JPH01140494A - 半導体記憶装置の出力バッファ回路 - Google Patents

半導体記憶装置の出力バッファ回路

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JPH01140494A
JPH01140494A JP62300556A JP30055687A JPH01140494A JP H01140494 A JPH01140494 A JP H01140494A JP 62300556 A JP62300556 A JP 62300556A JP 30055687 A JP30055687 A JP 30055687A JP H01140494 A JPH01140494 A JP H01140494A
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JP
Japan
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output
level
switching element
signal
circuit
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JP62300556A
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Yoshihiko Okihara
沖原 好彦
Yutaka Arita
有田 豊
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/02Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
    • H03K19/08Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices
    • H03K19/094Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors
    • H03K19/09425Multistate logic
    • H03K19/09429Multistate logic one of the states being the high impedance or floating state
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/003Modifications for increasing the reliability for protection
    • H03K19/00346Modifications for eliminating interference or parasitic voltages or currents
    • H03K19/00361Modifications for eliminating interference or parasitic voltages or currents in field effect transistor circuits

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、半導体記憶装置の出力パンフ7回路に関し
、特に、スタティックRAM、 ダイナミックRAM、
ROMなどの各種の半導体記憶装置において、データの
出力速度を遅延させることなく、出力ノイズの低減を可
能にした出力バッファ回路に関する。
[従来の技術] 近年、半導体記憶装置の発展は著しく、スタティックR
AM、 ダイナミックRAM、ROMなど各種半導体メ
モリにおいて、動作のより一層の高速化および安定化が
図られている。
第8図は、−船釣な半導体記憶装置の構成の一例を示す
概略ブロック図である。第8図において、メモリアレイ
1は、複数のワード線と複数のビット線とが互いに交差
するように配置されており、それらのビット線とワード
線との各交点にメモリセルが設けられている。メモリセ
ルの選択は、Xアドレスバッファ2−0.・・・、2−
8およびXデコーダ3によって選択された1つのワード
線と、Yアドレスバッファ4−0.・・・、4−8およ
びYデコーダ5によって選択された1つのビット線との
交点に基づいて行なわれる。選択されたメモリセルへの
データの書込みまたはそのメモリセルからのデータの読
出しは、トランスファゲート6を介してなされる。デー
タの書込み時には、外部信号Wに応じてWEバッフ77
から出力される制御信号WEによって書込ドライバ8−
1.・・・、8−8が駆動され、データ人力バッファ9
−1.・・・。
9−8からの入力データがトランスファゲート6に与え
