JPH01152138A - 印刷回路用積層板の製造方法 - Google Patents
印刷回路用積層板の製造方法Info
- Publication number
- JPH01152138A JPH01152138A JP30965987A JP30965987A JPH01152138A JP H01152138 A JPH01152138 A JP H01152138A JP 30965987 A JP30965987 A JP 30965987A JP 30965987 A JP30965987 A JP 30965987A JP H01152138 A JPH01152138 A JP H01152138A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- varnish
- laminate
- intermediate layer
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 35
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 9
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 7
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 claims description 9
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 claims description 9
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 3
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 abstract description 11
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 10
- 239000004744 fabric Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 5
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 abstract 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001679 gibbsite Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004682 monohydrates Chemical class 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 150000004684 trihydrates Chemical class 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000221035 Santalaceae Species 0.000 description 1
- 235000008632 Santalum album Nutrition 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910001680 bayerite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910001682 nordstrandite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/036—Multilayers with layers of different types
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0366—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement reinforced, e.g. by fibres, fabrics
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0373—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高周波特性及び加工性、スルーホールメツキの
信頼性に優れた印刷回路用積層板の製造方法に関するも
のである。
信頼性に優れた印刷回路用積層板の製造方法に関するも
のである。
印刷回路用銅張積層板として、ガラス不織布を中間層基
材としてガラス織布を表面層基材とした構成でエポキシ
樹脂を含浸させ加熱加圧した積層板(以下、コンポジッ
ト積層板という)が多最に使用されるようになった。ガ
ラス織布基材のみにエポキシ樹脂を含浸させた積層板は
機械的強度、寸法安定性、耐湿性、耐熱性に優れスルー
ホールメツキの信頼性が高いので、電子計算機、通信機
、電子交換機等の産業用電子機器に多く使用されている
。
材としてガラス織布を表面層基材とした構成でエポキシ
