JPH01116601A - スピネル系透光性複合材 - Google Patents
スピネル系透光性複合材Info
- Publication number
- JPH01116601A JPH01116601A JP62275278A JP27527887A JPH01116601A JP H01116601 A JPH01116601 A JP H01116601A JP 62275278 A JP62275278 A JP 62275278A JP 27527887 A JP27527887 A JP 27527887A JP H01116601 A JPH01116601 A JP H01116601A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spinel
- film
- spinel type
- base material
- transmittance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 47
- 239000011029 spinel Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 17
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 13
- -1 ThF_4 Chemical compound 0.000 claims description 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 8
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 abstract description 5
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282373 Panthera pardus Species 0.000 description 1
- 229910004299 TbF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001272 pressureless sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- LKNRQYTYDPPUOX-UHFFFAOYSA-K trifluoroterbium Chemical compound F[Tb](F)F LKNRQYTYDPPUOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レンズ、プリズム、光学窓のような光学部品
等の材料として好適な透光性の複合材に関する。
等の材料として好適な透光性の複合材に関する。
航空機や宇宙船等の高速飛翔体の外面に装着される光学
窓等には、優れた耐久性と共に優れた透光性が要求され
る。又、このような光学窓等には光学系として用いる光
の波長によって、紫外光、可視光、近赤外光、中赤外光
、遠赤外光等を良好に透過する材料が夫々選択されてい
る。
窓等には、優れた耐久性と共に優れた透光性が要求され
る。又、このような光学窓等には光学系として用いる光
の波長によって、紫外光、可視光、近赤外光、中赤外光
、遠赤外光等を良好に透過する材料が夫々選択されてい
る。
従来、中赤外光用の透光性材料としては、単結晶の又は
ホットプレス法により製造した多結晶の弗化カルシウム
(CaF )や弗化マグネシウム(MgF2)等が用い
られてきた。これらの弗化物系透光性材料は波長3〜6
μmの中赤外光に対して最高で約90%(厚さ3間)の
優れた透過率を示す−0しかし、このような弗化物系透
光性材料はヌープ硬度がOaF で約160及びMg?
で約420程度と低いため、高速飛翔体の光学窓に
用いると大気中に浮遊するダストやヒョウ等の固形粒子
との衝突又は雨滴との高速衝突等により、表面が傷つい
たリ、レインエロージョンと呼ばれる化学的機械的腐食
が発生しやすい欠点があった。
ホットプレス法により製造した多結晶の弗化カルシウム
(CaF )や弗化マグネシウム(MgF2)等が用い
られてきた。これらの弗化物系透光性材料は波長3〜6
μmの中赤外光に対して最高で約90%(厚さ3間)の
優れた透過率を示す−0しかし、このような弗化物系透
光性材料はヌープ硬度がOaF で約160及びMg?
