JP2000274952A

JP2000274952A - 熱処理システム

Info

Publication number: JP2000274952A
Application number: JP11080172A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Kawamoto; 浩河本
Original assignee: Koyo Thermo Systems Co Ltd
Current assignee: JTEKT Thermo Systems Corp
Priority date: 1999-03-24
Filing date: 1999-03-24
Publication date: 2000-10-06
Also published as: TW412807B

Abstract

(57)【要約】【課題】運転操作や構造を複雑化することなく、加熱室
内の温度分布特性を向上し、処理時間を短縮し、板状被
処理物の破損を防止し、コストを低減し、クリーン度を
向上できる熱風加熱式熱処理システムを提供する。【解決手段】熱処理装置２は、加熱室１３内においてラ
ック１５により支持された複数枚の板状被処理物３を加
熱する熱風を発生し、そのラック１５を加熱室１３と冷
却室１４との間で往復移動させ、その加熱室１３と冷却
室１４との接続口１２ａの開閉機構を有する。その熱風
の通過する除塵用フィルターが設けられる。その冷却室
１４においてラック１５により支持された板状被処理物
３は放冷可能とされ、且つ、その板状被処理物を強制空
冷する手段を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばフラットパ
ネルディスプレイ用ガラス基板や、その基板を用いた電
子部品等の板状被処理物を、クリーンな環境下で熱処理
を行う熱風加熱式熱処理システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】窒素（Ｎ₂ ）等の雰囲気ガス中におい
て、板状被処理物をロット単位（例えば液晶ディスプレ
イ装置用ガラス基板の場合２０枚）で処理する場合、バ
ッチ処理が必要である。従来、それら板状被処理物は、
熱風加熱式熱処理装置内に固定されたラックにより支持
された状態で熱処理されていた。あるいは、ロット単位
の板状被処理物をカセットに収納し、そのカセットを熱
風加熱式熱処理装置に出し入れし、そのカセットにより
支持された状態で熱処理されていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のようなラックを
用いる場合、複数の板状被処理物をロボット等を有する
搬送装置によりラックから一枚ずつ取り出すには長時間
を要する。そのため、その搬送装置の耐熱性不足に対応
するために加熱室の温度を低下させていた。そうする
と、その後に別のロットの板状被処理物を処理する際に
加熱室の温度を上昇させる必要がある。しかし、そのよ
うな温度の昇降により、加熱室内の温度分布特性が悪化
し、また、炉内の蓄熱エネルギーがロスし、さらに、処
理時間が長くなる。また、冷却に要する時間が長くなら
ないように、加熱室内を急冷させるためのフィンクーラ
ー等の付帯機器が必要になる。さらに、熱風用フィルタ
ーとして通常使用されているＨＥＰＡ（ＨｉｇｈＥｆ
ｆｉｃｉｅｎｃｙＰａｒｔｉｃｌｅＦｉｌｔｅｒ）フ
ィルターに、急激な温度変化による熱膨張が生じると、
フィルター濾材を構成するグラスファイバーから発塵す
るためクリーン度が低下する。

【０００４】上記のようなカセットを用いる場合、板状
被処理物をカセットに出し入れする搬送装置と、カセッ
トを熱処理装置に出し入れする搬送装置とが必要となり
コストアップ、設置面積拡大の問題がある。また、複数
の熱処理装置からなる熱処理システムを構成する場合、
各熱処理装置の処理状況を管理しつつ両搬送装置を運転
する必要があるので、運転操作が複雑になる。

【０００５】本発明は、上記問題を解決することのでき
る熱処理システムを提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の熱処理システム
は、加熱室と、この加熱室に通じる冷却室と、複数枚の
板状被処理物を支持するラックと、その加熱室内におい
てラックにより支持された板状被処理物を加熱する熱風
を発生する手段と、その熱風を通過させる除塵用フィル
ターと、そのラックを加熱室と冷却室との間で往復移動
させる機構と、その加熱室と冷却室との接続口の開閉機
構とを有する熱風加熱式熱処理装置を備え、前記冷却室
においてラックにより支持された板状被処理物は放冷可
能とされ、且つ、その板状被処理物を強制空冷する手段
を備える。本発明の構成によれば、ラックを加熱室から
冷却室に移動させた後に、板状被処理物をラックから取
り出して冷却することができる。よって、板状被処理物
をラックから取り出す時でも、加熱室を常に処理温度に
保持し、あるいは処理温度からの温度低下を小さくして
処理温度への昇温時間を短縮でき、急激な温度変化をな
くすことができる。また、ラックは加熱室と冷却室との
間で往復移動させるだけでよく、その往復移動の位置決
めや速度に高い精度は不要である。よって、そのラック
を往復移動させる機構は複雑な構成を必要しない。ま
た、加熱室を冷却する必要がないので、急冷フィンクー
ラーや冷却水ユーティリティー等が不要になる。さら
に、ラックへの板状被処理物の出し入れは室温付近で行
えるので搬送装置の耐熱性は不要になる。

