JPH01121388A - Production of release sheet - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（Ａ）産業上の利用分野
本発明は１紙、ラミネート紙１合成紙、プラスッチクフ
ィルムなどのシート状基体の上に耐ブロッキング性にす
ぐれ内部剥離防止性に優れた層を設けた剥離用シートに
関するものである。Detailed Description of the Invention (A) Industrial Field of Application The present invention provides a layer having excellent anti-blocking properties and excellent internal peeling prevention properties on a sheet-like substrate such as paper, laminated paper, synthetic paper, or plastic film. This invention relates to a release sheet provided with.
ＣＢ）従来の技術
紙、ラミネート紙１合成紙、ブラスッチクフイルムなど
のシート状基体の上に有機ポリシロキサンからなる剥離
層を設けたシリコーン！ＩＩ ｇｉ用シートは近年多く
の用途に使用されている。剥離層の形成方法としては有
機すず化合物やその他の重金興塩、および白金系の触媒
を含む輪台型もしくは付加型シリコーン系樹脂の溶液、
またはエマルジョンを塗布した後、熱風オーブン中で１
２０℃がち１８０℃で加熱し硬化被膜を形成する方法が
一般的である。CB) Conventional technology Paper, laminated paper 1 Silicone with a release layer made of organic polysiloxane on a sheet-like substrate such as synthetic paper or brass film! II gi sheets have been used for many purposes in recent years. The method for forming the release layer includes a solution of an orthopedic or addition type silicone resin containing an organotin compound, other heavy metal salts, and a platinum catalyst;
Or after applying the emulsion, 1 minute in a hot air oven.
A common method is to form a cured film by heating at 20°C to 180°C.
［”Ｃ）発明が解決しようとする問題点紙を基体に用い
た剥離用シートにおいてこのような高温加熱処理を行な
うと紙基体に耐熱性が必要なことは勿論の上、紙基体内
部の水分蒸発によりしわやカールが発生しやすく、また
剥離層に水分蒸発に伴うピンホールが生じ易いという欠
点を有していた。このような欠点を克服する目的と剥離
層を形成するシリコーン樹脂の紙への吸収を低減させる
目的で紙表面をポリエチレンや塩化ビニリデン等でラミ
ネートした基体を用いることがよく使われる方法である
が、やはりシリコーン樹脂の硬化時においてラミネート
層の軟化、溶融、収縮等が起こり結果としてラミネート
基体表面の不均一化により剥離性能を阻害することや紙
中の水分蒸発による気泡発生のためにピンホールが生ヒ
易いという欠点を有していた。このような欠点を克服す
るひとつの手段として無溶剤型シリコーン樹脂、その中
でも特に紫外線（ＵＶ）および電子線（ＥＢ）照射によ
り重合可能な官能基を有するシリコーン樹脂を用いてＵ
ＶまたはＥＢ硬化を行なう低温キユアリング型の剥離用
シート製造技術がｎ発された。これらの方法によれば剥
離用シート製造工程中における高温処理に由来するカー
ル、しわ、ピンホール等の発生は比較的前げるものの、
紙基体を用いるＩｇｉ用シート！！１造においては紙基
体へのシリコーン樹脂のしみこみを防止し、塗布量のバ
ラツキを少なくするために高粘度の樹脂を使用しなけれ
ばならないといった問題や、フィルム基体の剥離用シー
ト製造においてはＵＶまたはＥＢ硬化を行なう低温キユ
アリング型方法で作成したシリコーン膜はフィルム基体
との接着性に劣るという問題点を有する。シリコーン膜
とフィルム基体との密着性を改良する目的でフィルム基
体上に電子線重合性組成物でプライマー処理するという
方法も考案されているが、この方法においても電子線重
合性組成物が水溶液またはエマルジョンの場合には加熱
乾燥が必要であり、また無溶媒性の電子線重合性組成物
を用いた場合においても。[''C) Problems to be Solved by the Invention When such high-temperature heat treatment is applied to a release sheet using paper as a base, not only does the paper base need to be heat resistant, but the moisture inside the paper base also increases. It has the drawbacks that wrinkles and curls are likely to occur due to evaporation, and pinholes are likely to occur in the release layer due to moisture evaporation.The purpose of overcoming these drawbacks is to develop silicone resin paper that forms the release layer. A commonly used method is to use a substrate whose paper surface is laminated with polyethylene, vinylidene chloride, etc. in order to reduce the absorption of However, it has the drawbacks that the unevenness of the surface of the laminate substrate hinders the peeling performance and that pinholes are easily formed due to the generation of air bubbles due to water evaporation in the paper.One way to overcome these drawbacks is to As a method, U
A low-temperature curing release sheet manufacturing technology that performs V or EB curing has been developed. Although these methods relatively reduce the occurrence of curls, wrinkles, pinholes, etc. caused by high-temperature treatment during the release sheet manufacturing process,
Igi sheet using paper base! ! In the case of one-piece manufacturing, there are problems such as the need to use high-viscosity resin to prevent the silicone resin from seeping into the paper base and to reduce variations in the amount applied, and in the manufacture of release sheets for film bases, UV or Silicone films prepared by a low-temperature curing method using EB curing have a problem in that they have poor adhesion to film substrates. A method has also been devised in which the film substrate is primed with an electron beam polymerizable composition in order to improve the adhesion between the silicone film and the film substrate. In the case of an emulsion, heat drying is necessary, and even in the case of using a solvent-free electron beam polymerizable composition.
電子線重合性組成物の粘度が低い場合にはその上に塗布
した電子線硬化性のシリコーン樹脂と混ざりあい、結果
として重剥離の剥離用シートとなったり、残留接着率が
低下したりするという問題点があった。If the viscosity of the electron beam polymerizable composition is low, it will mix with the electron beam curable silicone resin applied on top of it, resulting in a release sheet with heavy release or a decrease in residual adhesion. There was a problem.
ＣＤ）問題点を解決するための手段
本発明者は、上記のような問題点を解決する手段を鋭意
研究した結果以下のような方法を見いだすに至った。す
なわち、紙またはフィルム基体の少なくとも片面に該基
体と接着性の良い電子線重合性組成物層を塗布し、電子
線照射により電子線重合性組成物層の一部を重合させた
後、さらにその上に電子線重合性であり、かつ硬化後に
！ｔａｉｌ性を有する組成物層を塗布し、を子線照射に
より両層を同時に硬化させた層を設けることにより上記
問題を解決した剥離用シートが得られることを見いだし
本発明を完成するに至った。以下本発明の詳細な説明す
る、即ち本発明は基体の上に基体と接着性の良い電子線
硬化樹脂層を塗布した後、その一部を電子線照射により
重合させた層と、上部に設けた粘着剤層に対し剥離性の
良い電子線硬化樹脂からなる層を電子性照射することに
よって両層を同時に重合し一体化させで作成した剥離用
シートを提供するものである。CD) Means for Solving the Problems The inventor of the present invention has conducted extensive research into means for solving the above-mentioned problems, and as a result has found the following method. That is, an electron beam polymerizable composition layer having good adhesion to the substrate is coated on at least one side of a paper or film substrate, a part of the electron beam polymerizable composition layer is polymerized by electron beam irradiation, and then the electron beam polymerizable composition layer is further polymerized by electron beam irradiation. It is electron beam polymerizable on top and after curing! We have discovered that a release sheet that solves the above problems can be obtained by coating a composition layer with tail properties and simultaneously curing both layers by irradiation with a coronal beam, and have completed the present invention. . The present invention will be explained in detail below. In other words, the present invention involves coating a substrate with an electron beam-cured resin layer that has good adhesion to the substrate, and then adding a layer on top of which a layer is partially polymerized by electron beam irradiation. The present invention provides a release sheet prepared by simultaneously polymerizing and integrating both layers by electronically irradiating a layer made of an electron beam-cured resin with good releasability to the pressure-sensitive adhesive layer.
