JPH01244421A - アナモフィック単レンズと光ディスク装置 - Google Patents
アナモフィック単レンズと光ディスク装置Info
- Publication number
- JPH01244421A JPH01244421A JP63072501A JP7250188A JPH01244421A JP H01244421 A JPH01244421 A JP H01244421A JP 63072501 A JP63072501 A JP 63072501A JP 7250188 A JP7250188 A JP 7250188A JP H01244421 A JPH01244421 A JP H01244421A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single lens
- order
- lens
- light
- luminous flux
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 25
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims abstract description 26
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 14
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 241000270281 Coluber constrictor Species 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- OQZCSNDVOWYALR-UHFFFAOYSA-N flurochloridone Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(N2C(C(Cl)C(CCl)C2)=O)=C1 OQZCSNDVOWYALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Lenses (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は水平方向と垂直方向で異なる放射角を有する光
源、例えば半導体レーザー等を用いた光デイスク装置の
光学系等に好適なアナモフインク単レンズと光デイスク
装置に関する。
源、例えば半導体レーザー等を用いた光デイスク装置の
光学系等に好適なアナモフインク単レンズと光デイスク
装置に関する。
従来の技術
光デイスク装置の光学系は、回折限界に近い性能を持ち
、レーザー光をティスフ記録面上に微小スポットとじて
形成する。しかしながら、光源として半導体レーザーを
用いた時、その素子構造から放射光束の放射角は回転対
称にならない。即ち、半導体素子の接合面に対する方向
によって放射角が異なる。従って、従来のコリメータレ
ンズを用いて」フリメー１−された光束の断面が円形の
ものを得るには、放射角の大きさに比へて十分に小さな
開口数のコリメークレンズを用いるのが最も簡易な方法
である。しかしなから、この方法では光の利用効率か低
いといった大きな問題点があり、大きな光出力の半導体
レーザーが必要となってコス］・高になるといった課題
が発生ずる。これを解決する方法としてノリンドリ力ル
レンスを用いたもの、あるいＬ１第５図に示す様なプリ
ズム１．２をコリメークレンズ３と併用する構成のもの
が既に知られている。半導体レーザー４からの放射光束
５はコリメークレンズ３によって略平行光束とされ、プ
リズム１．２によって一方向にのみ光束径が拡大され所
望の円形の光束が得られる。これによれば、光の利用効
率はＹｌｌ」北方式と比較して改善される。しかし構成
が複雑になる。そこで、これら光学的機能を果たし、し
かも構成が簡単な４Ｌレンスで実現するものが特開昭６
１−２５４．９１５号公報で開示されている。
、レーザー光をティスフ記録面上に微小スポットとじて
形成する。しかしながら、光源として半導体レーザーを
用いた時、その素子構造から放射光束の放射角は回転対
称にならない。即ち、半導体素子の接合面に対する方向
によって放射角が異なる。従って、従来のコリメータレ
ンズを用いて」フリメー１−された光束の断面が円形の
ものを得るには、放射角の大きさに比へて十分に小さな
開口数のコリメークレンズを用いるのが最も簡易な方法
である。しかしなから、この方法では光の利用効率か低
いといった大きな問題点があり、大きな光出力の半導体
