JPH01125341A - 2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)アセトフェノン及びその製造方法 - Google Patents
2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)アセトフェノン及びその製造方法Info
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は抗不整脈剤2.5−ビス(2,2,2−トリフ
ルオロエトキシ)−N−(2−ピペリジルメチル)ベン
ザミド〔フレカイニド(f 1eca in 1de)
)及びその塩のプロモー又はヒドロキシ−置換ヘンゼ
ンからの改良された製造における中間体化合物2.5−
ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)アセトフェ
ノン及びその製造方法に関する。
ルオロエトキシ)−N−(2−ピペリジルメチル)ベン
ザミド〔フレカイニド(f 1eca in 1de)
)及びその塩のプロモー又はヒドロキシ−置換ヘンゼ
ンからの改良された製造における中間体化合物2.5−
ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)アセトフェ
ノン及びその製造方法に関する。
抗不整脈性化合物即ちフレカイニド及びその塩並びにそ
の製造方法は米国特許第3900481号明細書に記載
されている。該化合物の化学構造は下式の通りである; 本発明方法は上記の従前技術の方法に比し種々の実用上
の諸利益例えば出発物質が比較的に廉価であること、単
位操作の実施が容易であること及び所望製品の収率が比
較的に高いことにもとづき好適な方法である。
の製造方法は米国特許第3900481号明細書に記載
されている。該化合物の化学構造は下式の通りである; 本発明方法は上記の従前技術の方法に比し種々の実用上
の諸利益例えば出発物質が比較的に廉価であること、単
位操作の実施が容易であること及び所望製品の収率が比
較的に高いことにもとづき好適な方法である。
詳細には本発明は下記の諸工程を包含する:(11式
〔但しX(複)は同じであってOH及びBrから選ばれ
る〕 の化合物を適宜の下式 %式% 〔但しAは一8O□CF、又はアルカリ金属である〕 のアルキル化剤と反応させて式 の化合物をつくり、 (2) この化合物をルイス酸(Lewis aci
d )触媒の存在下にアセチル化して式 の置換アセトフェノンをつくり、 (3) (al 該置換アセトフェノンをクロル化し
て下式の対応するα、αジクロロアセトフェノンをつく
り、そして (b) 緩衝用塩基を加えて更にクロル化することに
より式 のα、α、α−トリクロロアセトフェノンをつくり、又
は別法として fc) 該置換アセトフェノンを次亜塩素酸塩と反応
させて式 の対応する安息香酸化合物をつくり、そして+dl
この酸化合物を無機性塩化物と反応させて式 の酸塩化物をつくり、次に (4)上記工程3(b)又は3(d)の生成物を夫々2
−(アミノメチル)ヒペリジンと反応させることにより
一工程で所望の製品をつくるか、或は2−(アミノメチ
ル)ピリジンと反応させてから還元することにより所望
製品をつくるか、もしくは任意に遊離塩基としての所望
製品をつくる。
る〕 の化合物を適宜の下式 %式% 〔但しAは一8O□CF、又はアルカリ金属である〕 のアルキル化剤と反応させて式 の化合物をつくり、 (2) この化合物をルイス酸(Lewis aci
d )触媒の存在下にアセチル化して式 の置換アセトフェノンをつくり、 (3) (al 該置換アセトフェノンをクロル化し
て下式の対応するα、αジクロロアセトフェノンをつく
り、そして (b) 緩衝用塩基を加えて更にクロル化することに
より式 のα、α、α−トリクロロアセトフェノンをつくり、又
は別法として fc) 該置換アセトフェノンを次亜塩素酸塩と反応
させて式 の対応する安息香酸化合物をつくり、そして+dl
この酸化合物を無機性塩化物と反応させて式 の酸塩化物をつくり、次に (4)上記工程3(b)又は3(d)の生成物を夫々2
−(アミノメチル)ヒペリジンと反応させることにより
一工程で所望の製品をつくるか、或は2−(アミノメチ
ル)ピリジンと反応させてから還元することにより所望
製品をつくるか、もしくは任意に遊離塩基としての所望
製品をつくる。
上記の諸工程(11,fil −(21; (3Hal
; (31(C1; (1)、 (21及びf31
[01; (31(b) ; f31 [al及びf3
1bli並びに(4)の諸工程を含む諸方法は下式の中
間化合物類:〔但しBは−CH3、CHCj2 z及び
CCβ3から選ばれる〕の製造に関する包括的発明の別
の特徴的諸態様を構成する。
; (31(C1; (1)、 (21及びf31
[01; (31(b) ; f31 [al及びf3
1bli並びに(4)の諸工程を含む諸方法は下式の中
間化合物類:〔但しBは−CH3、CHCj2 z及び
CCβ3から選ばれる〕の製造に関する包括的発明の別
の特徴的諸態様を構成する。
