JPH01153501A - 弗化水素及び四弗化珪素の製造方法 - Google Patents

弗化水素及び四弗化珪素の製造方法

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JPH01153501A
JPH01153501A JP30957387A JP30957387A JPH01153501A JP H01153501 A JPH01153501 A JP H01153501A JP 30957387 A JP30957387 A JP 30957387A JP 30957387 A JP30957387 A JP 30957387A JP H01153501 A JPH01153501 A JP H01153501A
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JP
Japan
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hydrogen fluoride
fluorite
silicon tetrafluoride
sulfuric acid
silicic acid
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JP30957387A
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Inventor
Toshiyuki Taga
多賀 俊幸
Eiji Shioda
塩田 英司
Yasuki Odagiri
小田切 泰樹
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Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B7/00Halogens; Halogen acids
    • C01B7/19Fluorine; Hydrogen fluoride
    • C01B7/191Hydrogen fluoride
    • C01B7/192Preparation from fluorspar

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は螢石から、弗化水素及び四弗化珪素を同時に製
造する方法に関するものである。
近年、弗素関連工業の発展に伴ない弗化水素の需要は飛
躍的に増大する傾向にある。又、四弗化珪素はアモルフ
ァスシリコン薄膜半導体用の原料。
ドライエツチング剤、光フアイバー用合成石英硝子ある
いは7S−ムドシリカの原料として近年注目されてきて
いる。
〔従来の技術〕
従来、弗化水素及び四弗化珪素はその目的に応じて別々
に製造する所謂単独法と両者を同時に製造する併産法と
が知られている。
弗化水素の単独法としては、弗化カルシウム含有率97
−以上、珪酸含有率(本明細書において、珪酸の含有率
やモル数はSiO□による)1チ以下のアンド級螢石の
硫酸分解による方法が古くから知られている。
例えば、特公昭49−8656号公報には、弗化カルシ
ウム含有率97 wtlの螢石と98 wt%濃硫酸を
混合機で全量混合し、ペーストあるいはスラリー状で反
応させ、一部生成した弗化水素を取り出すと共に未反応
の螢石と硫酸及び反応生成物である石膏を後続のロータ
リーキルンに供給し、ここで残余の反応を終結させ、弗
化水素と石膏を得る方法が記載されている。
この方法では弗化水素のみを製品とする為、弗化カルシ
ウム含有率の高い螢石を使用する事が必須であるが、近
年弗化カルシウム含有率97wt%以上の螢石の入手が
困難になりつつある。
四弗化珪素の単独法としては、特開昭57−17414
号公報において、非晶質酸化珪素を硫酸中に懸濁分散さ
せた系に弗化水素ガスを導入する方法が提案されている
併産法は、弗化水素及び四弗化珪素を得る為、上述した
様な単独法を各々実施する場合に比べて、設備やユーテ
ィリティーを共用できるという点において有利である。
従来知られている併産法としては、特公昭55−186
43号公報の実施例にみられる様にリン鉱石の硫酸分解
により得られる四弗化珪素と弗化水素の混合ガスから各
々分離する方法がある。
