合、この透明体中に結晶等の異物、あるい
は、泡(気泡)等の微小な粒子状の欠陥が存在すると、
該欠陥によって散乱光が生ずるので、この散乱光を目視
あるいはS lia GMによって観察することにより
、欠陥の有無を判別するもので、検査対象たる透明体1
(例えば、50X50x 20n+nのガラス板)中に
光源2からの光束3を通過させ、欠陥4からの散乱光を
観察点Eでi察するものである。
通過させた場合、この透明体中に結晶等の異物、あるい
は、泡(気泡)等の微小な粒子状の欠陥が存在すると、
該欠陥によって散乱光が生ずるので、この散乱光を目視
あるいはS lia GMによって観察することにより
、欠陥の有無を判別するもので、検査対象たる透明体1
(例えば、50X50x 20n+nのガラス板)中に
光源2からの光束3を通過させ、欠陥4からの散乱光を
観察点Eでi察するものである。
この場合、光束3を前記透明体1中に効率よく入射させ
、かつ、外乱散乱光を防いで欠陥からの散乱光のみを容
易にI!測できるようにするために、前記透明体1にお
ける光束3 −2該当束3の出射面1b、欠陥に
よる散乱光の観察面1c及び該観察面1cと対向する面
1dはとらに鏡面とされ、また、前記光束3の入射面1
aにおける照度は2000ルックス程度とされる。
、かつ、外乱散乱光を防いで欠陥からの散乱光のみを容
易にI!測できるようにするために、前記透明体1にお
ける光束3 −2該当束3の出射面1b、欠陥に
よる散乱光の観察面1c及び該観察面1cと対向する面
1dはとらに鏡面とされ、また、前記光束3の入射面1
aにおける照度は2000ルックス程度とされる。
また、第6図に示される方法は、光源12からの光13
を拡散板15、ピンホール板16及びコリメーションレ
ンズ17を通じて平行光13aにし、該平行光13aを
透明体11中を通過させ、集光レンズ18を通じて観察
点Eで観察するものである。これにより、前記透明#1
1中に光学的に不均質な部分(脈理)等があると、これ
を層状らしくは筋状の濃淡として判別することかできる
。
を拡散板15、ピンホール板16及びコリメーションレ
ンズ17を通じて平行光13aにし、該平行光13aを
透明体11中を通過させ、集光レンズ18を通じて観察
点Eで観察するものである。これにより、前記透明#1
1中に光学的に不均質な部分(脈理)等があると、これ
を層状らしくは筋状の濃淡として判別することかできる
。
この場合、前記透明体11の前記平行光13aの入射面
11a、出射面11b、表面11c及び裏面lidはS
R面とされ、また、前記光源としては、例えば、8■豆
電球が用いられ、前記ピンポール板16のピンホールの
直径は0.5Ilとされ、前記コリメーションレンズ1
7及び集光レンズ18の焦点距離は200+inとされ
る。
11a、出射面11b、表面11c及び裏面lidはS
R面とされ、また、前記光源としては、例えば、8■豆
電球が用いられ、前記ピンポール板16のピンホールの
直径は0.5Ilとされ、前記コリメーションレンズ1
7及び集光レンズ18の焦点距離は200+inとされ
る。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、近年、特に、電子デバイス用として用いられ
るガラス内部の欠陥に対する規格が、デバイスの高密度
化にともなって一段と厳しくなり、例えば、IC等の製
造時に用いられるフォトマスクの基板材料となるガラス
では、5μm以上の欠陥が存在することは許されない。
るガラス内部の欠陥に対する規格が、デバイスの高密度
化にともなって一段と厳しくなり、例えば、IC等の製
造時に用いられるフォトマスクの基板材料となるガラス
では、5μm以上の欠陥が存在することは許されない。
ところが、前記従来の欠陥検査方法では、いずれも、判
別(検出)できる欠陥の大きさは通常50μm以上であ
り、上述のような厳しい検査には対応できないものであ
った。
別(検出)できる欠陥の大きさは通常50μm以上であ
り、上述のような厳しい検査には対応できないものであ
った。
また、前記従来の検査方法は、いずれも、前述のように
、欠陥以外の部分から乱反射等(外乱散乱光)が生じて
欠陥の判別ができなくなることを防止するなめに検査を
行う前に検査対象たる透明体の各面に高度な鏡面仕上げ
加工を施し、その各面を清浄にしておく必要があった。
、欠陥以外の部分から乱反射等(外乱散乱光)が生じて
欠陥の判別ができなくなることを防止するなめに検査を
行う前に検査対象たる透明体の各面に高度な鏡面仕上げ
加工を施し、その各面を清浄にしておく必要があった。
すなわち、この鏡面加工は、研削→砂掛け(Lappi
ng)→研磨(Pol ishing)→洗浄という工
程を踏まなければならず、極めて煩雑なものであった。
ng)→研磨(Pol ishing)→洗浄という工