レーザーが必要となってコス］・高になるといった課題
が発生ずる。これを解決する方法としてノリンドリ力ル
レンスを用いたもの、あるいＬ１第５図に示す様なプリ
ズム１．２をコリメークレンズ３と併用する構成のもの
が既に知られている。半導体レーザー４からの放射光束
５はコリメークレンズ３によって略平行光束とされ、プ
リズム１．２によって一方向にのみ光束径が拡大され所
望の円形の光束が得られる。これによれば、光の利用効
率はＹｌｌ」北方式と比較して改善される。しかし構成
が複雑になる。そこで、これら光学的機能を果たし、し
かも構成が簡単な４Ｌレンスで実現するものが特開昭６
１−２５４．９１５号公報で開示されている。
発明が解決しようとする課題
しかしなから、前記特開昭６１−２５４．９１５号公報
記載の数値例１から数値例７の実施例では全て水平、垂
直方向に単純な曲率半径だけて表わされる１・−リック
面で構成されているために、残存球面収差等が大きく実
用上問題であった。
記載の数値例１から数値例７の実施例では全て水平、垂
直方向に単純な曲率半径だけて表わされる１・−リック
面で構成されているために、残存球面収差等が大きく実
用上問題であった。
課題を解決するだめの手段
−１−記課題を解決する本発明の技術的手段は、水平方
向と垂直方向で異なった屈折力を有するアナモフィ・ツ
ク華レンズであって、半導体レーサー等の光源側から順
に第１面は放射角の大なる方向の光束の光線に対しての
み収差補正に寄与する４次以上の高次展開項を有するト
ーリック面がらなり、出射側の第２面は放ル］角の小な
る方向の光束の光線に対してのみ収差補正に寄与する４
次以上の高次展開項を有する１・−リック面とする。史
に、次の条件（１，）、 （２＋を満足することて、残
存収差を著しく低減せしめることが可能でありながら、
しかも加工上に於ても公差をゆるく設定でき、光学系の
簡素化と調整の容易化と共に、光デイスク装置全体の低
コスＩ・化、小型化をも実現される。
向と垂直方向で異なった屈折力を有するアナモフィ・ツ
ク華レンズであって、半導体レーサー等の光源側から順
に第１面は放射角の大なる方向の光束の光線に対しての
み収差補正に寄与する４次以上の高次展開項を有するト
ーリック面がらなり、出射側の第２面は放ル］角の小な
る方向の光束の光線に対してのみ収差補正に寄与する４
次以上の高次展開項を有する１・−リック面とする。史
に、次の条件（１，）、 （２＋を満足することて、残
存収差を著しく低減せしめることが可能でありながら、
しかも加工上に於ても公差をゆるく設定でき、光学系の
簡素化と調整の容易化と共に、光デイスク装置全体の低
コスＩ・化、小型化をも実現される。
１．７１＜ｒ＋＋ ・・ （１）１
．０ ＜ｄ、／ｆ ・・・
（２）但し、ｎｌ ：屈折率 ｄｌ ：レンズ中心厚 ｆ 光源から出射する光束の放射角 の大なる方向に関するアナモフ ィックＱｉレンズの焦点距離 作用 半導体レーザー等の放射角の異なる光束を、水平方向と
垂直方向で屈折力が異なった、アナモフィック単レンズ
によって、略円形がっ略平行光束を得る。
．０ ＜ｄ、／ｆ ・・・
（２）但し、ｎｌ ：屈折率 ｄｌ ：レンズ中心厚 ｆ 光源から出射する光束の放射角 の大なる方向に関するアナモフ ィックＱｉレンズの焦点距離 作用 半導体レーザー等の放射角の異なる光束を、水平方向と
垂直方向で屈折力が異なった、アナモフィック単レンズ
によって、略円形がっ略平行光束を得る。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を用いて、詳細に
説明する。
説明する。
第１図（ａｌは半導体レーザー４の大きい放射角θ１の
方向を水平方向とし、第１図（ｂ）は半導体レーザーの
小さい放射角θ、の方向を垂直方向として示したもので
ある。半導体レーザーからの放射光束５は本発明になる
アナモフィック単レンズ６によってｌ１ｉｉ ＋Ｊｒ作
用を受りる。この時、アナモフィック屯レンズの水平方
向の屈折力は垂直方向の屈折力の２ないし３倍位と強く
し、且つフロンＩ−フメーカスが各方向で略一致し、そ
のフォーカス位置に半導体レーザーを設置することで、
アナモフィック単レンズの出射側である第２面がら略平
行で断面が略円形の光束が得られる。この様な条件を満
足するには第１面と第２面ば１−−リック面となり、水
平方向の屈折に寄与する曲率半径は順に、光源側よりγ
１．γ２となり、垂直方向の屈折に寄与する曲率半径は
順に、Ｔ１゛、γ、゛ となる。
方向を水平方向とし、第１図（ｂ）は半導体レーザーの
小さい放射角θ、の方向を垂直方向として示したもので
ある。半導体レーザーからの放射光束５は本発明になる