本発明の包括的方法の反応順序を下式に示ず:本性の第
1工程においてXがOHである場合にはAは好ましくは
一3O□CF 3であって反応体(複)は溶媒例えばア
セトン又はN、N−ジメチルホルムアミド中で、塩基例
えばアルカリ金属炭酸塩、好ましくは例えば炭酸カリ又
は炭酸ソーダの如き弱塩基の存在下に、−緒に加熱され
る。
1工程においてXがOHである場合にはAは好ましくは
一3O□CF 3であって反応体(複)は溶媒例えばア
セトン又はN、N−ジメチルホルムアミド中で、塩基例
えばアルカリ金属炭酸塩、好ましくは例えば炭酸カリ又
は炭酸ソーダの如き弱塩基の存在下に、−緒に加熱され
る。
上記のXがBrである場合には、1,4−ジブロモベン
ゼン(I)と、2,2.2−トリフルオロエトキシドイ
オンとを、強度に極性の混合溶媒中で、この溶液の還流
温度未満の温度の下に、第1銅イオン又は第2銅イオン
の存在下に反応させることにより好収率で所望生成物(
II)をつくる。
ゼン(I)と、2,2.2−トリフルオロエトキシドイ
オンとを、強度に極性の混合溶媒中で、この溶液の還流
温度未満の温度の下に、第1銅イオン又は第2銅イオン
の存在下に反応させることにより好収率で所望生成物(
II)をつくる。
2.2.2−)リフルオロエトキシドイオンを得るには
対応アルコールを強塩基例えばカセイソーダ又は好適に
は水素化ナトリウムと反応させる。
対応アルコールを強塩基例えばカセイソーダ又は好適に
は水素化ナトリウムと反応させる。
好適な混合溶媒にはジメチルスルホキシド、N。
N−ジメチルアセタミド及び好適物としてN、 N−
ジメチルホルムアミドの夫々と約10〜50%、好まし
くは約20%の2.2.2−1リフルオロエタノールと
の混合物が包括される。第1銅イ第ンは例えばハロゲン
化第1銅例えばヨウ化第1銅又は臭化第1銅によって供
給される。第2銅イオンは例えば臭化第2銅、硫酸第2
銅又は酢酸第2銅によって供給される。
ジメチルホルムアミドの夫々と約10〜50%、好まし
くは約20%の2.2.2−1リフルオロエタノールと
の混合物が包括される。第1銅イ第ンは例えばハロゲン
化第1銅例えばヨウ化第1銅又は臭化第1銅によって供
給される。第2銅イオンは例えば臭化第2銅、硫酸第2
銅又は酢酸第2銅によって供給される。
工程(2)においては1,4−ビス(2,2,2−トリ
フルオロエトキシ)−ベンゼン(■) 〔このものは工
程(1)で生成される〕を穏和な条件下にルイス酸触媒
例えば塩化スズ、塩化第2鉄又は好ましくは塩化アルミ
ニウムの存在下でアセチル化剤例えば塩化アセチル又は
無水酢酸と反応させることによってアセチル化する。こ
のアセチル化を適宜の不反応性溶媒例えばクロル化炭化
水素例えばジクロロメタン、トリクロロエチレン又は1
. 2−ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン及び類似物中で行う。この反応により所望の
アセトフェノン(III)が高収率で提供されることは
予測外のことである。
フルオロエトキシ)−ベンゼン(■) 〔このものは工
程(1)で生成される〕を穏和な条件下にルイス酸触媒
例えば塩化スズ、塩化第2鉄又は好ましくは塩化アルミ
ニウムの存在下でアセチル化剤例えば塩化アセチル又は
無水酢酸と反応させることによってアセチル化する。こ
のアセチル化を適宜の不反応性溶媒例えばクロル化炭化
水素例えばジクロロメタン、トリクロロエチレン又は1
. 2−ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン及び類似物中で行う。この反応により所望の
アセトフェノン(III)が高収率で提供されることは
予測外のことである。
工程(31(alの反応は適宜の溶媒例えば酢酸エチル
、塩素化炭化水素中で、又は好ましくは酢酸溶液中での
中間体(1)の単純なりロル化である。この反応を中等
度の温度好ましくは50〜60°Cで行う。
、塩素化炭化水素中で、又は好ましくは酢酸溶液中での
中間体(1)の単純なりロル化である。この反応を中等
度の温度好ましくは50〜60°Cで行う。
所望により生成物(TV)を単離し得る。或は工程(3
1(blにおけるようにクロル化を行い、該クロル化を
継続しながら緩衝剤例えば酢酸ナトリウムの如き酢酸塩
を添加して温度を僅かに、例えば80〜100 ’Cに
まで上昇させることにより中間体(V)を得る。
1(blにおけるようにクロル化を行い、該クロル化を
継続しながら緩衝剤例えば酢酸ナトリウムの如き酢酸塩
を添加して温度を僅かに、例えば80〜100 ’Cに
まで上昇させることにより中間体(V)を得る。
工程(31(C1の反応は、アルカリ金属水酸化物又は
アルカリ土金属水酸化物(例えばカセイソーダ、カセイ
カリ或は水酸化カルシウム)の***液に塩酸を飽和させ
てpH7としたもの(対応する次亜塩素酸塩を形成)に
対しアセトフェノン(IIT)を添加することにより最
も便利に遂行される。この反応は反応混合物を加温する
ことによって促進される。所望の2.5−ビス(2,2
,2−)リフルオロエトキシ)安息香酸(Vl)が著し
