JPH01152787A - 半導体レーザ光源 - Google Patents
半導体レーザ光源Info
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- JPH01152787A JPH01152787A JP31335887A JP31335887A JPH01152787A JP H01152787 A JPH01152787 A JP H01152787A JP 31335887 A JP31335887 A JP 31335887A JP 31335887 A JP31335887 A JP 31335887A JP H01152787 A JPH01152787 A JP H01152787A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 33
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 23
- 208000001491 myopia Diseases 0.000 abstract 4
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- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 15
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
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- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
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- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
A産業上の利用分野
本発明は半導体レーザ光源に関し、特に線状光源を形成
する場合に適用して好適なものである。
する場合に適用して好適なものである。
B発明の概要
本発明は、半導体レーザ光源において、半導体レーザか
ら射出される発振レーザ光を外部に設けた出力反射部材
において反射させるようにすることにより、横モードに
ついて位相が揃った発振レーザ光を発生することができ
る。
ら射出される発振レーザ光を外部に設けた出力反射部材
において反射させるようにすることにより、横モードに
ついて位相が揃った発振レーザ光を発生することができ
る。
C従来の技術
第1図に示すように、半導体レーザ1は基本的に正孔と
電子の再結合発光を行う活性層IAをクラッド1i1B
でサンドイッチした構成を有し、相対向する前側へき開
面ICF及び後側へき開面ICRを反射面として活性層
IA内にストライプ状のレーザ発振領域IDを形成する
ようになされている。
電子の再結合発光を行う活性層IAをクラッド1i1B
でサンドイッチした構成を有し、相対向する前側へき開
面ICF及び後側へき開面ICRを反射面として活性層
IA内にストライプ状のレーザ発振領域IDを形成する
ようになされている。
かくして前側へき開面ICFに露出するレーザ発振領域
IDは、PN接合と平行な方向に光強度分布をもつ近視
野像2を生じ、当該近視野像2は、実効的に点光源を線
状に配列したと同様の水平横モードをもち、かくしてレ
ーザ発振領域IDから放出されたレーザ光LAIが水平
横モードに対応する光強度分布を有する遠視野像3を形
成する。
IDは、PN接合と平行な方向に光強度分布をもつ近視
野像2を生じ、当該近視野像2は、実効的に点光源を線
状に配列したと同様の水平横モードをもち、かくしてレ
ーザ発振領域IDから放出されたレーザ光LAIが水平
横モードに対応する光強度分布を有する遠視野像3を形
成する。
ここで遠視野像3は、近視野像2のフーリエ変換によっ
て与えられると共に、近視野像2の横方向の幅dMIに
対応する短軸方向の幅d0を有すると共に、近視野像2
の縦方向の幅dV+に対応する長軸方向の幅dv!を有
する楕円形状を呈する。
て与えられると共に、近視野像2の横方向の幅dMIに
対応する短軸方向の幅d0を有すると共に、近視野像2
の縦方向の幅dV+に対応する長軸方向の幅dv!を有
する楕円形状を呈する。
このように半導体レーザ1は、実効的な点光源を水平横
方向に配列したと同様の線状の発光源から出力レーザ光
LAIを射出し得ることにより、7その出力を高めるこ
とができる利点がある。
方向に配列したと同様の線状の発光源から出力レーザ光
LAIを射出し得ることにより、7その出力を高めるこ
とができる利点がある。
D発明が解決しようとする問題点