程を踏まなければならず、極めて煩雑なものであった。
さらに、一般に、前記検査対象たる透明体は、前記検査
後に、製品とするための加工をし、その一部が除去され
ることら多いが、前記従来の検査方法は、検査対象たる
透明体全体に光を通過させるものであるから、検出され
た欠陥が製品として最終的に残る部分(有効エリア)に
存在していたものか、あるいは、最終的には除去されて
しまう有効エリア以外のエリアに存在していたちのかの
判定をすることが不可能であるという欠点もあった。こ
のため、本来合格としてよいものを不合格として無駄に
するおそれもあった。
後に、製品とするための加工をし、その一部が除去され
ることら多いが、前記従来の検査方法は、検査対象たる
透明体全体に光を通過させるものであるから、検出され
た欠陥が製品として最終的に残る部分(有効エリア)に
存在していたものか、あるいは、最終的には除去されて
しまう有効エリア以外のエリアに存在していたちのかの
判定をすることが不可能であるという欠点もあった。こ
のため、本来合格としてよいものを不合格として無駄に
するおそれもあった。
本発明の目的は、上述の欠点を除去した検査を行うこと
ができる透明体の欠陥検査装置を提供することにある。
ができる透明体の欠陥検査装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、検査対象たる透明体に照射する光としてレー
ザ光を用い、このレーザ光を走査して前記透明体全体に
順次透過させることができるようにするとともに、該レ
ーザ光のレーザビームを絞って前記透明体の所望の有効
エリアにだけ透過させることができるようにし、さらに
、このし〜ザ光が照射される状態で前記透明体を該透明
体の屈折率とほぼ同じ屈折率を有する液体中に収容でき
るようにしたもので、これにより、従来の検査方法では
検出できなかったような微小な欠陥の検出を可能にする
とともに、従来、必ず必要とされていた検査前の鏡面仕
上げ等の煩雑な前処理加工を不要にし、さらには、透明
体の有効エリアのみの欠陥の検査を可能としたもので、
以下の構成を有する。
ザ光を用い、このレーザ光を走査して前記透明体全体に
順次透過させることができるようにするとともに、該レ
ーザ光のレーザビームを絞って前記透明体の所望の有効
エリアにだけ透過させることができるようにし、さらに
、このし〜ザ光が照射される状態で前記透明体を該透明
体の屈折率とほぼ同じ屈折率を有する液体中に収容でき
るようにしたもので、これにより、従来の検査方法では
検出できなかったような微小な欠陥の検出を可能にする
とともに、従来、必ず必要とされていた検査前の鏡面仕
上げ等の煩雑な前処理加工を不要にし、さらには、透明
体の有効エリアのみの欠陥の検査を可能としたもので、
以下の構成を有する。
検査対象たる透明体に光を照射したときに該透明体の欠
陥から散乱される散乱光を観測することにより、該透明
体の欠陥を検査する透明体の欠陥検査装置において、 前記検査対象たる透明体に照射する光としてのレーザ光
を発生するレーザ発生手段と、このレーザ発生手段から
射出されるレーザビームを走査させて前記検査対象なる
透明体に照射するレーザビーム走査手段と、 前記透明体に照射されるレーザビームのビーム断面形状
を前記透明体の検査領域に応じた形状に絞るスリット手
段と、 前記透明体を保持する透明体保持部を有する透明体保持
手段であって、前記透明体に照射されるレーザビームを
通す窓部及び前記透明体の欠陥から散乱される散乱光を
観察する散乱光観察窓部を有し、かつ、前記透明体を埋
没させるように、該透明体の屈折率に近い屈折率を有す
る液体を収容できるように形成された透明体保持手段と
を備えたことを特徴とした透明体の検査装置。
陥から散乱される散乱光を観測することにより、該透明
体の欠陥を検査する透明体の欠陥検査装置において、 前記検査対象たる透明体に照射する光としてのレーザ光
を発生するレーザ発生手段と、このレーザ発生手段から
射出されるレーザビームを走査させて前記検査対象なる
透明体に照射するレーザビーム走査手段と、 前記透明体に照射されるレーザビームのビーム断面形状
を前記透明体の検査領域に応じた形状に絞るスリット手
段と、 前記透明体を保持する透明体保持部を有する透明体保持
手段であって、前記透明体に照射されるレーザビームを
通す窓部及び前記透明体の欠陥から散乱される散乱光を
観察する散乱光観察窓部を有し、かつ、前記透明体を埋
没させるように、該透明体の屈折率に近い屈折率を有す
る液体を収容できるように形成された透明体保持手段と
を備えたことを特徴とした透明体の検査装置。
[作用]
上述の構成によれば、前記透明体中を通過する光が、強
度が著しく強くかつコヒーレントな光であるレーザ光で
あるため、従来のような比較的弱くしかもインコヒーレ