ここでいう基体と接着性の良い電子線重合性組成物（以
下、単に電子線重合性組成物と略する）とは、アクリロ
イル基またはメタクリロイル基を有すｇ化合物である。The electron beam polymerizable composition having good adhesion to the substrate (hereinafter simply referred to as electron beam polymerizable composition) is a g compound having an acryloyl group or a methacryloyl group.
本発明に用いられる基体と接着性の良い電子線重合性組
成物としては、分子末端、または分子側鎖に反応基を有
する不飽和ポリエステル、変性不飽和ポリエステル、ア
クリル系ポリマーや、不飽和結合を有する単址体などが
単体でまたは他の溶剤とともに使用できるが、基体と電
子線重合性組成物との親和性、および電子線重合性組成
物と電子線重合性シリコーン組成物との親和性を考慮し
て選ばれる。以下、電子線重合性組成物を構成する化合
物のうち代表的なものを例示する。Electron beam polymerizable compositions that have good adhesion to the substrate used in the present invention include unsaturated polyesters, modified unsaturated polyesters, acrylic polymers that have reactive groups at the molecular ends or side chains, and acrylic polymers that have unsaturated bonds. A single base material having the same composition can be used alone or together with other solvents, but depending on the affinity between the substrate and the electron beam polymerizable composition, and the affinity between the electron beam polymerizable composition and the electron beam polymerizable silicone composition, selected with consideration. Typical compounds constituting the electron beam polymerizable composition are illustrated below.
（ａ）ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタク
リレート−
例えば、アロニツクスＭ−５３００、アロニックスＭ−
５４ＱＯ−アロニツクスＭ−５５００−アロニツクスＭ
−５６００．アロニツクスＭ−５７００、アロニツクス
Ｍ−６１００−アロニツクスＭ−６２００、アロニツク
スＭ−６３００、アロニツクスＭ−６５００、アロニツ
クスＭ−７１００、アロニツクスＭ−８０３０、アロニ
ツクスＭ−８０６０、アロニツクスＭ−８１００Ｃ以上
。(a) Polyester acrylate, polyester methacrylate - For example, Aronix M-5300, Aronix M-
54QO-Aronics M-5500-Aronics M
-5600. Aronix M-5700, Aronix M-6100-Aronix M-6200, Aronix M-6300, Aronix M-6500, Aronix M-7100, Aronix M-8030, Aronix M-8060, Aronix M-8100C and above.
東亜合成化学工業（株）商品名）、ビスコ−ドア００、
ビスコート３７００ （以上、大阪有機化学工業（株）
商品名）、カヤラッドＨＸ−２２０゜カヤラッドＨＸ−
６２０（以上１日本化薦（株）商品名）などが挙げられ
る。Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. (product name), Viscodoor 00,
Viscoat 3700 (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
Product name), Kayarad HX-220°Kayarad HX-
620 (the above 1 is a product name of Nippon Kako Co., Ltd.), and the like.
（ｂ）エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート
〜
例えば、ＮＫエステル、ＥＡ−８００、ＮＫエステル、
ＥＰＭ−８００（以上、新中村化学（株）商品名）、ビ
スコ−トロ００−ビスコート５４０（以上、大阪有機化
学工業（株）商品名）、フォトマー３０１６、フォトマ
ー３０８２ （以上、サンノブコ（株）商品名）などが
挙げられる。(b) Epoxy acrylate, epoxy methacrylate ~ For example, NK ester, EA-800, NK ester,
EPM-800 (product name of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Viscotro 00-Viscoat 540 (product name of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Photomer 3016, Photomer 3082 (product name of San Nobuco Co., Ltd.) names), etc.
（Ｃ）ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレ−１
・、
例えば、アロニツクスＭ−１１００．７０ニツクスＭ−
１２００、アロニツクスＭ−１２１０−アロニツクスＭ
−１２５０−アロニツクスＭ−１２６０、アロニツクス
Ｍ−１３００、アロニツクスＭ−１３１０（以上、東亜
合成化学工業（株）商品名）、ビスコート８１２、ビス
コート８２３、ビスコート８２３（以上、大阪有機化学
工業（株）商品名）、ＮＫエステル、Ｕ−１０８−Ａ、
ＮＫエステル＋ Ｕ−４ＨＡ （以上、新中村化学（株
）商品名）などが挙げられる。(C) Urethane acrylate, urethane methacrylate-1
・, For example, Aronix M-1100.70 Nix M-
1200, Aronix M-1210-Aronix M
-1250- Aronix M-1260, Aronix M-1300, Aronix M-1310 (trade names manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Viscoat 812, Viscoat 823, Viscoat 823 (trade names manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) name), NK ester, U-108-A,
Examples include NK ester + U-4HA (all trade names of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
（ｄ）単官能アクリレート、単官能メタクリレート、
例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブ
チルアクリレート−２−エチルへキシルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルアクリレート−フェノキ
シエチルアクリレート、シクロへキシルアクリレート、
シクロへキシルメタクリレート、ベンジルアクリレート
、グリシジルメタクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ
エチルアクリレート−Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノエチルメ
タクリレート、Ｎ−Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリ
レート、ブトキシエチルアクリレートなど、エチレンオ
キシド変性フェノキシ化りん酸アクリレートエチレンオ
キシド変性ブトキシ化りん酸アクリレート、この他に東
亜合成化学工業（株）の商品名でいえばアロニツクスＭ
−１０１−アロニツクスＭ−１０２−アロニツクスＭ−
１１１，アロニツクスＭ−１１３、アロニツクスＭ−１
１４−アロニツクスＭ−１１７、アロニックスＭ−１５
２，アロニツクスＭ−１５４などが挙げられる。(d) Monofunctional acrylate, monofunctional methacrylate, such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate-2-ethylhexyl acrylate,
2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate-phenoxyethyl acrylate, cyclohexyl acrylate,
Cyclohexyl methacrylate, benzyl acrylate, glycidyl methacrylate, N,N-dimethylaminoethyl acrylate-N-N-dimethylaminoethyl methacrylate, N-N-diethylaminoethyl methacrylate, butoxyethyl acrylate, etc., ethylene oxide modified phenoxylated phosphoric acid acrylate ethylene oxide Modified butoxylated phosphoric acid acrylate, as well as Aronix M manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.