樹脂を含浸させ加熱加圧した積層板(以下、コンポジッ
ト積層板という)が多最に使用されるようになった。ガ
ラス織布基材のみにエポキシ樹脂を含浸させた積層板は
機械的強度、寸法安定性、耐湿性、耐熱性に優れスルー
ホールメツキの信頼性が高いので、電子計算機、通信機
、電子交換機等の産業用電子機器に多く使用されている
。
しかし、基材にガラス織布のみを使用するので、印刷回
路板の加工工程の一つである孔あけ工程では打法加工が
不可能であり、ドリル加工されているのが実情である。
路板の加工工程の一つである孔あけ工程では打法加工が
不可能であり、ドリル加工されているのが実情である。
一方、コンポジット積層板はガラス織布基材の積層板よ
り経済的に安価で、かつ打抜き孔あけ加工が可能な点が
優れており、加工性の良いガラス基材積層板として注目
をあびたが、スルーホールメツキの信頼性がガラス織布
基材積層板より低いと評価されていた。その理由として
、ガラス織布基材エポキシ樹脂版の構成は、有機物であ
るエポキシ樹脂と無機物であるガラス織布の重量比率が
約40:60である。この場合エポキシ樹脂が主に各種
電気性能を優れたものにし、ガラス織布が曲げ強度寸法
安定性などの機械的性能を良好にしていると考えられる
。
り経済的に安価で、かつ打抜き孔あけ加工が可能な点が
優れており、加工性の良いガラス基材積層板として注目
をあびたが、スルーホールメツキの信頼性がガラス織布
基材積層板より低いと評価されていた。その理由として
、ガラス織布基材エポキシ樹脂版の構成は、有機物であ
るエポキシ樹脂と無機物であるガラス織布の重量比率が
約40:60である。この場合エポキシ樹脂が主に各種
電気性能を優れたものにし、ガラス織布が曲げ強度寸法
安定性などの機械的性能を良好にしていると考えられる
。
ところで、一般のコンポジット積層板は機械的性能に寄
与する無機基材、即ちガラス織布とガラス不織布の合計
量がガラス織布積層板より少ない。
与する無機基材、即ちガラス織布とガラス不織布の合計
量がガラス織布積層板より少ない。
有機物と無機物の比率が約60:40であり、ガ千(
ラス織布積層檀とはその比率が逆転しているため、寸法
安定性やスルーホールメツキの信頼性が低いとされてい
た。
安定性やスルーホールメツキの信頼性が低いとされてい
た。
本発明者等はコンポジット積層板の優れた特徴をいかし
ながら、これらの欠点を改良すべく検討し、一般のコン
ポジット積層板の構成に更に無機充填剤を大量に配合す
ることにより、単一組成では得られない特徴ある新規コ
ンポジット積層板を得ている。(特願昭58−1151
18号)。この無機充填剤として用いるアルミナ水和物
(いわゆる水酸化アルミニウム)には、結晶性水和物と
してギブサイト(α型3水和物A12o3・3日20)
、バイヤライト(β型3水和物)、ノルドストランダイ
ト、ベーマイト(α型1水和物Al2O3・H2O)、
ダイアスボア(β型1水和物)、トーダイト(5A12
03・H2O)が知られている。
ながら、これらの欠点を改良すべく検討し、一般のコン
ポジット積層板の構成に更に無機充填剤を大量に配合す
ることにより、単一組成では得られない特徴ある新規コ
ンポジット積層板を得ている。(特願昭58−1151
18号)。この無機充填剤として用いるアルミナ水和物
(いわゆる水酸化アルミニウム)には、結晶性水和物と
してギブサイト(α型3水和物A12o3・3日20)
、バイヤライト(β型3水和物)、ノルドストランダイ
ト、ベーマイト(α型1水和物Al2O3・H2O)、
ダイアスボア(β型1水和物)、トーダイト(5A12
03・H2O)が知られている。
ギブサイト型水酸化アルミニウム(以下、ギブサイトと
いう)は200℃から500℃の範囲で水を放出する。
いう)は200℃から500℃の範囲で水を放出する。
この時の吸熱量が大きいので、これを利用して一般の合
成樹脂では難燃性を保たせるために充填剤として用いら
れている。しかし積層板は印刷回路及び組立て工程にお
いて高熱状態にさらされる頻度が高く、例えばはんだ工
程では通常260℃のはんだ浴に浸るので、ギブサイト
を充填剤として用いたコンポジット積層板は浸漬時間が
長くなるとふくれによる不良が発生する。
成樹脂では難燃性を保たせるために充填剤として用いら
れている。しかし積層板は印刷回路及び組立て工程にお
いて高熱状態にさらされる頻度が高く、例えばはんだ工
程では通常260℃のはんだ浴に浸るので、ギブサイト
を充填剤として用いたコンポジット積層板は浸漬時間が
長くなるとふくれによる不良が発生する。
この原因はギブサイトからの水の放出である。
本発明者等はこの欠点を解消するためにコンポジット積
層板用樹脂に加熱処理したギブサイトを充填することに
よりはんだ耐熱性を著しく向上させた積層板を得ている
(特願昭59−59501号)。
層板用樹脂に加熱処理したギブサイトを充填することに
よりはんだ耐熱性を著しく向上させた積層板を得ている
(特願昭59−59501号)。
しかし近年積層板の加工技術の発達、回路の高密度化、
用途の多様化が図られてきており、更により高い信頼性
高周波特性を要求されるようになった。
用途の多様化が図られてきており、更により高い信頼性
高周波特性を要求されるようになった。