かかる構成の半導体レーザ1において、さらに高い出力
の出力レーザ光LAIを発生させるには、レーザ発振領
域IDの横幅dl11を拡張して電流注入領域を拡げれ
ば良いと考えられる。
の出力レーザ光LAIを発生させるには、レーザ発振領
域IDの横幅dl11を拡張して電流注入領域を拡げれ
ば良いと考えられる。
ところがこのようにすると、レーザ発振領域IDの横方
向に配列されている実効的な点光源の発振モードが不揃
いになるいわゆるフィラメント発振状態になり、これに
より出力レーザ光LAIの水平横モードの制御が不十分
になり、結局活性層IAに平行な方向についての空間的
なコヒーレンジが劣化する結果になるおそれがある。
向に配列されている実効的な点光源の発振モードが不揃
いになるいわゆるフィラメント発振状態になり、これに
より出力レーザ光LAIの水平横モードの制御が不十分
になり、結局活性層IAに平行な方向についての空間的
なコヒーレンジが劣化する結果になるおそれがある。
またこのような半導体レーザ1は波面を補正することに
より回折限界に近いレーザビームを形成させようとして
も、これを実現し得なくなる問題がある。
より回折限界に近いレーザビームを形成させようとして
も、これを実現し得なくなる問題がある。
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、半導体レ
ーザの横方向の各点における発振状態、すなわち横モー
ドを確実に制御できるようにした半導体レーザ光源を提
案しようとするものである。
ーザの横方向の各点における発振状態、すなわち横モー
ドを確実に制御できるようにした半導体レーザ光源を提
案しようとするものである。
E問題点を解決するための手段
かかる問題点を解決するため本発明においては、半導体
レーザ1の近視野像2を形成するレーザ発振領域IDか
ら射出される発振レーザ光LAIを出力反射部材12に
おいて反射することにより近視野像2に戻す発振器CA
Vを有し、出力反射部材12は近視野像2を構成する実
効的光点について当該各実効的光点からの実効的な光路
長を互いに揃えるような反射ミラー部12Cをもつよう
にする。
レーザ1の近視野像2を形成するレーザ発振領域IDか
ら射出される発振レーザ光LAIを出力反射部材12に
おいて反射することにより近視野像2に戻す発振器CA
Vを有し、出力反射部材12は近視野像2を構成する実
効的光点について当該各実効的光点からの実効的な光路
長を互いに揃えるような反射ミラー部12Cをもつよう
にする。
7作用
近視野像2を構成する各実効的光点から射出した発振レ
ーザ光LAIは、それぞれ実効的な光路長が互いに揃っ
た光路を通って反射ミラー部12Cに入射すると共に、
当該実効的な光路長が揃った光路を通って半導体レーザ
1の近視野像2に戻る。
ーザ光LAIは、それぞれ実効的な光路長が互いに揃っ
た光路を通って反射ミラー部12Cに入射すると共に、
当該実効的な光路長が揃った光路を通って半導体レーザ
1の近視野像2に戻る。
かくして各実効的光点を通るレーザ光は、互いに揃った
実効的な光路長に対応する所定の位相で発振動作をする
ようになり、かくして横モードについて位相が揃った発
振レーザ光LAIを発生することができる。
実効的な光路長に対応する所定の位相で発振動作をする
ようになり、かくして横モードについて位相が揃った発
振レーザ光LAIを発生することができる。
G実施例
以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。
〔1〕第1の実施例
第1図との対応部分に同一符号を付して示す第2図にお
いて、半導体レーザ光源11は第1図について上述した
と同様の構成を有する半導体レーザ1を有する。
いて、半導体レーザ光源11は第1図について上述した
と同様の構成を有する半導体レーザ1を有する。
この実施例の場合半導体レーザ1は、前側へき開面IC
Fに露出しているレーザ発振領域IDの反射率を低減さ
せてなり、これにより半導体レーザ1の活性層Iへの内
部において発生したレーザ光が前側へき開面ICFにお
いて内方に反射されずに、発振レーザ光LAIとして例
えばアブラナティックレンズでなる出力反射部材12に
射出する。
Fに露出しているレーザ発振領域IDの反射率を低減さ
せてなり、これにより半導体レーザ1の活性層Iへの内
部において発生したレーザ光が前側へき開面ICFにお
いて内方に反射されずに、発振レーザ光LAIとして例
えばアブラナティックレンズでなる出力反射部材12に
射出する。
この実施例の場合、出力反射部材12は第3図に示すよ
うに、球面状入射面12Aを有し、そのほぼ中心点を通
る所定領域に反射ミラー部12Cが形成されている。
うに、球面状入射面12Aを有し、そのほぼ中心点を通
る所定領域に反射ミラー部12Cが形成されている。