-101-Aronics M-102-Aronics M-
111, Aronix M-113, Aronix M-1
14-Aronix M-117, Aronix M-15
2, Aronix M-154, etc.
（ｅ）多官能アクリレート、多官能メタクリレート。(e) Polyfunctional acrylate, polyfunctional methacrylate.
例えば、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジアクリレート。For example, 1,6-hexanediol diacrylate,
1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate.
ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメ
タクリレ−１・、ポリプロピレングリコールジアクリレ
ート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリ
トールへキサアクリレ−■・、イソシアヌル酸ジアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、イソ
シアヌル酸ｌ・リアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、エチレンオキシド変性ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、プロピレンオキシド変性ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキシ
ド変性ジペンタエリスリトールポリアクリレート、エチ
レンオキシド変性ジペンタエリスリトールポリアクリレ
ートなどが挙げられる。東亜合成化学工業（株）の商品
名でいえばアロニツクスＭ−２１０、アロニツクスＭ−
２１５．７０ニツクスＭ−２２０，アロニツクスＭ−２
３０．７０ニツクスＭ−２３３，７０ニックスＭ−２４
０−アロニツクスＭ−２４５、アロニツクスＭ−３０５
、アロニツクスＭ−３０９−アロニツクスＭ−３１０，
７０ニツクスＭ−３１５、アロエ・ソクスＭ−３２（ｌ
アロニヅクスＭ−３２５、アロニツクスＭ−３３０、ア
ロニツクスＭ−４００−ＴＯ−４５８−Ｔｏ−７４’ｌ
Ｔ。Diethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate-1, polypropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, isocyanuric acid diacrylate, pentaerythritol tri Acrylate, isocyanuric acid l/reacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol tetraacrylate, propylene oxide modified pentaerythritol tetraacrylate, propylene oxide modified dipentaerythritol polyacrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol Examples include polyacrylate. The product names of Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. are Aronix M-210 and Aronix M-.
215.70 Nix M-220, Aronix M-2
30.70 Nix M-233,70 Nix M-24
0-Aronix M-245, Aronix M-305
, Aronix M-309-Aronix M-310,
70 Nix M-315, Aloe Sox M-32 (l
Aronix M-325, Aronix M-330, Aronix M-400-TO-458-To-74'l
T.
−７５５，ＴＨＩＣ，ＴＡ２などが挙げられる。-755, THIC, TA2, etc.
これらの化合物はものによって異なるが数メガラッド（
Ｍｒａｄ）までの電子線照射量で重合硬化する。従って
、電子線重合仕組ｒ！Ｌ物の一部のみを重合させるには
この電子線照射量以下の電子線照射量をもちいれば良い
が、その値は電子線重合性組成物の種類、塗布量、照射
方法により異なる。These compounds vary depending on the substance, but are several megarads (
Polymerization and curing occurs with an electron beam irradiation amount up to (Mrad). Therefore, the electron beam polymerization mechanism r! In order to polymerize only a part of the L substance, it is sufficient to use an electron beam irradiation amount less than this electron beam irradiation amount, but the value differs depending on the type of electron beam polymerizable composition, the amount applied, and the irradiation method.
実質的には、電子線照射後において電子線重合性組成物
層の表面に電子線重合性シリコーン組成物を塗布した後
の電子線照射により電子線重合性シリコーン組成物と重
合できる官能基が残存していることが必要である。電子
！！！［［合性組成物層の表面に電子線照射により重合
可能な官能基を残しである程度重合を進行させる有力な
方法として、電子線重合性組成物層を塗布した基体の裏
面から電子線照射する方法がある。ｔ−Ｆ線の透過深さ
は透過する物体の密度と電子線の加速電圧により決定す
るため、裏面かち電子線照射した場合には電子線重合性
組成物層の表面において最も電子線のエネルギーが小さ
くなるから、電子線重合組成物の重合度を小さくするこ
とができる。Substantially, after applying the electron beam polymerizable silicone composition to the surface of the electron beam polymerizable composition layer after electron beam irradiation, functional groups that can be polymerized with the electron beam polymerizable silicone composition by electron beam irradiation remain. It is necessary to do so. Electronic! ! ! [[An effective method for advancing polymerization to some extent while leaving functional groups that can be polymerized by electron beam irradiation on the surface of the polymerizable composition layer is to irradiate the substrate with an electron beam from the back side of the substrate coated with the electron beam polymerizable composition layer. There is a way. The penetration depth of the t-F ray is determined by the density of the object to be penetrated and the accelerating voltage of the electron beam, so when the back side is irradiated with the electron beam, the energy of the electron beam is highest on the surface of the electron beam polymerizable composition layer. Since the size is small, the degree of polymerization of the electron beam polymerization composition can be reduced.
硬化後に剥離性を有する組成物とは１分子末端。A composition that has releasability after curing is one molecule end.
または側鎖に電子線重合性官能基を有する有機ポリシロ
キサン（以下、単に電子線重合性シリコーン組成物と略
する）である、 本発明に用いられる電子線重合性シリ
コーン組成物としては分子末端、またはｍｉにアクリロ
イル基、メタクリロイル基、ビニル基の中から選択され
る官能基を有するシリコーン樹脂であり具体的には特許
出願公告昭５１−４２９６１．昭５４−６５１２、昭５
７−５７０９６、昭５８−５３６５６号公報等番ご開示
されているような化合物である。The electron beam polymerizable silicone composition used in the present invention is an organic polysiloxane having an electron beam polymerizable functional group in the side chain (hereinafter simply referred to as an electron beam polymerizable silicone composition). or a silicone resin having a functional group selected from an acryloyl group, a methacryloyl group, and a vinyl group in mi; Showa 54-6512, Showa 5
7-57096, No. 58-53656, etc.
本発明に用いちれる基体としてはグラシン紙−上質紙、
コーテツド紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリアミド等の合成樹脂フィル
ム、またはこれらの合成樹脂を紙に片面、または両面に
ラミネートしたラミネート紙、金属箔、または金属箔と
紙、合成樹脂フィルムとの貼り合わせ品がある。The substrate used in the present invention is glassine paper - high quality paper,
Coated paper, synthetic resin film such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyamide, etc., laminated paper with these synthetic resins laminated on one or both sides of paper, metal foil, or pasting of metal foil with paper or synthetic resin film. There are matching items.
なお９紙基体の坪！は４０〜２５０ｇ／ｎ？−より好ま
しくは５０〜２００ ｇ／ｎｆであり、その表面は平滑
であることが好ましいが、剥離性能のコントロール上粗
面であってもかまわない。In addition, 9 tsubo of paper base! Is it 40~250g/n? -More preferably 50 to 200 g/nf, and the surface is preferably smooth, but may be rough to control peeling performance.
