JPH01206643A - 基板吸着構造 - Google Patents

基板吸着構造

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JPH01206643A
JPH01206643A JP63031596A JP3159688A JPH01206643A JP H01206643 A JPH01206643 A JP H01206643A JP 63031596 A JP63031596 A JP 63031596A JP 3159688 A JP3159688 A JP 3159688A JP H01206643 A JPH01206643 A JP H01206643A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
suction
substrate
holding plate
substrates
substrate holding
Prior art date
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Pending
Application number
JP63031596A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiro Nishimura
明浩 西村
Kimiharu Sato
公治 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinkawa Ltd
Original Assignee
Shinkawa Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shinkawa Ltd filed Critical Shinkawa Ltd
Priority to JP63031596A priority Critical patent/JPH01206643A/ja
Publication of JPH01206643A publication Critical patent/JPH01206643A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は基板を吸着保持する基板吸着構造に関する。
[従来の技術] 例えば、半導体の製造に用いるテープポンダとして、特
公昭57−53974号公報、特公昭62−27735
号公報、特公昭62−55298号公報に等示すように
、キャリアテープのリードにペレットのバンプをポンデ
ィングするもの、また特公昭62−31819号公報、
特公昭62−34142号公報等に示すように、キャリ
アテープのリードにバンプ単体をポンディングするもの
が知られている。
この装置における基板吸着構造は、xY(水平)方向、
Z(上下)方向及びθ(回転)方向に駆動されるポンド
ステージ上に基板保持板(真空チャック)を設け、この
基板保持板に設けられた吸着溝又は吸着穴等の吸着部に
よってペレット又はバンプが設けられた基板を保持させ
ている。
ところで、基板はできるだけ外周に近い部分で吸着保持
させた方が基板の反りが規制される上、保持の安定性が
良い。そこで、従来は、数種類の基板保持板を用意し、
基板に応じて取換えて用いている。
[発明が解決しようとする課題] 上記従来技術は、複数個の基板保持板を用意しなければ
ならなく、また基板の大きさが異なるたびに交換作業を
必要とするという問題点があった。
本発明の目的は、1個の基板保持板で大きさの異なる複
数個の基板に対応できる基板吸着構造を提供することに
ある。
[課題を解決するための手段] 上記目的は、大きさの異なる複数の基板に応じた吸着部
及びこの吸着部にそれぞれ連通して外部の真空ポンプに
接続される各基板に応じた複数の吸引部が形成された基
板保持板と、前記複数の吸引部と前記真空ポンプとを接
続する接続部に前記複数の吸引部をそれぞれ開閉させる
複数の開閉手段とを備えた構成にすることにより解決さ
れる。
[作用] 1個の基板保持板に複数の大きさに応じた複数の吸着部
が形成されており、前記各吸着部はそれぞれ開閉手段で
開閉可能になっているので、その基板に応じた吸着部の
みを開にして真空吸着状態にして用いる。
[実施例] 以下、本発明の一実施例を第1図乃至第3図により説明
する。本実施例は、大きさの異なる3種類の基板IA、
IB、ICに適応できるように構成した基板吸着構造を
示す。基板保持板2の上面には、基板IA、IB、4c
に応じた環状の吸着溝3A、3B、3Cが形成されてい
る。また基板保持板2の側面には、前記吸着溝3A、3
B、3Cの下方に伸びた水平の吸引部4A、4B、4C
が形成され、この吸引部4A、4B、4Cと前記吸着溝
3A、3B、3Cとは垂直の吸引部5A、5B、5Cに
よって連通されている。
前記吸引部4A、4B、4Cは接続バイブロA、6B、
6Cにより接続パイプ7を介して真空ポンプ8に接続さ
れている。また接続バイブロA、6B、6Cにはそれぞ
れ開閉可能な開閉バルブ9A、9B、9Cが設けられて
いる。
次に作用について説明する。今、基板IAを吸着保持さ
せる場合には、開閉バルブ9Aのみを開にし、開閉バル
ブ9B、9Cを閉にして用いる。
これにより、吸着溝3Aが吸引状態となり、吸着溝3B
、3Cは非吸引状態となり、吸着溝3Aによって基板I
Aを吸着保持することができる。この基板IAの場合に
は、開閉バルブ9Aのみ開ではなく、開閉バルブ9B、
9Cも開にして用いてもよい。
基板lBを吸着保持させる場合には、開閉バルブ9Aは
必ず閉にし、開閉バルブ9Bのみ又は開閉バルブ9B、
9Cを開にして用いる。また基板ICを吸着保持させる
場合は、同様に、開閉バルブ9A、9Bを必ず閉にし、
開閉バルブ9Cのみを開にして用いる。
このように、1個の基板保持板2で大きさの異なる複数
の基板IA、IB、ICを吸着させることができ、また
単に開閉バルブ9A、9B、9Cを開閉させるのみでよ
いので、装置のコストダウン及び切換え作業の大幅ば時
間短縮が図れる。
なお、上記実施例においては、基板IA、IB、ICを
吸着する部分は吸着溝3A、3B、3Cとしたが、第4
図及び第5図に示すように、第1図に示す吸着溝3A、
3B、3Cにそれぞれ対応した複数側の吸着穴10A、
IOB、10Cを有する第2の基板保持板11を製作し
、この基板保持板11を前記基板保持板2上に密着固定
して用いてもよい。また本実施例は、3種類の基板IA
、IB、ICに適用する場合について説明したが、2種
類又は4種類以上の基板に適用できるように構成できる
ことはいうまでもない。
[発明の効果] 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、1個
の基板保持板で大きさの異なる複数の基板を吸着させる
ことができ、また単に開閉バルブを開閉させるのみでよ
いので、装置のコストダウン及び切換え作業の大幅ば時
間短縮が図れる。
【図面の簡単な説明】 示す平面図、第5図は第4図のC−C線断面図である。 IA、IB、IC:基板、   2:基板保持板、3A
、3B、3C:吸着溝、 4A、4B、4C15A、5B、5c:吸引部、6A、
6B、6C17:接続パイプ、 8:真空ポンプ、  9A、9B、9c:開閉バルブ、
   IOA、IOB、1oc:吸着穴、11:基板保
持板。 代理人 弁理士 1)辺 良 徳 1A〜IC:基販 10Aへ10C: 0局、脇 り( 11:茎吹係竹林

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)大きさの異なる複数の基板に応じた吸着部及びこ
    の吸着部にそれぞれ連通して外部の真空ポンプに接続さ
    れる各基板に応じた複数の吸引部が形成された基板保持
    板と、前記複数の吸引部と前記真空ポンプとを接続する
    接続部に前記複数の吸引部をそれぞれ開閉させる複数の
    開閉手段とを備えてなる基板吸着構造。
JP63031596A 1988-02-13 1988-02-13 基板吸着構造 Pending JPH01206643A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5487630A (en) * 1994-03-09 1996-01-30 Campian; Jonathon Machine for cutting a workpiece made of styrofoam or like material
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