(発明の目的)
本発明は従来のコンポジット積層板では得られなかった
高周波特性に優れ、更に高信頼性を有した加工性の良い
印刷回路用積層板を提供することを目的とする。
高周波特性に優れ、更に高信頼性を有した加工性の良い
印刷回路用積層板を提供することを目的とする。
(発明の構成〕
本発明は、表面層はエポキシ樹脂成分としてエポキシ当
量700〜1200を有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂及びノボラック型エポキシ樹脂を主成分とし、硬
化剤として芳香族ジアミン硬化剤を加えたワニスを含浸
したガラス織布からなり、中間層は前記エポキシ樹脂を
主成分としたワニスに無機充填剤として水酸化アルミニ
ウムを含有したワニスを含浸したガラス不織布からなり
、これら表面層と中間層とを加熱加圧成形することを特
徴とする印刷回路用積層板の製造方法である。
量700〜1200を有するビスフェノールA型エポキ
シ樹脂及びノボラック型エポキシ樹脂を主成分とし、硬
化剤として芳香族ジアミン硬化剤を加えたワニスを含浸
したガラス織布からなり、中間層は前記エポキシ樹脂を
主成分としたワニスに無機充填剤として水酸化アルミニ
ウムを含有したワニスを含浸したガラス不織布からなり
、これら表面層と中間層とを加熱加圧成形することを特
徴とする印刷回路用積層板の製造方法である。
本発明において用いられるビスフェノールA型エポキシ
樹脂はエポキシ当1700乃至1200のものである。
樹脂はエポキシ当1700乃至1200のものである。
低分子」のエポキシ樹脂を用いた積層板では、加工工程
において機械的、熱的衝撃を吸収できず破壊へとつなが
ることが多い。そこで用いるエポキシ樹脂の分子量を上
げて700以上のエポキシ当量のものを用いると、従来
より架橋点間の分子量が大きくなり、上述の加工時の機
械的、熱的衝撃を分子運動として吸収し積層板に破壊が
生じにくくなる。一方、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂の分子量を上げてゆくと、加圧成形時に加熱しても粘
度が低下せず、ガラス繊維や金属箔との界面に樹脂が浸
透しにくく、気泡が残り接着強度を下げる。
において機械的、熱的衝撃を吸収できず破壊へとつなが
ることが多い。そこで用いるエポキシ樹脂の分子量を上
げて700以上のエポキシ当量のものを用いると、従来
より架橋点間の分子量が大きくなり、上述の加工時の機
械的、熱的衝撃を分子運動として吸収し積層板に破壊が
生じにくくなる。一方、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂の分子量を上げてゆくと、加圧成形時に加熱しても粘
度が低下せず、ガラス繊維や金属箔との界面に樹脂が浸
透しにくく、気泡が残り接着強度を下げる。
そこで高分子量化に伴う架橋密度の低下をノボラック型
エポキシ樹脂を併用することにより抑えることができる
。このノボラック型エポキシ樹脂を併用した場合、エポ
キシ当Wi1200以下のビスフェノールA型エポキシ
樹脂を用い得る。これ以上の高分子量のエポキシ樹脂を
用いると、たとえノボラック型エポキシ樹脂を併用して
も、耐溶剤性等の実用性の面で耐えるものが得られない
。
エポキシ樹脂を併用することにより抑えることができる
。このノボラック型エポキシ樹脂を併用した場合、エポ
キシ当Wi1200以下のビスフェノールA型エポキシ
樹脂を用い得る。これ以上の高分子量のエポキシ樹脂を
用いると、たとえノボラック型エポキシ樹脂を併用して
も、耐溶剤性等の実用性の面で耐えるものが得られない
。
本発明において、ビスフェノール型エポキシ樹脂は臭素
化型のものが通常使用され、臭素含有率は15〜30%
(型組%、以下同じ)が好ましい。
化型のものが通常使用され、臭素含有率は15〜30%
(型組%、以下同じ)が好ましい。
本発明において鉢、ノボラック型エポキシ樹脂としてビ
スフェノールAノボラック型のものを使用するのが好ま
しい。ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂を使
用すると、通常のフェノール又はタレゾールノボラック
型エポキシ樹脂を使用する場合に比較して、可撓性が増
し、硬化時の歪みをより少なくすることができるので、
成形性が良く、得られた積層板は、高周波特性、耐熱性
、耐熱衝撃性、耐溶剤性等の特性が非常にすぐれたもの
となる。ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂は
分子量450〜1400のものが上記特性の点で好まし
い。
スフェノールAノボラック型のものを使用するのが好ま
しい。ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂を使
用すると、通常のフェノール又はタレゾールノボラック
型エポキシ樹脂を使用する場合に比較して、可撓性が増
し、硬化時の歪みをより少なくすることができるので、
成形性が良く、得られた積層板は、高周波特性、耐熱性
、耐熱衝撃性、耐溶剤性等の特性が非常にすぐれたもの