【０００７】前記冷却室においてラックにより支持され
た板状被処理物は放冷可能とされ、且つ、その板状被処
理物を強制空冷する手段を備えるので、板状被処理物を
２００℃程度までは放冷することで急冷による破損を防
止し、その後は強制空冷することで冷却時間を短縮でき
る。

【０００８】本発明の熱処理システムは、前記熱風加熱
式熱処理装置を複数備え、単一の搬送装置を備え、その
搬送装置は板状被処理物を冷却室内のラックに支持させ
ると共に、冷却室内のラックにより支持された板状被処
理物を取り出す機構を有するのが好ましい。本発明の熱
処理システムによれば、同時に複数の熱処理装置を運転
する場合でも複雑な運転操作を必要としない。

【０００９】前記加熱室と冷却室とが上下に並列するよ
うに配置されているのが好ましい。これにより、設置面
積を可及的に小さくできる。

【００１０】

【発明の実施の形態】（第１実施形態）図１〜図３に示
す第１実施形態の熱風加熱式熱処理システム１は、横方
向に並列する３台の熱風加熱式熱処理装置２と、単一の
搬送装置４と、液晶ディスプレイ装置用ガラス基板等の
板状被処理物３を別の工程との間で受渡しするための４
つの受渡しステーション５と、それら熱処理装置２と搬
送装置４と受渡しステーション５とを覆うカバー６とを
備える。

【００１１】各熱処理装置２は、支持台１１により支持
される炉体１２の内部空間により構成される加熱室１３
と、その炉体１２の側面の接続口１２ａを介して加熱室
１３に通じる冷却室１４と、板状被処理物３を支持する
ラック１５と、その加熱室１３内おいてラック１５によ
り支持された板状被処理物３を加熱する熱風を発生する
熱風加熱機構１６と、その熱風を通過させる除塵用フィ
ルター１７と、そのラック１５を加熱室１３と冷却室１
４との間で直線的に往復移動させる移動機構１８とを有
する。

【００１２】その冷却室１４は炉体１２の一側方の空間
により構成され、これにより加熱室１３と冷却室１４と
は横方向に並列する。この冷却室１４において板状被処
理物３は放冷可能とされている。また、板状被処理物３
を強制空冷する手段として、その冷却室１４に送風ファ
ンユニット３１が設けられている。

【００１３】そのラック１５は、複数枚の板状被処理物
３を横方向に一枚ずつ取り出し可能に、厚さ方向を上下
方向として、上下に間隔をおいて支持するもので、例え
ば支柱から突出するツメを介して支持するものを用いる
ことができる。

【００１４】その受渡しステーション５に別の工程から
搬入されるカセット２０は、複数枚の板状被処理物３を
横方向に一枚ずつ取り出し可能に上下に間隔をおいて支
持するもので、公知のものを用いることができる。

【００１５】図３に示すように、その熱風加熱機構１６
は、加熱室１３内で板状被処理物３を加熱する熱風を発
生して循環させる。すなわち、その加熱室１３の内部に
内壁２１が設けられる。この内壁２１の両側面と上面と
炉体１２の内面との間は熱風通路を構成する。その内壁
２１の内部に上記ラック１５が配置可能とされ、この内
壁２１の上方において炉体１２にヒータ２２と熱風循環
用ファン２３が取り付けられる。その内壁２１の一側面
に上記フィルター１７としてＨＥＰＡフィルターが取り
付けられ、他側面に複数の通風口２５が形成されてい
る。図３において矢印で示すように、そのヒータ２２に
より加熱された加熱室１３内の窒素等の雰囲気は、ファ
ン２３により循環されることで、フィルター１７を介し
てラック１５により支持された板状被処理物３に横方向
から吹き付けられる熱風となる。その熱風は各板状被処
理物３の表裏面に沿って流れ、しかる後に通風口２５を
介してヒータ２２に至って再び加熱される。そのフィル
ター１７は、急激な温度変化による熱膨張が生じると、
フィルター濾材を構成するグラスファイバーから発塵す
る低コストのものが用いられている。