基体上に電子線重合性組成物を塗布する前に基体表面に
コロナ放電等の表面処理を行なっても良い。Before applying the electron beam polymerizable composition onto the substrate, the surface of the substrate may be subjected to surface treatment such as corona discharge.
本発明による剥離用シートを図を用い説明する。The release sheet according to the present invention will be explained with reference to the drawings.
第１図は本発明方法により製造した剥離用シートの一例
を示す側面概略図である。FIG. 1 is a schematic side view showing an example of a release sheet produced by the method of the present invention.
基体シート１上において電子線重合性組成物２が口止め
層となり電子線重合性シリコーン組成物３の基体シート
１へのしみこみを防止している。The electron beam polymerizable composition 2 serves as a blocking layer on the base sheet 1 to prevent the electron beam polymerizable silicone composition 3 from seeping into the base sheet 1.
第２図は本発明の実施に使用する！！ＩＪ ｇｉ用レシ
ート１１″ａｖ４置一例を示す側面概略図である。Figure 2 is used to implement the present invention! ! It is a side schematic diagram which shows an example of receipt 11''AV4 for IJ gi.
基体シートｌを供給ロール４から繰り出し、コーター５
により電子線重合性組成物２を塗布し電子線照射装置７
において電子線照射により電子線重合性組成物２を一部
硬化させた後、コーター６により電子線重合性シリコー
ン組成物３を塗布する。The base sheet l is fed out from the supply roll 4 and transferred to the coater 5.
The electron beam polymerizable composition 2 was applied using the electron beam irradiation device 7.
After the electron beam polymerizable composition 2 is partially cured by electron beam irradiation, the electron beam polymerizable silicone composition 3 is applied by a coater 6 .
電子線照射装置１１において電子線照射により電子線重
合性組成物２と電子線重合性シリコーン組成物３の硬化
を行なう、このようにして製造した１４１Ｒ用シート８
は巻き取りロール９によって巻き取られる。なお、基体
シート１の表面はコロナ発生装置１０によりコロナ処理
しても良い。The sheet 8 for 141R produced in this way is cured of the electron beam polymerizable composition 2 and the electron beam polymerizable silicone composition 3 by electron beam irradiation in the electron beam irradiation device 11.
is wound up by a winding roll 9. Note that the surface of the base sheet 1 may be subjected to corona treatment using the corona generating device 10.
第３図は本発明の実施に使用する剥離用シート製造装置
の別な一例を示す側面概略図である。FIG. 3 is a schematic side view showing another example of a release sheet manufacturing apparatus used in carrying out the present invention.
基体シート１を供給ロール４かち繰り出し、コーター５
により電子線重合性組成物２を塗布し電子線照射装置７
において基体シート１の側から電子線照射により電子線
重合性組成物２を一部硬化させた後、コーター６により
電子線重合性シリコーン組成物３を塗布する。その後再
度電子線照射装置７において電子線重合性シリコーン組
成＠１Ｉ３（ＩＩからの電子線照射により電子線重合性
組成物２と電子線重合性シリコーン組成物３の硬化を行
なう。The base sheet 1 is fed out by four supply rolls, and the coater 5
The electron beam polymerizable composition 2 was applied using the electron beam irradiation device 7.
After the electron beam polymerizable composition 2 is partially cured by electron beam irradiation from the side of the base sheet 1, the electron beam polymerizable silicone composition 3 is applied by a coater 6. Thereafter, the electron beam polymerizable composition 2 and the electron beam polymerizable silicone composition 3 are cured by electron beam irradiation from the electron beam polymerizable silicone composition @1I3 (II) in the electron beam irradiation device 7 again.
このようにして製造した剥離用シート８は巻き取りロー
ル９によって巻き取ちれる。なお、基体シート１の表面
はコロナ発生装置１０によりコロナ処理しても良い。The release sheet 8 manufactured in this way is wound up by a winding roll 9. Note that the surface of the base sheet 1 may be subjected to corona treatment using the corona generating device 10.
本発明による方法によれば剥離用シート製造工程中にお
いてシリコーン樹脂は常にある程度重合し適度な粘度を
有する電子線重合性組成物上に塗布されるため平滑性が
よく、またシリコーン樹脂と電子線重合性組成物との混
合も引き起こさない。According to the method of the present invention, the silicone resin always polymerizes to some extent during the release sheet manufacturing process and is coated on the electron beam polymerizable composition having an appropriate viscosity, resulting in good smoothness. It also does not cause any mixing with sexual compositions.
また、シリコーン樹脂が紙基体上に直接塗布されること
がないため紙基体中へのシリコーン樹脂のしみこみが起
こらない、従って高価なシリコーン樹脂量の低減が図れ
る。更に低濃度のシリコーン樹脂が使用できるという利
点も有する。Furthermore, since the silicone resin is not directly applied onto the paper substrate, the silicone resin does not seep into the paper substrate, and therefore the amount of expensive silicone resin can be reduced. It also has the advantage that low concentration silicone resin can be used.
本発明で示すように電子線照射により重合可能な官能基
を有する電子線重合性組成物と電子線重合性シリコーン
組成物とを重ねて同時に電子線照射により硬化せしめる
と、界面で共重合がおこり電子線重合性シリコーン組成
物層と電子線重合性組成物層との接着は非常に強固なも
のとなる。As shown in the present invention, when an electron beam polymerizable composition having a functional group that can be polymerized by electron beam irradiation and an electron beam polymerizable silicone composition are stacked and simultaneously cured by electron beam irradiation, copolymerization occurs at the interface. The adhesion between the electron beam polymerizable silicone composition layer and the electron beam polymerizable composition layer becomes very strong.
紙基体等と各種アクリレートなどの電子線重合性組成物
との接着は一般に非常に強いので、結果として本発明に
よる方法を用いればシリコーン剥離のない剥離用シート
が得られる。また１本発明においては、紙基体等との接
着性の良い電子線重合性組成物が電子線照射により塗布
後瞬時に高粘度化するため、かなり低粘度の電子線重合
性組成物を用いることができるという利点を有する。Since the adhesion between a paper substrate or the like and an electron beam polymerizable composition such as various acrylates is generally very strong, as a result, if the method of the present invention is used, a release sheet without silicone peeling can be obtained. In addition, in the present invention, an electron beam polymerizable composition with good adhesion to paper substrates etc. instantly becomes highly viscous after application by electron beam irradiation, so it is necessary to use an electron beam polymerizable composition with a considerably low viscosity. It has the advantage of being able to
基体上に電子線重合性組成物および電子線重合゛性シリ
コーン組成物を塗布する方法としては１例えば、ブレー
ドコート、エアードクターコート、スクイズコート、エ
アーナイフコート、リバースロールコート、グラビアロ
ールおよびトランスファーロールコート、Ｅバーコード
等の方法が用いられる。Methods for applying the electron beam polymerizable composition and electron beam polymerizable silicone composition onto the substrate include, for example, blade coating, air doctor coating, squeeze coating, air knife coating, reverse roll coating, gravure roll, and transfer roll. Methods such as coat, E-bar code, etc. are used.