アナモフィック単レンズ６によってｌ１ｉｉ ＋Ｊｒ作
用を受りる。この時、アナモフィック屯レンズの水平方
向の屈折力は垂直方向の屈折力の２ないし３倍位と強く
し、且つフロンＩ−フメーカスが各方向で略一致し、そ
のフォーカス位置に半導体レーザーを設置することで、
アナモフィック単レンズの出射側である第２面がら略平
行で断面が略円形の光束が得られる。この様な条件を満
足するには第１面と第２面ば１−−リック面となり、水
平方向の屈折に寄与する曲率半径は順に、光源側よりγ
１．γ２となり、垂直方向の屈折に寄与する曲率半径は
順に、Ｔ１゛、γ、゛ となる。
回折限界系の光学系に使用するには収差補正、特に球面
収差の補正が必要となる。通常の光軸に対して回転対称
なレンス系であれば非球面を導入することで収差補正は
容易になされるが、本発明の如く、Ｉ・−リック面であ
る場合、収差補正に各々の面が水平、垂直のいずれの方
向に対しても寄与させようとすると、所謂自由曲面を導
入しなりればならない。しかしながら、自由曲面の加工
を高精度に行なうことは著しく困難であり実用的でない
。そこで十分な収差補正が可能で、しが４）加工かｈ易
に実施できるレンズ面形状として本発明では、光源側か
ら第１面は放射角の大なる方向、ずなわら第１１ｍ（ａ
）に示される水平方向の光束の光線に対してのめ収差補
正に寄与する４次以トの開成展開項を有するＩ・−リッ
ク而とする。第２面６」放射角の小なる方向、寸なわら
第１図（ｂｌに示される垂直力向の光束の光線に対して
のみ収差補正に寄−りする４次以」−の高次展開項をイ
ＪするＩ・−リ、り面とする。何故ならば、第１面の軸
上光線高を水゛Ｉ′一方向と垂直方向で比較すると、放
射角が大きい水平方向の方が大きくなる。従って、レン
ズ面形状を表わす展開式の高次項による収差補１丁・＼
の寄りは第１曲においては水平方向の方がより大きく効
果的となる。従って、第２面では十分に光線高が大きく
なった垂直方向の光線に対してのみ収差補正を］烏次項
によって行なう。向、ここで、Ｉ・−’Ｊ ｙり面の形
状を示す展開式は、第１面の場合、第１図（＝１１．
ｆｂ）に示されるＸ−Ｙ−Ｚ座標系に於て、面の仔１点
からのリグ量で示すと（３）式で示されるものである。
収差の補正が必要となる。通常の光軸に対して回転対称
なレンス系であれば非球面を導入することで収差補正は
容易になされるが、本発明の如く、Ｉ・−リック面であ
る場合、収差補正に各々の面が水平、垂直のいずれの方
向に対しても寄与させようとすると、所謂自由曲面を導
入しなりればならない。しかしながら、自由曲面の加工
を高精度に行なうことは著しく困難であり実用的でない
。そこで十分な収差補正が可能で、しが４）加工かｈ易
に実施できるレンズ面形状として本発明では、光源側か
ら第１面は放射角の大なる方向、ずなわら第１１ｍ（ａ
）に示される水平方向の光束の光線に対してのめ収差補
正に寄与する４次以トの開成展開項を有するＩ・−リッ
ク而とする。第２面６」放射角の小なる方向、寸なわら
第１図（ｂｌに示される垂直力向の光束の光線に対して
のみ収差補正に寄−りする４次以」−の高次展開項をイ
ＪするＩ・−リ、り面とする。何故ならば、第１面の軸
上光線高を水゛Ｉ′一方向と垂直方向で比較すると、放
射角が大きい水平方向の方が大きくなる。従って、レン
ズ面形状を表わす展開式の高次項による収差補１丁・＼
の寄りは第１曲においては水平方向の方がより大きく効
果的となる。従って、第２面では十分に光線高が大きく
なった垂直方向の光線に対してのみ収差補正を］烏次項
によって行なう。向、ここで、Ｉ・−’Ｊ ｙり面の形
状を示す展開式は、第１面の場合、第１図（＝１１．
ｆｂ）に示されるＸ−Ｙ−Ｚ座標系に於て、面の仔１点
からのリグ量で示すと（３）式で示されるものである。
同様に第２面は（５）式で示されるものである。
ザブ量−γ、’ −＋７−、’ −ｆ（ｙ）ｌ
・（Ｉ Ｘ２／ （（γ＋’ −ｆ（’／）ｌ
”Ｊ ””・・・・・・ （３） 但し、 γ １ ＋Ａ−Ｙ’ ＋Ｂ・Ｙ” −ｔ−Ｃ・Ｙ’ ＋ｌ）−”
ｙ”’・・・・・・ （４） ザブ量−γ２− （γ２− ｆ （Ｘ））（１ｙ２／
（＜ｒ２ ｆ（Ｘ）） ２〕””・・・・ （５） 但し、 γ２゛ ＋Ａ・Ｘ’ ＋Ｂ−Ｘ’ 十Ｃ−Ｘ” ＋ＩＩＸ’。
・（Ｉ Ｘ２／ （（γ＋’ −ｆ（’／）ｌ
”Ｊ ””・・・・・・ （３） 但し、 γ １ ＋Ａ−Ｙ’ ＋Ｂ・Ｙ” −ｔ−Ｃ・Ｙ’ ＋ｌ）−”
ｙ”’・・・・・・ （４） ザブ量−γ２− （γ２− ｆ （Ｘ））（１ｙ２／
（＜ｒ２ ｆ（Ｘ）） ２〕””・・・・ （５） 但し、 γ２゛ ＋Ａ・Ｘ’ ＋Ｂ−Ｘ’ 十Ｃ−Ｘ” ＋ＩＩＸ’。
・・・・・・ （６）
