JPH01165021A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH01165021A JPH01165021A JP32323187A JP32323187A JPH01165021A JP H01165021 A JPH01165021 A JP H01165021A JP 32323187 A JP32323187 A JP 32323187A JP 32323187 A JP32323187 A JP 32323187A JP H01165021 A JPH01165021 A JP H01165021A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- layer
- magnetic
- recording medium
- plastic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 46
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 10
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 229920004747 ULTEM® 1000 Polymers 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの
磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体に関する。
第３図は従来用いられている磁気記録媒体の模式的な要
部構成断面図を示したものである。第３図の磁気記録媒
体はＡ１−Ｍｙ、合金基板１の上に非磁性金属基体層２
を被覆し、この非磁性金属基体層２上にさらに非磁性金
属下地層３を介して例えばＣｏ −Ｎｉ−Ｃｒ合金薄膜
の磁性層４を被覆し、磁性層４上に保護潤滑層５を設け
てあり、基板１に非磁性金属基体層２から保護潤滑層５
までをこの符号順に積み重ねたように構成したものであ
る。
部構成断面図を示したものである。第３図の磁気記録媒
体はＡ１−Ｍｙ、合金基板１の上に非磁性金属基体層２
を被覆し、この非磁性金属基体層２上にさらに非磁性金
属下地層３を介して例えばＣｏ −Ｎｉ−Ｃｒ合金薄膜
の磁性層４を被覆し、磁性層４上に保護潤滑層５を設け
てあり、基板１に非磁性金属基体層２から保護潤滑層５
までをこの符号順に積み重ねたように構成したものであ
る。
このように構成された磁気記録媒体は製造過程で基板ｌ
を所定の面粗さ、平行度および平面度に仕上げ、非磁性
金属基体層２はＮ１−Ｐ合金を無電解めっきもしくは基
板ｌ自体をアルマイト処理することにより形成するのが
好ましく、いずれも所定の硬さを必要とし、表面は機械
的研磨を行って所定の面精度まで仕上げる。非磁性金属
下地層３は一般にＣｒを用いてスパッタ形成し、引き続
きＣ。
を所定の面粗さ、平行度および平面度に仕上げ、非磁性
金属基体層２はＮ１−Ｐ合金を無電解めっきもしくは基
板ｌ自体をアルマイト処理することにより形成するのが
好ましく、いずれも所定の硬さを必要とし、表面は機械
的研磨を行って所定の面精度まで仕上げる。非磁性金属
下地層３は一般にＣｒを用いてスパッタ形成し、引き続
きＣ。
〜Ｎｉ−Ｃｒ合金などの磁性層４、さらにカーボンもし
くはＳ！０２などの保護潤滑層５を連続的にスパッタし
て被覆する。
くはＳ！０２などの保護潤滑層５を連続的にスパッタし
て被覆する。
かくして得られた磁気記録媒体は強度１寸法精度などの
機械的特性および磁気特性も良好であり、例えばＡｔ’
−Ｍｇ合金基板１上に被覆したＮ１−Ｐ基体層２にＣｒ
の非磁性金属下地層３を２０００人、Ｃｏ−３Ｑａｔ％
Ｎｉ−７．５ａｔ％Ｃｒ磁性層４を５００人およびカー
ボン保護潤滑層５を５００人連続スパッタして形成した
ものの代表的な磁気特性として保磁力Ｈｃは９０００ｅ
である。
機械的特性および磁気特性も良好であり、例えばＡｔ’
−Ｍｇ合金基板１上に被覆したＮ１−Ｐ基体層２にＣｒ
の非磁性金属下地層３を２０００人、Ｃｏ−３Ｑａｔ％
Ｎｉ−７．５ａｔ％Ｃｒ磁性層４を５００人およびカー
ボン保護潤滑層５を５００人連続スパッタして形成した
ものの代表的な磁気特性として保磁力Ｈｃは９０００ｅ
である。
以上のような磁気記録媒体は緒特性の向上とともに近年
ますます軽量化とコストの低減に対する要求が高められ
ている。
ますます軽量化とコストの低減に対する要求が高められ
ている。
記録媒体の軽量化とコスト低減に対して考慮すべき点は
基板材料の選択である。すなわち、へ１−Ｍｇ合金を基
板に用いているために、この上に硬いＮ１−Ｐ層を設け
ねばならず、基板面とＮ１−Ｐ層の表面研磨加工に多大
の時間を要し、このことがコストに大きな比率を占めて
いる。したがって、この加工工数を短縮するのがよいが
、所定の面粗さ。