い高収率で得られる。
アルカリ土金属水酸化物(例えばカセイソーダ、カセイ
カリ或は水酸化カルシウム)の***液に塩酸を飽和させ
てpH7としたもの(対応する次亜塩素酸塩を形成)に
対しアセトフェノン(IIT)を添加することにより最
も便利に遂行される。この反応は反応混合物を加温する
ことによって促進される。所望の2.5−ビス(2,2
,2−)リフルオロエトキシ)安息香酸(Vl)が著し
い高収率で得られる。
工程(31(dlにおいて上記の酸を対応するアシルク
ロリドに転化させるがこの転化は適宜の不反応性溶媒例
えばベンゼン又はトルエン或はハロゲン化炭化水素の存
在下又は不在下に無機性塩化物例えば塩化チオニル、三
塩化リン又は五塩化リン(好ましくは三塩化リン)と核
酸との還流下の反応による。
ロリドに転化させるがこの転化は適宜の不反応性溶媒例
えばベンゼン又はトルエン或はハロゲン化炭化水素の存
在下又は不在下に無機性塩化物例えば塩化チオニル、三
塩化リン又は五塩化リン(好ましくは三塩化リン)と核
酸との還流下の反応による。
工程(4)の方法は飽和ジアミン2−(アミノエチル)
ピペリジンから直接的に、又は非還元ジアミン2−(ア
ミノエチル)ピリジンから間接的に遂行され得る。即ち
2−アミノメチルピペリジンをトリクロロアセトフェノ
ン〔工程(3)(ト))の生成物〕と反応させることが
できるし、或は化合物2−アミノメチルピリジンをトリ
クロロアセトフェノン〔工程(3) (b)の生成物(
■)〕と反応させることができる。いずれの場合にも外
部から加熱することなく不反応性溶媒例えばトルエン、
ベンゼン、イソプロピルアルコール、シクロヘキサン及
び[催物中で該反応は容易に進行する。非還元ジアミン
をトルエンとシクロヘキサンとの混合物中で反応させる
と反応は特に容易にしかも高収率で進行する。
ピペリジンから直接的に、又は非還元ジアミン2−(ア
ミノエチル)ピリジンから間接的に遂行され得る。即ち
2−アミノメチルピペリジンをトリクロロアセトフェノ
ン〔工程(3)(ト))の生成物〕と反応させることが
できるし、或は化合物2−アミノメチルピリジンをトリ
クロロアセトフェノン〔工程(3) (b)の生成物(
■)〕と反応させることができる。いずれの場合にも外
部から加熱することなく不反応性溶媒例えばトルエン、
ベンゼン、イソプロピルアルコール、シクロヘキサン及
び[催物中で該反応は容易に進行する。非還元ジアミン
をトルエンとシクロヘキサンとの混合物中で反応させる
と反応は特に容易にしかも高収率で進行する。
工程(31(dlの生成物である酸塩化物(■)を出発
物質として最終工程の方法を遂行する際にこの方法は2
−(アミノメチル)ピペリジンから直接的に、又は2−
(アミノメチル)ピリジンから間接的にも遂行される。
物質として最終工程の方法を遂行する際にこの方法は2
−(アミノメチル)ピペリジンから直接的に、又は2−
(アミノメチル)ピリジンから間接的にも遂行される。
酸塩化物〔工程(31(dlの生成物〕を不反応性溶媒
例えばグリム(glyme ) 、ベンゼン、トルエン
又はジエチルエーテル(好ましくはグリム)中で加熱し
て反応させる。或は別法として2−アミノメチルビリジ
ンと酸塩化物〔工程(3)(dlの生成物〕とを不反応
性溶媒例えばトルエン又はベンゼンの存在下に反応させ
ることができる。
例えばグリム(glyme ) 、ベンゼン、トルエン
又はジエチルエーテル(好ましくはグリム)中で加熱し
て反応させる。或は別法として2−アミノメチルビリジ
ンと酸塩化物〔工程(3)(dlの生成物〕とを不反応
性溶媒例えばトルエン又はベンゼンの存在下に反応させ
ることができる。
この混合物を酸受容体(例えばトリエチルアミンの如き
第3級アミン)の存在下で還流温度に加熱する。化合物
(V)又は(■)のいずれかと2−(アミノメチル)ピ
リジンとの反応から得られた付加物を酸化白金又は(好
ましくは)炭素上白金の存在下に接触的に水素化するこ
とにより所望製品■へ還元する。この反応に使用される
溶媒はメタノール又は低級アルカン酸例えば(そして好
ましくは)氷酢酸であって好適温度範囲は15〜30℃
である。酢酸使用の際に得られる製品はフレカイニドア
セテートである。
第3級アミン)の存在下で還流温度に加熱する。化合物
(V)又は(■)のいずれかと2−(アミノメチル)ピ
リジンとの反応から得られた付加物を酸化白金又は(好
ましくは)炭素上白金の存在下に接触的に水素化するこ
とにより所望製品■へ還元する。この反応に使用される
溶媒はメタノール又は低級アルカン酸例えば(そして好
ましくは)氷酢酸であって好適温度範囲は15〜30℃
である。酢酸使用の際に得られる製品はフレカイニドア
セテートである。
下記の諸例は本発明の諸方法と該方法における中間体製
品類の製法とを例示するが上記の本発明の範囲の限定を
企図するものではない。
品類の製法とを例示するが上記の本発明の範囲の限定を
企図するものではない。
例 1 (参考例)
工程(11の 法: A=SO□CF3 、X=OHア
セトン1.02 I!中の2.42モル(334,4g
)炭酸カリ、262モル(510,6g)の2. 2.