ココテ、Ｋは円Ｓｆｆ定数、Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄは高次係数
である。
である。
尚、本発明に於ては、残存収差が小さく、しかも公差が
ゆるく作り易くするために以下の条件（１）。
ゆるく作り易くするために以下の条件（１）。
（２）を満足することか望ましい。
１、７１ ＜ ｎ ｌ・−−（１，１
１，０＜ｄ、／ｒ ・旧・・ （２）（旧
−１１１は屈折率、ｄ、はレンズ中心厚、ｆは光源から
出射する光束の放射角の大なるソノ向に関する、すなわ
ち水平方向のアナモフィック沖レンズの１１５点距離で
ある。
−１１１は屈折率、ｄ、はレンズ中心厚、ｆは光源から
出射する光束の放射角の大なるソノ向に関する、すなわ
ち水平方向のアナモフィック沖レンズの１１５点距離で
ある。
条件（１）はアナモフィック単レンズの屈折率に関する
ものである。条件（１）を越えると、各面の曲率が犬と
なり球面収差の発生を高次展開項によって補正した時、
コマ収差の補正が困難となり軸外特性か劣化し易く前記
アナモフィック単レンズの光軸と１′導体レーリ゛−の
光軸を精度良く合致させなければならず組立調整が国運
となる。更に、各面の加Ｔ公差が晧しくなり、しかも曲
率が犬となることも加えて加工か困難となる。
ものである。条件（１）を越えると、各面の曲率が犬と
なり球面収差の発生を高次展開項によって補正した時、
コマ収差の補正が困難となり軸外特性か劣化し易く前記
アナモフィック単レンズの光軸と１′導体レーリ゛−の
光軸を精度良く合致させなければならず組立調整が国運
となる。更に、各面の加Ｔ公差が晧しくなり、しかも曲
率が犬となることも加えて加工か困難となる。
条件（２）はアナモフィック単レンズのレンズ中心厚と
水平方向の焦点距離に関するものである。条件（２）を
越えると、特に第１面側の曲率半径γ、とγ１′の差異
か大となり、コマ収差の補正が困難となり軸外特性が劣
化し易く有効包括画角が小となって、前記理由と同様に
して組立調整が困難となる。
水平方向の焦点距離に関するものである。条件（２）を
越えると、特に第１面側の曲率半径γ、とγ１′の差異
か大となり、コマ収差の補正が困難となり軸外特性が劣
化し易く有効包括画角が小となって、前記理由と同様に
して組立調整が困難となる。
次に本発明になるアナモフィック単レンズのレンズ面形
状の加工か容易である理由について述べる。第２図は、
その加工の概念を示すものである。
状の加工か容易である理由について述べる。第２図は、
その加工の概念を示すものである。
回転するスピンＩ・ルアにイ」けられた被加工物８、ず
なわら）′ナモフィノク単レンズは、所望の形状となる
様、矢印１０に示される様に前記（４１，（６）式に相
当する軌跡を描いて移動する回転する砥石９による研削
加工法でレンズ形状が作られる。ごの方法によれば、通
常のＣＮ Ｃ旋盤に、切削ハイドを固定するヘット１１
上に回転する砥石部を載せるだけで加工が出来る。
なわら）′ナモフィノク単レンズは、所望の形状となる
様、矢印１０に示される様に前記（４１，（６）式に相
当する軌跡を描いて移動する回転する砥石９による研削
加工法でレンズ形状が作られる。ごの方法によれば、通
常のＣＮ Ｃ旋盤に、切削ハイドを固定するヘット１１
上に回転する砥石部を載せるだけで加工が出来る。
次に、本発明の具体的実施例を以下に示す。但し、ｎｌ
は屈折率で波長７８０ ｎ ｒｎに於りるものである。
は屈折率で波長７８０ ｎ ｒｎに於りるものである。
ｄ、はレンス厚である。但し、第１面は水平方向の光束
の光線に対してのめ収差補正に寄与する４次以上の高次
展開項を有するトーリック面、第２面は垂直方向の光束
の光線に対してのめ収差補正に寄与する４次以上の高次
展開項を有するＩ・−リック面である。尚、各実施例は
半導体レーザーのカバーグラス（屈折率：］、、５０．
厚み−０３０）が光路中に挿入された状態を想定して収
差補正を行なっている。
の光線に対してのめ収差補正に寄与する４次以上の高次
展開項を有するトーリック面、第２面は垂直方向の光束
の光線に対してのめ収差補正に寄与する４次以上の高次
展開項を有するＩ・−リック面である。尚、各実施例は
半導体レーザーのカバーグラス（屈折率：］、、５０．
厚み−０３０）が光路中に挿入された状態を想定して収
差補正を行なっている。
（実施例］）
ｒ、 ＝６．８３８ ｒ、 ’ −−２，６０
１ｄ １□、ＯＯｎ 、 −１，７８５６９１γ、−７
０，８０９Ｔ２ ’ ＝ ５．７９２第１面の円錐
定数と高次係数 Ｋ −−３，７３４３７Ａ −６，２４１３５Ｘｌ０−
６１３− １．０８７０８ Ｘ１Ｏ−” Ｃ−−２，
