JPH01205078A - プラズマｃｖｄ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電子写真感光体等の製造に使用されるプラズ
マＣＶＤ装置に関する。

従来の技術 従来、ケイ素系の感光層を有する電子写真感光体の製造
は、例えば、真空槽内に、回転可能な感光体ドラム保持
部材と、その周りに設けた円筒状又は円弧状電極とを配
設したプラズマＣＶＤ装置を用い、真空槽内を高真空に
した後、真空槽内に設けたガス導入口より反応ガスを導
入して、グロー放電分解させることにより、感光体ドラ
ム保持部材上に保持された導電性支持体上に非晶質膜を
形成させることによって行われている。

第３図は従来の容量結合型プラズマＣＶＤ装置の一例を
示す。１は真空反応槽であり、その中に、モータ８によ
り回転する円筒状の感光体保持部材２を載置し、一方、
複数のガス噴出孔６を設けた剛性の金属よりなる中空対
向電極３を、感光体保持部材上のドラム状導電性基板１
９に対向してそれを取り囲むように設置する。中空対向
電極３はＲＦ電源によって高周波電圧が印加されている
。真空反応槽内部は、高真空排気系１０に於いて、バル
ブ１１が設けられた高真空排気用の排気配管７を通して
高真空に排気され、その後、原料ガスを、ボンベ４から
ガス導入管５により導入し、ガス噴出孔から噴出し、ガ
ス排気系２０によりガスをガス排気用の排気配管１５を
通して排気しながらグロー放電を起こさせて、導電性基
板１９上に膜を堆積形成させる。

発明が解決しようとする課題 上記従来のプラズマＣＶＤ装置においては、高真空排気
用の排気配管の途中にバルブが設けられており、成膜時
に通路を遮断するように構成されている。ところが、排
気配管の途中にバルブが設けられている為に、バルブか
ら真空反応槽に至る排気配管の部分Ａがデッドスペース
になり、グロー放電を行なう際に、そのデッドスペース
のために、真空反応槽内の反応ガスの流れに滞留部分が
生じ、反応ガスの流れが乱されて均一な膜厚の感光層が
得られなくなるという問題があった。

本発明は、従来の技術における上記のような問題点に鑑
みてなされたものでおる。

したがって、本発明の目的は、均一な膜厚の感光層を形
成することのできるプラズマＣＶＤ装置を提供すること
におる。

課題を解決するための手段 本発明のプラズマＣＶＤ装置は、真空反応槽内に、円筒
状又は円弧状電極が配設され、その円筒状又は円弧状電
極の内側に、回転可能な感光体ドラム保持部材が設けら
れてあり、そして、この真空反応槽壁部には、高真空排
気用の排気配管及びガス排気用の排気配管が接続された
構成を有している。そして本発明における特徴点は、そ
の真空反応槽と高真空排気用の排気配管との接続部分に
ゲートバルブを設けた点におる。

作用 本発明のプラズマＣＶＤ装置を用いて電子写真感光層を
形成する際には、まず感光体ドラム保持部材上に導電性
基板を載置し、ゲートバルブを開いて高真空排気用の排
気配管から排気し、真空反応槽内を高真空にした後、ゲ
ートバルブを閉じ、真空構内に反応ガス、例えばシラン
ガスを導入し、円筒状電極に設けられたガス噴出孔から
噴出させ、同時にガス排気用の排気配管より、このガス
を排気する。円筒状電極と導電性基板との間には、電界
が形成されているため、反応ガスのグロー放電分解が行
われ、導電性基板上に感光膜が形成される。本発明にお
いては、ゲートバルブが真空反応槽と高真空排気用の排
気配管との接続部分に設けられているので、従来のプラ
ズマＣＶＤ装置におけるような、デッドスペースがなく
、このため、反応ガスが滞留を起こすということがなく
、反応ガスは真空反応槽内をスムースに流れる。したが
って、感光膜は−様な条件で形成されることになる。