2−トリフルオロエチルトリフルオロメタンスルホネ
ートに対し】、11のアセトン中1.0モル(110g
)のヒドロキノンを2時間以上かけて徐々に添加した。
セトン1.02 I!中の2.42モル(334,4g
)炭酸カリ、262モル(510,6g)の2. 2.
2−トリフルオロエチルトリフルオロメタンスルホネ
ートに対し】、11のアセトン中1.0モル(110g
)のヒドロキノンを2時間以上かけて徐々に添加した。
次に反応物を還流下に24時間加熱してから反応混合物
を蒸発し、残留物に対し21のクロロホルムと27!の
水とを加えた。クロロボルム層を分別し、水層を17!
のクロロホルムで2回洗い、クロロホルム溶液を合併し
てこれを11の水で洗った。クロロホルム溶液を硫酸マ
グネシウム上で乾燥してから真空下に濃縮した。残留物
にヘキサンを加えて固体生成物を濾過により集めヘキサ
ンで洗った。濃縮残留物から追加の物質を集めた。1.
4−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベンゼ
ン(融点75〜77℃)の241g、収率88%、が得
られた。
を蒸発し、残留物に対し21のクロロホルムと27!の
水とを加えた。クロロボルム層を分別し、水層を17!
のクロロホルムで2回洗い、クロロホルム溶液を合併し
てこれを11の水で洗った。クロロホルム溶液を硫酸マ
グネシウム上で乾燥してから真空下に濃縮した。残留物
にヘキサンを加えて固体生成物を濾過により集めヘキサ
ンで洗った。濃縮残留物から追加の物質を集めた。1.
4−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベンゼ
ン(融点75〜77℃)の241g、収率88%、が得
られた。
N、N−ジメチルホルムアミド40mj2中の0.20
モル(9,6g)の50%水素化ナトリウムに対し40
mAの2.2.2−トリフルオロエタノールを加えてか
ら0.034モル(8,0g)の1゜4−ジブロモベン
ゼンと0.006モル(1,0g)のヨウ化第1銅とを
加えた。この混合物をその還流温度に4時間加熱してか
ら約25°Cにまで冷却して濾過した。残留物をN、N
−ジメチルホルムアミドで洗った。溶液を水中へ注ぎ沈
殿を濾別した。生成物をジエチルエーテルに溶かして濾
過し、濾液を蒸発して生成させた固形残留物をヘキサン
で洗って乾燥した。生成物は1,4−ビス(2゜2.2
−)リフルオロエトキシ)ベンゼン(融点77〜79℃
)の7.3g(80%)である。
モル(9,6g)の50%水素化ナトリウムに対し40
mAの2.2.2−トリフルオロエタノールを加えてか
ら0.034モル(8,0g)の1゜4−ジブロモベン
ゼンと0.006モル(1,0g)のヨウ化第1銅とを
加えた。この混合物をその還流温度に4時間加熱してか
ら約25°Cにまで冷却して濾過した。残留物をN、N
−ジメチルホルムアミドで洗った。溶液を水中へ注ぎ沈
殿を濾別した。生成物をジエチルエーテルに溶かして濾
過し、濾液を蒸発して生成させた固形残留物をヘキサン
で洗って乾燥した。生成物は1,4−ビス(2゜2.2
−)リフルオロエトキシ)ベンゼン(融点77〜79℃
)の7.3g(80%)である。
使用成分の条件と比率とを変更すると共に触媒として臭
化第2銅を用いて上記の反応を次のようにして百行した
740m1lのN、N−ジメチルホルムアミド中の4.
8gの水素ナトリウム混合物に対し20m7!(27,
4g)の2.2.2−トリフルオロエタノールを加えた
。この混合物に0.034モル(8,0g)の1,4−
ジブロモベンゼンと1.0gの臭化第2銅とを加えた。
化第2銅を用いて上記の反応を次のようにして百行した
740m1lのN、N−ジメチルホルムアミド中の4.
8gの水素ナトリウム混合物に対し20m7!(27,
4g)の2.2.2−トリフルオロエタノールを加えた
。この混合物に0.034モル(8,0g)の1,4−
ジブロモベンゼンと1.0gの臭化第2銅とを加えた。
反応混合物を約100℃に2時間加熱してから氷水で急
冷した。
冷した。
塩酸で酸性化して濾過すると9.2g(99%)の白色
固体の1,4−ビス(2,2,2−1−リフルオロエト
キシ)−ベンゼンを生成した。化学構造を赤外線スペク
トル分析により確認した。
固体の1,4−ビス(2,2,2−1−リフルオロエト
キシ)−ベンゼンを生成した。化学構造を赤外線スペク
トル分析により確認した。
ジクロロメタン648mρ中の2.43モル(324g
)の塩化アルミニウムの混合物に対し880mp。
)の塩化アルミニウムの混合物に対し880mp。
のジクロロメタン中の0.88モル(274g)の1.