２５８２３Ｘｌ０−７１） ＝２．７９４９７ ＸＩＯ
３ 第２面の円錐定数とｌＶ力次係数 に−−３，＋２１８３ ＸＩＯ’ Ａ＝１．Ｏ］０８
０ Ｘｌ０−７Ｂ＝−４，５８１１７×ｌ０−１′Ｃ＝
１０２６３９ Ｘｌ０−ｎ１）−−−７，４＋０５５
ＸＩＯ”０水平方向の入射側ＮＡ： ０．３ 垂直方向の入射側ＮＡ： ０．１ ｄ、７ｒ： １．０７６ （実施例２） Ｔ Ｉ−９，１，ＯＯγ、 ’ ＝−３，６５２ｄ
＋ −１４，００ｎ ＋ ＝ １．７８５６９１ｒ２＝
−２８，０５４ｒ２’ ＝−８，４８９第１面の円
錐定数と高次係数 Ｋ −−５，１８５４２Ａ ＝ −１，０１７３３Ｘｌ
０−’Ｂ＝９．３１２２１ Ｘｌ０−７Ｃ＝ −７，６
３９５５Ｘ１Ｏ−８Ｄ ＝ ５．８Ｂ２５２ ｘ １．
０−７第２面の円錐定数と高次係数 に−−３，１７１７１Ｘｌ０−’ 八−−１，７５５
２８Ｘｌ、０−７Ｂ−４，１９２５７Ｘｌ０−ＲＣ＝４
．４２９２６ Ｘｌ０−”Ｄ−４，９６７２６Ｘｌ０−
” 水平方向の入射側ＮＡ Ｃ０３ 垂直方向の入射側ＮＡ： ０．１ ｄ、／ｆ＋１．３３５ （実施例３） 】２ γ１−５．ｆｉ１４ ｒ１’ ＝ ３．
２４９ａ 、 ＝１８．０Ｏｎ 、 ＝１．７８５
６９１ｒｚ ＝ １６．４９３ ｒｚ ’
−９，５７９第１面の円錐定数と高次係数 に−−６，５９３０７Ａ ＝ −４，８５８４５Ｘｌ０
−’Ｂ＝−８．６７８６３ ｘｌＯ−’ Ｃ＝７．７
２９１６ ｘｌＯ−’１）−−２，０４８２４Ｘ １０
−’ 第２面の円錐定数と高次係数 に−−２，９６２６５ｘｉｏ−’ Ａ−２，３５９２
７Ｘｌ０−６Ｂ ＝１．１６４７２ Ｘｌ０−７Ｃ＝−
２，３４９０４ＸＩＯ”Ｄ −１，７３７８０ｘ １．
０−’ 水平方向の入射側ＮＡ： ０．３ 垂直方向の入射側ＮＡ： ０．１ ｄ、／ｆ・ ２．１６７ （実施例４） ｒ 、 −５，４４８γ＋ ’ ＝ ３．３１５ｄ、
＝１５．ＯＯｎ、 −１，７１２３０３γ、 ＝−１
９，０００γ、 ’ −−８，０１４第１面の円ｉｆＧ
定数と高次係数 に−３，５４４１８△−７，２０７０９ｘｌＯ−’Ｂ＝
−２，１３００８Ｘｌ、Ｏ−３Ｃ＝１．１７０３３
ＸｉＯ”Ｄ −−１，８８３３９ｘ １．０−’第２面
の円錐定数と高次係数 に＝ −３，０６４１３Ｘｌ０−’ Ａ＝７．５９Ｆ
１８０ Ｘｌ０−”Ｂ−４，９８５５３Ｘ１０−７Ｃ−
＝７．２０９５３Ｘ１０−８Ｄ＝４．６０７８１ Ｘｌ
０−９ 水平方向の入射側ＮΔ：０３ 垂直方向の入射側ＮＡ： ０．１ ｄ、／ｆ： １．８７９ 第３図（ａｌ、 ｆｂｌ、 （Ｃ１，（ｄ＋は各々実施
例１ないし４の軸外性能特性を示す。尚、縦軸は波面収
差の分子ｌ＆ 。
１ｄ １□、ＯＯｎ 、 −１，７８５６９１γ、−７
０，８０９Ｔ２ ’ ＝ ５．７９２第１面の円錐
定数と高次係数 Ｋ −−３，７３４３７Ａ −６，２４１３５Ｘｌ０−
６１３− １．０８７０８ Ｘ１Ｏ−” Ｃ−−２，
２５８２３Ｘｌ０−７１） ＝２．７９４９７ ＸＩＯ
３ 第２面の円錐定数とｌＶ力次係数 に−−３，＋２１８３ ＸＩＯ’ Ａ＝１．Ｏ］０８
０ Ｘｌ０−７Ｂ＝−４，５８１１７×ｌ０−１′Ｃ＝
１０２６３９ Ｘｌ０−ｎ１）−−−７，４＋０５５
ＸＩＯ”０水平方向の入射側ＮＡ： ０．３ 垂直方向の入射側ＮＡ： ０．１ ｄ、７ｒ： １．０７６ （実施例２） Ｔ Ｉ−９，１，ＯＯγ、 ’ ＝−３，６５２ｄ
＋ −１４，００ｎ ＋ ＝ １．７８５６９１ｒ２＝
−２８，０５４ｒ２’ ＝−８，４８９第１面の円
錐定数と高次係数 Ｋ −−５，１８５４２Ａ ＝ −１，０１７３３Ｘｌ
０−’Ｂ＝９．３１２２１ Ｘｌ０−７Ｃ＝ −７，６
３９５５Ｘ１Ｏ−８Ｄ ＝ ５．８Ｂ２５２ ｘ １．
０−７第２面の円錐定数と高次係数 に−−３，１７１７１Ｘｌ０−’ 八−−１，７５５
２８Ｘｌ、０−７Ｂ−４，１９２５７Ｘｌ０−ＲＣ＝４
．４２９２６ Ｘｌ０−”Ｄ−４，９６７２６Ｘｌ０−
” 水平方向の入射側ＮＡ Ｃ０３ 垂直方向の入射側ＮＡ： ０．１ ｄ、／ｆ＋１．３３５ （実施例３） 】２ γ１−５．ｆｉ１４ ｒ１’ ＝ ３．
２４９ａ 、 ＝１８．０Ｏｎ 、 ＝１．７８５
６９１ｒｚ ＝ １６．４９３ ｒｚ ’
−９，５７９第１面の円錐定数と高次係数 に−−６，５９３０７Ａ ＝ −４，８５８４５Ｘｌ０
−’Ｂ＝−８．６７８６３ ｘｌＯ−’ Ｃ＝７．７
２９１６ ｘｌＯ−’１）−−２，０４８２４Ｘ １０
−’ 第２面の円錐定数と高次係数 に−−２，９６２６５ｘｉｏ−’ Ａ−２，３５９２
７Ｘｌ０−６Ｂ ＝１．１６４７２ Ｘｌ０−７Ｃ＝−
２，３４９０４ＸＩＯ”Ｄ −１，７３７８０ｘ １．