【００１６】その移動機構１８は、その加熱室１３と冷
却室１４の下方に配置された支持台４１と、この支持台
４１により支持される駆動機構４３により横方向に直線
的に往復駆動されるスライダー４２とを有する。その駆
動機構４３は例えば空圧シリンダーにより構成される。
そのスライダー４２の移動方向は加熱室１３と冷却室１
４の並列方向に一致する。そのスライダー４２は、炉体
１２の底壁よりも上方に位置する第１部分４２ａと、下
方に位置する第２部分４２ｂと、第１、第２部分４２
ａ、４２ｂを連結する第３部分４２ｃとを有する。その
第１部分４２ａにより上記ラック１５が支持される。そ
のスライダー４２の往復移動により、ラック１５は第１
部分４２ａと共に図１において実線で示すように冷却室
１４内に配置される位置と２点鎖線で示すように加熱室
１３内に配置される位置とに位置決め可能される。

【００１７】上記接続口１２ａを開閉する機構として保
温シャッター５１が設けられている。その保温シャッタ
ー５１は駆動装置（図示省略）により、図１において実
線で示すように接続口１２ａを閉鎖する位置と、２点鎖
線で示すように接続口１２ａを開放する位置との間で駆
動可能とされている。なお、ラック１５が加熱室１３内
に配置される時、保温シャッター５１は上記スライダー
４２の第１部分４２ａと共に接続口１２ａを閉鎖する。

【００１８】その搬送装置４は、板状被処理物３を冷却
室１４内のラック１５と受渡しステーション５のカセッ
ト２０とに支持させ、また、冷却室１４内のラック１５
と受渡しステーション５のカセット２０により支持され
た板状被処理物３を取り出す機構として、ロボット６１
と、このロボット６１を図１における実線位置と２点鎖
線位置との間で昇降させる昇降機構６２と、そのロボッ
ト６１と昇降機構６２を熱処理装置２の並列方向に沿っ
て横方向に駆動する走行機構６３とを有する。そのロボ
ット６１は、板状被処理物３の支持フォーク６１ａと、
このフォーク６１ａの伸縮アーム６１ｂとを有し、ラッ
ク１５とカセット２０とに板状被処理物３を出し入れす
る。その昇降機構６２は、ロボット６１を昇降させる。
その走行機構６３は、そのロボット６１と昇降機構６２
をラック１５とカセット２０とに対向する位置に位置決
めする。

【００１９】そのカバー６には、各受渡しステーション
５に対向する開口の開閉扉６ａが設けられる。板状被処
理物３はカセット２０により支持された状態でカバー６
外から受渡しステーション５に搬入され、また、カセッ
ト２０により支持された状態で受渡しステーション５か
らカバー６外に搬出される。また、カバー６には内部空
気の清浄装置７１が取り付けられている。

【００２０】上記構成により熱処理を行う場合、各炉体
１２の接続口１２ａを保温シャッター５１により閉鎖
し、加熱室１３の内部を熱風加熱機構１６により処理温
度（例えば２３０℃）に維持し、ラック１５を冷却室１
４に配置させる。次に、板状被処理物３を搬送装置４に
より受渡しステーション５のカセット２０から取り出
し、次いでラック１５に支持させる。次に接続口１２ａ
を開いて移動機構１８によりラック１５を加熱室１３内
に移動させたならば、接続口１２ａを再び閉鎖する。し
かる後に熱風加熱機構１６により板状被処理物３を加熱
する。熱処理が終了すれば接続口１２ａを開き、移動機
構１８によりラック１５を冷却室１４内に移動させる。
次に接続口１２ａを再び閉鎖する。そして、冷却室１４
において、板状被処理物３を例えば２００℃まで放冷
し、続いて送風ファンユニット３１により強制空冷す
る。その強制空冷用の冷却風は、冷却室１４においてラ
ック１５により支持された板状被処理物３に、熱処理装
置２の並列方向に沿って横方向から吹き付けられる。し
かる後に、板状被処理物３を搬送装置４によりラック１
５から取り出し、次いで受渡しステーション５のカセッ
ト２０に支持させる。