この方法では、リン酸又はリン酸塩肥料の生産規模によ
り弗化水素及び四弗化珪素の生産量が規制されるという
欠点がある。
これに対して、珪酸含量の多い螢石を濃硫酸により、1
00〜300℃で分解させる事により弗化水素と四弗化
珪素の混合ガスが得られる事が、特開昭49−3789
8号公報に記載されている。
この方法によれば、珪酸含量の多い所謂低品位螢石を使
用する為、入手は容易であり価格も安価であるという利
点があり、且プロセス的には、弗化水素の単独法と類似
の方法が採用できる可能性があり、単独法に比べて設備
コスト等の大幅な低減を期待できる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら本発明者等が、この方法を実施したところ
、螢石の分解反応が充分進行せず、特に珪酸については
、反応温度、硫酸濃度等の条件を変えてもその分解率が
40〜50%程度しか進まず、四弗化珪素を収率良(得
ることが出来なかった。
本発明の目的は、上述した様な単独法に比べて設備、コ
スト等の大幅な低減が可能な併産法で、安価な低品位螢
石を使用し、且つ螢石の分解率が高く、高収率で弗化水
素及び四弗化珪素が得られる方法を提供することKある
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の要旨は螢石に硫酸を反応させて弗化水る珪酸の
モル数に対して4倍モル数以上の弗化水素を含有するガ
ス及び/または液を接触させてから、硫酸を反応させる
ことを特徴とする弗化水素及び四弗化珪素の製造方法に
あり、以下その詳細について説明する。
本発明において使用する螢石は、弗化カルシウム含有率
が97 wt%未満の所謂低品位螢石の内で、珪酸含有
率が1〜50 wtlの螢石に限定される。
螢石は、通常弗化カルシウム、珪酸、炭酸カルシウム及
びその他の不純物から成っており、弗化カルシウム含有
率97 wt%以上、珪酸含有率1wt%以下のものは
アンド級螢石として弗化水素製造原料として利用されて
いるが、近年その入手は困難となりつつある。これに対
して、弗化カルシウム含有率97 vrt%未満で珪酸
含有率1 wt%以上のものは低品位螢石として埋蔵量
も多(、容易に入手できる。この様な低品位螢石の内、
本発明においては珪酸含有率50 wt%以下のものを
使用する。50 wtlを越える場合、螢石の分解は充
分に進行せず、収率が低下する。
螢石に硫酸を反応させる前に1まず、螢石に弗化水素を
含有するガス及び/または液を接触させることが必須で
ある。螢石に弗化水素を含有するガス及び/または液を
接゛触させることなく螢石に硫酸を反応させた場合、螢
石の分解反応が充分進行せず、特に珪酸については、反
応温度、硫酸濃度等の条件を変えてもその分解率が40
〜50%程度しか進まず、四弗化珪素を収率良(得るこ
とが出来ない。
螢石に弗化水素ガスを含有するガス及び/まtjま液を
接触させる温度は特に限定されないが、10〜200℃
の範囲が好ましい。温度が低い場合は反応速度が遅(な
り、一方、温度が高い場合は逆反応が起こりやすくなる
螢石に接触させる弗化水素の量は化学量論量以上、すな
わち螢石中に含まれる珪酸のモル数に対して4倍モル数
以上の弗化水素を含有するガス及び/または液が必要で
ある。螢石に接触させる弗化水素の量が珪酸のモル数に
対して4倍モル数よりも少ない場合、螢石中の珪酸の一
部が反応せず、この未反応の珪酸は次の工程で生成して
(る弗化水素と一部反応して四弗化珪素を生成するが、
その残りは副垂石膏との混合物となり、四弗化珪素の収
率が低下する。
螢石に接触させる弗化水素は、ガス、液、ガス及び液の
いずれの状態でも良い。いずれの場合も濃度は特に限定
されないが、水または水蒸気を含まないことが好ましい
。螢石に接触させる弗化水素は、製品弗化水素でも良い
し、次の工程で生成して(る弗化水素でも良い。
螢石に弗化水素を接触させる方法としては連続式、バッ
チ式のいずれでも良く、型式としては特に限定はな(、
通常のパドル型の攪拌翼を備えた攪拌混合槽あるいは必
要に応じてニーダ−等も使用できる。連続式の場合、装
置から出てくる固体をそのまま連続的に次の工程へフィ
ードしても良いし、固体を一度ホツバー等に貯めてから
次の工程へフィードしても良い。
以上の様にして、第1段目として珪酸含有率1〜s o
