JPH01215972A - 光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法 - Google Patents

光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法

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JPH01215972A
JPH01215972A JP4085188A JP4085188A JPH01215972A JP H01215972 A JPH01215972 A JP H01215972A JP 4085188 A JP4085188 A JP 4085188A JP 4085188 A JP4085188 A JP 4085188A JP H01215972 A JPH01215972 A JP H01215972A
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magneto
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rare earth
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JP4085188A
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Heiki Hoshi
星 兵喜
Yukio Nagayama
長山 幸雄
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Tokin Corp
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Tokin Corp
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気記録媒体をスパッタリングにて製造す
る際に用いられる希土類金属と遷移金属とからなる光磁
気記録媒体用ターゲットの製造に関するものである。
〔従来の技術〕
近年、光磁気記録の技術進歩はめさ′ましく、光磁気デ
ィスクの、開発は、光磁気記録媒体の性能向上等を主体
に活発に行なわれている。この光磁気記録媒体の材料と
しては希土類金属と遷移金属の組み合せ(TbFe、G
dTbFe、TbFeCo、GdDyFeCo等)の薄
M’A体が用いられ、カラス、又は樹脂系基板上ヘスバ
ッタ法などにて形成されている。このスパッタ法で形成
される、光磁気記録薄膜媒体には成分の均一性、高純度
、低酸素含有率などが要求されている。そのためスパッ
タリングタ−ゲタ1〜としては、量産に豊んた、高密度
で高純度、低酸素含有率の材料特性か要求される。
この様なターゲットの製造方法としては、(1)所定組
成の希土類金属と遷移金属を真空溶解炉等で溶解、鋳造
した後粉砕し、ホットプレス法又は、熱間静水圧プレス
法により加圧焼結して合金ターゲットを製造する方法。
(2)溶解法で得られた遷移金属ターゲット上に希土類
金属の小片を乗せて(又はその逆)、複合ターゲットを
製造する方法などが行なわれている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら上記した(1)で示される方法は、組成は
均一で量産性に豊んたターゲットであるか、スパッタリ
ングにより形成した薄膜の組成か、ディスク中心から周
辺に行くに従い、希土類金属組成か増大し、膜組成の均
一性において劣る。尚、上記した(2)の方法では、希
土類金属小片の配置により、薄膜の組成は均一に得られ
るものの、小片を用いるためスパッタリング中の均一組
成が得られる寿命が短く、従って、量産性において劣っ
ていた。また、小片を固定していないため、小片が移動
し易くスパッタリングごとの組成が変動するという問題
点を有していた。
本発明の課題は、斯る問題点に鑑み、スパッタ薄膜の組
成分布が均一で且つ寿命が長い量産性に富んだ大型の光
磁気記録媒体用ターゲットの製造方法を提供することで
ある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明によれば、合金又は金属粉末及び棒材よりなる複
合体を所定形状容器内に充填し、上記複合体を実質的に
真空状態にて加熱し、上記複合体を上記容器内に封入す
る準備加工工程と、上記準備加工工程に続いて上記複合
体を上記密封容器とともに熱間圧縮成形する熱間圧縮成
形工程とを有し、上記合金又は金属粉末は少くとも希土
類金属を含み上記棒材は、少くとも鉄を含む材料より形
成されていることを特徴とする光磁気記録媒体用ターゲ
ットの製造方法か得られる。
ここで、本発明において、所定形状の密封容器内に収容
される棒材は、密封容器希土類−遷移金属合金粉末及び
棒材をあわせた材料の総重量の18.5〜38.0wt
%の範囲内であることが好ましい。
また、熱処理時の一定温度は900 ’C以上の温度が
好ましく、熱間圧縮成形温度は、9oo℃以上の温度、
圧力は900気圧以上が好ましい。
〔実施例〕