０−’ 水平方向の入射側ＮＡ： ０．３ 垂直方向の入射側ＮＡ： ０．１ ｄ、／ｆ・ ２．１６７ （実施例４） ｒ 、 −５，４４８γ＋ ’ ＝ ３．３１５ｄ、
＝１５．ＯＯｎ、 −１，７１２３０３γ、 ＝−１
９，０００γ、 ’ −−８，０１４第１面の円ｉｆＧ
定数と高次係数 に−３，５４４１８△−７，２０７０９ｘｌＯ−’Ｂ＝
−２，１３００８Ｘｌ、Ｏ−３Ｃ＝１．１７０３３
ＸｉＯ”Ｄ −−１，８８３３９ｘ １．０−’第２面
の円錐定数と高次係数 に＝ −３，０６４１３Ｘｌ０−’ Ａ＝７．５９Ｆ
１８０ Ｘｌ０−”Ｂ−４，９８５５３Ｘ１０−７Ｃ−
＝７．２０９５３Ｘ１０−８Ｄ＝４．６０７８１ Ｘｌ
０−９ 水平方向の入射側ＮΔ：０３ 垂直方向の入射側ＮＡ： ０．１ ｄ、／ｆ： １．８７９ 第３図（ａｌ、 ｆｂｌ、 （Ｃ１，（ｄ＋は各々実施
例１ないし４の軸外性能特性を示す。尚、縦軸は波面収
差の分子ｌ＆ 。
横軸は軸外量（物体高）である。
第４図は本発明になるアナモフィック単レンズ６を用い
た光デイスク装置の実施例の概略ブロック図である。図
において半導体レーザー４がら出射した光束はアナモフ
ィック単レンズ６により略平行かつ略円形の光束に変換
され、ビームスプリノタ１２．レンス１３を通って光デ
、イスク１４に照４・ｊされ、光ディスク１４がらの情
報はビームスプリ・ツタ１２．レンス１５を通って光検
出器１６て受光されるか２、二の動作については、従来
の光ティスフ装置と同様であるので、ｉ’ｌ−１１１１
な説明は省略する。面、上記実施例に示した構成は、追
加書込め及び書換え可能な光ディスクを用いた光デイス
ク装置に於ても基本構成は同様である。
た光デイスク装置の実施例の概略ブロック図である。図
において半導体レーザー４がら出射した光束はアナモフ
ィック単レンズ６により略平行かつ略円形の光束に変換
され、ビームスプリノタ１２．レンス１３を通って光デ
、イスク１４に照４・ｊされ、光ディスク１４がらの情
報はビームスプリ・ツタ１２．レンス１５を通って光検
出器１６て受光されるか２、二の動作については、従来
の光ティスフ装置と同様であるので、ｉ’ｌ−１１１１
な説明は省略する。面、上記実施例に示した構成は、追
加書込め及び書換え可能な光ディスクを用いた光デイス
ク装置に於ても基本構成は同様である。
発明の効果
本発明は、方向によって異なる放射角を有する光源から
の光束を、アナモフィック単レンズだけを用いて略円形
の射出光束を効率良く得るごとかでき、光学系を簡素化
し、調整の容易化ならびに当該アナモソイツクＪｌ、レ
ンズを用いた光デイスク装置の小型化にも寄与するもの
である。
の光束を、アナモフィック単レンズだけを用いて略円形
の射出光束を効率良く得るごとかでき、光学系を簡素化
し、調整の容易化ならびに当該アナモソイツクＪｌ、レ
ンズを用いた光デイスク装置の小型化にも寄与するもの
である。
４、図１Ｔ１１の籠華な説明
第１しｌｔａ＋、 ｆｌ、＋＋は本発明のアナモフィッ
ク単レンズの概念を示す模式図、第２図は本発明のアナ
モフィック単レンズを加工する方法を示す模式図、第３
図ｆａｔ、 （ｂ）、 （Ｃ）、 （ｄｉは各実施例の
軸外性能特性を示す波面収差特性図、第４図は本発明の
アナモフィック単レンズを用いた光デイスク装置のブロ
ック図、第５１２１は従来の光学系を示す説明同であ１
・・・プリスＪ８．２ ・・プリスム、３・ ・コリメ
ータレンス、４・・・・半導体レーサー、６・・・・・
アナモフィック単レンズ、９・・・・・・砥石。
ク単レンズの概念を示す模式図、第２図は本発明のアナ
モフィック単レンズを加工する方法を示す模式図、第３
図ｆａｔ、 （ｂ）、 （Ｃ）、 （ｄｉは各実施例の
軸外性能特性を示す波面収差特性図、第４図は本発明の
アナモフィック単レンズを用いた光デイスク装置のブロ
ック図、第５１２１は従来の光学系を示す説明同であ１
・・・プリスＪ８．２ ・・プリスム、３・ ・コリメ
ータレンス、４・・・・半導体レーサー、６・・・・・
アナモフィック単レンズ、９・・・・・・砥石。
代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか１名″ｌ 。
派 −−
第３図
ｉｒｍ イｉ４ （ｒｒｌｍ）
物体高（ｒｒｌ町
づ４本高輸ア）
″ｎＪ外音（ｍｍ）
Claims (2)
- （１）水平方向と垂直方向で異なる放射角を有する光源
からの光束を、略平行で且つ断面が略円形の光束に変換
するために、水平方向と垂直方向で異なった屈折力を有
し、光源側から順に第１面は放射角の大なる方向の光束
の光線に対してのみ収差補正に寄与する４次以上の高次
展開項を有するトーリック面からなり、出射側の第２面
は放射角の小なる方向の光束の光線に対してのみ収差補