【００２１】上記構成によれば、ラック１５を加熱室１
３から冷却室１４に移動させた後に、板状被処理物３を
ラック１５から取り出して冷却することができる。よっ
て、板状被処理物３をラック１５から取り出す時でも、
加熱室１３を常に処理温度に保持し、あるいは処理温度
からの温度低下を小さくして処理温度への昇温時間を短
縮できる。これにより、加熱室１３内の温度分布特性を
向上し、処理時間を短縮してコストを低減し、急激な温
度変化をなくしてＨＥＰＡフィルター１７の採用時にお
けるクリーン度を向上できる。また、加熱室１３を冷却
する必要がないので、急冷フィンクーラーや冷却水ユー
ティリティー等が不要で、さらに、ラック１５への板状
被処理物３の出し入れは室温付近で行えるので搬送装置
４の耐熱性は不要で、コストを抑制できる。また、ラッ
ク１５は加熱室１３と冷却室１４との間で移動機構１８
により往復移動させるだけでよく、その往復移動の位置
決めや速度に高い精度は不要である。よって、その移動
機構１８は複雑な構成を必要とせず、且つ、同時に複数
の熱処理装置２を運転する場合でも複雑な運転操作を必
要としない。また、冷却室１４においてラック１５によ
り支持された板状被処理物３を、２００℃程度までは放
冷することで破損を防止し、その後は強制空冷すること
で冷却時間を短縮できる。

【００２２】図４は、上記構成により熱処理した板状被
処理物３の上限温度、下限温度、加熱室１３内の制御温
度、加熱室１３内における粒径０．３μｍ以上のパーテ
ィクル数の時間変化を示す。図５は、冷却室がなく、加
熱室内にラックが固定された従来の熱処理システムによ
り熱処理した板状被処理物の上限温度、下限温度、加熱
室内の制御温度、加熱室内における粒径０．３μｍ以上
のパーティクル数の時間変化を示す。これにより、処理
時間を短縮してクリーン度を向上できることを確認でき
る。

【００２３】（第２実施形態）図６〜図８に示す本発明
の第２実施形態の熱風加熱式熱処理システム１０１は、
横方向に並列する３台の熱風加熱式熱処理装置１０２
と、単一の搬送装置１０４と、それら熱処理装置１０２
と搬送装置１０４とを覆うカバー１０６とを備える。

【００２４】各熱処理装置１０２は、支持台１１１によ
り支持される炉体１１２の内部空間により構成される加
熱室１１３と、その炉体１１２の底面の接続口１１２ａ
を介して加熱室１１３に通じる冷却室１１４と、液晶デ
ィスプレイ装置用ガラス基板等の板状被処理物１０３を
支持するラック１１５と、その加熱室１１３内おいてラ
ック１１５により支持された板状被処理物１０３を加熱
する熱風を発生する熱風加熱機構１１６と、その熱風を
通過させる除塵用フィルター１１７と、そのラック１１
５を加熱室１１３と冷却室１１４との間で直線的に往復
移動させる移動機構１１８と、そのラック１１５を上下
方向軸まわりに回転駆動する回転機構１１９とを有す
る。

【００２５】その冷却室１１４は炉体１１２の下方の空
間により構成され、これにより加熱室１１３と冷却室１
１４とは上下に並列するように配置されている。この冷
却室１１４において板状被処理物１０３は放冷可能とさ
れている。また、板状被処理物１０３を強制空冷する手
段として、その冷却室１１４を挟むように送風ファンユ
ニット１３１ａと排気ファンユニット１３１ｂとが設け
られている。

【００２６】そのラック１１５は、複数枚の板状被処理
物１０３を横方向に一枚ずつ取り出し可能に、厚さ方向
を上下方向として上下に間隔をおいて支持するもので、
例えば支柱から突出するツメを介して支持するものを用
いることができる。

【００２７】その回転機構１１９は、ラック１１５を支
持する回転台１１９ａと、この回転台１１９ａの支持台
１１９ｂと、その回転台１１９ａを上下方向軸まわりに
回転駆動するアクチュエータ１１９ｃとを有する。その
回転台１１９ａの回転は連続回転でも間欠的回転でもよ
い。その支持台１１９ｂは上記接続口１１２ａを閉鎖可
能な大きさとされている。