基板材料の選択である。すなわち、へ１−Ｍｇ合金を基
板に用いているために、この上に硬いＮ１−Ｐ層を設け
ねばならず、基板面とＮ１−Ｐ層の表面研磨加工に多大
の時間を要し、このことがコストに大きな比率を占めて
いる。したがって、この加工工数を短縮するのがよいが
、所定の面粗さ。
平行度および平面度に仕上げなければならないので、大
幅な工数省略は不可能であってコストの低減には限界が
あり、Ｍ−Ｍｇ合金を用いる限り多くを期待することが
できない。
幅な工数省略は不可能であってコストの低減には限界が
あり、Ｍ−Ｍｇ合金を用いる限り多くを期待することが
できない。
一方基板材料の選択に関しては記録媒体の軽量化も含め
て、プラスチックもしくはプラスチックとセラミックの
複合材料を用いるのが有望である。
て、プラスチックもしくはプラスチックとセラミックの
複合材料を用いるのが有望である。
これらの材料はＡｌ−Ｍｇ合金より軽く、金型を用いて
成形することができるので、金型の表面を高精度に加工
しておくことにより、成形後の表面研磨を行うことなく
十分に良好な面粗さや平行度が得られるという利点があ
るからである。
成形することができるので、金型の表面を高精度に加工
しておくことにより、成形後の表面研磨を行うことなく
十分に良好な面粗さや平行度が得られるという利点があ
るからである。
しかしながら、プラスチックまたはその複合材料を基板
に用いるときは、別な問題が起きる。それは、プラスチ
ックは金属とは異なり、吸湿性が高く水分を吸蔵するの
で、これがスバツタ工程で放出され磁性層に悪い影響を
及ぼし、磁気特性。
に用いるときは、別な問題が起きる。それは、プラスチ
ックは金属とは異なり、吸湿性が高く水分を吸蔵するの
で、これがスバツタ工程で放出され磁性層に悪い影響を
及ぼし、磁気特性。
特に保磁力を低下させてしまう。したがってＡｌ−Ｍｇ
合金に代わり、プラスチックなどを基板に用いたときも
記録媒体の特性を損なわないようにするのが好ましい。
合金に代わり、プラスチックなどを基板に用いたときも
記録媒体の特性を損なわないようにするのが好ましい。
本発明は上述の点に鑑みてなされたものであり、その目
的は磁気記録媒体をより軽量とし、コストを低減するた
めにプラスチックまたはプラスチックとセラミックの複
合材料を用い、しかも従来のスパッタ方式により良好な
磁気特性が得られる構造を有する磁気記録媒体を提供す
ることにある。
的は磁気記録媒体をより軽量とし、コストを低減するた
めにプラスチックまたはプラスチックとセラミックの複
合材料を用い、しかも従来のスパッタ方式により良好な
磁気特性が得られる構造を有する磁気記録媒体を提供す
ることにある。
本発明の磁気記録媒体はプラスチックなどの非磁性基板
上に窒化アルミニウム薄膜からなるバッファ層、非磁性
金属下地層、磁性層および保護潤滑層をこの順に連続的
にスパッタ形成したものである。
上に窒化アルミニウム薄膜からなるバッファ層、非磁性
金属下地層、磁性層および保護潤滑層をこの順に連続的
にスパッタ形成したものである。
プラスチックなどは水分を吸蔵しているために、これを
基板として用いると、スパッタ過程で放出するガスの影
響を受けて、特に磁性層の保磁力を低下させるが本発明
ではプラスチックなどの基板と非磁性金属下地層との間
にバッファ層として窒化アルミニウム薄膜が介在するよ
うにスパッタ形成したために、基板に吸蔵されている水
分などのガス放出を防ぐことができるので、良好な磁気
特性を保持したまま、従来より軽量にして安価な磁気記
録媒体が得られる。
基板として用いると、スパッタ過程で放出するガスの影
響を受けて、特に磁性層の保磁力を低下させるが本発明
ではプラスチックなどの基板と非磁性金属下地層との間
にバッファ層として窒化アルミニウム薄膜が介在するよ
うにスパッタ形成したために、基板に吸蔵されている水
分などのガス放出を防ぐことができるので、良好な磁気
特性を保持したまま、従来より軽量にして安価な磁気記
録媒体が得られる。
〔実施例〕
以下本発明を実施例に基づき説明する。
第１図は本発明により得られた磁気記録媒体の模式的な
要部構成断面図を示したものでありミ第３図と共通部分
を同一符号で表しである。第１図は第３図と基本的な構
成は同じであるが、第１図が第３図と異なる点は基板１
ａにプラスチックを用い、基板１ａと非磁性金属下地層
３との間に、非磁性金属基体層２ではなく、バッファ層
６としてＡＩＮ膜が介在するように構成した所にある。
要部構成断面図を示したものでありミ第３図と共通部分
を同一符号で表しである。第１図は第３図と基本的な構
成は同じであるが、第１図が第３図と異なる点は基板１
ａにプラスチックを用い、基板１ａと非磁性金属下地層
３との間に、非磁性金属基体層２ではなく、バッファ層
６としてＡＩＮ膜が介在するように構成した所にある。
この記録媒体はまず基板材料にポリエーテルイミド樹脂
の商品名ウルテム１０００を用い、所定の表面精度をも