ントな光を用いた場合に比較して、光線束自体の拡がり
等によるノイズ成分が極めて少なくかつ微小な欠陥の形
に忠実に対応した範囲のみから比較的強い散乱光が得ら
れるから、微小な欠陥をも極めてコントラストよく観測
することを可能にする。
度が著しく強くかつコヒーレントな光であるレーザ光で
あるため、従来のような比較的弱くしかもインコヒーレ
ントな光を用いた場合に比較して、光線束自体の拡がり
等によるノイズ成分が極めて少なくかつ微小な欠陥の形
に忠実に対応した範囲のみから比較的強い散乱光が得ら
れるから、微小な欠陥をも極めてコントラストよく観測
することを可能にする。
また、レーザ光はほぼ完全な平行光であることから、こ
のレーザビームをスリット手段によって絞ることで、正
確に所望のエリアだけに光を通過させ、その他のエリア
には通過させないようにすることができ、このため、検
査後に製品として使用する部分だけに限定してその有効
エリア部分のみの欠陥の有無を検査することが可能とな
り、本来合格としてよいものを不合格にして透明体を無
駄にするようなおそれを除去できる。
のレーザビームをスリット手段によって絞ることで、正
確に所望のエリアだけに光を通過させ、その他のエリア
には通過させないようにすることができ、このため、検
査後に製品として使用する部分だけに限定してその有効
エリア部分のみの欠陥の有無を検査することが可能とな
り、本来合格としてよいものを不合格にして透明体を無
駄にするようなおそれを除去できる。
さらに、前記透明体保持手段に該透明体の屈折率と実質
的に同じ屈折率を有する液体を収容して前記透明体をこ
の液体に埋没させて保持し、この状態で前記レーザ光を
照射するようにすれば、前記透明体の各表面を鏡面とし
、さらに、その各面を洗浄しなくても、これら各表面か
ら外乱としての散乱光が生ずるおそれがなくなり、した
がって、従来のように検査の前に透明体に煩雑な前処理
加工を施すような必要をなくすことができる。
的に同じ屈折率を有する液体を収容して前記透明体をこ
の液体に埋没させて保持し、この状態で前記レーザ光を
照射するようにすれば、前記透明体の各表面を鏡面とし
、さらに、その各面を洗浄しなくても、これら各表面か
ら外乱としての散乱光が生ずるおそれがなくなり、した
がって、従来のように検査の前に透明体に煩雑な前処理
加工を施すような必要をなくすことができる。
[実施例コ
第1図は本発明の一実施例にかかる透明体の欠陥検査装
置の平面図、第2図は第1図において示される透明体の
欠陥検査装置の一部破断側面図である。
置の平面図、第2図は第1図において示される透明体の
欠陥検査装置の一部破断側面図である。
図において、符号20はレーザ発生装置、30は前記レ
ーザ発生装置20から射出されるレーザビーム21を走
査させるレーザビーム走査手段、40は前記レーザビー
ムを所定の形状に絞るスリット手段、50は検査対象た
る透明体、60は前記透明体50を保持する透明体保持
手段である。
ーザ発生装置20から射出されるレーザビーム21を走
査させるレーザビーム走査手段、40は前記レーザビー
ムを所定の形状に絞るスリット手段、50は検査対象た
る透明体、60は前記透明体50を保持する透明体保持
手段である。
そして、これらは基台100に一定の配置関係で固定さ
れている。
れている。
前記レーザ発生装置20は、例えば、He−Neレーザ
発生装置が用いられ、該レーザ発生装!20のレーザ射
出部22にはビームエクスパンダ−23が取り付けられ
、前記レーザ射出部22から射出されたレーザ光は所定
の断面形状に拡大されてレーザビーム21とされて外部
に射出されるようになっている。
発生装置が用いられ、該レーザ発生装!20のレーザ射
出部22にはビームエクスパンダ−23が取り付けられ
、前記レーザ射出部22から射出されたレーザ光は所定
の断面形状に拡大されてレーザビーム21とされて外部
に射出されるようになっている。
前記ビームエクスパンダ−23の近傍には該ビームエク
スパンダ−23から射出されるレーザビーム21をほぼ
90@回転させる(すなわち、第1図中下方に方向を転
換させる)ためのミラー24が設けられている。このミ
ラー24はミラー支持具24aに支持され、このミラー
支持具24aはボルト24bによってミラー保持台25
に取り付けられ、このミラー保持台25はビス25aに
よって前記基台100に固定されている。
スパンダ−23から射出されるレーザビーム21をほぼ
90@回転させる(すなわち、第1図中下方に方向を転
換させる)ためのミラー24が設けられている。このミ
ラー24はミラー支持具24aに支持され、このミラー
支持具24aはボルト24bによってミラー保持台25
に取り付けられ、このミラー保持台25はビス25aに
よって前記基台100に固定されている。
また、前記ミラー24の近傍であって、該ミラー24に