 wt%の螢石に弗化水素を含有するガス及Wまたは液
を接触させることにより、未反応の弗化水素及び四弗化
珪素を含有する混合ガスが得られる。
次に、弗化水素を接触させられた螢石に硫酸を混合反応
させる。
硫酸の使用量は、螢石中に含まれる弗化カルシましい。
弗化水素を接触させられた螢石と硫酸との混合方法とし
ては連続式、バッチ式のいずれでも良く、型式としては
特に限定はなく、通常のパドル型攪拌翼を備えた混合槽
あるいは必要に応じてニーダ−、キルン等も使用できる
。また、従来の弗化水素製造における螢石分解装置も使
用可能である。
反応温度は特に限定されないが、100〜500℃の範
囲が好ましい。
以上の様にして、第2段目として弗化水素を接触させら
れた螢石に硫酸を混合反応させると、直ちに弗化水素及
び微量の四弗化珪素を含有する混合ガスが発生する。発
生したガスは、通常、連続的に速やかに反応系外へ取り
出し、分離、精製することにより製品として回収する。
また、ここで発生したガスを前の工程における螢石に接
触させる弗化水素1ス源の全部あるいは一部として使用
しても良い。
以上の様にして第1段目で未反応の弗化水素及び四弗化
珪素を含有する混合ガス、第2段目で弗化水素及び微量
の四弗化珪素を含有する混合ガスが得られる。混合ガス
から弗化水素及び四弗化珪素を分離する方法としては特
に限定は無(種々の方法により実施できる。例えば、弗
化水素と四弗化珪素の沸点の差を利用することが出来る
。即ち、弗化水素の沸点が19.9℃であるのに対して
、四弗化珪素は−95−7℃で昇華する。従って、混合
ガスを10℃程度に冷却することに依り容易に分離でき
る。この時、混合ガス中に共存する微量の水蒸気を除去
する為、冷却前に濃硫酸中に通液しても差し支えない。
また、上記の方法により弗化水素及び四弗化珪素を分離
する際に、第1段目の混合ガスと第2段目の混合ガスを
、別々に分離しても良いし、混合してから分離しても良
い。
以上の方法により、低品位螢石を原料として高収率で弗
化水素及び四弗化珪素を同時に製造する事が出来る。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかな様に、本発明によれば、設備コ
スト等の大幅な低減が可能な併産法であり、安価な低品
位螢石を使用し、高収率で弗化水素及び四弗化珪素を同
時に製造することができる。
次に本発明を実施例により、更に具体的に説明する。
実施例1 珪酸含有率a9wt%、弗化カルシウム含有率89、 
Owt%の螢石をウィレー型粉砕機で粉砕した。
第1段目として、攪拌機を備えたテフロンライニングの
耐圧容器に上記螢石100gと無水弗酸15gを入れ、
温度110℃で攪拌しながら反応させた。反応開始2時
間後、耐圧容器に取り付けたバルブを開け、未反応の弗
化水素及び四弗化珪素を含むガスを回収した。
第2段目として、攪拌機及び生成ガス取り出し用配管を
備えたニッケル合金製反応容器に第1段目で弗化水素を
接触させられた螢石を入れ、200℃に加熱した。攪拌
しながら濃度98 vrt%の硫酸126gを添加・混
合した。硫酸添加直後から弗化水素及び微量の四弗化珪
素を含有する混合ガスが発生した。硫酸添加後3時間で
反応を終了し、発生したガス全量を回収した。
第1段目及び第2段目で回収したガス全量をそれぞれ硫
酸中に通液させて脱湿し、次いで10℃に冷却した凝縮
器中で弗化水素を凝縮分離し、最後に液体窒素温度に冷
却し、粉末状の四弗化珪素を回収した。弗化水素及び四
弗化珪素の収量が、第1段目からそれぞれ五7g、14
.6F、第2段目からそれぞれ4A39.α1yであっ
た。螢石中の珪酸及び弗化カルシウムの分解率はそれぞ
れ95俤、95%であった。
実施例2 実施例1で使用した螢石をテフロンライニング・ジャケ
ット付の連続式第に−ダーに100g/Hrでフィード
した。同時に上記第に−ダーに純度99.9 %の弗化
水素ガスを201 / Hrで螢石に対して向流方向忙
フィードし、温度110℃で反応させた。ガス取出し口
から未反応の弗化水素及び四弗化珪素を含有する混合ガ
スを得た。
次に第に−ダーで弗化水素を接触させられた螢石を、ニ
ッケル合金製・ジャケット付第2ニーダーへ連続的に導
入した。同時に、濃度9 a wt%硫酸を126g/
Hrでフィードし、温度200℃で反応させた。ガス取