正に寄与する４次以上の高次展開項を有するトーリック
面からなる単レンズであって、以下の条件を満足するア
ナモフィック単レンズ。 １．７１＜ｎ＿１ １．０＜ｄ＿１／ｆ 但し、ｎ＿１：屈折率 ｄ＿１：レンズ中心厚 ｆ：光源から出射する光束の放射角 の大なる方向に関するアナモフ ィック単レンズの焦点距離 - （２）請求項（１）記載のアナモフィック単レンズを用
いた光ディスク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63072501A JPH01244421A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | アナモフィック単レンズと光ディスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63072501A JPH01244421A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | アナモフィック単レンズと光ディスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01244421A true JPH01244421A (ja) | 1989-09-28 |
Family
ID=13491147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63072501A Pending JPH01244421A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | アナモフィック単レンズと光ディスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01244421A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5467335A (en) * | 1993-01-04 | 1995-11-14 | U.S. Philips Corporation | Beam-shaping optical element and device for converting a beam having a first cross-section into a beam having a second cross-section |
| US6627869B2 (en) | 2001-04-24 | 2003-09-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Beam shaper, and semiconductor laser source device and optical head using the beam shaper |
| US7088645B2 (en) | 1997-07-11 | 2006-08-08 | Ricoh Company, Ltd. | Optical pickup apparatus compatible with different types of optical recording mediums |
| JPWO2008139691A1 (ja) * | 2007-04-26 | 2010-07-29 | パナソニック株式会社 | 光ディスク用レーベルプリンタ、感熱記録型プリンタ及び感熱記録方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61254915A (ja) * | 1985-05-03 | 1986-11-12 | Canon Inc | 光束径調整用の光学系 |
-
1988
- 1988-03-25 JP JP63072501A patent/JPH01244421A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61254915A (ja) * | 1985-05-03 | 1986-11-12 | Canon Inc | 光束径調整用の光学系 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5467335A (en) * | 1993-01-04 | 1995-11-14 | U.S. Philips Corporation | Beam-shaping optical element and device for converting a beam having a first cross-section into a beam having a second cross-section |