よってレーザビームが進行させられる方向、すなわち、
第1図中下方部には、レーザビーム走査手段30が設け
られている。
よってレーザビームが進行させられる方向、すなわち、
第1図中下方部には、レーザビーム走査手段30が設け
られている。
このレーザビーム走査手段30は、固定台31に前記し
〜ザビームの進行方向と平行な方向に移動自在に設けら
れた移動台32と、この移動台32上にミラー支持具3
2aを介してボルト32bにより固定され、前記レーザ
ビームをほぼ90°回転する(すなわち、第1図中右方
に方向を変える)ミラー33及び同様に前記移動台32
に固定された前記スリット手段40とから構成されてい
る。すなわち、前記固定台31は、平面視略長方形状に
形成されているとともに、図示しないが、その長手方向
にガイド涌が設けられ、このガイド講に前記移動台32
の図示しないガイド部が嵌合されているもので、ビス3
1a、31bによって前記基台100に固定されている
。
〜ザビームの進行方向と平行な方向に移動自在に設けら
れた移動台32と、この移動台32上にミラー支持具3
2aを介してボルト32bにより固定され、前記レーザ
ビームをほぼ90°回転する(すなわち、第1図中右方
に方向を変える)ミラー33及び同様に前記移動台32
に固定された前記スリット手段40とから構成されてい
る。すなわち、前記固定台31は、平面視略長方形状に
形成されているとともに、図示しないが、その長手方向
にガイド涌が設けられ、このガイド講に前記移動台32
の図示しないガイド部が嵌合されているもので、ビス3
1a、31bによって前記基台100に固定されている
。
また、前記移動台32は、該移動台32の下部に螺合さ
れ、かつ、前記固定台31の両端部にその両端部が回転
自在なように保持されたネジ棒34を回転することによ
り、前記固定台31の図示しないガイド講に沿って該固
定台31上をその長手方向に移動自在なようになってい
る。そして、前記ネジ棒34の一端部は駆動モータ35
のシャフト36に連結されており、したがって、この駆
動モータ35により前記移動台32を第1図中右方pで
示される範囲だけ上・下に移動し、これにより、前記レ
ーザビーム21を図中上・下に走査できるようになって
いる。
れ、かつ、前記固定台31の両端部にその両端部が回転
自在なように保持されたネジ棒34を回転することによ
り、前記固定台31の図示しないガイド講に沿って該固
定台31上をその長手方向に移動自在なようになってい
る。そして、前記ネジ棒34の一端部は駆動モータ35
のシャフト36に連結されており、したがって、この駆
動モータ35により前記移動台32を第1図中右方pで
示される範囲だけ上・下に移動し、これにより、前記レ
ーザビーム21を図中上・下に走査できるようになって
いる。
第3図は前記移動台32に固定されたスリット手段40
の詳481構造を示す断面図である。
の詳481構造を示す断面図である。
すなわち、このスリット手段40は、スリット台41上
に固定された略四角形状をなした枠体42内に略コの字
状の移動片43を図中左右に移動自在に保持し、このコ
の字状の移動片43の図中上・下に相対向する腕部43
aと43bとの相対向する部位にテーパ部43c及び4
3dをそれぞれ形成し、これらテーパ部43c及び43
dにそれぞれスリット片44及び45を押圧させるよう
にしたもので、これにより、前記移動片43を図中左右
に移動させることで、前記スリット片44及び45を図
中上・下に移動できるようにし、これらスリット片44
及び45がスリットの中心0を中心に互いに等間陽に近
づいたり、遠ざかったりするようにしたものである。
に固定された略四角形状をなした枠体42内に略コの字
状の移動片43を図中左右に移動自在に保持し、このコ
の字状の移動片43の図中上・下に相対向する腕部43
aと43bとの相対向する部位にテーパ部43c及び4
3dをそれぞれ形成し、これらテーパ部43c及び43
dにそれぞれスリット片44及び45を押圧させるよう
にしたもので、これにより、前記移動片43を図中左右
に移動させることで、前記スリット片44及び45を図
中上・下に移動できるようにし、これらスリット片44
及び45がスリットの中心0を中心に互いに等間陽に近
づいたり、遠ざかったりするようにしたものである。
この場合、前記移動片43の腕部43a及び43bの各
々の先端部には突出軸43e及び43fが設けられ、こ
れら突出軸43e及び43fには圧縮コイルスプリング
43gび43hが挿通されて前記枠体42に固定された
軸受部42a及び42bにそれぞれ嵌合されている。す
なわち、これにより、前記移動片43には前記圧縮コイ
ルスプリング43gび43hによって常に図中左方に力
が加えられるようになっており、−方、前記枠体42の
