JPH01115043A - 走査電子顕微鏡を用いた欠陥検査装置 - Google Patents
走査電子顕微鏡を用いた欠陥検査装置Info
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- JPH01115043A JPH01115043A JP62270132A JP27013287A JPH01115043A JP H01115043 A JPH01115043 A JP H01115043A JP 62270132 A JP62270132 A JP 62270132A JP 27013287 A JP27013287 A JP 27013287A JP H01115043 A JPH01115043 A JP H01115043A
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 3
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体等の異物及び欠陥検査に係わり、特に微
細な欠陥の検査に好適な異物及び欠陥検査方式に関する
。
細な欠陥の検査に好適な異物及び欠陥検査方式に関する
。
従来、半導体等の異物及び欠陥の検査においては、光学
Wi微鏡、走査電子顕微鏡等の各種顕微鏡を用いた目視
観察、また、レーザ光で試料上を走査し、異物、欠陥等
による異状散乱光を自動的に検出する装置等が用いられ
ている。これらについては、電子材料、1983年別冊
、第204頁から第209頁において論じられている。
Wi微鏡、走査電子顕微鏡等の各種顕微鏡を用いた目視
観察、また、レーザ光で試料上を走査し、異物、欠陥等
による異状散乱光を自動的に検出する装置等が用いられ
ている。これらについては、電子材料、1983年別冊
、第204頁から第209頁において論じられている。
上記従来技術のうち、目視amによるものは。
検査者の個人差や効率の点に問題があり、レーザ走査の
方式では、対象形状の微細化により分離能が不足である
という開運があった。
方式では、対象形状の微細化により分離能が不足である
という開運があった。
本発明の目的は、高分解能が、検査者の個人差のない、
効率的な、異物及び欠陥検査方式を提供することにある
。
効率的な、異物及び欠陥検査方式を提供することにある
。
上記目的は走査電子顕微鏡に複数の2次電子等の検出器
をとりつけ、それぞれの検出器より得た画像信号を演算
して、試料上の各点で、その面の傾きのような、その点
の性質を表す量を求め、そ、れを予め知られているとこ
ろの、正常な試料における、その点の性質を表す量と比
較し、この範囲を越えるかどうかを比較することにより
達成され′る。
をとりつけ、それぞれの検出器より得た画像信号を演算
して、試料上の各点で、その面の傾きのような、その点
の性質を表す量を求め、そ、れを予め知られているとこ
ろの、正常な試料における、その点の性質を表す量と比
較し、この範囲を越えるかどうかを比較することにより
達成され′る。
複数の検出器より得た画像により、検出器−個では得ら
れなかった試料表面の性質を表す量を高精度で求めるこ
とができる。このため、欠陥部分を高精度で抽出するこ
とが可能となる。特に、半導体等のように、その表面バ
タン形状が、多面体と近似できる形状では、面の法線方
向が、ある特定の有限個の値の付近に集中しているので
、試料表面の性質を表す量として、この面の法線方向す
なわち、面の傾きを選ぶことができる。複数の検出器の
信号より、法線方向を求める方式は種々提案されている
が1例え&f、向い合った検出器の信号の差分を相乗平
均で割ったものの半分が、2つの検出器を結ぶ方向の傾
きと対応することが知られている。これを用いると、9
0@ごとに配置され、試料を囲む形に4個の検出器を配
置し、互いに相向い合う、2組の検出器を用いれば1面
の法線方向を決定することができる。この値と、予め知
られている値との一致不一致を調べれば、面形状が意図
された傾きで作成されているかどうかが判定できる。一
般に欠陥や異物は、この条件を満していないものがほと
んどなので、これで高精度な判定をすることができる。
れなかった試料表面の性質を表す量を高精度で求めるこ
とができる。このため、欠陥部分を高精度で抽出するこ
とが可能となる。特に、半導体等のように、その表面バ
タン形状が、多面体と近似できる形状では、面の法線方
向が、ある特定の有限個の値の付近に集中しているので
、試料表面の性質を表す量として、この面の法線方向す
なわち、面の傾きを選ぶことができる。複数の検出器の
信号より、法線方向を求める方式は種々提案されている
が1例え&f、向い合った検出器の信号の差分を相乗平
均で割ったものの半分が、2つの検出器を結ぶ方向の傾
きと対応することが知られている。これを用いると、9
0@ごとに配置され、試料を囲む形に4個の検出器を配
置し、互いに相向い合う、2組の検出器を用いれば1面
の法線方向を決定することができる。この値と、予め知
られている値との一致不一致を調べれば、面形状が意図
された傾きで作成されているかどうかが判定できる。一
般に欠陥や異物は、この条件を満していないものがほと
んどなので、これで高精度な判定をすることができる。
以下、本発明の一実施例である走査電子顕微鏡による半
導体表面パタンの欠陥検査装置について第1図から第3
図を用いて説明する。第2図は、本発明の一実施例であ
る走査−子顕微鏡による半導体表面パタンの欠陥検査表
面のハードウェア構成図である。走査電子顕微fi(以
下SEMと略す)の鏡体201中の電子銃202より放
出された電子線203は電子レンズ系204により収束
偏向し、試料台205上の試料206が入射する。この
入射に対応し、試料表面から、2次電子207が放出さ
れ、検出器により検出される0本実施例では、検出器は