られる。データの読出時には、トランスファゲート6を
介して出力されたデータは、センスアンプ10−1.・
・・、10−8によって検出されかつ増幅された後、出
力バッファ回路11−1゜・・・、11−8に与えられ
る。出力バッファ回路11−1.・・・、11−8の各
々は、外部信号OEおよび制御信号WEに応答して出力
制御回路(OEバッファ)12から出力される制御信号
OEによって駆動され、出力データを発生する。なお、
CSバッファ13は、外部から与えられるチップ選択信
号CSに応じて、WEバッファ7およびOEバッファ1
2を駆動する。
次に、第9図は、第8図に示した出力バッフ7回路11
の詳細を示す回路図である。第9図を参照して、従来の
出力バッファ回路11は、センスアンプ10の出力信号
aと出力制御回路12の出力信号すとを入力とするNA
ND回路14と、センアンプ10の出力信号aと出力制
御回路12の出力信号すの反転値とを入力とするNOR
回路15と、出力駆動回路16と、出力端子17とから
構成される。
より詳細に説明すると、出力駆動回路16は、ソースが
電源電圧V。0に接続され、ドレインが出力端子17に
接続されかつゲートがNAND回路14の出力に接続さ
れたpチャネルMOSl−ランジスタQ1と、ソースが
接地電位に接続され、ドレインが出力端子17に接続さ
れかつゲートがNOR回路15の出力に接続されたnチ
ャネルMOSトランジスタロ2とから構成される。出力
端子17には、第9図中破線で示すように、基板の配線
容量や他のデバイスへの入力容量などからなる大きな出
力容量が接続されることになる。したがって、pチャネ
ルMOS)ランジスタQ1およびnチャネルMOSトラ
ンジスタロ2は、かかる大きな出力容量を高速で駆動し
なければならず、これらのMOSトランジスタの相互コ
ンダクタンスは非常に大きく設定されている。
次に、第10図は、第9図に示した従来の出力バッファ
回路11の動作を説明するための波形図である。
まず、出力制御回路12の出力信号すが“L”レベルの
場合について考える。この場合において、センスアンプ
10の出力信号aが“H”レベルであれば、NAND回
路14の出力信号Cは“H”レベルとなり、pチャネル
MOSトランジスタロ1はオフ状態となる。また、NO
R回路15の出力信号d2は“L”レベルとなり、nチ
ャネルMOSトランジスタロ2もオフ状態となる。一方
、センスアンプ10の出力信号aが“L″レベル場合に
も、出力信号c、d2は、それぞれ、“H“、 “L″
レベルなり、MOS)ランジスタQ1およびQ2はとも
にオフ状態となる。すなわち、出力制御回路12の出力
信号すが“L″ レベルの場合には、センスアンプ10
の出力信号aが“H”レベルかL“レベルかにかかわり
なく、NAND回路14の出力信号Cは″H°レベルに
固定され、pチャネルMOSトランジスタロ1は常にオ
フ状態となり、NOR回路15の出力信号d2はL”レ
ベルに固定され、nチャネルMOS)ランジスタQ2も
常にオフ状態となる。したがって、出力制御回路12の
出力信号すが“L”レベルのときには、出力端子17か
ら出力データ信号e2は出力されない。
次に、出力制御回路12の出力信号すが“H″レベル場
合について考える。この場合において、センスアンプ1
0の出力信号aが“H”レベルであれば、NAND回路
14の出力信号Cは“L”レベルとなり、pチャネルM
OS)ランジスタQ1はオン状態となる。また、NOR
回路15の出力信号d2は“L”レベルとなり、nチャ
ネルMOSトランジスタロ2はオフ状態となる。したが
って、このような場合には、“H°レベルの出力データ
信号e2が出力端子17から出力される。
一方、センスアンプ10の出力信号aが“Lルーベルの
場合には、NAND回路14の出力信号Cは“H”レベ
ルとなり、pチャネルMOSトランジスタロ1はオフ状
態となる。また、NOR回路15の出力信号d2は“H
”レベルとなり、nチャネルMOSトランジスタロ2は
オン状態となる。
したがって、このような場合には、“L”レベルの出力
データ信号e2が出力端子17から出力される。
ところで、第10図の波形図は、第9図の出力制御回路
12の出力信号すが“H”レベルの場合の出力バッファ
回路11の動作波形を示している。
ここでセンスアンプ10の出力信号aが第10図(1)
に示すように“H“レベルから“Lルーベルへ変化した
場合を考える。このとき、NOR回路15の出力信号d
2は、第10図(2)に示すように“L”レベルから“
H#レベルに変化する。これに応じて、出力信号e2は
、第10図(3)示すように、時間t2の間に“H”レ
ベルから“L゛レベル変化する。
ところで、出力端子17には、前述のように大きな出力
容量が接続されているため、出力データ信号e2が“H