ここで反射ミラー部12Cの入射面12A上の形状は、
近視野像2として所望の形状及び位相分布を有する像が
発生されたとき、出力反射部材12の入射面12A上に
、近視野像2の形状及び位相分布に対応する形状及び反
射率分布をもつような反射ミラー部12Cが形成されて
いる。
近視野像2として所望の形状及び位相分布を有する像が
発生されたとき、出力反射部材12の入射面12A上に
、近視野像2の形状及び位相分布に対応する形状及び反
射率分布をもつような反射ミラー部12Cが形成されて
いる。
以上の構成において、 半導体レーザ1の活性JilA
において発生したレーザ光は、 前側へき開面ICFか
ら発振レーザ光LAIとして射出されて出力反射部材1
2の入射面12Aに入射し、これを透過した一部のレー
ザ光が出力レーザ光LA 011 Tとして送出される
。
において発生したレーザ光は、 前側へき開面ICFか
ら発振レーザ光LAIとして射出されて出力反射部材1
2の入射面12Aに入射し、これを透過した一部のレー
ザ光が出力レーザ光LA 011 Tとして送出される
。
当該発振レーザ光LAIのうち、反射ミラー部12Cに
おいて反射されたレーザ光は、再度レーザ発振領域ID
に戻されると共に、さらに活性層IAの内部に戻され、
レーザ発振領域IDを通って後側へき開面ICRにおい
て反射される。
おいて反射されたレーザ光は、再度レーザ発振領域ID
に戻されると共に、さらに活性層IAの内部に戻され、
レーザ発振領域IDを通って後側へき開面ICRにおい
て反射される。
かくして半導体レーザ1の活性層IAから射出された発
振レーザ光LAIは、反射ミラー部12Cと後側へき開
面ICRとの間を往復することにより、発振状態になり
、これにより反射ミラー部12C及びレーザ発振領域I
Dの後側へき開面ICR間に、共振器を構成する。
振レーザ光LAIは、反射ミラー部12Cと後側へき開
面ICRとの間を往復することにより、発振状態になり
、これにより反射ミラー部12C及びレーザ発振領域I
Dの後側へき開面ICR間に、共振器を構成する。
かかる発振状態において、近視野像2を等価的に横方向
に線状に光点を配列したものと考えたとき(これを実効
的光点と呼ぶ)、当該実効的光点を通るレーザ光の光路
長Rは全ての実効的光点について互いに等しくなる。因
に、出力反射部材12の反射ミラー部12Gは近視野像
2を中心とする球面を形成しているからである。
に線状に光点を配列したものと考えたとき(これを実効
的光点と呼ぶ)、当該実効的光点を通るレーザ光の光路
長Rは全ての実効的光点について互いに等しくなる。因
に、出力反射部材12の反射ミラー部12Gは近視野像
2を中心とする球面を形成しているからである。
そこで、各実効的光点を通る光路の実効的な光路長は互
いに等しくなるので、たとえ各光路におけるばらばらな
位置(活性層IAの内部の)においてレーザ光が発生し
たとしても、互いに強め合うレーザ光は、光路長Rに相
当するものだけとなり、かくしてレーザ発振領域IDか
ら射出されるレーザ光LAIの横方向の各位置における
位相を均一な状態に制御し得、その結果半導体レーザ1
の横モードを制御できることになる。
いに等しくなるので、たとえ各光路におけるばらばらな
位置(活性層IAの内部の)においてレーザ光が発生し
たとしても、互いに強め合うレーザ光は、光路長Rに相
当するものだけとなり、かくしてレーザ発振領域IDか
ら射出されるレーザ光LAIの横方向の各位置における
位相を均一な状態に制御し得、その結果半導体レーザ1
の横モードを制御できることになる。
かくするにつき、かかる横モードの制御は、反射ミラー
部12Cにおいて反射されたレーザ光に限ってなされる
ことにより、近視野像2の形状は反射ミラー部12Cの
形状に対応するものになる。
部12Cにおいて反射されたレーザ光に限ってなされる
ことにより、近視野像2の形状は反射ミラー部12Cの
形状に対応するものになる。
以上の構成によれば、レーザ発振領域IDには、反射ミ
ラー部12Cを遠視野像3とする近視野像2が形成され
ることになり、結局遠視野像3の形状及び位相分布を所
望のものに設定することによって、近視野像2の形状及
び位相分布を制御することができる。
ラー部12Cを遠視野像3とする近視野像2が形成され
ることになり、結局遠視野像3の形状及び位相分布を所
望のものに設定することによって、近視野像2の形状及
び位相分布を制御することができる。
〔2〕第2の実施例
第4図は本発明の他の実施例を示すもので、第2図との
対応部分に同一符号を付して示すように、レーザ発振領
域IDの後側へき開面ICRにおいて反射させないよう
に後方にレーザ光LAIを放射させて後側へき開面IC
Rに近接して設けられた後側反射ミラー21の反射面2