前記移動片43の腕部43a及び43bとをつなぐ連結
部43iには前記枠体42に固定されたマイクロメータ
46の可動部46aの先端部が当接されている。したが
って、前記マイクロメータ46を操作することにより前
記移動片43が図中左右に移動されるものである。 ま
た、前記スリット片44及び45には、接触球44a及
び45aがそれぞれ回転自在に取り付けられ、これら接
触球44a及び45aは、前記枠体42に、これら接触
球44a及び45aを挾むように形成されたガイド板4
2c及び42dの間を移動自在とされ、さらに、前記ス
リット片44及び45に設けられた係合部には、引っ張
りコイルスプリング44b及び45bの一端が固定され
、これら引っ張りコイルスプリング44b及び45bの
他端は前記ガイド板42dに固定された固定金具42e
及び42fにそれぞれ固定されている。なお、前記スリ
ット片44及び45の前記接触球44a及び45aが取
り付けられている部位と反対側の端部に形成された図示
しないガイド部は、前記枠体42に設けられた図示しな
いガイド清に嵌合されている。したがって、前記スリッ
ト片44及び45は、常に前記移動片43のテーパ部4
3c及び43dにそれぞれ押圧されているもので、これ
により、上述のように、前記移動片43を図中左右に移
動することにより、その絞りを調節できるようになって
いるものである。
々の先端部には突出軸43e及び43fが設けられ、こ
れら突出軸43e及び43fには圧縮コイルスプリング
43gび43hが挿通されて前記枠体42に固定された
軸受部42a及び42bにそれぞれ嵌合されている。す
なわち、これにより、前記移動片43には前記圧縮コイ
ルスプリング43gび43hによって常に図中左方に力
が加えられるようになっており、−方、前記枠体42の
前記移動片43の腕部43a及び43bとをつなぐ連結
部43iには前記枠体42に固定されたマイクロメータ
46の可動部46aの先端部が当接されている。したが
って、前記マイクロメータ46を操作することにより前
記移動片43が図中左右に移動されるものである。 ま
た、前記スリット片44及び45には、接触球44a及
び45aがそれぞれ回転自在に取り付けられ、これら接
触球44a及び45aは、前記枠体42に、これら接触
球44a及び45aを挾むように形成されたガイド板4
2c及び42dの間を移動自在とされ、さらに、前記ス
リット片44及び45に設けられた係合部には、引っ張
りコイルスプリング44b及び45bの一端が固定され
、これら引っ張りコイルスプリング44b及び45bの
他端は前記ガイド板42dに固定された固定金具42e
及び42fにそれぞれ固定されている。なお、前記スリ
ット片44及び45の前記接触球44a及び45aが取
り付けられている部位と反対側の端部に形成された図示
しないガイド部は、前記枠体42に設けられた図示しな
いガイド清に嵌合されている。したがって、前記スリッ
ト片44及び45は、常に前記移動片43のテーパ部4
3c及び43dにそれぞれ押圧されているもので、これ
により、上述のように、前記移動片43を図中左右に移
動することにより、その絞りを調節できるようになって
いるものである。
また、前記検査対象たる透明体50は、例えば、アルミ
ノポリシリケートガラスであり、前記透明体保持手段6
0内に保持される。
ノポリシリケートガラスであり、前記透明体保持手段6
0内に保持される。
この透明体保持手段60は、上部が開口された箱型に形
成されているもので、前記レーザビーム21が進行して
くる側に位置する側面61は透明体(例えば、アルミノ
ボロシリケートガラス)の板材で構成され、その他の部
分はアルミニウム等で構成されており、その内面には黒
色塗装が施されているとともに、底面部には、透明体載
置台62が設けられている。
成されているもので、前記レーザビーム21が進行して
くる側に位置する側面61は透明体(例えば、アルミノ
ボロシリケートガラス)の板材で構成され、その他の部
分はアルミニウム等で構成されており、その内面には黒
色塗装が施されているとともに、底面部には、透明体載
置台62が設けられている。
さらに、前記透明体保持手段60は水平調節機構63を
介して支持台64に調節自在に固定され、この支持台6
4は高さ位置調節a梢65の移動部材65aに固定され
ている。
介して支持台64に調節自在に固定され、この支持台6
4は高さ位置調節a梢65の移動部材65aに固定され
ている。
前記高さ位2調節機構65は、前記基台100に立設さ
れたネジ棒65bに前記移動部材65aが上・下動自在
に嵌合されているもので、該移動部材65aの下部に設
けられた調節ツマミ65cを回転操作することにより、
前記移動部材65aを上・下に移動できるようになって
いるものであって、これにより、前記透明体保持手段6