出し口から弗化水素及び微量の四弗化珪素を含有する混
合ガスを得た。
定常状態になってから、第に一ダー及び第2ニーダ−か
ら得られるガスを1時間サンプリングした。サンプリン
グしたガスを実施例1と同様な方法で弗化水素と四弗化
水素を分離・回収した。
弗化水素及び四弗化珪素の収量は、第に−ダーからそれ
ぞれ/h19,15.09であり、第2ニーダーからそ
れぞれ444G+、(1,19であった。螢石中の珪酸
及び弗化カルシウムの分解率はそれぞれ98チ、97チ
であった。
実施例3 実施例2で使用した装置において、第2ニーダ−で発生
したガスを第に−ダーへ導入可能な配管を取り付けた。
実施例2と同じ速度で、各原料をフィードした。定常状
態になってから、第に一グーへの弗化水素ガスのフィー
ドをやめ、第2ニーダ−で発生してくるガス全量を第に
一グーに導入した。再び定常状態になってから、第1ニ
ーダ−により得られるガスを1時間サンプリングし、実
施例1と同様な方法で、弗化水素と四弗化珪素を分離・
回収した。弗化水素及び四弗化珪素の収量はそれぞれ5
2−79,14.99であった。
螢石中の珪酸及び弗化カルシウムの分解率はそれぞれ9
7チ、97チであった。
実施例4 珪酸含有率1a9wtl、弗化カルシウム含有率7 &
 5 vrt%の螢石をウィレー型粉砕機で粉砕した。
実施例3で使用した装置で、第に一ダーに上記螢石及び
純度999チ弗化水素ガスをそれぞれ1009 / H
r、 4251/ Hrでフィードし、第2ニーダ−に
濃度98wt%硫酸1119/Hrをフィードした以外
は、実施例3と同様に実施した。
弗化水素及び四弗化珪素の収量はそれぞれ14.69,
51.59であった。螢石中の珪酸及び弗化カルシウム
の分解率はそれぞれ9614.96チであった。
比較例1 実施例1において、螢石に弗化水素を接触させることな
く、螢石に硫酸を反応させた。
実施例1と同様な方法で弗化水素と四弗化珪素を分離・
回収した。弗化水素及び四弗化珪素の収量はそれぞれ5
199,6..59であった。螢石中の珪酸及び弗化カ
ルシウムの分解率はそれぞれ42チ、85%であった。
比較例2 実施例2において、接触させる弗化水素ガスを10 t
/ Hrでフィードした以外は実施例2と同様にして反
応させた。
弗化水素及び四弗化珪素の収量は、第に−ダーからそれ
ぞれα19,11.5gであり、第2ニーダ−からそれ
ぞれ4cL59,1.19であった。
螢石中の珪酸及び弗化カルシウムの分解率はそれぞれ8
1チ、91チであった。
比較例5 実施例2の装置を使用して、ただし、珪酸含有率3五1
 wt係、弗化カルシウム含有率65.Owtチの螢石
を用い、弗化水素ガスのフィード速度を60t/Hrに
した以外は実施例2と同様にして実施した。
弗化水素及び四弗化珪素の収量は、第に−ダーからそれ
ぞれ22.79,4Q、29、第2ニーダ−から27.
09.!lL2gであった。螢石中の珪酸及び弗化カル
シウムの分解率はそれぞれ79%。
95係であった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 螢石に硫酸を反応させて弗化水素及び四弗化珪素を得る
    方法において、珪酸含有率1〜30wt%の螢石に、該
    螢石中に含まれる珪酸のモル数に対して4倍モル数以上
    の弗化水素を含有するガス及び/または液を接触させて
    から、硫酸を反応させることを特徴とする弗化水素及び
    四弗化珪素の製造方法。
JP30957387A 1987-12-09 1987-12-09 弗化水素及び四弗化珪素の製造方法 Pending JPH01153501A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002029706A (ja) * 2000-07-10 2002-01-29 Daikin Ind Ltd フッ化水素製造装置および製造方法
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WO2020262195A1 (ja) * 2019-06-25 2020-12-30 三井化学株式会社 フッ化水素の製造方法

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