4面備えてあり、図中にそれぞれ番号208,209,
210,211を付しである。これらの検出信号は、そ
れぞれA/D変換器212によりアナログ信号よりデジ
タル信号に変換され、キーボード213の入力指示によ
り動作する計算機214に送られる。この信号あるいは
、演算結果はCRT215に表示される。次に第1図は
第2図の計算機214中で主に行われるソフトウェア処
理の流れ図である。ブロック101において。
導体表面パタンの欠陥検査装置について第1図から第3
図を用いて説明する。第2図は、本発明の一実施例であ
る走査−子顕微鏡による半導体表面パタンの欠陥検査表
面のハードウェア構成図である。走査電子顕微fi(以
下SEMと略す)の鏡体201中の電子銃202より放
出された電子線203は電子レンズ系204により収束
偏向し、試料台205上の試料206が入射する。この
入射に対応し、試料表面から、2次電子207が放出さ
れ、検出器により検出される0本実施例では、検出器は
4面備えてあり、図中にそれぞれ番号208,209,
210,211を付しである。これらの検出信号は、そ
れぞれA/D変換器212によりアナログ信号よりデジ
タル信号に変換され、キーボード213の入力指示によ
り動作する計算機214に送られる。この信号あるいは
、演算結果はCRT215に表示される。次に第1図は
第2図の計算機214中で主に行われるソフトウェア処
理の流れ図である。ブロック101において。
4つの検出器208,209,210,211より得た
画像を計算機214中に入力する。ブロック102では
、試料表面のX微分を計算する。第2図検出器1 (2
08)と検出器3(210)がX軸と平行に配置される
ように装置を準備しておき、作用の項で説明した方式で
計算する。ブロック103では、同様に第2図検出器2
(209)と検出器4(211)より、X微分を求める
。ブロック104では、ブロック102とブロック10
3で求めた、X微分とX微分のそれぞれの二乗の和の平
方根を計算し、これを傾きの絶対値として定義する。ブ
ロック105では、欠陥位置を判定する。
画像を計算機214中に入力する。ブロック102では
、試料表面のX微分を計算する。第2図検出器1 (2
08)と検出器3(210)がX軸と平行に配置される
ように装置を準備しておき、作用の項で説明した方式で
計算する。ブロック103では、同様に第2図検出器2
(209)と検出器4(211)より、X微分を求める
。ブロック104では、ブロック102とブロック10
3で求めた、X微分とX微分のそれぞれの二乗の和の平
方根を計算し、これを傾きの絶対値として定義する。ブ
ロック105では、欠陥位置を判定する。
ブロック102で求めたX微分をP、ブロック103で
求めたX微分をq、ブロック104で求めた傾きの絶対
値をrとする。予め、試料上の面の傾きが、(pty
cite rzL CPZt qnt T”2)e・
・・・・・e (pnt qnt rn)のn個の組み
どれかの近傍であることが知られている場合、ここで求
めた(p+qpr)が、これらn組の近傍になければ。
求めたX微分をq、ブロック104で求めた傾きの絶対
値をrとする。予め、試料上の面の傾きが、(pty
cite rzL CPZt qnt T”2)e・
・・・・・e (pnt qnt rn)のn個の組み
どれかの近傍であることが知られている場合、ここで求
めた(p+qpr)が、これらn組の近傍になければ。
その点は異物あるいは欠陥と判定すればよい6例えば、
(p −p+)”+(q −q+)”/ rのiに関
する最小値が0.1 より大きい場合、その点を欠陥
あるいは異物と判定する。ブロック106では表示を行
う。第3図これを例示したものであるが、第3図(a)
は試料表面の例で、試料表面301上に欠陥302と異
物303がある。第3図(b)は、入力画像のうちの一
枚である。第3図(c)は、抽出された、欠陥・異物の
位置の輝度を変えて、第3図(b)に重畳して表示した
ものである。
(p −p+)”+(q −q+)”/ rのiに関
する最小値が0.1 より大きい場合、その点を欠陥
あるいは異物と判定する。ブロック106では表示を行
う。第3図これを例示したものであるが、第3図(a)
は試料表面の例で、試料表面301上に欠陥302と異
物303がある。第3図(b)は、入力画像のうちの一
枚である。第3図(c)は、抽出された、欠陥・異物の
位置の輝度を変えて、第3図(b)に重畳して表示した
ものである。
表面形状のエツジ部等には、異常反射等が起き易く、そ
ういう点まで、誤検出される場合もあるが、全体として
、欠陥位置の判定には支障ない。
ういう点まで、誤検出される場合もあるが、全体として
、欠陥位置の判定には支障ない。
本発明によれば、SEMの高分解能を利用し。
かつ、欠陥異物位置を自動的に検出できるので、微小異
物や欠陥を、属人性なしに検出できる効果がある。
物や欠陥を、属人性なしに検出できる効果がある。
第1図は本発明の一実施例のソフトウェア処理の流れ図
、第2図は本発明の一実施例のハードウェア構成図、第
3図は本発明の一実施例の表示例茶 l 口 第 2 目 2/3 第 3 口
、第2図は本発明の一実施例のハードウェア構成図、第
3図は本発明の一実施例の表示例茶 l 口 第 2 目 2/3 第 3 口
Claims (1)
- 1、複数の検出器を備えた走査電子顕微鏡において、そ
れぞれの検出器により得られた複数枚の画像中で、同一
の点に対する画像濃度に特定の演算を施し、試料の表面
形状の特性を表す量を計算し、これを、観察試料に対し
予め知られている値と比較し、欠陥あるいは異物である
かどうかを判定することを特徴とする走査電子顕微鏡を
用いた欠陥検査装置。2、上記試料の表面形状を表す量
は、試料表面の面素の法線の二つの自由度のうちの一ち
、あるいは二つであるところの特許請求の範囲第1項の