った金型により成形して基板１ａを作製し、この基板ｌ
ａ上にバッファ層６のＡ／Ｎ、非磁性金属下地層３のＣ
ｒを２０００人、磁性層４のＣｏ −３Ｑａｔ％Ｎｉ−
７．５ａｔ％Ｃｒ合金を５０ＯＡ 、保護潤滑層５のカ
ーボンを５００人同一真空槽内で連続的にスパッタ形成
したものであるが、本発明に係わるバッファ層６の膜厚
についてはその効果を確かめるためにバッファ層６を設
けないものから２０００人まで変化させた。また同時に
基板材料としてポリエステル樹脂と炭酸カルシウムとの
複合材料を用いた媒体を作製したが、このとき下地層３
．磁性層４および保護潤滑層５についてはプラスチック
基板を用いたものと全く同じ条件にしである。
の商品名ウルテム１０００を用い、所定の表面精度をも
った金型により成形して基板１ａを作製し、この基板ｌ
ａ上にバッファ層６のＡ／Ｎ、非磁性金属下地層３のＣ
ｒを２０００人、磁性層４のＣｏ −３Ｑａｔ％Ｎｉ−
７．５ａｔ％Ｃｒ合金を５０ＯＡ 、保護潤滑層５のカ
ーボンを５００人同一真空槽内で連続的にスパッタ形成
したものであるが、本発明に係わるバッファ層６の膜厚
についてはその効果を確かめるためにバッファ層６を設
けないものから２０００人まで変化させた。また同時に
基板材料としてポリエステル樹脂と炭酸カルシウムとの
複合材料を用いた媒体を作製したが、このとき下地層３
．磁性層４および保護潤滑層５についてはプラスチック
基板を用いたものと全く同じ条件にしである。
次に以上のごとくして得られたそれぞれの磁気記録媒体
について磁気特性の比較を行った。第２図は縦軸を媒体
の代表的な磁気特性である保磁力Ｈｃとし、横軸をバッ
ファ層６０ＡＩＮ膜厚とし、それぞれの媒体について１
０点測定の平均値をプロットしたものであり、基板にプ
ラスチック単独（○）。
について磁気特性の比較を行った。第２図は縦軸を媒体
の代表的な磁気特性である保磁力Ｈｃとし、横軸をバッ
ファ層６０ＡＩＮ膜厚とし、それぞれの媒体について１
０点測定の平均値をプロットしたものであり、基板にプ
ラスチック単独（○）。
プラスチック複合材（Δ）を用いたものと、比較のため
にバッファ層を形成してないもの右よび従来のＡ１合金
基板を用いたものを併記しである。
にバッファ層を形成してないもの右よび従来のＡ１合金
基板を用いたものを併記しである。
第２図かられかるように、バッファ層を設けてない媒体
はＨｃが僅かに１０００ｅ程度で非常に小さな値しか得
られず、これに対してＡＩＮバッファ層６を基板１ａと
下地層３との間に形成しである本発明の媒体はバッファ
層６のＡＩＮの膜厚が増すとともに保磁力が大きくなり
、このＡＩＮｇ厚が５００Å以上になると従来のＡ１合
金基板１にＮ１−Ｐめっき層２を被覆した媒体の保磁力
９０００ｅと同等の値が得られる。
はＨｃが僅かに１０００ｅ程度で非常に小さな値しか得
られず、これに対してＡＩＮバッファ層６を基板１ａと
下地層３との間に形成しである本発明の媒体はバッファ
層６のＡＩＮの膜厚が増すとともに保磁力が大きくなり
、このＡＩＮｇ厚が５００Å以上になると従来のＡ１合
金基板１にＮ１−Ｐめっき層２を被覆した媒体の保磁力
９０００ｅと同等の値が得られる。
このことは基板１ａにプラスチックまたはその複合材料
を用いたときにこれらを被覆するバッファ層６のもたら
す効果であって、基板に吸蔵されている水分などのガス
はバッファ層６のスパッタ過程でほぼ除去されるか、媒
体形成後はバッファ層６に閉じ込められて、下地層３や
磁性層４へ悪い影響を及ぼすのを防いでいるからである
。しかもプラスチックまたはその複合材料を基板１ａと
して用いるときは、従来のへＪ−Ｍｇ合金基板１に比べ
て約６０％軽量になるとともに、複雑な研磨工程を必要
とせず、基板ｌａ上に堆積させる各層は同一真空槽内で
順次スパッタさせればよく、バッファ層６を形成するた
めの特別な手段も要らない。
を用いたときにこれらを被覆するバッファ層６のもたら
す効果であって、基板に吸蔵されている水分などのガス
はバッファ層６のスパッタ過程でほぼ除去されるか、媒
体形成後はバッファ層６に閉じ込められて、下地層３や
磁性層４へ悪い影響を及ぼすのを防いでいるからである
。しかもプラスチックまたはその複合材料を基板１ａと
して用いるときは、従来のへＪ−Ｍｇ合金基板１に比べ
て約６０％軽量になるとともに、複雑な研磨工程を必要
とせず、基板ｌａ上に堆積させる各層は同一真空槽内で
順次スパッタさせればよく、バッファ層６を形成するた
めの特別な手段も要らない。
最後に本発明により得られた磁気記録媒体を磁気記録装
置に組み込んでＣ８Ｓ試験を行った結果、２万回のコン
タクト・スタート・ストップに対してもこの記録媒体表
面にはなんら傷の発生は見られず、再生出力もほとんど
低下することなく、十分な耐久性をもっていることを確
認することができた。
置に組み込んでＣ８Ｓ試験を行った結果、２万回のコン
タクト・スタート・ストップに対してもこの記録媒体表