本発明の実施例について説明する。
第1図は、本発明の実施例に係る光磁気記録媒体用ター
ゲットの製造方法を示している。この図にように、粉砕
した希土類−遷移金属合金粉末2を密封容器ステンレス
製のコンテナ1に充てんし、この粉砕中に、棒材3に挿
入して複合体を形成した、次に脱気管4を真空ポンプに
接続し、真空度5X10−’Torrまで脱気し、次い
で、温度1000℃まで加熱昇温させ、1000℃で2
時間保持し加熱真空引きを施し、しがる後脱気管の一部
を加熱圧接、切断し密封コンテナを作製する。
HIP炉内に設置されたコンテナを、温度1000 ’
C1圧力1000気圧、保持時間2時間の条件にてHI
P処理を施し、直径8インチ、厚さ3 nmの円板形タ
ーゲットを作製した。
第1表はターゲットの目標組成、棒材のFe。
Co量及び、スパッタ成膜の薄膜中の希土類成分の分布
を示す表である。
以下余白 第    1    表 第1表の各欄に実施例に係るターゲット試料3〜6の目
標組成、ターゲット中に占める棒材の重量百分率及び、
これらのターゲットを用いてスパッタ成膜した時の薄膜
中の希土類成分の分布を示しである。中心を基準にして
希土類含有率の変動した値を示す。比較のなめ、実施例
と同様な方法で作製した試料1,2,7.8と従来のF
e量がOw t%の棒材を世浮いた合金ターゲットの薄
膜中の希土類成分の分布も示した。従来例に係る合金タ
ーゲット及び比較例に係る試料1,2の棒材Fe量が少
量のターゲット、及び試料7.8の棒材のFe量が多量
のターゲットにおいては薄膜中の希土類成分の分布が大
である。それに対し、実施例にかかる資料3,4,5.
6すなわち棒材のFe量が18.’+−38,0wt%
において製造した薄膜中の希土類成分の分布が少ない良
好なターゲットが得られた。また、井命においても、従
来法の複合ターゲットに比べて長く良好であった。
尚、本発明に係る金属製の密封容器は、内部に真空に近
い状態10−’Torr以下を作り出せる容器本体に脱
気管が貫設された形状であるならば、密封容器本体の形
状には限定されない。
〔発明の効果〕
以上述べた通り、本発明によれは、スパッタ薄膜の組成
分布が小さく、さらに寿命か長く、量産製に富んだスパ
ッタリングに使用される光磁気記録媒体用ターゲットの
製造方法が提供できる。
また、本発明によれば、直径8インチ、10インチ×2
0インチ等の大型ターゲットを得ることができ、実用的
かつ、工業的に有利な熱間間圧線形方法による光磁気記
録媒体用ターゲットの製造方法か提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る光磁気記録媒体用ターゲットの
製造方法の一実施例を説明するための断面図である。 図中1はコンテナ、2は希土類−遷移金属合金、3はF
e棒材、4は脱気管である。 代理人(7783)弁理士池田憲保 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、合金又は金属粉末及び棒材よりなる複合体を所定形
    状の金属容器内に充填し、上記複合体を実質的に真空状
    態にて加熱し、上記複合体を上記密封容器内に封入する
    準備加工工程と、上記準備加工工程に続いて上記複合体
    を上記密封容器とともに熱間圧縮成形する熱間圧縮成形
    工程とを有し、上記合金又は金属粉末は少なくとも希土
    類金属を含み上記棒材は、少なくとも鉄を含む材料より
    形成されていることを特徴とする光磁気記録媒体用ター
    ゲットの製造方法。 2、上記棒材は、上記密封容器を含む複合体中に重量1
    8.5〜38.0wt%で含有されていることを特徴と
    する第1の請求項記載の光磁気記録媒体用ターゲットの
    製造方法。
JP63040851A 1988-02-25 1988-02-25 光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法 Expired - Lifetime JPH079060B2 (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62130235A (ja) * 1985-12-02 1987-06-12 Mitsubishi Metal Corp タ−ゲツト材の製造方法
JPS63290272A (ja) * 1987-05-21 1988-11-28 Hitachi Metals Ltd 希土類元素−遷移金属元素タ−ゲット材の製造方法

Patent Citations (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62130235A (ja) * 1985-12-02 1987-06-12 Mitsubishi Metal Corp タ−ゲツト材の製造方法
JPS63290272A (ja) * 1987-05-21 1988-11-28 Hitachi Metals Ltd 希土類元素−遷移金属元素タ−ゲット材の製造方法

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