4−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベンゼ
ンと0.97モル(92n+4りの無水酢酸との溶液を
3時間以上かけて温度約O℃に保ちながら加えた。次に
反応混合物を還流温度にまで加熱して還流下に5時間攪
拌した。反応の進行状態を薄層クロマトグラフィ使用に
よって追跡した。
4−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベンゼ
ンと0.97モル(92n+4りの無水酢酸との溶液を
3時間以上かけて温度約O℃に保ちながら加えた。次に
反応混合物を還流温度にまで加熱して還流下に5時間攪
拌した。反応の進行状態を薄層クロマトグラフィ使用に
よって追跡した。
反応混合物を水浴及び氷の中に置き10%塩酸を徐々に
加えて塩化アルミニウム錯体を分解した。
加えて塩化アルミニウム錯体を分解した。
反応混合物の温度を25℃以上に上昇させないようにし
た。有機相を分別し211の10%塩酸で一回洗い、次
に21の水で洗った。水相を合併し数リットルのジクロ
ロメタンでこれを抽出した。有機相を硫酸マグネシウム
上で乾燥してから蒸発して湿潤残留物を得た。この残留
物にヘキサンを加えて得られた固体を濾過により集めヘ
キサンで洗った。乾燥すると250gの淡黄色結晶状の
2゜5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)ア
セトフェノンが得られた。融点84〜86℃、収率90
%である。
た。有機相を分別し211の10%塩酸で一回洗い、次
に21の水で洗った。水相を合併し数リットルのジクロ
ロメタンでこれを抽出した。有機相を硫酸マグネシウム
上で乾燥してから蒸発して湿潤残留物を得た。この残留
物にヘキサンを加えて得られた固体を濾過により集めヘ
キサンで洗った。乾燥すると250gの淡黄色結晶状の
2゜5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)ア
セトフェノンが得られた。融点84〜86℃、収率90
%である。
例4
ト8.86のジクロロメタンとの0′Cでの混合物に対
し】、3βのジクロロメタン中の3.267 gの1゜
4−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)ベンゼ
ン及び1.399kg (13,7モル)の無水酢酸の
溶液を漸次に加えた。反応温度を5〜10℃に維持しな
がら混合物を約16時間攪拌した。次に反応混合物をそ
の還流温度にまで加熱して還流下に4時間保持した。次
に8.76kgの10%塩酸を使用して該反応混合物を
酸性化した。この混合物に氷を加えて温度を20°C以
下に保持した。有機層を分別し水層をジクロロメタンで
数回抽出した。有機層を乾燥してから蒸発して得られた
残留物をヘキサンで細砕すると黄色固体生成物を与えた
。この生成物の2回にわたる収得物の全収量は3.08
8kgの2.5−ビス(2,2,2−1−リフルオロエ
トキシ)アセトフェノン(融点84〜88℃、収率82
%)であった。
し】、3βのジクロロメタン中の3.267 gの1゜
4−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)ベンゼ
ン及び1.399kg (13,7モル)の無水酢酸の
溶液を漸次に加えた。反応温度を5〜10℃に維持しな
がら混合物を約16時間攪拌した。次に反応混合物をそ
の還流温度にまで加熱して還流下に4時間保持した。次
に8.76kgの10%塩酸を使用して該反応混合物を
酸性化した。この混合物に氷を加えて温度を20°C以
下に保持した。有機層を分別し水層をジクロロメタンで
数回抽出した。有機層を乾燥してから蒸発して得られた
残留物をヘキサンで細砕すると黄色固体生成物を与えた
。この生成物の2回にわたる収得物の全収量は3.08
8kgの2.5−ビス(2,2,2−1−リフルオロエ
トキシ)アセトフェノン(融点84〜88℃、収率82
%)であった。
塩化アルミニウムの0.022モル(2,8g)と1.
2−ジクロロエタンの100mj2と混合物に対し、0
.020モル(5,6g)の1.4−ビス(2,2,2
−)リフルオロエトキシ)ベンゼンと0.022モル(
1,7g)の塩化アセチルとの1゜2−ジクロロエタン
(20mj2)中温液を25℃で滴下して加えた。4時
間攪拌の後に反応混合物を氷水及び塩酸で洗い有機層を
乾燥した。蒸発して得られた残留物をヘキサンから再結
すると4.1g(71%)の希黄色針状の2,5−ビス
(2゜2.2−トリフルオロエトキシ)アセトフェノン
(赤外線スペクトル分析により確証)を与えた。
2−ジクロロエタンの100mj2と混合物に対し、0
.020モル(5,6g)の1.4−ビス(2,2,2
−)リフルオロエトキシ)ベンゼンと0.022モル(
1,7g)の塩化アセチルとの1゜2−ジクロロエタン
(20mj2)中温液を25℃で滴下して加えた。4時
間攪拌の後に反応混合物を氷水及び塩酸で洗い有機層を
乾燥した。蒸発して得られた残留物をヘキサンから再結
すると4.1g(71%)の希黄色針状の2,5−ビス
(2゜2.2−トリフルオロエトキシ)アセトフェノン
(赤外線スペクトル分析により確証)を与えた。
例 6(参考例)
工程(31(aン
酢酸150mβ中の0,25モル(79,1g)の2.