1Aにおいて反射させる。
対応部分に同一符号を付して示すように、レーザ発振領
域IDの後側へき開面ICRにおいて反射させないよう
に後方にレーザ光LAIを放射させて後側へき開面IC
Rに近接して設けられた後側反射ミラー21の反射面2
1Aにおいて反射させる。
第4図の構成によれば、半導体レーザ1のレーザ発振領
域IDを通る発振レーザ光LAIは出力反射部材12の
入射面12Aに設けられた反射ミラー部12Cと、後側
反射ミラー21の反射面21Aとの間を繰り返し往復す
るように反射されることにより、反射ミラー部12Cに
対応する近視野像2を前側へき開面ICF上に形成する
ことができる。
域IDを通る発振レーザ光LAIは出力反射部材12の
入射面12Aに設けられた反射ミラー部12Cと、後側
反射ミラー21の反射面21Aとの間を繰り返し往復す
るように反射されることにより、反射ミラー部12Cに
対応する近視野像2を前側へき開面ICF上に形成する
ことができる。
かくす、るにつき、レーザ発振領域IDの横方向の実効
的光点における発振レーザ光LAIの位相を反射ミラー
21及び反射ミラー部12Cの実効的な光路長によって
決まるモードに制御することができる。
的光点における発振レーザ光LAIの位相を反射ミラー
21及び反射ミラー部12Cの実効的な光路長によって
決まるモードに制御することができる。
〔3〕第3の実施例
第5図は本発明の第3の実施例を示すもので、第4図と
の対応部分に同一符号を付して示すように、後側反射ミ
ラー22として反射面22Aが出力反射部材12と同様
の球面を有する。
の対応部分に同一符号を付して示すように、後側反射ミ
ラー22として反射面22Aが出力反射部材12と同様
の球面を有する。
後側反射ミラー22は、出力反射部材12と同様に、レ
ーザ発振領域IDの後側へき開面ICR上に形成される
近視野像23に対して遠視野像24を形成する程度に離
れた位置に設けられ、かくして後側へき開面ICR上に
形成された近視野像23と反射面22A上に形成される
遠視野像24との実効的な距離が、近視野像23の実効
的光点について互いに等しくなるように選定されている
。
ーザ発振領域IDの後側へき開面ICR上に形成される
近視野像23に対して遠視野像24を形成する程度に離
れた位置に設けられ、かくして後側へき開面ICR上に
形成された近視野像23と反射面22A上に形成される
遠視野像24との実効的な距離が、近視野像23の実効
的光点について互いに等しくなるように選定されている
。
第5図の構成によれば、出力反射部材12の反射ミラー
部12Cと後側反射ミラー22の反射面22Aとの間の
実効的な光路長を横方向の全ての光点について揃えるこ
とができることにより、実用上横方向モードが揃った出
力レーザ光LAoutxを射出することができる。
部12Cと後側反射ミラー22の反射面22Aとの間の
実効的な光路長を横方向の全ての光点について揃えるこ
とができることにより、実用上横方向モードが揃った出
力レーザ光LAoutxを射出することができる。
〔4〕第4の実施例
第6図は本発明のさらに他の実施例を示すもので、半導
体レーザ1から射出する発振レーザ光LA1をコリメー
タレンズ25によって平行なレーザ光LAIIに変換し
た後出力反射部材26に入射する。
体レーザ1から射出する発振レーザ光LA1をコリメー
タレンズ25によって平行なレーザ光LAIIに変換し
た後出力反射部材26に入射する。
出力反射部材26の入射面26Aには、半導体レーザ1
の前側へき開面ICF上の近視野像2をコリメータレン
ズ25を介して投影したと同様の形状及び反射率分布を
有する反射ミラー部26Cが形成され、かくして出力反
射部材26の射出面26Bから出力レーザ光LAoot
xが送出される。
の前側へき開面ICF上の近視野像2をコリメータレン
ズ25を介して投影したと同様の形状及び反射率分布を
有する反射ミラー部26Cが形成され、かくして出力反
射部材26の射出面26Bから出力レーザ光LAoot
xが送出される。
第6図の構成において、半導体レーザ1の近視野像2の
横方向の実効的光点から射出される発振レーザ光LAI
は、コリメータレンズ25を介して平行なレーザ光LA
11として反射ミラー部26Cにおいて反射されて再度
コリメータレンズ25を通って近視野像2の各光点に戻
る。かくしてコリメータレンズ25の屈折作用によって
近視野像2の横方向の実効的光点を通る発振レーザ光L
A1の実効的な光路長が互いに等しくなることにより、
発振レーザ光LAIの横モードを揃えることができる。
横方向の実効的光点から射出される発振レーザ光LAI
は、コリメータレンズ25を介して平行なレーザ光LA
11として反射ミラー部26Cにおいて反射されて再度
コリメータレンズ25を通って近視野像2の各光点に戻