で約420程度と低いため、高速飛翔体の光学窓に
用いると大気中に浮遊するダストやヒョウ等の固形粒子
との衝突又は雨滴との高速衝突等により、表面が傷つい
たリ、レインエロージョンと呼ばれる化学的機械的腐食
が発生しやすい欠点があった。
その為、新しい中赤外光用透光性材料として多くの材料
が研究開発されているが、なかでもスピネル(MgA1
204)は有望な材料のひとつである。スピネルはマグ
ネシア(MgO)とアルミナ(A1.、O)よム 3 りなる酸化物であって、ヌープ硬度が1750程度と高
く、融点が2000 C以上で耐熱性も高い。又、スピ
ネルはホットプレス法、焼結助剤を添加した常圧焼結法
、溶融鋳込み法などにより多結晶体が製造でき、結晶型
が立方晶であるため結晶粒界による光散乱がなく、°透
光性のよい材料が得られや丁い利点がある。
が研究開発されているが、なかでもスピネル(MgA1
204)は有望な材料のひとつである。スピネルはマグ
ネシア(MgO)とアルミナ(A1.、O)よム 3 りなる酸化物であって、ヌープ硬度が1750程度と高
く、融点が2000 C以上で耐熱性も高い。又、スピ
ネルはホットプレス法、焼結助剤を添加した常圧焼結法
、溶融鋳込み法などにより多結晶体が製造でき、結晶型
が立方晶であるため結晶粒界による光散乱がなく、°透
光性のよい材料が得られや丁い利点がある。
しかしながら、スピネルの透過率は波長3〜6μmの中
赤外光に対して最高でも約85%(厚さ3朋)程度と弗
化物系材料に比べて低くζ従来がらの約90%以上の透
過率を前提とした光学系の設計の観点からは問題であり
、透過率の向上が強く望まれていた。
赤外光に対して最高でも約85%(厚さ3朋)程度と弗
化物系材料に比べて低くζ従来がらの約90%以上の透
過率を前提とした光学系の設計の観点からは問題であり
、透過率の向上が強く望まれていた。
このように、スピネルの透過率が約85%(厚さ3朋)
程度に留まる原因は主としてスピネル表面での反射損失
によるものと考えられる。スピネルの屈折率は1.62
(波長4μm)であるから、その表面での計算上の反
射率は片面5.6%である。
程度に留まる原因は主としてスピネル表面での反射損失
によるものと考えられる。スピネルの屈折率は1.62
(波長4μm)であるから、その表面での計算上の反
射率は片面5.6%である。
この反射損失をなくし又は低減させるため一般的には反
射防止膜が朋いられるのであるが、各種の反射防止膜の
特性は可視光域では明らかになっているが赤外光域では
殆ど知られておらず、又付着強度などスピネル基材との
関係においてもどのような材料が適当であるか全く知ら
れていなかった。
射防止膜が朋いられるのであるが、各種の反射防止膜の
特性は可視光域では明らかになっているが赤外光域では
殆ど知られておらず、又付着強度などスピネル基材との
関係においてもどのような材料が適当であるか全く知ら
れていなかった。
本発明はかかる従来の事情に鑑み、スピネル基材に最適
な反射防止膜を設けることにより透過率企最高で約90
%以上に向上させ、同時に硬度が高く耐久性にも優れ、
高速飛翔体の光学窓材料としても好適な、スピネル系透
光性複合材を提供することを目的とするものである。
な反射防止膜を設けることにより透過率企最高で約90
%以上に向上させ、同時に硬度が高く耐久性にも優れ、
高速飛翔体の光学窓材料としても好適な、スピネル系透
光性複合材を提供することを目的とするものである。
本発明のスピネル系透光性複合材は、透光性のスピネル
基材の少なくとも一表面に弗化マグネシウム被膜を形成
したことを特徴とする。
基材の少なくとも一表面に弗化マグネシウム被膜を形成
したことを特徴とする。
スピネル基材は従来と同様にマグネシア粉末とアルミナ
粉末を用いたホットプレス法や焼結助剤を添加した常圧
焼結法、溶融鋳込み法などにより製造された多結晶体で
あってよい。
粉末を用いたホットプレス法や焼結助剤を添加した常圧
焼結法、溶融鋳込み法などにより製造された多結晶体で
あってよい。
スピネル基材表面に設ける弗化マグネシウム被膜は、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法
等の通常の薄膜形成法により形成Tることかできる。
空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法
等の通常の薄膜形成法により形成Tることかできる。
弗化マグネシウム(MgF)の中赤外光域での屈折率を
プリズム法により波長別に測定した結果、下記Tる値が
得られた。
プリズム法により波長別に測定した結果、下記Tる値が
得られた。
他方、スピネルの屈折率は前記したように波長4μmで
1.62であるから、スピネル基材の反射防止膜の屈折
率は計算上その平方根である1、273が望ましい。中
赤外光域においてこの様な小さな屈折率を有する透光性
材料としては、上記のMgF2の他にNaF、 OaF
、 BaF などが考えられる。しかし、NaF、
CaF2及びBaF2はいずれも強度、水への溶解度