となる。ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂は
分子量450〜1400のものが上記特性の点で好まし
い。
又、ビスフェノールA型エポキシ樹脂との配合割合は特
に限定されないが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂6
0〜90部(型凹部、以下同じ)に対しビスフェノール
Aノボラック型エポキシ樹脂40〜10部が好ましい。
に限定されないが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂6
0〜90部(型凹部、以下同じ)に対しビスフェノール
Aノボラック型エポキシ樹脂40〜10部が好ましい。
本発明においてエポキシ当1700ないし1200のビ
スフェノールA型エポキシ樹脂の一部を、これよりもエ
ポキシ当量の低いエポキシ化合物に置換しても、本発明
の目的とする高層、諌特性、耐熱性、耐熱衝撃性、寸法
安定性において有効な改善が認められるのでこの場合も
本発明に含まれる。
スフェノールA型エポキシ樹脂の一部を、これよりもエ
ポキシ当量の低いエポキシ化合物に置換しても、本発明
の目的とする高層、諌特性、耐熱性、耐熱衝撃性、寸法
安定性において有効な改善が認められるのでこの場合も
本発明に含まれる。
本発明に用いられる芳香族ジアミン硬化剤はエポキシ樹
脂の0.3〜0.7当量含まれることが望ましい。この
範囲を上回っても下回っても耐熱性、成形性の面で低下
し実用性の面で好ましくない。硬化促進剤の種類及びω
で適宜のゲルタイムが得られ本発明で用いるワニスは1
20〜240秒/170℃が成形性の面で好ましい。
脂の0.3〜0.7当量含まれることが望ましい。この
範囲を上回っても下回っても耐熱性、成形性の面で低下
し実用性の面で好ましくない。硬化促進剤の種類及びω
で適宜のゲルタイムが得られ本発明で用いるワニスは1
20〜240秒/170℃が成形性の面で好ましい。
本発明に用いられる水酸化アルミニウムは中間層の樹脂
に対して好ましくは10〜200%、特に好ましくは2
0〜200%含まれる。
に対して好ましくは10〜200%、特に好ましくは2
0〜200%含まれる。
10%以下では耐熱性向上の効果が小ざく、200%以
上ではギブサイト混合時の樹脂粘度が高くなり過ぎてガ
ラス不織布基材への含浸が困難となる。20%以上の場
合、耐熱性向上効果がより確実なものとなる。
上ではギブサイト混合時の樹脂粘度が高くなり過ぎてガ
ラス不織布基材への含浸が困難となる。20%以上の場
合、耐熱性向上効果がより確実なものとなる。
中間層において、水酸化アルミニウム以外の無機質充填
剤(例えばシリカ)を用いることもできる。無機充填剤
全体の中間層樹脂に対する割合は80〜200%が好ま
しい。80%以下では、寸法安定性やスルーホールメツ
キの信頼性が低下して好ましくない。200%以上では
、無機充填剤を樹脂に混合したとき粘度が高くなり過ぎ
て、ガラス不織布への含浸が困難となる。
剤(例えばシリカ)を用いることもできる。無機充填剤
全体の中間層樹脂に対する割合は80〜200%が好ま
しい。80%以下では、寸法安定性やスルーホールメツ
キの信頼性が低下して好ましくない。200%以上では
、無機充填剤を樹脂に混合したとき粘度が高くなり過ぎ
て、ガラス不織布への含浸が困難となる。
本発明の印刷回路用積層板は次のような特長を有してい
る。
る。
(1)従来の芳香族ジアミン硬化剤を用いた積層板に比
較して高周波特性及び吸湿ドリフト性が大幅に向上して
いる。
較して高周波特性及び吸湿ドリフト性が大幅に向上して
いる。
(2)ガラス転移温度の向上により熱衝撃性が改善され
信頼性が大幅に向上している。
信頼性が大幅に向上している。
本発明の実施例及び比較例(従来例)を示す。
エポキシ樹脂配合ワニスの組成は次の通りである。
次に表面層用として配合した該ワニスをガラス織布(日
東紡製WE−18に−RB84)に樹脂含有量が42〜
45%になるように含浸乾燥し、ガラス織布プリプレグ
を得た。続いて、中間層用として同様に配合したワニス
に樹脂分100部に対し次の配合の無機充填剤を添加し
、攪拌混合し無機充填剤含有ワニスを作製した。
東紡製WE−18に−RB84)に樹脂含有量が42〜
45%になるように含浸乾燥し、ガラス織布プリプレグ
を得た。続いて、中間層用として同様に配合したワニス
に樹脂分100部に対し次の配合の無機充填剤を添加し
、攪拌混合し無機充填剤含有ワニスを作製した。
シリカ(龍森製 クリスタライトVX−3>25部
ギブサイト型水酸化アルミニウム
(A1203・2.4H20) 70部超微粉
末シリカ(ジオツギ製薬製 カープレックス)
5部この無機充填剤含有ワ
ニスをガラス不織布(日本バイリーン製 Ep−407
5)に樹脂及び無機充填剤の含有量が90%になるよう
に含浸乾燥して、ガラス不織布プリプレグを得た。
末シリカ(ジオツギ製薬製 カープレックス)
5部この無機充填剤含有ワ
ニスをガラス不織布(日本バイリーン製 Ep−407
5)に樹脂及び無機充填剤の含有量が90%になるよう
に含浸乾燥して、ガラス不織布プリプレグを得た。
次に前記ガラス不織布プリプレグを中間層とし、上・下
表面層に前記ガラス織布プリプレグを配置し、さらにそ