”レベルから“L”レベルに変化するときに、第10図
(4)に示すような過大な放電電流12が、nチャネル
MOS)ランジスタQ2を介して接地へ流れる。この放
電電流工2は、第10図(4)から明らかなように、n
チャネルMOSトランジスタロ2のソース−ドレイン間
の電位差が大きいとき、すなわち、出力データ信号e2
の反転のし始めにおいて急激に流れる。このため、nチ
ャネルMOSトランジスタロ2のソースが接続された接
地電位が第10図(5)のように−時的に成る電位v2
まで浮き上がってしまう。
[発明が解決しようとする問題点] 従来の半導体記憶装置の出力バッファ回路は以上のよう
に構成されているので、出力データが“H#レベルから
″L″レベルに変化する際に出力容量から接地に流れ込
む放電電流が非常に急峻であり、そのため接地電位が一
時的に大きく浮き上がり、これが出力ノイズとなる。そ
してこのような出力ノイズのために、たとえばアドレス
人力信号にエラーが生じるなど、同一半導体記憶装置の
全体に悪影響を及ぼすという問題点があった。
この発明は、上述のような問題点を解消するためになさ
れたもので、データの出力速度を遅延させることなく、
出力ノイズの低減を可能にした、半導体記憶装置の出力
バッファ回路を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] この発明に係る半導体記憶装置の出力バッフ7回路は、
高電位の第1の電圧源と低電位の第2の電圧源との間に
直列に接続された互いに逆導電型の2つの半導体スイッ
チング素子からなりかつ半導体記憶装置の論理出力に応
じて高電位または低電位の出力信号を与える出力駆動手
段を含み、さらにこの出力信号レベルに応じて2つの半
導体スイッチング素子のうち低電位側に接続された素子
を流れる電流を制御するように構成したものである。
[作用] この発明における半導体記憶装置の出力バッファ回路は
、出力駆動回路を構成する2つの半導体スイッチング素
子のうち低電位側に接続された素子を流れる電流を、出
力データ信号に応答して制御するように構成しているの
で、出力容量から接地への急峻な放電電流の流れ込みを
緩和し、接地電位の浮き上がりを抑制することができる
[発明の実施例] 第1図は、この発明の一実施例である出力バッファ回路
を示す回路図である。
第1図に示した回路は、以下の点を除いて、第9図に示
した従来の出力バッファ回路と同じである。すなわち、
ソースが接地電位に接続され、ドレインがNOR回路1
5の出力に接続され、かつゲートが出力端子17に接続
されたnチャネルMOSトランジスタロ3が設けられて
いる。このnチャネルMOS)ランジスタQ3の相互コ
ンダクタンスは、NOR回路15を構成するpチャネル
MOSトランジスタ(図示せず)の相互コンダクタンス
よりも小さいものとする。また、出力駆動回路16を構
成するnチャネルMOSトランジスタロ2の相互コンダ
クタンスは、第9図の従来のnチャネルMOSトランジ
スタロ2よりも大きく、たとえば1.5倍に設定される
ものとする。
次に、第2図は、第1図に示したこの発明の一実施例で
ある出力バッフ7回路の動作を説明する波形図である。
まず、出力側g!J回路12の出力信号すが“L”レベ
ルの場合には、第9図の従来例と同様に、センスアンプ
10の出力信号aが“H”レベルか″Lルベルかにかか
わりなく、NAND回路14およびNOR回路15の出
力は、それぞれ、“H#レベルおよび“L”レベルに固
定され、pチャネルMOSトランジスタQ1およびnチ
ャネルMOSトランジスタロ2はともにオフ状態となる
。したがって、この場合には出力端子17からは出力デ
ータ信号e、は出力されない。このとき、NOR回路1
5の出力d、は、“L“レベルであり、したがって、n
チャネルMOSトランジスタロ3のソース、ドレインと
もにゼロ電位なので、そのゲート電位にかかわりなくn
チャネルMO3′ トランジスタQ3を電流が流れるこ
とはない。
次に、出力制御回路12の出力信号すが”H″レベル場
合(第2図)について説明する。
ここで、センスアンプ]0の出力信号aか第2図(1)
のように“H”レベルから“L”レベルへ変化するもの
とする。まず、センスアンプ10の出力信号aが“H”
レベルのときには、NAND回路14およびNOR回路
15の出力はともに”L”レベルとなり、pチャネルM
OSトランジスタQ1はオン状態となり、かつnチャネ
ルMOSトランジスタロ2はオフ状態となる。したがっ
て、この場合には、第2図(3)に示すように“H”レ
ベルの出力データ信号e、が出力端子17から出力され
る。このとき、nチャネルMOSトランジスタロ3のゲ
ート入力は“H#レベルであるのでこのトランジスタQ
3はオン状態となっており、したがってNOR回路15