基体上に塗布する電子線重合性組成物量は基体の種類に
より異なるが０．１〜１０ｇ／ｒｒＰ、より好ましくは
０．２〜５ｇ／ｎｆ”であり、電子線重合性シリコーン
組成物層はαＩｇ／ｒｎ”〜５ｇ／ｍ”、より好ましく
は０．５〜５ｇ／ｒｔ？である。シリコーン組成物の量
が０、１ ｇ／ゴ以下と極端に少ないと電子線重合性組
成物上に均一に塗布する事が困難であり、また制能を悪
くする、またシリコーン量を５ｇ／ｍ”以上と多くして
も特性上変わらず、コストのみ向上するし、さらに１ｗ
１端に多くなると硬化後摩耗などによりシリコーンが脱
落しやすくなる。The amount of the electron beam polymerizable composition applied to the substrate varies depending on the type of substrate, but is 0.1 to 10 g/rrP, more preferably 0.2 to 5 g/nf, and the electron beam polymerizable silicone composition layer is αIg. /rn" to 5 g/m", more preferably 0.5 to 5 g/m". If the amount of the silicone composition is extremely small, 0.1 g/m or less, it will be uniform on the electron beam polymerizable composition. It is difficult to apply the silicone to the surface, and the control performance is deteriorated.Also, even if the amount of silicone is increased to 5 g/m" or more, the properties remain the same and only the cost increases.
If there is too much silicone at one end, the silicone tends to fall off due to abrasion after curing.
剥離用シートの表面をさらに鏡面仕上げにする場合には
、処理したい面を鏡面ロールと接触させその背面から電
子線を照射して硬化し、鏡面仕上げを施すことができる
。−度の照射で完全硬化させる方法に比べると著しく経
済性が劣るが、予め予備電子線照射を行い表面を一部硬
化させた後、鏡面ロールと接触させ、剥離した後、二次
照射を行い完全に硬化させる方法、および、基体上に電
子線重合性組成物を塗布したｆ＆！初の電子線照射を行
い電子線重合性組成物の硬化を行なった後。If the surface of the release sheet is to be further mirror-finished, the surface to be treated can be brought into contact with a mirror-finished roll and irradiated with an electron beam from the back surface to cure and achieve a mirror-finished surface. Although it is significantly less economical than the method of completely curing with irradiation at 300-degrees of irradiation, it is possible to perform preliminary electron beam irradiation in advance to partially harden the surface, contact it with a mirror roll, peel it off, and then perform secondary irradiation. Completely curing method and f&! in which an electron beam polymerizable composition is applied onto a substrate. After performing the first electron beam irradiation to cure the electron beam polymerizable composition.
電子線重合性シリコーン組Ｉｔ物を塗布し二次照射を行
い剥離層を形成させる方法もある。。There is also a method of applying an electron beam polymerizable silicone composition and performing secondary irradiation to form a release layer. .
型付けを施す場合には鏡面ロールに代えて型付はロール
を使用して微粗面等の所望の型付は面を得ることができ
る。When applying a pattern, a desired patterned surface such as a slightly rough surface can be obtained by using a patterning roll instead of a mirror-finished roll.
電子線特性として、透過力、硬化力の面から加速電圧が
５０〜７５０Ｋｖ、より好ましくは１００〜３０ＱＫｖ
の電子線加速器を用い、ワンパスの吸収線量が０．１〜
２０ Ｍｒａｄになるようにすることが好ましい。As for the electron beam characteristics, the accelerating voltage is 50 to 750 Kv, more preferably 100 to 30 QKv in terms of penetration power and curing power.
Using an electron beam accelerator, the absorbed dose in one pass is 0.1~
It is preferable to adjust the amount to 20 Mrad.
電子線加速器としては例えば、エレクトロカーテンシス
テム、スキャンニングタイプ、ダブルスキャンニングタ
イプ等があるが何れでも良い。Examples of the electron beam accelerator include an electrocurtain system, a scanning type, and a double scanning type, and any of them may be used.
なお、電子線照射に際しては酸素濃度が富いと電子線重
合性組成物の硬化が妨げられるなめ、窒素、ヘリウム、
二酸化炭素等の不活性ガスによる置換を行い、酸Ｔ：濃
度を６００ ｐｐｍ以下、好ましくは４００ ｐｐｍ以
下に抑制した雰囲気中で照射することが好ましい。Note that when electron beam irradiation is performed, a high oxygen concentration will hinder the curing of the electron beam polymerizable composition, so nitrogen, helium,
It is preferable to perform irradiation in an atmosphere in which the acid T concentration is suppressed to 600 ppm or less, preferably 400 ppm or less, by replacing with an inert gas such as carbon dioxide.
〔Ｅ〕作用
本発明は、剥離用シートの製造において剥離用基体上に
基体と接着性の良い電子線重合性組成物を塗布した？＆
電子線照射によりその一部を硬化させ、その上に電子線
重合性シリコーン組成物を塗布し、を子線照射により硬
化せしめて剥離用シートを製造するもので、電子線重合
性組成物を適度に重合硬化した後、その上に電子線重合
性シリコーン組成物を塗布するため、電子線重合性組成
物と混合することなく電子線重合性シリコーン組成物が
塗布されるし、電子線重合性組成物が塗布後、電子線照
射により瞬時に高粘度化するための基体へのしみこみが
少なく、平滑な塗布面が得られる。[E] Effect In the present invention, in the production of a release sheet, an electron beam polymerizable composition having good adhesion to the substrate is coated on a release substrate. &
A part of the silicone composition is cured by electron beam irradiation, an electron beam polymerizable silicone composition is applied thereon, and a release sheet is produced by curing the silicone composition by electron beam irradiation. After polymerization and curing, the electron beam polymerizable silicone composition is applied thereon, so the electron beam polymerizable silicone composition is applied without being mixed with the electron beam polymerizable composition. After the product is coated, the viscosity increases instantly by electron beam irradiation, so there is little seepage into the substrate and a smooth coated surface can be obtained.