の上に胴筒を重ね、成形温度165℃、圧力60Kg/
criで90分間積層成形して、厚さ1.6mの銅張積
層板を得た。
表面層に前記ガラス織布プリプレグを配置し、さらにそ
の上に胴筒を重ね、成形温度165℃、圧力60Kg/
criで90分間積層成形して、厚さ1.6mの銅張積
層板を得た。
表面層及び中間層用のエポキシ樹脂配合ワニスの組成を
臭素化エポキシ樹脂
2エチル4メチルイミダゾール 0.15メチルセロ
ソルブ 36アセトン
60とした以外は実施例と同様にして
銅張積層板を得た。
ソルブ 36アセトン
60とした以外は実施例と同様にして
銅張積層板を得た。
以上の実施例及び比較例において、各特性の比較結果を
第2表に示す。
第2表に示す。
測定方法
はんだ耐熱性、熱時曲げ強さ=JISC6481による
。ガラス転位湿度−粘弾性法によりtanδのピーク値
の温度を求める。
。ガラス転位湿度−粘弾性法によりtanδのピーク値
の温度を求める。
誘電率、誘電正接=JISC6481による。
耐湿ドリフト性=表1面にくし型電極(間隔0.5対向
長160AI11)を印刷配線した試験片を用いて吸湿
処理しくC−240/60/90)吸湿処理による静電
容量変化を求める(周波数1聞l)。
長160AI11)を印刷配線した試験片を用いて吸湿
処理しくC−240/60/90)吸湿処理による静電
容量変化を求める(周波数1聞l)。
尚、その他−膜特性項目等も測定したが、実施例と比較
例との間に差は見られなかった。
例との間に差は見られなかった。
以上のように、本発明の印刷回路用積層板はコンポジッ
ト積層板の特徴を維持しつつ、高周波特性を著しく向上
している優れた積層板であることがわかった。
ト積層板の特徴を維持しつつ、高周波特性を著しく向上
している優れた積層板であることがわかった。
Claims (1)
- エポキシ樹脂成分としてエポキシ当量700〜1200
を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂及びノボラッ
ク型エポキシ樹脂を主成分とし、硬化剤として芳香族ジ
アミン硬化剤を加えたワニスを含浸したガラス織布を表
面層とし、前記樹脂を主成分としたワニスに無機充填剤
として水酸化アルミニウムを含有したワニスを含浸した
ガラス不織布を中間層として、これら表面層と中間層を
加熱加圧成形することを特徴とする印刷回路用積層板の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30965987A JPH01152138A (ja) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | 印刷回路用積層板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30965987A JPH01152138A (ja) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | 印刷回路用積層板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01152138A true JPH01152138A (ja) | 1989-06-14 |
JPH0360862B2 JPH0360862B2 (ja) | 1991-09-18 |
Family
ID=17995717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30965987A Granted JPH01152138A (ja) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | 印刷回路用積層板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01152138A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08276532A (ja) * | 1995-04-03 | 1996-10-22 | Toshiba Chem Corp | ガラスエポキシ銅張積層板 |
EP0792737A2 (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-03 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Laminated board and process for production thereof |
JP2000025155A (ja) * | 1998-07-10 | 2000-01-25 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | コンポジット金属箔張り積層板 |
JP2001253929A (ja) * | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、これを用いたプリプレグ及び積層板 |
-
1987