の出力と接地とは導通状態になっている。このような状
態において、第2図(1)に示すように、センスアンプ
10の出力信号aが“H″レベルら“L#レベルに変化
すると、NOR回路15の出力信号d。
は“L2レベルから“Hルーベルに立上がろうとする。
しかし、」−述のようにnチャネルMOSトランジスタ
ロ3がオン状態であるため、信号d。
の立上がり方は第2図(2)に示すように、従来例(第
10図(2))と比べてゆっくりとしたものになる。し
たがって、出力信号e)(第2図(3))も従来例の出
力信号e2  (第10図(3))に比べて、最初はゆ
っくりと立下がり始める。
しかしながら、前述のように出力駆動回路16のnチャ
ネルMOSトランジスタロ2の相互コンダクタンスは、
第9図の従来例に比べて大きく(たとえば1.5倍)設
定されているので、出力データ信号e、の立下がりは途
中から急峻になる。したがって、出力データ信号e、が
最終的に“L”レベルになるまでに要する時間1.(第
2図(3))は、従来例の時間t2 (第10図(3)
)と同じである。言い換えると、データの出力速度は、
この実施例においては従来例と同等に保たれており、遅
れることはない。
また、出力データ信号e、が“H”レベルから“L#レ
ベルへ反転する際にnチャネルMoSトランジスタQ2
を流れる放電電流i、(第2図(4))は、信号e、の
立下がり方が初めは緩やかなため、従来例の電流i2 
 (第2図(4)の点線)のような急峻な立上がり方は
せず、ゆっくりとした立」二がりを示す(第2図(4)
の実線)。
したがって、この放電電流11によって浮き上がる接地
電位V+(第2図(5))は、従来例におけるv2 (
第10図(5))よりも低く抑制される。すなわち、こ
の第1図の実施例によれば、出力ノイズが低減される一
方で、データの出力速度が遅れることはない。
次に、第3図は、この発明の第2の実施例である出力ハ
ッファ回路を示す回路図であり、第4図はその動作を説
明する波形図である。
第3図に示した回路は、次の点を除いて、第1図に示し
た第1の実施例と同じである。すなわち、ソースが接地
電位に接続され、ドレインがnチャネルMOSトランジ
スタロ3のソースに接続され、かつゲートがNOR回路
15の出力に接続されたnチャネルMOSトランジスタ
ロ4が設けられている。
この第3図に示した第2実施例によれば、出力制御回路
12の出力信号すが“H”レベルの場合において、セン
スアンプ10の出力信号aも“H”レベルのときには、
NOR回路15の出力信号d、′は“L”レベルであり
、したがって出力データ信号e、′は”H″レベルある
。この場合、nチャネルMOS)ランジスタQ3のゲー
ト入力は“H”レベルでありこのトランジスタQ3は第
1図の第1実施例の場合と同様にオン状態となっている
。しかしながら、nチャネルMOSl−ランジスタQ4
のゲート人力d、′は“L”レベルでありこのトランジ
スタQ4はオフ状態となっている。したがって、nチャ
ネルMOS)ランジスタQ3のソースと接地との間は遮
断されている。このため、第4図(1)に示すように、
センスアンプ10の出力信号aが”H” レベルから′
″L2L2レベルしてNOR回路15の出力信号d1′
が“L″レベルら“H“レベルに立上がる場合、最初は
nチャネルMOS)ランジスタQ3を電流は流れないた
め、NOR回路15の出力信号d。
′は、第4図(2)の矢印Aで示した部分において、第
1実施例の信号d、(第2図(2))に比べて早く立上
がることになる。その後、nチャネルMOS)ランジス
タQ4のゲート電位が上昇してトランジスタQ4はオン
し、信号d、/の立上がりは、第2図(2)の信号d、
と同じような形態になる。
すなわち、第3図の第2実施例によれば、出力データ信
号e 、 /が“L#レベルに達するのに要する時間1
 、 / は、第1図の第1実施例におけるt、よりも
若干短くなり、データの出力速度は速くなる。但し、放
電電流i、′ (第4図(4))によって浮き上がる接
地電位V、′ (第4図(5))は、第1実施例のV、
(第2図(5))よりも若干大きくなる。
次に、第5図は、この発明の第3の実施例である出力バ
ッファ回路を示す回路図であり、第6図はその動作を説
明する波形図である。
第5図に示した回路は、次の点を除いて、第9図に示し
た従来の出力バッフ7回路と同じである。
すなわち、ソースが電源電圧Vccに接続され、ドレイ
ンがNOR回路15の出力に接続され、かつゲートが出
力端子17に接続されたpチャネルMOSトランジスタ
ロ5が設けられている。ここで、NOR回路15を構成
するnチャネルMOSトランジスタ(図示せず)の相互
コンダクタンスは従来例よりも小さく設定されているも
のとする。
この第5図に示した実施例によれば、出力制御回路12