| US7088645B2 (en) | 1997-07-11 | 2006-08-08 | Ricoh Company, Ltd. | Optical pickup apparatus compatible with different types of optical recording mediums |
| US7403453B2 (en) | 1997-07-11 | 2008-07-22 | Ricoh Company, Ltd. | Optical disk apparatus compatible with different types of mediums adapted for different wavelengths |
| US7680015B2 (en) | 1997-07-11 | 2010-03-16 | Ricoh Company, Ltd. | Optical disk apparatus compatible with different types of mediums adapted for different wavelengths |
| US6627869B2 (en) | 2001-04-24 | 2003-09-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Beam shaper, and semiconductor laser source device and optical head using the beam shaper |
| JPWO2008139691A1 (ja) * | 2007-04-26 | 2010-07-29 | パナソニック株式会社 | 光ディスク用レーベルプリンタ、感熱記録型プリンタ及び感熱記録方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20040061658A (ko) | 하이브리드 애크로매틱 광학 렌즈 및 그 제조방법 | |
| US7167317B2 (en) | Objective optical system employing grin lens | |
| JPH01244421A (ja) | アナモフィック単レンズと光ディスク装置 | |
| JP2002323673A (ja) | ビーム整形素子、並びにそれを用いた半導体レーザ光源装置及び光学ヘッド | |
| JPH01109317A (ja) | コリメータ単レンズ | |
| US6078431A (en) | Object lens system | |
| JPS61189512A (ja) | 非球面単レンズ | |
| JPH0348487B2 (ja) | ||
| JPS6259912A (ja) | 大口径単レンズ | |
| JPS60247611A (ja) | 光学ヘツド | |
| US5087990A (en) | Collimator lens of erasable and re-recordable magneto-optical disk system | |
| US4964703A (en) | Image-forming lens | |
| US3936154A (en) | Short focal length large aperture optical system | |
| EP0156453A1 (en) | Lens for an optical recording/reproducing apparatus | |
| JPH02245715A (ja) | 低分散ガラスモールド非球面単レンズ | |
| JPS61138223A (ja) | 光学式記録再生装置用レンズ | |
| JPH11149038A (ja) | 屈折率分布レンズを用いた光学系 | |
| JP2727373B2 (ja) | 有限系大口径結像レンズ | |
| JPH04362608A (ja) | ビームエキスパンダーとそれを用いた光ヘッド | |
| JP2511275B2 (ja) | 光情報媒体の記録・再生用光学系 | |
| JPH01161308A (ja) | 光学式記録再生装置用レンズ | |
| USRE33227E (en) | Gradient index type single lens | |
| JPH043850B2 (ja) | ||
| JPS5962815A (ja) | 屈折率分布型レンズ | |
| JPH0127402B2 (ja) |