- 1987-12-09 JP JP30965987A patent/JPH01152138A/ja active Granted
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08276532A (ja) * | 1995-04-03 | 1996-10-22 | Toshiba Chem Corp | ガラスエポキシ銅張積層板 |
EP0792737A2 (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-03 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Laminated board and process for production thereof |
EP0792737A3 (en) * | 1996-02-29 | 1998-07-22 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Laminated board and process for production thereof |
SG94696A1 (en) * | 1996-02-29 | 2003-03-18 | Sumitomo Bakelite Co | Laminated board and process for production thereof |
KR100403649B1 (ko) * | 1996-02-29 | 2004-03-20 | 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤 | 적층판및그의제조방법 |
JP2000025155A (ja) * | 1998-07-10 | 2000-01-25 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | コンポジット金属箔張り積層板 |
JP2001253929A (ja) * | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、これを用いたプリプレグ及び積層板 |
JP4496591B2 (ja) * | 2000-03-09 | 2010-07-07 | 住友ベークライト株式会社 | エポキシ樹脂組成物、これを用いたプリプレグ及び積層板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0360862B2 (ja) | 1991-09-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20140127039A (ko) | 저열팽창율 및 고내열성을 갖는 인쇄회로기판용 절연수지 조성물, 이를 이용한 프리프레그, 동박적층판, 및 인쇄회로기판 | |
JPS6059795A (ja) | 印刷回路用積層板 | |
JPS607796A (ja) | 印刷回路用銅張積層板及びその製造方法 | |
JPH01152138A (ja) | 印刷回路用積層板の製造方法 | |
JPH0197633A (ja) | 印刷回路用積層板の製造方法 | |
JPH0573077B2 (ja) | ||
JPH0722718A (ja) | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物、印刷配線板用プリプレグの製造方法及びコンポジット積層板の製造方法 | |
JPH06100707A (ja) | 積層板の製造法 | |
JP3343443B2 (ja) | 樹脂組成物およびプリプレグ | |
JP2787846B2 (ja) | 印刷回路用積層板 | |
JPH0573076B2 (ja) | ||
JP3592056B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 | |
JPS60203438A (ja) | 印刷回路用積層板 | |
JP2659490B2 (ja) | 印刷回路用積層板 | |
JP2006036936A (ja) | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、多層プリント配線板 | |
JP3383440B2 (ja) | 銅張積層板 | |
JP2924966B2 (ja) | 印刷回路用積層板 | |
JPH05309789A (ja) | コンポジット銅張積層板の製造方法 | |
JPH06112611A (ja) | 印刷回路用積層板 | |
JPH04259543A (ja) | 印刷回路用積層板の製造方法 | |
JPH0571157B2 (ja) | ||
JP2742124B2 (ja) | 印刷回路用積層板の製造方法 | |
JP2004175849A (ja) | プリント配線板用プリプレグ及び金属張り積層板 | |
JPH11228669A (ja) | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、銅張り積層板、多層積層板 | |
JPH05121850A (ja) | 印刷回路用銅張積層板 |