【００２８】その熱風加熱機構１１６は、加熱室１１３
内で板状被処理物１０３を加熱する熱風を発生して循環
させる。すなわち、図６に示すように、その加熱室１１
３の内部に内壁１２１が設けられる。この内壁１２１の
前後面と上面と炉体１１２の内面との間は熱風通路を構
成する。その内壁１２１の内部に上記ラック１１５が配
置可能とされ、この内壁１２１の後方において炉体１１
２にヒータ１２２と熱風循環用ファン１２３が取り付け
られる。その内壁１２１の後面に上記フィルター１１７
としてＨＥＰＡフィルターが取り付けられ、前面に複数
の通風口１２５が形成されている。図６において矢印で
示すように、そのヒータ１２２により加熱された加熱室
１１３内の窒素等の雰囲気は、ファン１２３により循環
されることで、フィルター１１７を介してラック１１５
により支持された板状被処理物１０３に横方向から吹き
付けられる熱風となる。その熱風は各板状被処理物１０
３の表裏面に沿って流れ、しかる後に通風口１２５を介
してヒータ１２２により再び加熱される。そのフィルタ
ー１１７は、急激な温度変化による熱膨張が生じると、
フィルター濾材を構成するグラスファイバーから発塵す
る低コストのものが用いられている。

【００２９】図６に示すように、その移動機構１１８
は、その冷却室１１４内に配置された支持台１４１と、
この支持台１４１により支持される駆動機構１４３によ
り上下方向に直線的に往復駆動されるスライダー１４２
とを有する。その駆動機構１４３は例えば空圧シリンダ
ーにより構成される。そのスライダー１４２の移動方向
は加熱室１１３と冷却室１１４の並列方向に一致する。
そのスライダー１４２により上記ラック１１５が回転機
構１１９を介して支持される。そのスライダー１４２の
往復移動により、ラック１１５は回転機構１１９と共に
図６において実線で示すように冷却室１１４内に配置さ
れる位置と２点鎖線で示すように加熱室１１３内に配置
される位置とに位置決めされる。

【００３０】上記接続口１１２ａを開閉する機構として
保温シャッター１５１が設けられている。その保温シャ
ッター１５１は駆動装置（図示省略）により、図６にお
いて実線で示すように接続口１１２ａを閉鎖する位置
と、２点鎖線で示すように接続口１１２ａを開放する位
置との間で駆動可能とされている。

【００３１】その搬送装置１０４は、板状被処理物１０
３を冷却室１１４内のラック１１５に支持させ、また、
冷却室１１４内のラック１１５により支持された板状被
処理物１０３を取り出す機構として、ロボット１６１
と、このロボット１６１を図６における実線位置と２点
鎖線位置との間で昇降させる昇降機構１６２と、そのロ
ボット１６１と昇降機構１６２を熱処理装置１０２の並
列方向に沿って横方向に駆動する走行機構１６３とを有
する。そのロボット１６１は、板状被処理物１０３の支
持フォーク１６１ａと、このフォーク１６１ａの伸縮ア
ーム１６１ｂとを有し、ラック１１５に板状被処理物１
０３を出し入れする。その昇降機構１６２は、ロボット
１６１を昇降させる。その走行機構１６３は、そのロボ
ット１６１と昇降機構１６２をラック１１５に対向する
位置に位置決めする。

【００３２】図６に示すように、カバー１０６の側方に
別の工程から搬送されるカセット１２０が配置される。
そのカセット１２０により複数枚の板状被処理物１０３
が横方向に一枚ずつ取り出し可能に上下に間隔をおいて
支持される。上記搬送装置１０４は、走行機構１６３に
よりロボット１６１と昇降機構１６２をカセット１２０
に対向する位置に位置決めし、そのカセット１２０に板
状被処理物１０３を支持させ、また、そのカセット１２
０により支持された板状被処理物１０３を取り出すこと
ができる。