面にはなんら傷の発生は見られず、再生出力もほとんど
低下することなく、十分な耐久性をもっていることを確
認することができた。
磁気ディスクなどの磁気記録媒体は軽最にするとともに
、コストの低減が望まれており、従来の加工工数の多い
Ａ１合金基板の代わりに、後加工なしで高い表面精度の
得られるプラスチックまたはその複合材料を用いるのが
合目的であるが、これらプラスチック系材料は水分など
を吸蔵しており、この上に形成される下地層や磁性層は
スパッタ時に基板から放出される水分などのガスの影響
を受けて酸化し、記録媒体の磁気特性を低下させるのに
対して、本発明によれば実施例で述べたように、プラス
チック系基板と非磁性金属下地層との間にバッファ層と
してＡＩＮ膜を介在させるように構成したために、この
バッファ層によって基板からのガス放出の磁気特性に対
する悪影響はなくなり、本来の媒体の有するすぐれた磁
気特性を維持することができ、しかも基板上の薄膜積層
過程は連続スパッタが可能であって製造効率を低下させ
ることもない。
、コストの低減が望まれており、従来の加工工数の多い
Ａ１合金基板の代わりに、後加工なしで高い表面精度の
得られるプラスチックまたはその複合材料を用いるのが
合目的であるが、これらプラスチック系材料は水分など
を吸蔵しており、この上に形成される下地層や磁性層は
スパッタ時に基板から放出される水分などのガスの影響
を受けて酸化し、記録媒体の磁気特性を低下させるのに
対して、本発明によれば実施例で述べたように、プラス
チック系基板と非磁性金属下地層との間にバッファ層と
してＡＩＮ膜を介在させるように構成したために、この
バッファ層によって基板からのガス放出の磁気特性に対
する悪影響はなくなり、本来の媒体の有するすぐれた磁
気特性を維持することができ、しかも基板上の薄膜積層
過程は連続スパッタが可能であって製造効率を低下させ
ることもない。
以上のように本発明の磁気記録媒体はプラスチック系の
基板を用いて表面研磨工程を省略したことによる軽量化
とコスト低減、右よびスパッタ法を用いてＡＩＮバッフ
ァ層を形成することによりプラスチック系基板のもつ欠
点を解消して媒体本来の特性を保持することができたと
いう点で磁気記録媒体に望まれるいくつかの重要な課題
を全て同時に達成したものである。
基板を用いて表面研磨工程を省略したことによる軽量化
とコスト低減、右よびスパッタ法を用いてＡＩＮバッフ
ァ層を形成することによりプラスチック系基板のもつ欠
点を解消して媒体本来の特性を保持することができたと
いう点で磁気記録媒体に望まれるいくつかの重要な課題
を全て同時に達成したものである。
第１図は本発明の磁気記録媒体の模式的な要部構成断面
図、第２図は本発明の磁気記録媒体における保磁力とへ
ＮＮバッファ層の膜厚との関係をバッファ層なしの媒体
および従来の媒体との比較で示した線図、第３図は従来
の磁気記録媒体の模式的な要部構成断面図である。 １．１ａ−基板、２ 非磁性金属基体層、３非磁性金属
下地層、４ 磁性層、５ 保護潤滑層、６ バッファ層
。 第 ｊ 図 ０７°ラスナ・ツク差損 ハ゛９Ｉ７Ｔ層のＡｔＮ膜／＃（Ａ〕 第 ２ 図
図、第２図は本発明の磁気記録媒体における保磁力とへ
ＮＮバッファ層の膜厚との関係をバッファ層なしの媒体
および従来の媒体との比較で示した線図、第３図は従来
の磁気記録媒体の模式的な要部構成断面図である。 １．１ａ−基板、２ 非磁性金属基体層、３非磁性金属
下地層、４ 磁性層、５ 保護潤滑層、６ バッファ層
。 第 ｊ 図 ０７°ラスナ・ツク差損 ハ゛９Ｉ７Ｔ層のＡｔＮ膜／＃（Ａ〕 第 ２ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）基板上に窒化アルミニウムバッファ層、非磁性金属
下地層、磁性層および保護潤滑層をこの順に連続的にス
パッタ形成してなることを特徴とする磁気記録媒体。 ２）特許請求の範囲第１項記載の媒体において、基板が
プラスチック成形体であることを特徴とする磁気記録媒
体。 ３）特許請求の範囲第１項記載の媒体において、基板が
プラスチックとセラミックの複合材料の成形体であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 ４）特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記
載の媒体において、バッファ層の窒化アルミニウム膜厚
が少なくとも５００Åであることを特徴とする磁気記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32323187A JPH01165021A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32323187A JPH01165021A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01165021A true JPH01165021A (ja) | 1989-06-29 |
Family
ID=18152471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32323187A Pending JPH01165021A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01165021A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6911256B2 (en) | 2003-06-30 | 2005-06-28 | Imation Corp. | Buffer layers for magnetic media with a plastic substrate |
-
1987
- 1987-12-21 JP JP32323187A patent/JPH01165021A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6911256B2 (en) | 2003-06-30 | 2005-06-28 | Imation Corp. | Buffer layers for magnetic media with a plastic substrate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3018762B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH01165021A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01165023A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01122032A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01165019A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01165022A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01122031A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01165020A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0877544A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS62157323A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01243222A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01122030A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| CN100414611C (zh) | 磁记录介质 | |
| JPH0770037B2 (ja) | 面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPH09147357A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0514325B2 (ja) | ||
| JPH0296919A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH07254128A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH10334442A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2761878B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6342021A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2002197636A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2000276727A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62243115A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0421921A (ja) | 磁気記録媒体 |