の出力信号すが“H“レベルの場合において、センスア
ンプ10の出力信号aも“H”レベルのときには、NO
R回路15の出力信号d。
′は“L”レベルであり、したがって、出力データ信号
e、′は“H°レベルである。この場合、nチャネルM
OS)ランジスタQ5のゲート入力は“Hルーベルであ
りこのトランジスタQ5はオフ状態となっている。した
がって、NOR回路15の出力と電源電圧V。Cとは遮
断されている。
このような状態において、第6図(1)に示すように、
センスアンプ10の出力信号aがH“レベルから“L”
レベルに変化すると、NOR回路15の出力信号d、′
は“L”レベルから“H”レベルに立上がろうとする。
しかし、上述のようにNOR回路15内のnチャネルM
OSトランジスタ(図示せず)の相互コンダクタンスは
小さめに設定されているため、信号d、′の立上がり方
は、第6図(2)に示すように、従来例(第10図(2
))と比べてゆっくりとしたものになる。
したがって、出力データ信号e、′ (第6図(3))
も、従来例の出力信号e2  (第10図(3))に比
べて最初はゆっくり立下がり始める。しかしながら、そ
の後pチャネルMOS)ランジスタQ5のゲート電位が
下がってこのトランジスタQ5はオン状態となり、電源
電圧VCCがNOR回路15の出力信号d、jに印加さ
れるようになり、信号d、′の立上がりは途中から急峻
になる。したがって、出力データ信号eI′の立下がり
も途中から急峻になる。したがって、出力データ信号e
、′が最終的に“L”レベルになるまでに要する時間1
.(第6図(3))は、第2図の第1実施例と同じであ
る。すなわち、この第3実施例によれば、データの出力
速度は従来例と同等に保たれている。
また、出力データ信号e、′が“H”レベルから“L“
レベルへ反転する際にnチャネルMOSトランジスタロ
2を流れる放電電流i、″ (第6図(4))は、信号
e 、 jの立下がり方が初めは緩やかなため、従来例
の放電電流i2  (第6図(4)の点線)のような急
峻な立上がり方はせず、ゆっくりとした立上がりを示す
(第6図(4)の実線)。したがって、この放電電流i
、′によってrfき上がる接地電位V、(第6図(5)
)は、第2図の第1実施例と同じであり、したがって従
来例におけるv2 (第10図(5))よりも低く抑制
され、出力ノイズの低減が図られる。
しかしながら、第5図に示した第3実施例においては、
出力制御回路12の出力信号すが“L”レベルのとき、
すなわち出力駆動回路16を構成するMOS)ランジス
タQ1およびQ2がともにオフ状態で、出力端子17が
高インピーダンス状態のときに、nチャネルMOS)ラ
ンジスタQ5のゲート電位が偶発的に“H“レベルとな
り、このMO3hラントランジスタオン状態となって電
源VCCからトランジスタQ5を介して電流が流れるお
それがある。
第7図は、このような事態を防止することができる出力
バッフ7回路の一例を示す回路図である。
第7図に示した第4実施例の回路は、次の点を除いて、
第5図に示した第3実施例と同じである。
すなわち、NOR回路15の出力を反転するインバータ
18と、ソースが電源電圧VCCに接続され、ドレイン
がpチャネルMOSトランジスタロ5のソースに接続さ
れ、かつゲートがインバータ18の出力に接続されたp
チャネルMOSトランジスタQ6とが設けられている。
この第7図に示した第4の実施例によれば、NOR回路
15の出力信号d、′が“L″ レベルのときは、イン
バータ18によって“H”レベルの信号がpチャネルM
OSトランジスタQ6のゲートに印加され、MOSトラ
ンジスタQ6はオフ状態である。したがって、出力端子
17における電位にかかわりなく、電源電圧VCCと、
pチャネルMOSトランジスタロ5のソースとの間は遮
断されており、電源V。、から電流は流れない。NOR
回路15の出力信号d、jが“L″レベル“H”レベル
に変化し、このためインバータ18の出力が“L”レベ
ルになったときにのみpチャネルMOSトランジスタQ
6はオン状態となり、電源電圧V。CがトランジスタQ
5に供給され、第5図の第3実施例と同じ機能が実現さ
れる。この第4実施例の動作波形図は、第6図に示した
第3実施例の動作波形図と同じなので省略する。すなわ
ち、この第4の実施例によっても、データの出力速度を
遅くすることなく、出力ノイズの低減が図られる。
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、出力駆動回路を構成
する2つの半導体スイッチング素子のうち、低電位側に
接続された素子を流れる電流を、出力信号に応じて制御
するように構成したので、出力ノイズの低減を図ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の第1の実施例である出力バッファ