実施例 以下、図面によって本発明を説明する。

第１図は、本発明のプラズマＣＶＤ装置の一実施例の概
略断面図であり、第２図はその横断面図である。

１は、真空反応槽であり、その内部に、高周波電源９に
接続されたガス噴出孔６を有する中空円筒状電極３が配
設されている。この、中空円筒状電極の筒内には、モー
タ８によって回転する感光体ドラム保持部材２が設けら
れている。この真空反応槽１の壁部には、高真空排気用
の排気配管７がゲートバルブ１２を介して接続されてお
り、デイフュージョンポンプ１３及びロータリーポンプ
１４に接続している。更に真空反応槽１には、成膜中に
排気するためのガス排気系が設けられている。即ち、そ
の壁部にバルブ１６を備えたガス排気用の排気配管１５
が取り付けられており、その排気配管はメカニカルブー
スターポンプ１７及びロータリーポンプ１８に接続して
いる。

尚、本発明において用いるゲートバルブは公知のもので
あって、シャッター状のゲートが摺動してバルブの開閉
を行なう形式のものならば、どの様なものを使用しても
よい。

上記のプラズマＣＶＤ装置を用いて電子写真感光体を製
造するには、感光体ドラム保持部材２上に導電性基板１
９を載置する。ゲートバルブ１２を開いてデイフュージ
ョンポンプ１３及びロータリーポンプ１４を作動させ、
排気筒７から真空反応槽内を、例えば１０−６Ｔｏｒｒ
程度の高真空に排気する。次いで、ゲートバルブ１２を
閉じた後、例えばシランガスをカス導入管５によって中
空円筒状電極３内に導入し、ガス噴出孔６より中空円筒
状電極３内に噴出させる。感光体ドラム保持部材は、モ
ータ８によって回転させる。中空円筒状電極３には、高
周波電源９によって所定の電力が供給されているため、
円筒状電極と、接地電圧に維持されている導電性基板と
の間でグロー放電が起こり、シランガスを分解して導電
性基板上に非晶質ケイ素膜が形成する。成膜中は、真空
反応槽内を排気する。

即ら、メカニカルブースターポンプ１７及びロータリー
ポンプ１８を作動させ、バルブ１６を開いて排気管１５
より所定の真空度、例えばＩＴｏｒｒ程度に保持する。

本発明の上記プラズマＣＶＤ装置においては、ゲートバ
ルブが真空反応槽１と排気配管７との接続部分に設けら
れているので、成膜中、真空反応槽内に反応ガスの滞留
する部分がなくなり、反応ガスは真空反応槽内を滞留を
起こすことなくスムースに流れる。したがって、感光膜
は−様な条件で形成されることになる。尚、通常、ガス
排気用の排気配管１５は高真空排気用の排気配管７に比
較して直径が小さいために、反応ガスの流れを乱す程の
影響を与えることはないので、ゲートバルブを設ける必
要はない。むしろ、この排気管との接続部分にゲートバ
ルブを設けると、排気ガス中に含まれる反応生成物の粉
等の為にゲートの摺動が困難になる場合が生じる。

発明の効果 本発明のプラズマＣＶＤ装置は、上記の様に、真空反応
槽と高真空排気用の排気配管との接続部分にゲートバル
ブを設けてなるから、電子写真感光層を形成する場合、
反応ガスの滞留がないので、ガス流の流れが乱れること
がない。したがって、常に均一な膜厚の電子写真感光層
を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の概略断面図、第２図は第１
図のＡ−Ａ線の横断面図、第３図は従来のプラズマＣＶ
Ｄ装置の構成図である。 １・・・真空反応槽、２・・・感光体ドラム保持部材、
３・・・中空円筒状電極、４・・・ボンベ、５・・・ガ
ス導入管、６・・・ガス噴出孔、７・・・排気配管、８
・・・モータ、９・・・高周波電源、１０・・・高真空
排気系、１１・・・バルブ、１２・・・ゲートバルブ、
１３・・・デイフュージョンポンプ、１４・・・ロータ
リーポンプ、１５・・・排気配管、１６・・・バルブ、
１７・・・メカニカルブースターポンプ、１８・・・ロ
ータリーポンプ、１９・・・導電性基板、２０・・・排
気系。 特許出願人　　富士ゼロックス株式会社代理人　　　　
弁理士　　眼部　剛 節１図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）真空反応槽内に、円筒状又は円弧状電極を配設し
   、該円筒状又は円弧状電極の内側に、回転可能な感光体
   ドラム保持部材を配設し、該真空反応槽壁部に高真空排
   気用の排気配管及びガス排気用の排気配管を別々に接続
   してなるプラズマＣＶＤ装置において、該真空反応槽と
   該高真空排気用の排気配管との接続部分に、ゲートバル
   ブを設けてなることを特徴とするプラズマＣＶＤ装置。