5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)アセト
フェノンの混合物を50℃に加熱し、この溶液中へ塩素
ガスを泡沸させて導入し温度を漸次に55℃にまで増加
させた。塩素添加速度を調整して55〜60℃の温度を
維持するようにした。約75分の後に温度は減少し始め
た(これはもはや塩素化が行われていないことを示す)
。塩素の全添加量は35.5 gであった。得られた生
成物は2.5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキ
シ)−α、α−ジクロロアセトフェノンである。
5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)アセト
フェノンの混合物を50℃に加熱し、この溶液中へ塩素
ガスを泡沸させて導入し温度を漸次に55℃にまで増加
させた。塩素添加速度を調整して55〜60℃の温度を
維持するようにした。約75分の後に温度は減少し始め
た(これはもはや塩素化が行われていないことを示す)
。塩素の全添加量は35.5 gであった。得られた生
成物は2.5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキ
シ)−α、α−ジクロロアセトフェノンである。
例 7(参考例)
工程(31(bl
前記の例6の生成物(単離せず又は純化せず)に対し0
.35モル(28,7g)の酢酸ナトリウムを加えた。
.35モル(28,7g)の酢酸ナトリウムを加えた。
温度は約80°Cにまで上昇し、この溶液を85℃にま
で加熱した。塩素添加を継続して温度を100℃にまで
上昇させる。約20分の後に理論量の塩素が消費され、
この混合物を氷と水との混合物中へ注入した。生成沈殿
を濾過によって集め、水ですすぎ、ジクロロメタン中に
溶かして乾燥した。蒸発して得られた残留物をヘキサン
使用下に微細化して白色固体を得た。収量94g(90
%)の2.5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキ
シ)α、α、α−トリクロロアセトフェノン(融点45
〜48℃)が得られた。
で加熱した。塩素添加を継続して温度を100℃にまで
上昇させる。約20分の後に理論量の塩素が消費され、
この混合物を氷と水との混合物中へ注入した。生成沈殿
を濾過によって集め、水ですすぎ、ジクロロメタン中に
溶かして乾燥した。蒸発して得られた残留物をヘキサン
使用下に微細化して白色固体を得た。収量94g(90
%)の2.5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキ
シ)α、α、α−トリクロロアセトフェノン(融点45
〜48℃)が得られた。
I
例 8 (参考例)
工程(3) tel
水600nl中の7.3モル(292g)のカセイソー
ダ溶液に対し氷を加えて全量1.75 #にした。この
溶液の中へ塩素ガスをリドマスに対し中性となるまで通
人する一方において温度を10°C以下に維持した。2
00mAの水に溶解させた2、19モル(87,6g)
のカセイソーダを加えた。
ダ溶液に対し氷を加えて全量1.75 #にした。この
溶液の中へ塩素ガスをリドマスに対し中性となるまで通
人する一方において温度を10°C以下に維持した。2
00mAの水に溶解させた2、19モル(87,6g)
のカセイソーダを加えた。
合併した溶液を50℃に加温し、0.73モル(230
g)の2,5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキ
シ)アセトフェノンを徐々に加えた。反応混合物を攪拌
しながら発熱約75℃となり始めるまで加熱し、その後
に冷却によって約80℃に保持した。約80〜90℃に
約16時間混合物を攪拌し、その間に薄層クロマトグラ
フィにより反応程度を検した。次に250m1l!の水
の中の75gの重亜硫酸ナトリウムの添加により過剰の
次亜塩素酸塩を破壊し混合物を約25℃に冷却し10%
塩酸を用いて注意深く酸性化した。濾過によって黄色固
体生成物を集め水洗して乾燥した。収率94.5%で2
,5−ビス(2,2,i)リフルオロエトキシ)安息香
酸(融点120〜122℃)が得られた。
g)の2,5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキ
シ)アセトフェノンを徐々に加えた。反応混合物を攪拌
しながら発熱約75℃となり始めるまで加熱し、その後
に冷却によって約80℃に保持した。約80〜90℃に
約16時間混合物を攪拌し、その間に薄層クロマトグラ
フィにより反応程度を検した。次に250m1l!の水
の中の75gの重亜硫酸ナトリウムの添加により過剰の
次亜塩素酸塩を破壊し混合物を約25℃に冷却し10%
塩酸を用いて注意深く酸性化した。濾過によって黄色固
体生成物を集め水洗して乾燥した。収率94.5%で2
,5−ビス(2,2,i)リフルオロエトキシ)安息香
酸(融点120〜122℃)が得られた。
例 9(参考例)
工程+31 +dl
ベンゼン651ml中の0.688モル(219g)の
2,5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)安
息香酸の溶液に対し、1.376M(100mjlの塩
化チオニルを1時間以上かけて約60℃に加熱しながら
徐々に加えた。次にこの混合物を約8時間還流加熱して
から蒸発すると所望生成物2,5−ビス(2,2,2−
)リフルオロエトキシ)安息香酸塩化物が残留物として
得られた。化学構造を赤外線スペクトル分析によってる
育証した。
2,5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)安
息香酸の溶液に対し、1.376M(100mjlの塩
化チオニルを1時間以上かけて約60℃に加熱しながら
徐々に加えた。次にこの混合物を約8時間還流加熱して
から蒸発すると所望生成物2,5−ビス(2,2,2−
)リフルオロエトキシ)安息香酸塩化物が残留物として
得られた。化学構造を赤外線スペクトル分析によってる
育証した。
例 10 (参考例)
トルエン60mβ中の0.05モル(21,0g)の2
,5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)−α
、α、α−トリクロロアセトフェノンの溶液に対し50
m1のシクロヘキサン及びl0m1lのトルエン中の0
.055モル(6,0g)の2−アミノメチルビリジン
の溶液を滴下して加えた。
,5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)−α
、α、α−トリクロロアセトフェノンの溶液に対し50
m1のシクロヘキサン及びl0m1lのトルエン中の0
.055モル(6,0g)の2−アミノメチルビリジン
の溶液を滴下して加えた。
この反応は発熱的であって沈殿が直ちに生成した。
トルエンとシクロヘキサンとを追加して攪拌可能な混合
物稠度に至らせ約25℃で2時間攪拌を続けた。次に生
成固体を濾別してトルエンとシクロヘキサンとの混合物
で洗い、乾燥すると白色固体即ち2.5−ビス(2,2
,2−)リフルオロエトキシ)−N−(2−ピリジルメ
チル)ベンザミド(融点104〜106°C)の17.