そのため作成された剥離用シートは軽剥離であり、残留
接着率も大きい、また、本発明においては電子線重合性
組成物により基体の目止めを行なうためシリコーン樹脂
が基体にしみこまない、また基体と接着性の良い電子線
重合性組成物を基体と電子重合性シリコーン樹脂層の中
間に用い、その上に該電子線重合性組成物と電子線重合
性のあるシリコーン組成物を設は電子線重合を行なって
いるため、シリコーン樹脂層と基体との接着性が格段に
向上する。また、製造工程において高温処理を行なわな
いため、高温処理に由来するカール、しわ、シリコーン
樹脂層のピンホール等の発生を抑制する事ができる。Therefore, the release sheet prepared is easy to peel and has a high residual adhesion rate.In addition, in the present invention, the electron beam polymerizable composition is used to seal the substrate, so the silicone resin does not penetrate into the substrate. An electron beam polymerizable composition with good adhesion is used between the substrate and the electron polymerizable silicone resin layer, and the electron beam polymerizable composition and an electron beam polymerizable silicone composition are placed thereon. As a result, the adhesion between the silicone resin layer and the substrate is significantly improved. In addition, since high temperature treatment is not performed in the manufacturing process, it is possible to suppress the occurrence of curls, wrinkles, pinholes in the silicone resin layer, etc. caused by high temperature treatment.
〔Ｆ〕実施例
以下、実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明
の内容は実Ｉｆｉｇ／４に限られるものではない。[F] EXAMPLE The present invention will be explained in detail below using examples, but the content of the present invention is not limited to the actual Ifig/4.
実施例−１
基体にサイズ剤としてアルキルケテンダイマーを使用し
た坪１１９０ｇ／ｌｔＦの上質紙の片面にコロナ処理を
施しグラビアコーターを用いて電子線重合性組成物とし
てポリエチレングリコールジアクリレート（東亜合成化
学工業（株）製品、商品名アロニツクスＭ−２４５）を
２ｇ／ばの塗布量で塗布した後、電子線照射室内の酸素
濃度を窒素ガス置換により２００ ｐｐｍ＋以下にした
電子線照射装置（ＥＳＩ社製、商品名エレクトロカーテ
ン、ＴＹＰＥ ： ＣＢ２００／４５／３００）内に導
き一電子線加速電圧１７５Ｋｖ、照射電流２０ｍＡの条
件で吸収線量Ｉ Ｍｒａｄになるように塗布面側から電
子線照射した。こうして得られた電子線重合性組成物の
一部が重合硬化したシート上にグラビアコーターを用い
て電子線硬化性シリコーン樹脂（信越化学工業０株）、
商品名Ｘ−６２−７１６８）をＣＬ６ｇ／ｍ”の塗布量
で塗布した。その後、再度電子線照射装置内に導き同条
件で吸収線量３ Ｍｒａｄになるように電子線照射して
剥離用シートを得な。Example-1 One side of a high-quality paper of 1190 g/ltF using an alkyl ketene dimer as a sizing agent was corona-treated on one side, and polyethylene glycol diacrylate (Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.) was prepared as an electron beam polymerizable composition using a gravure coater. Co., Ltd. (product name: Aronix M-245) was applied at a coating amount of 2 g/ba, and then the oxygen concentration in the electron beam irradiation chamber was reduced to 200 ppm+ by nitrogen gas replacement using an electron beam irradiation device (manufactured by ESI, The sample was introduced into an electrocurtain (trade name: Electrocurtain, TYPE: CB200/45/300) and irradiated with an electron beam from the coated surface side under conditions of an electron beam acceleration voltage of 175 Kv and an irradiation current of 20 mA so that the absorbed dose was I Mrad. Electron beam curable silicone resin (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 0) was coated on a sheet in which a part of the electron beam polymerizable composition thus obtained was polymerized and cured using a gravure coater.
(trade name: Good value.
実施例−２
実施例−１と同様にして、電子線重合性組成物のみをペ
ンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成化学工
業（株）製品、商品名アロニツクスＭ−３０５）を１．
５ｇ／ｍ’の塗布量に変えて最初の電子線照射を上質紙
側から吸収ＩＩ ｊＬ ２ Ｍ ｒ ａ ｄになるよう
に行い、他の条件を同じにして剥離用シートを製造しな
。Example 2 In the same manner as in Example 1, only the electron beam polymerizable composition was prepared by adding pentaerythritol triacrylate (manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade name: Aronix M-305) to 1.
A release sheet was produced by changing the coating amount to 5 g/m' and performing the first electron beam irradiation from the high-quality paper side so that the absorption was II jL 2 M r a d, and keeping other conditions the same.
実施例−３
基体として坪量１００ｇ／ｒｎ’のポリエチレンテレフ
タレートフィルム（三菱樹脂（株）、商品名ダイアホイ
ル＃１００）を用い、片面にコロナ処理を施しグラビア
コーターを用い以下に示すような電子線重合性組成物を
２ｇ／ばの塗布量で塗布した。Example 3 A polyethylene terephthalate film (manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd., trade name Diafoil #100) with a basis weight of 100 g/rn' was used as the substrate, corona treatment was applied to one side, and an electron beam was applied using a gravure coater as shown below. The polymerizable composition was applied at a coating weight of 2 g/ba.
エポキシ変性アクリレートＴｏ−４５８３０部、アクリ
レートモノマー Ｍ−５７００７０部（両方とも東
亜合成化学工業（株）製品）吸収線量Ｉ Ｍｒａｄにな
るように塗布面側から電子線照射し１次にグラビアコー
ターを用い実施例−１と同様な電子線硬化性シリコーン
樹脂を０．６ｇ／ｌ＋？の塗布Ｒで塗布した後、実施例
−１と同様な条件で電子線照射を行い硬化して剥離用シ
ートを得な。Epoxy modified acrylate To-45,830 parts, acrylate monomer M-570,070 parts (both products from Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.) Electron beam irradiation was performed from the coated surface side so that the absorbed dose was I Mrad, and the first step was carried out using a gravure coater. 0.6g/l+ of electron beam curable silicone resin similar to Example-1? After coating with Coating R, it is cured by electron beam irradiation under the same conditions as in Example 1 to obtain a release sheet.
比較例−１
実施例−１と同様な上質紙にコロナ処理を施し、電子線
重合性組成物を塗布することなく直接実施例−１と同様
な電子線重合性シリコーン組成物を塗布し、実施例−１
と同様な電子線照射により硬化を行なった。得られたｉ
４］ｉｉ用シートはシリコーン樹脂のほとんどが紙にし
みこんだ物であった。Comparative Example-1 High quality paper similar to Example-1 was subjected to corona treatment, and the same electron-beam polymerizable silicone composition as in Example-1 was directly applied without applying the electron-beam polymerizable composition. Example-1
Curing was performed by electron beam irradiation in the same manner as above. Obtained i
4] Most of the silicone resin in the sheet for ii was soaked into the paper.
比較例−２
実施例−３と同様なポリエチレンテレフタレートフィル
ムを用い、片面にコロナ処理を施した後、電子線重合性
組成物を塗布せずにグラビアコーターを用いて実施例−
１と同様な電子線重合性シリコーン組成物を塗布し、実
施例−１と同様な電子線照射により硬化を行ない剥離用
シートを得た。Comparative Example-2 Using the same polyethylene terephthalate film as in Example-3, corona treatment was applied to one side, and then Example-2 was prepared using a gravure coater without applying the electron beam polymerizable composition.
The same electron beam polymerizable silicone composition as in Example 1 was applied and cured by the same electron beam irradiation as in Example 1 to obtain a release sheet.