る。かくしてコリメータレンズ25の屈折作用によって
近視野像2の横方向の実効的光点を通る発振レーザ光L
A1の実効的な光路長が互いに等しくなることにより、
発振レーザ光LAIの横モードを揃えることができる。
〔5〕第5の実施例
第7図及び第8図は本発明のさらに他の実施例を示すも
ので、第2図との対応部分に同一符号を付して示すよう
に、半導体レーザlから射出される発振レーザ光LAI
が、回折作用によって発振レーザ光LAIの外周線部分
が僅かに外方に発散しながら出力反射部材12に入射す
る。
ので、第2図との対応部分に同一符号を付して示すよう
に、半導体レーザlから射出される発振レーザ光LAI
が、回折作用によって発振レーザ光LAIの外周線部分
が僅かに外方に発散しながら出力反射部材12に入射す
る。
この場合、出力反射部材12の入射面12Aの水平方向
の曲率半径RH及び垂直方向の曲率半径Rvは第8図に
示すように、発振レーザ光LAIの外周縁部の発散量に
対応する値に選定されている。
の曲率半径RH及び垂直方向の曲率半径Rvは第8図に
示すように、発振レーザ光LAIの外周縁部の発散量に
対応する値に選定されている。
第7図及び第8図の構成によれば、入射面12A上に形
成されている反射ミラー部12Gの形状が、発振レーザ
光LAIの回折現象を考慮して外周縁部の曲率が調整さ
れていることより、近視野像2の横方向の実効的光点を
通る発振レーザ光LA1の実効的光路長を互いに合わせ
ることができ、かくして発振レーザ光LAIの横方向モ
ードを揃えることができる。
成されている反射ミラー部12Gの形状が、発振レーザ
光LAIの回折現象を考慮して外周縁部の曲率が調整さ
れていることより、近視野像2の横方向の実効的光点を
通る発振レーザ光LA1の実効的光路長を互いに合わせ
ることができ、かくして発振レーザ光LAIの横方向モ
ードを揃えることができる。
〔6〕第6の実施例
第9図は本発明のさらに他の実施例を示すもので、この
場合第2図との対応部分に同一符号を付して示すように
、半導体レーザlの前側へき開面ICFと、出力反射部
材12の入射面12Aとの間に非線形光学結晶素子31
が設けられ、発振し一ザ光LAIが基本波レーザ光とし
て非線形光学結晶素子31を透過する際に第2高調波レ
ーザ光LA12を発生させる。
場合第2図との対応部分に同一符号を付して示すように
、半導体レーザlの前側へき開面ICFと、出力反射部
材12の入射面12Aとの間に非線形光学結晶素子31
が設けられ、発振し一ザ光LAIが基本波レーザ光とし
て非線形光学結晶素子31を透過する際に第2高調波レ
ーザ光LA12を発生させる。
非線形光学結晶素子31は、かくして発生した第2次高
調波レーザ光LA12と、基本波レーザ光と−しての発
振レーザ光LAIとが位相整合するような条件の下に設
定され、かくして非線形光学結晶素子31から出力反射
部材12に向けて第2高調波レーザ光LA12が射出さ
れる。
調波レーザ光LA12と、基本波レーザ光と−しての発
振レーザ光LAIとが位相整合するような条件の下に設
定され、かくして非線形光学結晶素子31から出力反射
部材12に向けて第2高調波レーザ光LA12が射出さ
れる。
この実施例の場合出力反射部材12の反射ミラー部12
Gは、第2高調波レーザ光LA12を透過すると同時に
発振レーザ光LAIを反射するように構成され、かくし
て発振レーザ光LAIは、第2図について上述したと同
様にして半導体レーザ1の後側へき開面ICRと反射ミ
ラー部12Cとの間を繰り返し反射する。
Gは、第2高調波レーザ光LA12を透過すると同時に
発振レーザ光LAIを反射するように構成され、かくし
て発振レーザ光LAIは、第2図について上述したと同
様にして半導体レーザ1の後側へき開面ICRと反射ミ
ラー部12Cとの間を繰り返し反射する。
第9図の構成によれば、半導体レーザ1から横モードが
所定位相にロックされた発振レーザ光LAlを得ること
ができることにより、非線形光学結晶素子31において
効率良く第2高調波レーザ光LA12を発生させること
ができる。
所定位相にロックされた発振レーザ光LAlを得ること
ができることにより、非線形光学結晶素子31において
効率良く第2高調波レーザ光LA12を発生させること
ができる。
H発明の効果
上述のように本発明によれば、半導体レーザの活性部か
ら射出される発振レーザ光を半導体レーザの外部に設け
た出力反射部材によって反射させることにより共振器を
構成すると共に、半導体レーザの近視野像を構成する実
効的光点を通るレーザ光の実効的な光路長を揃えるよう
な反射ミラー部を出力反射部材に設けるようにしたこと
により、位相の揃った発振レーザ光を効率良く発生させ
ることができる。
ら射出される発振レーザ光を半導体レーザの外部に設け