などの点で望ましくなく、NaFは毒性がある点でも好
ましくない。
1.62であるから、スピネル基材の反射防止膜の屈折
率は計算上その平方根である1、273が望ましい。中
赤外光域においてこの様な小さな屈折率を有する透光性
材料としては、上記のMgF2の他にNaF、 OaF
、 BaF などが考えられる。しかし、NaF、
CaF2及びBaF2はいずれも強度、水への溶解度
などの点で望ましくなく、NaFは毒性がある点でも好
ましくない。
然るに、MgF2は上記したように中赤外光域における
スピネルの反射防止膜として好ましい屈折率を有するう
え、化学的及び機械的にも良好な特性を具えているので
、MgF をスピネル基材表面に被膜形成することに
より、大幅に反射損失を低減して透過率を向上させるこ
とができ、しがも高速飛翔体の如く厳しい使用条件下に
おいても実用でさる透光性複合材が得られる。
スピネルの反射防止膜として好ましい屈折率を有するう
え、化学的及び機械的にも良好な特性を具えているので
、MgF をスピネル基材表面に被膜形成することに
より、大幅に反射損失を低減して透過率を向上させるこ
とができ、しがも高速飛翔体の如く厳しい使用条件下に
おいても実用でさる透光性複合材が得られる。
第2図は単層のMgF 被膜を表面に有Tるスピネル
の波長4μmにおける反射率とMgF 被膜の膜厚と
の関係を示したものであり、前記の通りスピネル自体の
反射率が5.6%であるにも拘らずMgF2膜厚の0.
4〜1.1μmの範囲で3%以下の反射率となること、
及び最適なMgF 膜厚は0.74μm付近であるこ
とが判る。
の波長4μmにおける反射率とMgF 被膜の膜厚と
の関係を示したものであり、前記の通りスピネル自体の
反射率が5.6%であるにも拘らずMgF2膜厚の0.
4〜1.1μmの範囲で3%以下の反射率となること、
及び最適なMgF 膜厚は0.74μm付近であるこ
とが判る。
第3図は膜厚0.74μmの単層のMgF 被膜を有
するスピネルの反射率と波長の関係を示したものであり
、波長3〜6μmの中赤外光域で3%以下の反射率とな
ること、及び最小反射率は波長4μm付近で得られるこ
とが判る。
するスピネルの反射率と波長の関係を示したものであり
、波長3〜6μmの中赤外光域で3%以下の反射率とな
ること、及び最小反射率は波長4μm付近で得られるこ
とが判る。
最小反射率のピークを更に幅広いものとする為に、Mg
F2と屈折率の異なる被膜を組合わせた多層被膜にする
ことができ、その場合にMgF 被膜に組合わせる被
膜としてはNapXf:!aF % BaF s 5i
nsZnSXZnSe、 TbF3又はMgO等が好ま
しい。
F2と屈折率の異なる被膜を組合わせた多層被膜にする
ことができ、その場合にMgF 被膜に組合わせる被
膜としてはNapXf:!aF % BaF s 5i
nsZnSXZnSe、 TbF3又はMgO等が好ま
しい。
尚、スピネルは波長0.3μmの紫外光から、可視光、
更に波長6μmの中赤外光までの広い領域で、80%程
度の良好な透過率を示す。従って、中赤外光域以外の波
長領域でもスピネルを光学材料として用いることが可能
であり、その場合にも膜厚を波長に合わせて調節子れば
’MgF 被膜がスピネルの透光性の向上に有効である
。
更に波長6μmの中赤外光までの広い領域で、80%程
度の良好な透過率を示す。従って、中赤外光域以外の波
長領域でもスピネルを光学材料として用いることが可能
であり、その場合にも膜厚を波長に合わせて調節子れば
’MgF 被膜がスピネルの透光性の向上に有効である
。
実施例1
純度99.9%、粒径約1μmのA40 粉末及びM
gO粉末を2A40 : lMgOのモル比で混合し
、1ton、イ扁2の圧力で静水圧成形し、これを直径
50門で深さ20朋のMo容器中に入れ、Hθ雰囲気中
で2050 Cの温度で溶解し、一方向から冷却して凝
固させた。
gO粉末を2A40 : lMgOのモル比で混合し
、1ton、イ扁2の圧力で静水圧成形し、これを直径
50門で深さ20朋のMo容器中に入れ、Hθ雰囲気中
で2050 Cの温度で溶解し、一方向から冷却して凝
固させた。
この鋳込材から、直径20酩及び厚さ3朋の光学研磨加
工したスピネル基材を得た。このスピネル基材の赤外分
光透過率を測定したところ、第1図における曲線Aのチ
ャートが得られた。
工したスピネル基材を得た。このスピネル基材の赤外分
光透過率を測定したところ、第1図における曲線Aのチ
ャートが得られた。
次に、このスピネル基材を有機溶剤で洗浄した後、真空
蒸着装置中においてTaボート内で溶融したMgF
を蒸着させ、膜厚モニターで膜厚を0.74μmとした
MgF 被膜を一表面上に形成した。更に同じ手順で
他方の表面上にも同じ膜厚のMgF 被膜を形成した
。得られたスピネル系透光性複合材の赤外分光透過率を
測定したところ、第1図における曲線Bのチャートが得
られ、最高のピーク透過率は96%であった。
蒸着装置中においてTaボート内で溶融したMgF
を蒸着させ、膜厚モニターで膜厚を0.74μmとした