【００３３】そのカバー１０６に、そのカセット１２０
に対向する開閉可能な開口が設けられる。また、カバー
１０６に内部空気の清浄装置１７１が取り付けられてい
る。

【００３４】上記構成により熱処理を行う場合、各炉体
１１２の接続口１１２ａを保温シャッター１５１により
閉鎖し、加熱室１１３の内部を熱風加熱機構１１６によ
り処理温度（例えば２３０℃）に維持し、ラック１１５
を冷却室１１４に配置させる。次に、板状被処理物１０
３を搬送装置１０４によりカセット１２０から取り出
し、次いでラック１１５に支持させる。次に接続口１１
２ａを開いて移動機構１１８によりラック１１５を加熱
室１１３内に移動させる。そして、回転機構１１９の支
持台１１９ｂにより接続口１１２ａを閉鎖する。しかる
後に熱風加熱機構１１６により板状被処理物１０３を加
熱する。この加熱時に、図７に示すようにラック１１５
を回転機構１１９により上下方向軸回りに回転させる。
熱処理が終了すれば、ラック１１５の回転を停止させ、
移動機構１１８によりラック１１５を冷却室１１４内に
移動させ、接続口１１２ａを再び保温シャッター１５１
により閉鎖する。その冷却室１１４において、板状被処
理物１０３を例えば２００℃まで放冷し、続いて送風フ
ァンユニット１３１ａと排気ファンユニット１３１ｂに
より強制空冷する。その強制空冷用の冷却風は、冷却室
１１４においてラック１１５により支持された板状被処
理物１０３に、熱処理装置１０２の並列方向に沿って横
方向から吹き付けられる。しかる後に、板状被処理物１
０３を搬送装置１０４によりラック１１５から取り出
し、次いでカセット１２０に支持させる。

【００３５】上記構成によれば、第１実施形態と同様の
作用効果を奏することができる。さらに、加熱室１１３
と冷却室１１４とが上下に並列するので、両室１１３、
１１４の設置に必要な面積は両室を横方向に並列する場
合の略１／２になり、システム１０１の設置面積を可及
的に小さくできる。また、加熱室１１３内でラック１１
５を上下方向軸まわりに回転駆動することで、板状被処
理物１０３を上下方向軸まわりに回転させ、熱風の上流
側と下流側とで板状被処理物１０３に温度差が生じるの
を防止し、板状被処理物１０３の加熱温度の平均化を計
ることができる。

【００３６】なお、本発明は上記実施形態に限定されな
い。例えば、熱風加熱式熱処理装置の数は限定されな
い。冷却室はカバーにより被覆されていなくてもよい。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、運転操作や構造を複雑
化することなく、加熱室内の温度分布特性を向上し、処
理時間を短縮し、板状被処理物の破損を防止し、コスト
を低減し、ＨＥＰＡフィルター採用時におけるクリーン
度を向上し、設置面積を可及的に小さくし、板状被処理
物の加熱温度を平均化できる熱風加熱式熱処理システム
を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態の熱処理システムの側断
面図

【図２】本発明の第１実施形態の熱処理システムの平断
面図

【図３】本発明の第１実施形態の熱処理装置の正断面図

【図４】本発明の第１実施形態の熱処理システムによる
板状被処理物の上限温度、下限温度、加熱室の制御温
度、加熱室のパーティクル数の時間変化を示す図

【図５】従来の熱処理システムによる板状被処理物の上
限温度、下限温度、加熱室の制御温度、加熱室のパーテ
ィクル数の時間変化を示す図

【図６】本発明の第２実施形態の熱処理システムの側断
面図

【図７】本発明の第２実施形態の熱処理システムの平断
面図

【図８】本発明の第２実施形態の熱処理装置の正断面図

【符号の説明】

１、１０１熱処理システム２、１０２熱処理装置３、１０３板状被処理物４、１０４搬送装置１２ａ、１１２ａ接続口１３、１１３加熱室１４、１１４冷却室１５、１１５ラック１６、１１６熱風加熱機構１７、１１７フィルター１８、１１８移動機構３１、１３１ａ送風ファンユニット５１、１５１保温シャッター１１９回転機構１３１ｂ排気ファンユニット

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】加熱室と、この加熱室に通じる冷却室と、
複数枚の板状被処理物を支持するラックと、その加熱室
内においてラックにより支持された板状被処理物を加熱
する熱風を発生する手段と、その熱風を通過させる除塵
用フィルターと、そのラックを加熱室と冷却室との間で
往復移動させる機構と、その加熱室と冷却室との接続口
の開閉機構とを有する熱風加熱式熱処理装置を備え、前
記冷却室においてラックにより支持された板状被処理物
は放冷可能とされ、且つ、その板状被処理物を強制空冷
する手段を備える熱処理システム。
【請求項２】前記熱風加熱式熱処理装置を複数備え、単
一の搬送装置を備え、その搬送装置は板状被処理物を冷
却室内のラックに支持させると共に、冷却室内のラック
により支持された板状被処理物を取り出す機構を有する
請求項１に記載の熱処理システム。
【請求項３】前記加熱室と冷却室とが上下に並列するよ
うに配置されている請求項１または２に記載の熱処理シ
ステム。