た出力反射部材によって反射させることにより共振器を
構成すると共に、半導体レーザの近視野像を構成する実
効的光点を通るレーザ光の実効的な光路長を揃えるよう
な反射ミラー部を出力反射部材に設けるようにしたこと
により、位相の揃った発振レーザ光を効率良く発生させ
ることができる。
第1図は本発明による半導体レーザ光源に用いる半導体
レーザを示す路線的斜視図、第2図は本発明による半導
体レーザ光源の一実施例を示す平面図、第3図はその出
力反射部材の構成を示す正面図、第4図〜第9図は本発
明による半導体レーザ光源の他の実施例を示す平面図及
び斜視図である。 1・・・・・・半導体レーザ、2・・・・・・近視野像
、3・・・・・・遠視野像、11・・・・・・半導体レ
ーザ光源、12.26・・・・・・出力反射部材、12
C・・・・・・反射ミラー部、21.22・・・・・・
後側反射ミラー、31・・・・・・非線形光学結晶素子
。
レーザを示す路線的斜視図、第2図は本発明による半導
体レーザ光源の一実施例を示す平面図、第3図はその出
力反射部材の構成を示す正面図、第4図〜第9図は本発
明による半導体レーザ光源の他の実施例を示す平面図及
び斜視図である。 1・・・・・・半導体レーザ、2・・・・・・近視野像
、3・・・・・・遠視野像、11・・・・・・半導体レ
ーザ光源、12.26・・・・・・出力反射部材、12
C・・・・・・反射ミラー部、21.22・・・・・・
後側反射ミラー、31・・・・・・非線形光学結晶素子
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体レーザの近視野像を形成するレーザ発振領域から
射出される発振レーザ光を出力反射部材において反射す
ることにより上記近視野像に戻す発振器を有し、 上記出力反射部材は上記近視野像を構成する実効的光点
について当該各実効的光点からの実効的な光路長を互い
に揃えるような反射ミラー部を具える ことを特徴とする半導体レーザ光源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31335887A JPH01152787A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 半導体レーザ光源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31335887A JPH01152787A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 半導体レーザ光源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01152787A true JPH01152787A (ja) | 1989-06-15 |
Family
ID=18040296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31335887A Pending JPH01152787A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 半導体レーザ光源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01152787A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7936803B2 (en) | 2005-03-25 | 2011-05-03 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | External cavity semiconductor laser |
JP2012122844A (ja) * | 2010-12-08 | 2012-06-28 | Aisin Seiki Co Ltd | 表面検査装置 |
-
1987
- 1987-12-10 JP JP31335887A patent/JPH01152787A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7936803B2 (en) | 2005-03-25 | 2011-05-03 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | External cavity semiconductor laser |
JP2012122844A (ja) * | 2010-12-08 | 2012-06-28 | Aisin Seiki Co Ltd | 表面検査装置 |
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