走査電子顕微鏡を用いた欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62270132A JPH01115043A (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | 走査電子顕微鏡を用いた欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62270132A JPH01115043A (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | 走査電子顕微鏡を用いた欠陥検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01115043A true JPH01115043A (ja) | 1989-05-08 |
Family
ID=17482000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62270132A Pending JPH01115043A (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | 走査電子顕微鏡を用いた欠陥検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01115043A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5393272A (en) * | 1993-04-09 | 1995-02-28 | Borg-Warner Automotive, Inc. | Chain belt wherein link plates holding load block member are shaped to avoid contact with adjacent load block members |
US5409424A (en) * | 1993-04-09 | 1995-04-25 | Borg-Warner Automotive, Inc. | Chain belt with two parallel chains having means for inhibiting relative movements of the chains |
US5439423A (en) * | 1993-04-09 | 1995-08-08 | Borg-Warner Automotive, Inc. | Chain belt where load block has grooves for engagement with protrusions on link plates |
US5453058A (en) * | 1994-04-29 | 1995-09-26 | Borg-Warner Automotive, Inc. | High capacity phased chain for use in continuously variable transmission with V-pulleys |
JP2002042712A (ja) * | 2000-07-21 | 2002-02-08 | Hitachi Ltd | 電子線を用いたパターン検査方法及びその装置 |
KR100345362B1 (ko) * | 1997-05-08 | 2002-11-18 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 전자현미경의분해능평가방법및분해능평가용시료 |
JP2006502526A (ja) * | 2001-11-07 | 2006-01-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | スポット格子アレー電子像形成システム |
JP2012112927A (ja) * | 2010-11-05 | 2012-06-14 | Advantest Corp | 欠陥レビュー装置及び欠陥レビュー方法 |
JP2012242392A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | Fei Co | 閉塞検出を行う荷電粒子顕微鏡 |
JP2014211313A (ja) * | 2013-04-17 | 2014-11-13 | 株式会社アドバンテスト | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
-
1987
- 1987-10-28 JP JP62270132A patent/JPH01115043A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5393272A (en) * | 1993-04-09 | 1995-02-28 | Borg-Warner Automotive, Inc. | Chain belt wherein link plates holding load block member are shaped to avoid contact with adjacent load block members |
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JP2014211313A (ja) * | 2013-04-17 | 2014-11-13 | 株式会社アドバンテスト | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
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