回路を示す回路図である。第2図は、第1図に示した出
力バッファ回路の動作を説明する波形図である。第3図
は、この発明の第2の実施例である出力バッファ回路を
示す回路図である。 第4図は、第3図に示した出力バッファ回路の動作を説
明する波形図である。第5図は、この発明の第3の実施
例である出力バッファ回路を示す回路図である。第6図
は、第5図に示した出カバ・ソファ回路の動作を説明す
る波形図である。第7図は、この発明の第4の実施例で
ある出力バッファ回路を示す回路図である。第8図は、
−船釣な半導体記憶装置の構成の一例を示す概略ブロッ
ク図である。第9図は、従来の出力バッフ7回路を示す
回路図である。第10図は、第9図に示した出力バッフ
ァ回路の動作を説明する波形図である。 図において、10はセンスアンプ、11は出力バッファ
回路、12は出力制御回路、14はNAND回路、15
はNOR回路、16は出力駆動回路、17は出力端子を
示す。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体記憶装置の出力バッファ回路であって、前
    記半導体記憶装置から供給される第1および第2の論理
    信号に応答して、高電位の第1のレベルおよび低電位の
    第2のレベルのいずれかである出力信号を供給する出力
    駆動手段を備え、前記出力駆動手段は、前記第1のレベ
    ルの第1の電圧源と、前記第2のレベルの第2の電圧源
    と、前記出力信号を供給する出力端子と、前記第1の電
    圧源と前記出力端子との間に接続された導通経路と、前
    記第1の論理信号を受ける制御端子とを有する第1の導
    電型の第1の半導体スイッチング素子と、前記第2の電
    圧源と前記出力端子との間に接続された導通経路と、前
    記第2の論理信号を受ける制御端子とを有する第2の導
    電型の第2の半導体スイッチング素子とを含み、前記出
    力端子における出力信号のレベルに応答して、前記第2
    の半導体スイッチング素子の導通経路を流れる電流を制
    御する手段を備える、出力バッファ回路。
  2. (2)前記電流制御手段は、前記出力端子における出力
    信号のレベルが前記第1のレベルから前記第2のレベル
    に切換わるときに、前記第2のスイッチング素子の制御
    端子に印加される前記第2の論理信号を制御する手段を
    含む、特許請求の範囲第1項記載の出力バッファ回路。
  3. (3)前記第2の論理信号を制御する手段は、前記第2
    の半導体スイッチング素子の制御端子と前記第2の電圧
    源との間に接続された導通経路と、前記出力端子に接続
    された制御端子とを有する第2の導電型の第3の半導体
    スイッチング素子を含む、特許請求の範囲第2項記載の
    出力バッファ回路。
  4. (4)前記第2の論理信号を制御する手段は、前記第3
    の半導体スイッチング素子の導通経路と前記第2の電圧
    源との間に接続された導通経路と、前記第2の論理信号
    を受ける制御端子とを有する第2の導電型の第4の半導
    体スイッチング素子をさらに含む、特許請求の範囲第3
    項記載の出力バッファ回路。
  5. (5)前記第2の論理信号を制御する手段は、前記第2
    の半導体スイッチング素子の制御端子と前記第1の電圧
    源との間に接続された導通経路と、前記出力端子に接続
    された制御端子とを有する第1の導電型の第5の半導体
    スイッチング素子を含む、特許請求の範囲第2項記載の
    出力バッファ回路。
  6. (6)前記第2の論理信号を制御する手段は、前記第2
    の論理信号を反転する手段と、 前記第5の半導体スイッチング素子の導通経路と前記第
    1の電圧源との間に接続された導通経路と、前記反転手
    段によって反転された前記第2の論理信号を受ける制御
    端子とを有する第1の導電型の第6の半導体スイッチン
    グ素子をさらに含む、特許請求の範囲第5項記載の出力
    バッファ回路。
  7. (7)前記第2のレベルは接地電位である、特許請求の
    範囲第1項ないし第6項のいずれかに記載の出力バッフ
    ァ回路。
  8. (8)前記第1の導電型の半導体スイッチング素子はp
    チャネルMOSトランジスタであり、かつ前記第2の導
    電型の半導体スイッチング素子はnチャネルMOSトラ
    ンジスタである、特許請求の範囲第1項ないし第6項の
    いずれかに記載の出力バッファ回路。
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