比較例−３
実施例−１と同様な上質紙にコロナ処理を施し、熱硬化
型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）、商品名ＫＮＳ
−白金系触媒 ＣＡＴ ＰＬ−８含有）をシリコーン
重量が乾燥状態で０．６ｇ／ｍ”の塗布量になるように
塗布した。このようにして得られたシートを１４０℃の
乾燥話中で５０秒間加熱し硬化させた。得られた剥離用
シートはシリコーン樹脂のほとんどが紙にしみこんだ物
であった。Comparative Example 3 High-quality paper similar to Example 1 was corona-treated and treated with thermosetting silicone resin (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KNS).
- Platinum-based catalyst CAT PL-8 (containing CAT PL-8) was coated so that the silicone weight was 0.6 g/m'' in dry state. The resulting release sheet was cured by heating for a second, and most of the silicone resin had soaked into the paper.
比較例−４
実施例−１と同様な上質紙にコロナ処理を施し、実施例
−１と同様な電子線重合性組成物を塗布し、その上に直
接実施例−１と同様な電子線重合性シリコーン組成物を
塗布し、実施例−１と同様な電子線照射により硬化を行
なった。得られた剥離用シートは電子線重合性組成物お
よびシリコーン樹脂のほとんどが紙にしみこんだ物であ
った。Comparative Example-4 High-quality paper similar to Example-1 was corona treated, the same electron beam polymerizable composition as Example-1 was applied, and the same electron beam polymerization as Example-1 was directly applied thereon. The silicone composition was applied and cured by electron beam irradiation in the same manner as in Example-1. The resulting release sheet had most of the electron beam polymerizable composition and silicone resin soaked into the paper.
以上実施例１〜３．および比較＠１〜４で得られたｉ！
ｌ１ｇ１用シートについて粘着剤に対する！Ｉ１ｇ！抵
抗値、残留接着率、ラブオフ、カール、しわ、ピンホー
ルの有無の結果を第１表に示す。Above are Examples 1 to 3. and i! obtained in comparison @1-4!
About the l1g1 sheet against adhesive! I1g! Table 1 shows the results of resistance values, residual adhesion rates, rub-offs, curls, wrinkles, and the presence or absence of pinholes.
第１表 各剥離用シートの特性 Ｏ：優れる Δ：普通 Ｘ：劣る 試験方法は以下の通りである。Table 1 Characteristics of each release sheet O: Excellent Δ: Average X: Poor The test method is as follows.
［剥離強度］
上質紙上に粘着剤（東洋インキ（株）製、製品名ＢＰＳ
）を塗布し標準粘着シートとして使用した。得られた列
間用シート（ｇ２５ａｌｌ）を２０℃。[Peel strength] Adhesive (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., product name: BPS) on high-quality paper
) was applied and used as a standard adhesive sheet. The obtained inter-row sheet (g25all) was heated at 20°C.
湿度６５％の恒温恒温器内で２４時間放置した後。After being left in a thermostatic chamber at 65% humidity for 24 hours.
重ｆｆｉ ２０００ ｇの圧着ローラーで標準粘着シー
トに圧着し２０℃、湿度６５％の恒温恒温器内で２時間
数ｒｉ：後、テンシ、ロン（東洋ボールドウィン■社製
）で剥離角１８０°、剥離速度３０ｃｌｌ／分の条件で
連続して引き剥したときの荷重を剥゛−離強度とする。Press onto a standard adhesive sheet using a 2,000 g pressure roller, and after 2 hours in a thermostat at 20°C and 65% humidity, peel at a peel angle of 180° using Tenshi Ron (manufactured by Toyo Baldwin). The load when continuously peeled off at a speed of 30 cll/min is defined as the peel strength.
［残留接着率］
得られた剥離用シート（幅２５ｍ＠）を２０℃、湿度６
５％の恒温恒温器内で２４時間放置した後、を量２００
０ｇの圧着ローラーで標準粘着シートに圧着し２０℃、
湿度６５％、圧力０．１ ｋｇ／ｃｒｎ”の条件下で２
４時間加圧しな、Ｗ準粘着シートを制能用シートより剥
した後１表面を良く磨いた厚さ１．５ｍｍのステンレス
鋼板にはりつけ１重置２０００ｇの圧着ローラーで圧着
し２０℃、湿度６５％の恒温恒温器内で１時間放置後、
テンシロンで剥離角１８０°、制置速度３０ｃａ／分の
条件で連続して引き剥したときの荷重を！ｌＪｇｉ強度
として求める０次に１表面を良く磨いた厚さ１．５ ｍ
ｍ＋のステンレス鋼板に標準粘着シートをはりつけ、２
０℃、湿度６５％、圧力０．１ｋｇ／ａｍ”の条件下で
２４時間加圧した。常圧に戻してから、重￥ｉ２０００
ｇの圧着ローラーで圧着し２０℃、湿度６５％の恒温恒
温器内で１時間放置後、テンシロンで、剥離角１８０°
、剥離速度３０ｃｍ／分の条件で連続して引き剥したと
きの荷重を剥離強度として求める。[Residual adhesion rate] The obtained release sheet (width 25 m@) was heated at 20°C and humidity 6.
After leaving it in a 5% thermostat for 24 hours, the amount of 200
Pressed onto a standard adhesive sheet using a 0g pressure roller at 20°C.
2 under conditions of humidity 65% and pressure 0.1 kg/crn.
After applying pressure for 4 hours, peel off the W semi-adhesive sheet from the performance control sheet, then paste it on a 1.5 mm thick stainless steel plate with a well-polished surface and press it with a 2000g pressure roller placed at 20℃ and humidity 65℃. After leaving it for 1 hour in a constant temperature incubator,
The load when peeling off continuously with Tensilon at a peeling angle of 180° and a restraining speed of 30ca/min! Thickness of 1.5 m with well-polished 0th order 1 surface determined as lJgi strength
Attach the standard adhesive sheet to the m+ stainless steel plate, and
It was pressurized for 24 hours under the conditions of 0°C, humidity 65%, and pressure 0.1 kg/am.After returning to normal pressure, the weight was 2000 yen.
After being crimped with a crimping roller (g) and left in a constant temperature chamber at 20°C and 65% humidity for 1 hour, it was peeled off with a Tensilon at a peel angle of 180°.
The load when the sample is continuously peeled off at a peeling speed of 30 cm/min is determined as the peel strength.
残留接着率Ｒ（％）は次の式により求められる。The residual adhesion rate R (%) is determined by the following formula.
列間用シートへ接触後の粘着シートの剥離強度＝Ａとし
、剥離用シート紙へ未接触の粘着シートの、剥離強度二
Ｂとすると、Ｒ＝ （Ａ／Ｂ）Ｘ１００−［ラブオフ］
剥離用シートのシリコーン面を指で強く擦り、シリコー
ン面の剥離を目視により判定した。If the peel strength of the adhesive sheet after contacting the inter-row sheet is A, and the peel strength of the adhesive sheet not in contact with the release sheet paper is 2B, then R = (A/B)X100-[Rub-off] For peeling The silicone surface of the sheet was strongly rubbed with a finger, and peeling of the silicone surface was visually determined.