8g(収率89%)が得られた。
物稠度に至らせ約25℃で2時間攪拌を続けた。次に生
成固体を濾別してトルエンとシクロヘキサンとの混合物
で洗い、乾燥すると白色固体即ち2.5−ビス(2,2
,2−)リフルオロエトキシ)−N−(2−ピリジルメ
チル)ベンザミド(融点104〜106°C)の17.
8g(収率89%)が得られた。
三種混合物即ち0.33モル(134,7g>の2゜5
−ビス(2,2,2−4リフルオロエトキシ)−N−(
2−ピリジルメチル)ベンザミド、1.347βの氷酢
酸及び13.5 gの炭素上5%白金の混合物をパル装
置(Parr apparatus )中で約13.6
kg(約30ポンド)の水素圧下に室温で還元した。反
応は6〜7時間で完結した。反応混合物を濾過して触媒
をイソプロピルアルコールで洗った。溶液と洗液とを蒸
発して残留物を得た。この残留物にヘキサンを加えて得
られた白色固体を集めアセトンとへキサンとの混合物か
ら再結した。
−ビス(2,2,2−4リフルオロエトキシ)−N−(
2−ピリジルメチル)ベンザミド、1.347βの氷酢
酸及び13.5 gの炭素上5%白金の混合物をパル装
置(Parr apparatus )中で約13.6
kg(約30ポンド)の水素圧下に室温で還元した。反
応は6〜7時間で完結した。反応混合物を濾過して触媒
をイソプロピルアルコールで洗った。溶液と洗液とを蒸
発して残留物を得た。この残留物にヘキサンを加えて得
られた白色固体を集めアセトンとへキサンとの混合物か
ら再結した。
収率71%で2.5−ビス(2,2,2−1−リフルオ
ロエトキシ)−N−(2−ピペリジルメチル)−ベンザ
ミドアセテート(融点150〜152°C)が得られた
。残留液体を濃縮して収率18%の生成物(融点148
〜150℃)が第2収得物として追加的に得られた。
ロエトキシ)−N−(2−ピペリジルメチル)−ベンザ
ミドアセテート(融点150〜152°C)が得られた
。残留液体を濃縮して収率18%の生成物(融点148
〜150℃)が第2収得物として追加的に得られた。
例 11 (参考例)
イソプロピルアルコール50wl中の0.01モル(4
,19g)の2,5−ビス(2,2,2−)リフルオロ
エトキシ)−α、α、α−トリクロロアセトフェノンの
溶液に対し0.01モル(1,2g)の2−アミノメチ
ルピペリジンを加えた。30分間以上経過で混合物は次
第に固化した。この混合物を約16時間静置してから0
.OIMの酢酸と5mI!のイソプロピルアルコールを
加え、この溶液を加温してすべての固体を溶解させた。
,19g)の2,5−ビス(2,2,2−)リフルオロ
エトキシ)−α、α、α−トリクロロアセトフェノンの
溶液に対し0.01モル(1,2g)の2−アミノメチ
ルピペリジンを加えた。30分間以上経過で混合物は次
第に固化した。この混合物を約16時間静置してから0
.OIMの酢酸と5mI!のイソプロピルアルコールを
加え、この溶液を加温してすべての固体を溶解させた。
冷却すると3.0gの白色固体が得られた。濾液を蒸発
し残留物をイソプロピルアルコールから再結すると白色
固体としての追加の生成物を与えた。赤外スペクトル及
び核磁気共鳴スペクトルからこの生成物は2.5−ビス
(2,2,2−)リフルオロエトキシ)−N−(2−ピ
ペリジルメチル)ベンザミドアセテートである。
し残留物をイソプロピルアルコールから再結すると白色
固体としての追加の生成物を与えた。赤外スペクトル及
び核磁気共鳴スペクトルからこの生成物は2.5−ビス
(2,2,2−)リフルオロエトキシ)−N−(2−ピ
ペリジルメチル)ベンザミドアセテートである。
例 12(参考例)
2−アミノメチルピリジン0.77モル(83,3g)
、トリエチルアミン0.77モル(106,7mρ)及
びベンゼン300nlから成る混合物に対し472m1
lのベンゼン中の0.70モル(236g)の2.5−
ビス(2,2,1−)リフルオロエトキシ)安息香酸塩
化物を1時間以上かけて添加した。
、トリエチルアミン0.77モル(106,7mρ)及
びベンゼン300nlから成る混合物に対し472m1
lのベンゼン中の0.70モル(236g)の2.5−
ビス(2,2,1−)リフルオロエトキシ)安息香酸塩
化物を1時間以上かけて添加した。
この反応混合物を25℃で約16時間攪拌し、1時間還
流させ、次に21の水で2回洗浄した。
流させ、次に21の水で2回洗浄した。
2iのベンゼンで水相を洗い有機相を合併して硫酸マグ
ネシウム上で乾燥してから真空下に蒸発した。ベンゼン
とヘキサンとの混合物からの再結は240g(86%)
の灰白色の2.5−ビス(2゜2.2−トリフルオロエ
トキシ)−N−(2−ピリジルメチル)ベンザミド(融
点100〜102℃)を与えた。
ネシウム上で乾燥してから真空下に蒸発した。ベンゼン
とヘキサンとの混合物からの再結は240g(86%)
の灰白色の2.5−ビス(2゜2.2−トリフルオロエ
トキシ)−N−(2−ピリジルメチル)ベンザミド(融
点100〜102℃)を与えた。
2.5−ビス(2,2,2−)リフルオロエトキシ)−
N−(2−ピリジルメチル)ベンザミド0.33モル(
134,7g)、氷酢酸1.347A及び炭素上5%白
金13.5 gの混合物をパル装置巾約4.5kg(約
10ポンド)の水素圧で室温下に還元した。反応は6〜
7時間で完結した。反応混合物を濾過して触媒をイソプ
ロピルアルコールで洗った。溶液と洗液とを蒸発して残
留物を得た。この残留物にヘキサンを加えて得られた白
色固体を集めアセトンとヘキサンとの混液から再結した
。
N−(2−ピリジルメチル)ベンザミド0.33モル(
134,7g)、氷酢酸1.347A及び炭素上5%白
金13.5 gの混合物をパル装置巾約4.5kg(約
10ポンド)の水素圧で室温下に還元した。反応は6〜
7時間で完結した。反応混合物を濾過して触媒をイソプ
ロピルアルコールで洗った。溶液と洗液とを蒸発して残
留物を得た。この残留物にヘキサンを加えて得られた白
色固体を集めアセトンとヘキサンとの混液から再結した
。
収率71%で2.5−ビス(2,2,2−)リフルオロ