0の高さ位置を調節できるようになっている。なお、前
記透明体保持手段60の水平位置は、ロックレバ−65
dを操作することでロックでき、また、移動部材65a
の上・下の位置関係は、ロックレバ−65eによってロ
ックできるようになっている。
れたネジ棒65bに前記移動部材65aが上・下動自在
に嵌合されているもので、該移動部材65aの下部に設
けられた調節ツマミ65cを回転操作することにより、
前記移動部材65aを上・下に移動できるようになって
いるものであって、これにより、前記透明体保持手段6
0の高さ位置を調節できるようになっている。なお、前
記透明体保持手段60の水平位置は、ロックレバ−65
dを操作することでロックでき、また、移動部材65a
の上・下の位置関係は、ロックレバ−65eによってロ
ックできるようになっている。
また、前記水平調節8!#163は、該水平調節機構6
3に設けられた調節ツマミ63aを調節することにより
、前記透明体保持手段60の水平度合いを調節できるよ
うになっている。
3に設けられた調節ツマミ63aを調節することにより
、前記透明体保持手段60の水平度合いを調節できるよ
うになっている。
上述の実施例にかかる装置によって、透明体50の欠陥
の検査を行うには、まず、前記透明体50を前記透明体
保持手段60内の透明体保持台62上に載置し、次に、
前記透明体保持手段60内に前記透明体50の屈折率と
同じ屈折率を有する液体66をいれ、前記透明体50を
この液体66中に埋没させる。
の検査を行うには、まず、前記透明体50を前記透明体
保持手段60内の透明体保持台62上に載置し、次に、
前記透明体保持手段60内に前記透明体50の屈折率と
同じ屈折率を有する液体66をいれ、前記透明体50を
この液体66中に埋没させる。
この場合、この液体66としては、モノクロムナフタレ
ンを主成分とするインデックスオイル(関東化学株式会
社製)が用いられ、例えば、前記透明体50がアルミノ
ボロシリゲートガラス(屈折率1.53)の場合にはそ
れと同じ屈折率(1゜53)を有するものが用いられる
。
ンを主成分とするインデックスオイル(関東化学株式会
社製)が用いられ、例えば、前記透明体50がアルミノ
ボロシリゲートガラス(屈折率1.53)の場合にはそ
れと同じ屈折率(1゜53)を有するものが用いられる
。
次に、前記高さ位置調節a!1i65及び前記水平位置
調節機構63等を調節して、前記透明体保持手段60内
に保持された前記透明体50の検査領域をレーザビーム
21が通過するようにする。
調節機構63等を調節して、前記透明体保持手段60内
に保持された前記透明体50の検査領域をレーザビーム
21が通過するようにする。
この場合、前記検査対象たる透明体50が、例えば、I
Cフォトマスクの基板用ガラス板であるときは、前記ス
リット手段40を操作して前記レーザビーム21を絞り
、該レーザビーム21が前記透明体50の表面及び裏面
からそれぞれ一定の距離だけ内部に至る領域を通過しな
いようにする。
Cフォトマスクの基板用ガラス板であるときは、前記ス
リット手段40を操作して前記レーザビーム21を絞り
、該レーザビーム21が前記透明体50の表面及び裏面
からそれぞれ一定の距離だけ内部に至る領域を通過しな
いようにする。
これは、前記ICフォトマスクの基板用ガラス板は、そ
の表面が極めて高い精度で平坦であることが要求される
が、このような精度で平坦化するための砂掛は及び研磨
加工は、使用に供される表面片面ずつ加工すると、応力
のバランスが崩れて所望の面精度が得られない(トワイ
マン効果)ので、通常、両面同量の加工が施される。し
たがって、この加工によって除去される部分には欠陥が
あってもよいから、この部分にはレーザビームを通過さ
せないようにして、この部分の欠陥を検出しないように
する必要があるからである。
の表面が極めて高い精度で平坦であることが要求される
が、このような精度で平坦化するための砂掛は及び研磨
加工は、使用に供される表面片面ずつ加工すると、応力
のバランスが崩れて所望の面精度が得られない(トワイ
マン効果)ので、通常、両面同量の加工が施される。し
たがって、この加工によって除去される部分には欠陥が
あってもよいから、この部分にはレーザビームを通過さ
せないようにして、この部分の欠陥を検出しないように
する必要があるからである。
なお、勿論、片面研磨がなされる透明体を検査するとき
は、前記スリット手段40及び前記高さ位置調節機構6
5等を調節して、その除去される部分にだけレーザビー
ムが通過しないようにすればよい。
は、前記スリット手段40及び前記高さ位置調節機構6
5等を調節して、その除去される部分にだけレーザビー
ムが通過しないようにすればよい。
このようにして、セツティングが終了したら、次に、前
記モータ35を動作させて前記レーザビ−ム操作手段3