MgF 被膜を一表面上に形成した。更に同じ手順で
他方の表面上にも同じ膜厚のMgF 被膜を形成した
。得られたスピネル系透光性複合材の赤外分光透過率を
測定したところ、第1図における曲線Bのチャートが得
られ、最高のピーク透過率は96%であった。
実施例2
アルコキシド法により製造した純度99.9%及び粒径
1μmの等モル組成(IA40 : 1.Mg0)の
ヌピネル粉末に2重量%のLiF微粉末を添加し、真空
中で1000 rに加熱した後、1450Cで1 to
ν論の圧力で1時間真空ホットプレスした。得られた焼
結材から、直径2Qmm及び厚さ3朋の光学研磨加工し
たスピネル基材を得た。このスピネル基材の赤外分光透
過率分測定したところ、第1図における実施例1の曲線
Aと同様であるが平均して数%だけ透過率の低いチャー
トが得られた。
1μmの等モル組成(IA40 : 1.Mg0)の
ヌピネル粉末に2重量%のLiF微粉末を添加し、真空
中で1000 rに加熱した後、1450Cで1 to
ν論の圧力で1時間真空ホットプレスした。得られた焼
結材から、直径2Qmm及び厚さ3朋の光学研磨加工し
たスピネル基材を得た。このスピネル基材の赤外分光透
過率分測定したところ、第1図における実施例1の曲線
Aと同様であるが平均して数%だけ透過率の低いチャー
トが得られた。
次に、このスピネル基材を有機溶剤で洗浄した後、真空
蒸着装置中において電子ビームで溶融したMgF を
蒸着源として蒸着させ、膜厚を0.74μmのMgF
被膜を一表面上に形成した。更に同じ手順で他方の表面
上にも同じ膜厚のMgF 被膜を形成した。得られた
スピネル系透光性複合材の赤外分光透過率を測定したと
ころ、第1図における実施例1の曲線Bと同様のチャー
トが得られ、最高のピーク透過率は94%であった。
蒸着装置中において電子ビームで溶融したMgF を
蒸着源として蒸着させ、膜厚を0.74μmのMgF
被膜を一表面上に形成した。更に同じ手順で他方の表面
上にも同じ膜厚のMgF 被膜を形成した。得られた
スピネル系透光性複合材の赤外分光透過率を測定したと
ころ、第1図における実施例1の曲線Bと同様のチャー
トが得られ、最高のピーク透過率は94%であった。
本発明によれば、スピネル基材に反射防止膜としてMg
F 被膜を設けることにより、透過率を最高で約90%
以上に向上させ、同時に硬度が高く耐久性にも優れたス
ピネル系透光性複合材を提供することができる。
F 被膜を設けることにより、透過率を最高で約90%
以上に向上させ、同時に硬度が高く耐久性にも優れたス
ピネル系透光性複合材を提供することができる。
このスピネル系透光性複合材は、中赤外光を中心に、紫
外光から可視光、近赤外光までの波長範囲で使用される
レンズ、プリズム、光学?lの光学部品の材料として有
用であって、特に航空機や宇宙船等の高速飛翔体の外面
に装着される光学窓として使用すれば優れた透光性と同
時に優れた耐久性を示し特に有用である。
外光から可視光、近赤外光までの波長範囲で使用される
レンズ、プリズム、光学?lの光学部品の材料として有
用であって、特に航空機や宇宙船等の高速飛翔体の外面
に装着される光学窓として使用すれば優れた透光性と同
時に優れた耐久性を示し特に有用である。
第1図は実施例1において製造したスピネル基たグラフ
である。第2図は単層のMgF 被膜を表面に有するス
ピネル系透光性複合材の波長4μmにおける反射率とM
gF 被膜の膜厚との関係を示丁グラフである。第3
図は膜厚0.74μmの単層のMgF 被膜を有する
スピネル系透光性複合材の反射率と波長の関係を示すグ
ラフである。 出願人 住友電気工業株式会社 第1図 波長CPm)
である。第2図は単層のMgF 被膜を表面に有するス
ピネル系透光性複合材の波長4μmにおける反射率とM
gF 被膜の膜厚との関係を示丁グラフである。第3
図は膜厚0.74μmの単層のMgF 被膜を有する
スピネル系透光性複合材の反射率と波長の関係を示すグ
ラフである。 出願人 住友電気工業株式会社 第1図 波長CPm)
Claims (4)
- (1)透光性のスピネル基材の少なくとも一表面に弗化
マグネシウム被膜を形成したことを特徴とするスピネル
系透光性複合材。 - (2)上記弗化マグネシウム被膜の膜厚が0.4〜1.
1μmであることを特徴とする、特許請求の範囲(1)
項記載のスピネル系透光性複合材。 - (3)透過率のピークが波長3〜6μmの中赤外光域で
あることを特徴とする、特許請求の範囲(1)項又は(
2)項記載のスピネル系透光性複合材。 - (4)上記弗化マグネシウム被膜を、NaF、CaF_
2、BaF、SiO、ZnS、ZnSe、ThF_4又
はMgOからなる少なくとも1種の被膜と組合わせて形
成したことを特徴とする、特許請求の範囲(1)〜(3