［ビンホールコ
剥離用シートのシリコーン面を染料を溶かしたトルエン
で濡らし、裏面より染み込み具合いを観察した。[The silicone side of the vinyl release sheet was wetted with toluene in which the dye was dissolved, and the degree of penetration was observed from the back side.
［カールおよびしわコ
２０℃、温度６５％の条件における相対比較により判定
した。[Curls and wrinkles were determined by relative comparison under conditions of 20° C. and 65% temperature.
ＣＧ）発明の効果
実施例および比較例で作成した剥離用シートについて粘
着剤に対するＭ離抵抗値、Ｐｉ留接接着率ラブオフ、カ
ール、しわ−ピンホールの有無の結果を第１表に示す、
第１表より明らかなように実施例１，２．３により得ら
れた剥離用シートは剥離強度が小さく残留接着率が大き
い、さちに高温加熱処理を施していないためカール−１
しわ、ピンホールのない優れた特性を有している。これ
に対して同じ電子線重合性シリコーン組成物を用いても
比較例１のごとく電子線重合性組成物による下塗り層が
ないものはシリコーン樹脂が紙基体にしみこみ、結果と
して剥離強度が大きくなり、シリコーン樹脂の成膜性が
悪いためにピンホールも極めて多い、比較例３により得
られた剥離用シートも比較例２の剥離用シートとほぼ同
じ欠点を有し、かつ高温加熱処理に由来するカール、し
わも著しい、比較例２により得られな列間用シートに関
してはシリコーン樹脂とポリエチレンテレフタレートフ
ィルムとの接着性が悪く、シリコーン樹脂が摩擦により
剥離するいわゆるラブオフの現象を起こすという欠点を
有していた。CG) Effects of the Invention Table 1 shows the results of M release resistance to adhesive, Pi adhesive adhesion rate rub-off, curl, wrinkles, and presence/absence of pinholes for the release sheets prepared in Examples and Comparative Examples.
As is clear from Table 1, the release sheets obtained in Examples 1 and 2.3 had a low peel strength and a high residual adhesion rate.
It has excellent properties with no wrinkles or pinholes. On the other hand, even if the same electron beam polymerizable silicone composition is used, in the case where there is no undercoat layer made of the electron beam polymerizable composition as in Comparative Example 1, the silicone resin soaks into the paper base, resulting in a high peel strength. The release sheet obtained in Comparative Example 3 has almost the same drawbacks as the release sheet in Comparative Example 2, including an extremely large number of pinholes due to the poor film-forming properties of the silicone resin, and curls caused by high-temperature heat treatment. The inter-row sheet obtained in Comparative Example 2, which also had significant wrinkles, had the disadvantage of poor adhesion between the silicone resin and the polyethylene terephthalate film, causing the so-called rub-off phenomenon in which the silicone resin peeled off due to friction. Ta.
以上記載したごとく本発明による方法により、カール、
しわ、ピンホール等の発生がなく、各種基体との接着性
に優れ、ラブオフの現象の起きない剥離用シートを少な
い工程で作成できる。As described above, by the method according to the present invention, curls,
A release sheet that does not generate wrinkles, pinholes, etc., has excellent adhesion to various substrates, and does not cause rub-off can be created with fewer steps.
第１図は本発明の剥離用シートの一例を示す側面概略図
である。
第２図は本発明の剥離用シート製造装置の一例を示す側
面概略図である。
第３図は剥離用シート製造装置の他の一例を示・す側面
概略図である。
１：基体シート−２：＠子線重合性組成物。
３：電子線重合性シリコーン組成物、４：供給ロー、ル
、５：コーター、６：コーター、７：を子線照射装置、
８：剥離用シート、９：巻き取りロール、１０：コロナ
発生装置。
第１ｒ；ＩＪ
第２図FIG. 1 is a schematic side view showing an example of the release sheet of the present invention. FIG. 2 is a schematic side view showing an example of the release sheet manufacturing apparatus of the present invention. FIG. 3 is a schematic side view showing another example of a release sheet manufacturing apparatus. 1: Base sheet-2: @ Column polymerizable composition. 3: Electron beam polymerizable silicone composition, 4: Supply roll, 5: Coater, 6: Coater, 7: Child beam irradiation device,
8: Peeling sheet, 9: Winding roll, 10: Corona generator. 1r; IJ Figure 2
Claims (4)
と接着性の良い電子線重合性組成物層を塗布し、電子線
照射により電子線重合性組成物層の一部を重合させ、さ
らにその上に電子線重合性であり、かつ硬化後に剥離性
を有する組成物層を塗布した後、電子線照射により両層
を同時に硬化させることにより作成することを特徴とす
る剥離用シートの製造方法。(1) Apply an electron beam polymerizable composition layer that has good adhesion to the substrate on at least one side of a paper or film substrate, polymerize a part of the electron beam polymerizable composition layer by electron beam irradiation, and then 1. A method for producing a release sheet, comprising applying a composition layer that is electron beam polymerizable and having release properties after curing, and then simultaneously curing both layers by electron beam irradiation.
クリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物か
らなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の剥
離用シートの製造方法。(2) The method for producing a release sheet according to claim 1, wherein the electron beam polymerizable composition having good adhesion to the substrate comprises a compound having an acryloyl group or a methacryloyl group.
する組成物が、分子末端、または側鎖にアクリロイル基
、メタクリロイル基、ビニル基の中から選択される官能
基を有する有機ポリシロキサンからからなることを特徴
とする特許請求の範囲第１項および第２項記載の剥離用
シートの製造方法。(3) The composition which is electron beam polymerizable and has removability after curing is an organic polysiloxane having a functional group selected from acryloyl group, methacryloyl group, and vinyl group at the molecular end or side chain. A method for producing a release sheet according to claims 1 and 2, characterized in that the release sheet comprises:
布し、電子線照射により電子線重合性組成物層の一部を
重合させるにあたって、該基体の側から電子線を照射す
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項、お
よび第３項記載の剥離用シートの製造方法。(4) Applying an electron beam polymerizable composition layer that has good adhesion to the substrate, and irradiating a part of the electron beam polymerizable composition layer with electron beam irradiation from the side of the substrate. A method for producing a release sheet according to claims 1, 2, and 3, characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62279529A JPH07368B2 (en) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | Method for manufacturing release sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62279529A JPH07368B2 (en) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | Method for manufacturing release sheet |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01121388A true JPH01121388A (en) | 1989-05-15 |
| JPH07368B2 JPH07368B2 (en) | 1995-01-11 |
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ID=17612281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62279529A Expired - Lifetime JPH07368B2 (en) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | Method for manufacturing release sheet |
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