0を駆動し、前記レーザビーム21を前記検査対象たる
透明体50内の検査領域を順次走査(1査速度:2〜5
nl/sec )させ、観察点Eにおいて欠陥からの散
乱光の有無を観察する。
記モータ35を動作させて前記レーザビ−ム操作手段3
0を駆動し、前記レーザビーム21を前記検査対象たる
透明体50内の検査領域を順次走査(1査速度:2〜5
nl/sec )させ、観察点Eにおいて欠陥からの散
乱光の有無を観察する。
第4図は、上述の装置によって観察される欠陥の顕微鏡
写真を模写した図である。
写真を模写した図である。
この図からも明らかなように、前記装置によれば、最小
3.2μmの大きさの欠陥を検出することができ、また
、5μmの大きさの欠陥については100%検出できる
ことが確認されている。
3.2μmの大きさの欠陥を検出することができ、また
、5μmの大きさの欠陥については100%検出できる
ことが確認されている。
また、前記実施例の装置によれば、前記従来例の検査方
法のように、検査前に検査対象物に煩雑な前処理加工を
施すということが必ずしも必要とされなくなるとともに
、検査後に除去されてしまう部分の欠陥については、あ
らかじめこれを検出しないようにすることができるから
、本来合格としてもよいものを不合格としてしまって無
駄にするというようなおそれがない。
法のように、検査前に検査対象物に煩雑な前処理加工を
施すということが必ずしも必要とされなくなるとともに
、検査後に除去されてしまう部分の欠陥については、あ
らかじめこれを検出しないようにすることができるから
、本来合格としてもよいものを不合格としてしまって無
駄にするというようなおそれがない。
なお、前記検査対象としての透明体は、上述のアルミノ
ボロシリケートガラスの他に、ソーダライムガラス等の
ガラスや、あるいは、アクリル樹脂等の樹脂、もしくは
、セラミックス系透明体等が考えられる。また、この透
明体の形状も、上述のような板状に限らず、例えば、凹
レンズや凸レンズ等のレンズ状のもの、その他任意の形
状をしたものであってもよい。
ボロシリケートガラスの他に、ソーダライムガラス等の
ガラスや、あるいは、アクリル樹脂等の樹脂、もしくは
、セラミックス系透明体等が考えられる。また、この透
明体の形状も、上述のような板状に限らず、例えば、凹
レンズや凸レンズ等のレンズ状のもの、その他任意の形
状をしたものであってもよい。
[発明の効果]
以上詳述したように、本発明は、検査対象たる透明体に
照射する光としてレーザ光を用い、このレーザ光を走査
して前記透明体全体に順次透過させることができるよう
にするとともに、該レーザ光のレーザビームを絞って前
記透明体の所望の有効エリアにだけ透過させることがで
きるようにし、さらに、このレーザ光が照射される状態
で前記透明体を該透明体の屈折率とほぼ同じ屈折率を有
する液体中に収容できるようにしたもので、これにより
、従来の検査方法では検出できなかったような微小な欠
陥の検出を可能にするとともに、従来、通常必要とされ
ていた検査前の鏡面仕上げ等の煩雑な前処理加工を不要
にし、さらには、透明体の有効エリアのみの欠陥の検査
を可能としたものである。
照射する光としてレーザ光を用い、このレーザ光を走査
して前記透明体全体に順次透過させることができるよう
にするとともに、該レーザ光のレーザビームを絞って前
記透明体の所望の有効エリアにだけ透過させることがで
きるようにし、さらに、このレーザ光が照射される状態
で前記透明体を該透明体の屈折率とほぼ同じ屈折率を有
する液体中に収容できるようにしたもので、これにより
、従来の検査方法では検出できなかったような微小な欠
陥の検出を可能にするとともに、従来、通常必要とされ
ていた検査前の鏡面仕上げ等の煩雑な前処理加工を不要
にし、さらには、透明体の有効エリアのみの欠陥の検査
を可能としたものである。
第1図は本発明の一実施例にかかる透明体の欠陥検査装
置の平面図、第2図は第1図において示される透明体の
欠陥検査装置の一部破断側面図で第3図は第1図及び第
2図におけるスリット手段40の詳細構造を示す断面図
、第4図は本発明の実施例にかかる装置で観察される欠
陥の顕微鏡写真を模写した図、第5図及び第6図は従来
の検査方法を示す図である。 20・・・レーザ発生装置、 30・・・レーザビーム走査手段、 40・・・スリット手段、 50・・・検査対象たる透明体、 60・・・透明体保持手段。
置の平面図、第2図は第1図において示される透明体の
欠陥検査装置の一部破断側面図で第3図は第1図及び第
2図におけるスリット手段40の詳細構造を示す断面図
、第4図は本発明の実施例にかかる装置で観察される欠
陥の顕微鏡写真を模写した図、第5図及び第6図は従来