)項のいずれかに記載のスピネル系透光性複合材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62275278A JPH01116601A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | スピネル系透光性複合材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62275278A JPH01116601A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | スピネル系透光性複合材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01116601A true JPH01116601A (ja) | 1989-05-09 |
Family
ID=17553198
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62275278A Pending JPH01116601A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | スピネル系透光性複合材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01116601A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006251805A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Schott Ag | マイクロリトグラフィー用光学素子の作製方法、同方法により得られるレンズ系、及び同レンズ系の使用方法 |
JP2008523426A (ja) * | 2004-12-09 | 2008-07-03 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | マイクロリソグラフィ投影露光装置用の透過光学素子および対物レンズ |
WO2024018928A1 (ja) * | 2022-07-19 | 2024-01-25 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 構造体、赤外線検知装置、発光装置及び構造体の製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58107502A (ja) * | 1981-12-22 | 1983-06-27 | サンマスタ−・コ−ポレ−ション | 低反射の太陽エネルギ−選択被覆を備える太陽エネルギ−収集器 |
JPS59121158A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-13 | 日本碍子株式会社 | 多結晶透明スピネル焼結体の製造法 |
JPS61117503A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-04 | Shinku Kikai Kogyo Kk | フツ化物被膜の形成方法 |
JPS61133901A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-21 | ツエー・ライヘルト・オプテイツシエ・ヴエルケ・アーゲー | 光学素子 |
JPS6272556A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-03 | 三菱マテリアル株式会社 | 緻密な多結晶MgAl↓2O↓4スピネルの製造方法 |
JPS6273203A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-03 | Hitachi Ltd | 無反射処理基板およびその製造方法 |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP62275278A patent/JPH01116601A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58107502A (ja) * | 1981-12-22 | 1983-06-27 | サンマスタ−・コ−ポレ−ション | 低反射の太陽エネルギ−選択被覆を備える太陽エネルギ−収集器 |
JPS59121158A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-13 | 日本碍子株式会社 | 多結晶透明スピネル焼結体の製造法 |
JPS61117503A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-04 | Shinku Kikai Kogyo Kk | フツ化物被膜の形成方法 |
JPS61133901A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-21 | ツエー・ライヘルト・オプテイツシエ・ヴエルケ・アーゲー | 光学素子 |