エトキシ) −N−(2−ピペリジルメチル)ベンザミ
ドアセテート(融点150〜152℃)が得られた。残
留液の濃縮により収率18%で追加の生成物(融点14
8〜150’c)が第2収得物として得られた。
エトキシ) −N−(2−ピペリジルメチル)ベンザミ
ドアセテート(融点150〜152℃)が得られた。残
留液の濃縮により収率18%で追加の生成物(融点14
8〜150’c)が第2収得物として得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、化合物2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエ
トキシ)アセトフェノン。 2、下記の諸工程即ち (a)第1銅イオン又は第2銅イオンの存在下に、2,
2,2−トリフルオロエタノールを含有する強度に極性
の溶媒中で、1,4−ジブロモベンゼンとアルカリ金属
2,2,2−トリフルオロエトキシドとを接触させて1
,4−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベン
ゼンをつくり、 (b)該1,4−ビス(2,2,2−トリフルオロエト
キシ)ベンゼンをルイス酸触媒の存在下にアセチル化剤
で処理して2,5−ビス (2,2,2−トリフルオロエトキシ)アセトフェノン
を生成させることを特徴とする化合物2,5−ビス(2
,2,2−トリフルオロエトキシ)アセトフェノンの製
造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US2133279A | 1979-03-19 | 1979-03-19 | |
US2133179A | 1979-03-19 | 1979-03-19 | |
US21332 | 1979-03-19 | ||
US21331 | 1979-03-19 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3467180A Division JPS55143967A (en) | 1979-03-19 | 1980-03-18 | Manufacture of 2*55bis*2*2*22trifluoroethoxy** nn*22piperidylmethyl*benzamide |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01125341A true JPH01125341A (ja) | 1989-05-17 |
JPH0149695B2 JPH0149695B2 (ja) | 1989-10-25 |
Family
ID=26694559
Family Applications (8)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63135367A Granted JPH01125341A (ja) | 1979-03-19 | 1988-06-01 | 2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)アセトフェノン及びその製造方法 |
JP63135364A Granted JPH01104043A (ja) | 1979-03-19 | 1988-06-01 | 2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−n−(2−ピペリジルメチル)ベンザミドの製造方法 |
JP63135363A Granted JPH01104045A (ja) | 1979-03-19 | 1988-06-01 | 2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−n−(2−ピペリジルメチル)ベンザミドの製造方法 |
JP63135366A Granted JPH01125339A (ja) | 1979-03-19 | 1988-06-01 | 1,4−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベンゼンの製造方法 |
JP63135370A Granted JPH01125344A (ja) | 1979-03-19 | 1988-06-01 | 2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)安息香酸の製造方法 |
JP63135368A Granted JPH01125342A (ja) | 1979-03-19 | 1988-06-01 | 2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−α,α−ジクロロアセトフェノン及びその製造方法 |
JP63135369A Granted JPH01125343A (ja) | 1979-03-19 | 1988-06-01 | 2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−α,α,α−トリクロロアセトフェノン及びその製造方法 |
JP63135365A Granted JPH01104044A (ja) | 1979-03-19 | 1988-06-01 | 2,5−ビス(2,2,2,−トリフルオロエトキシ)−n−(2−ピペリジルメチル)ベンザミドの製造方法 |
Family Applications After (7)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63135364A Granted JPH01104043A (ja) | 1979-03-19 | 1988-06-01 | 2,5−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−n−(2−ピペリジルメチル)ベンザミドの製造方法 |
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