の検査方法を示す図である。 20・・・レーザ発生装置、 30・・・レーザビーム走査手段、 40・・・スリット手段、 50・・・検査対象たる透明体、 60・・・透明体保持手段。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 検査対象たる透明体に光を照射したときに該透明体の
欠陥から散乱される散乱光を観測することにより、該透
明体の欠陥を検査する透明体の欠陥検査装置において、 前記検査対象たる透明体に照射する光としてのレーザ光
を発生するレーザ発生手段と、 このレーザ発生手段から射出されるレーザビームを走査
させて前記検査対象たる透明体に照射するレーザビーム
走査手段と、 前記透明体に照射されるレーザビームのビーム断面形状
を前記透明体の検査領域に応じた形状に絞るスリット手
段と、 前記透明体を保持する透明体保持部を有する透明体保持
手段であって、前記透明体に照射されるレーザビームを
通す窓部及び前記透明体の欠陥から散乱される散乱光を
観察する散乱光観察窓部を有し、かつ、前記透明体を埋
没させるように、該透明体の屈折率に近い屈折率を有す
る液体を収容できるように形成された透明体保持手段と
を備えたことを特徴とした透明体の検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63079836A JPH01250846A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 透明体の欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63079836A JPH01250846A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 透明体の欠陥検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01250846A true JPH01250846A (ja) | 1989-10-05 |
Family
ID=13701296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63079836A Pending JPH01250846A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 透明体の欠陥検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01250846A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1036293C (zh) * | 1994-03-21 | 1997-10-29 | 颜炳玉 | 无损检测钕在钇铝石榴石激光晶体中分布梯度装置 |
JP2002340804A (ja) * | 2002-02-15 | 2002-11-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | マークの観察方法及び観察装置 |
JP2010282007A (ja) * | 2009-06-04 | 2010-12-16 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法 |
JP2012181135A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Kobelco Kaken:Kk | 内部欠陥検査装置および内部欠陥検査方法 |
-
1988
- 1988-03-31 JP JP63079836A patent/JPH01250846A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1036293C (zh) * | 1994-03-21 | 1997-10-29 | 颜炳玉 | 无损检测钕在钇铝石榴石激光晶体中分布梯度装置 |
JP2002340804A (ja) * | 2002-02-15 | 2002-11-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | マークの観察方法及び観察装置 |
JP2010282007A (ja) * | 2009-06-04 | 2010-12-16 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法 |
JP2012181135A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Kobelco Kaken:Kk | 内部欠陥検査装置および内部欠陥検査方法 |
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