JPS6272556A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-03 | 三菱マテリアル株式会社 | 緻密な多結晶MgAl↓2O↓4スピネルの製造方法 |
JPS6273203A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-03 | Hitachi Ltd | 無反射処理基板およびその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008523426A (ja) * | 2004-12-09 | 2008-07-03 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | マイクロリソグラフィ投影露光装置用の透過光学素子および対物レンズ |
JP2006251805A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Schott Ag | マイクロリトグラフィー用光学素子の作製方法、同方法により得られるレンズ系、及び同レンズ系の使用方法 |
WO2024018928A1 (ja) * | 2022-07-19 | 2024-01-25 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 構造体、赤外線検知装置、発光装置及び構造体の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4461532A (en) | Heat rays reflecting film | |
US3410625A (en) | Multi-layer interference film with outermost layer for suppression of pass-band reflectance | |
JP2716230B2 (ja) | 赤外線透過性材料 | |
US5340607A (en) | Vapor-deposition material for the production of high-refraction optical coatings | |
US4944581A (en) | Rear face reflection mirror of multilayer film for synthetic resin optical parts | |
WO2019054145A1 (ja) | カルコゲナイドガラス材 | |
AU2020281146A1 (en) | Optical component with scratch resistant anti-reflection coating and method for producing same | |
US5415946A (en) | Vapor-deposition material for the production of optical coatings of medium refractive index | |
AU2019205016B2 (en) | Optical component with scratch resistant anti-reflection coating and method for producing same | |
US5688608A (en) | High refractive-index IR transparent window with hard, durable and antireflective coating | |
WO1998058280A1 (en) | Low absorption coatings for infrared laser optical elements | |
JPH01116601A (ja) | スピネル系透光性複合材 | |
JP2011084819A (ja) | 高屈折率光学層を製造するための蒸着材料 | |
WO2023008123A1 (ja) | 膜付き基材及びその製造方法 | |
JPH01145601A (ja) | 酸化イツトリウム系透光性複合材 | |
JPH01128001A (ja) | 酸窒化アルミニウム系透光性複合材 | |
JPH03242319A (ja) | 中間的屈折率を有する透明被覆 | |
JP2006072031A (ja) | 赤外域用反射防止膜およびこれを用いた赤外線レンズ | |
JPH1184102A (ja) | 防曇性被覆およびこれを用いた光学部品 | |
US3493289A (en) | Coated optical devices | |
JPH0815501A (ja) | 赤外域用反射防止膜 | |
JP3404346B2 (ja) | 光学薄膜の製造方法及び光学薄膜を有する基板の製造方法 | |
JP3610777B2 (ja) | 赤外域用反射防止膜及び透過窓 | |
JPS5941163B2 (ja) | 多層干渉膜 | |
JPS63175802A (ja) | 弗化カルシウム系透光性複合材 |