JPH01107515A - 半導体素子の製造方法 - Google Patents
半導体素子の製造方法Info
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- JPH01107515A JPH01107515A JP62264874A JP26487487A JPH01107515A JP H01107515 A JPH01107515 A JP H01107515A JP 62264874 A JP62264874 A JP 62264874A JP 26487487 A JP26487487 A JP 26487487A JP H01107515 A JPH01107515 A JP H01107515A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は半導体素子の製造方法に係り、特に、Si基板
上にSiと熱膨張係数が異なる半導体を形成して所望す
る半導体素子を製造する方法の改良に関するものである
。
上にSiと熱膨張係数が異なる半導体を形成して所望す
る半導体素子を製造する方法の改良に関するものである
。
従来技術
Si基板上にGaAsをエピタキシャル成長させて所望
する半導体素子を製造することが従来から提案されてい
る。例えば、GaAs光素子とSilcとを組み合わせ
た0EIC(光電子集積回路)やタンデム型太陽電池、
レーザ半導体などの内には、かかる製造法を用いて作製
されるものがある。なお、上記エピタキシャル成長を行
う手段としては、有機金属化学気相成長(MOCVD;
Metal Organic Chemical Va
por Deposition)法や分子線エピタキシ
ー(MBE;Mo1eculer Beaa+ t!p
itaxy)法などが知られている。
する半導体素子を製造することが従来から提案されてい
る。例えば、GaAs光素子とSilcとを組み合わせ
た0EIC(光電子集積回路)やタンデム型太陽電池、
レーザ半導体などの内には、かかる製造法を用いて作製
されるものがある。なお、上記エピタキシャル成長を行
う手段としては、有機金属化学気相成長(MOCVD;
Metal Organic Chemical Va
por Deposition)法や分子線エピタキシ
ー(MBE;Mo1eculer Beaa+ t!p
itaxy)法などが知られている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、このようにSi基板上にGaASを形成
した半導体素子は、SiとGaAsとの熱膨張係数差に
起因して歪や反り等の変形を生じる。すなわち、SiO
熱膨張係数(’C−’)は2.6X 10−b程度であ
るのに対し、GaAsの熱膨張係数(℃−’)は5.9
X 10−’程度であるため、600〜800℃程度
の高温度でGaAsをエピタキシャル成長させた後、常
温まで冷却する過程で、半導体素子は変形の大きいGa
As側へ反ってしまうのである。
した半導体素子は、SiとGaAsとの熱膨張係数差に
起因して歪や反り等の変形を生じる。すなわち、SiO
熱膨張係数(’C−’)は2.6X 10−b程度であ
るのに対し、GaAsの熱膨張係数(℃−’)は5.9
X 10−’程度であるため、600〜800℃程度
の高温度でGaAsをエピタキシャル成長させた後、常
温まで冷却する過程で、半導体素子は変形の大きいGa
As側へ反ってしまうのである。
このため、その半導体素子の特性や寿命が損なわれたり
、その後にホトリソグラフィー等の微細加工が行われる
場合にはマスクパターンが歪んだりぼけたりして加工精
度が損なわれる等の不都合を生じる。また、かかる半導
体素子の変形は、GaAsの膜厚さが大きくなる程顕著
となるため、その変形を小さくするためにGaAsの膜
厚さが制約されるという問題もあった。
、その後にホトリソグラフィー等の微細加工が行われる
場合にはマスクパターンが歪んだりぼけたりして加工精
度が損なわれる等の不都合を生じる。また、かかる半導
体素子の変形は、GaAsの膜厚さが大きくなる程顕著
となるため、その変形を小さくするためにGaAsの膜
厚さが制約されるという問題もあった。
なお、このような不都合は、上記Si基板上にGaAs
を形成する場合だけでなく、AlGaAs、ALP、G
aSb、InPなど、Siと熱膨張係数が異なる半導体
をエピタキシャル成長させて所望する半導体素子を製造
する際には、同様に起こることである。
を形成する場合だけでなく、AlGaAs、ALP、G
aSb、InPなど、Siと熱膨張係数が異なる半導体
をエピタキシャル成長させて所望する半導体素子を製造
する際には、同様に起こることである。
問題点を解決するための手段
本発明は以上の事情を背景として為されたものであり、
その目的とするところは、熱膨張係数差に起因する半導
体素子の変形を防止することにある。
その目的とするところは、熱膨張係数差に起因する半導
体素子の変形を防止することにある。
そして、かかる目的を達成するため、本発明は、Si基
板上に、Siと熱膨張係数が異なる半導体をエピタキシ
ャル成長法によって形成することにより、所望する半導
体素子を製造するに際して、前記Si基板の表面に複数
の溝を縦横に形成した後、その表面上に前記半導体を形
成するようにしたことを特徴とする。
板上に、Siと熱膨張係数が異なる半導体をエピタキシ
ャル成長法によって形成することにより、所望する半導
体素子を製造するに際して、前記Si基板の表面に複数
の溝を縦横に形成した後、その表面上に前記半導体を形
成するようにしたことを特徴とする。
作用および発明の効果
このようにすれば、Si基板の表面が複数に分割され、
その各々の上に独立に半導体が形成されるため、冷却に
伴う個々の半導体の変形量は小さくなり、熱膨張係数差
に起因する半導体基板の変形が防止される。したがって
、その半導体素子の特性や寿命が向上するとともに、そ
の後にホトリソグラフィー等の微細加工を行う場合にお
いては、マスクパターンの歪みやぼけが解消して加工精
度が向上する。また、熱膨張係数差に起因する変形が防
止されるところから、Si基板上に形成する半導体の膜
厚さの制約が解消するなど、種々の優れた効果が得られ
る。
その各々の上に独立に半導体が形成されるため、冷却に
伴う個々の半導体の変形量は小さくなり、熱膨張係数差
に起因する半導体基板の変形が防止される。したがって
、その半導体素子の特性や寿命が向上するとともに、そ
の後にホトリソグラフィー等の微細加工を行う場合にお
いては、マスクパターンの歪みやぼけが解消して加工精
度が向上する。また、熱膨張係数差に起因する変形が防
止されるところから、Si基板上に形成する半導体の膜
厚さの制約が解消するなど、種々の優れた効果が得られ
る。
ここで、上記Si基板上に形成する溝は、そのSi基板
上に形成される半導体がその溝によって互いに分離され
るようになっておれば良く、溝の幅寸法および深さ寸法
はそれぞれ10m以上であることが望ましい、また、溝
の間隔は、製造する半導体素子に許容される変形量等を
考慮して、例えば0.4fi〜1(In程度に設定され
るが、製造された半導体素子がその後小分割されるもの
である場合には、その分割位置に沿って上記溝を形成す
ることが望ましい。この溝の形成に際しては、ダイヤモ
ンドスクライビング法、レーザスクライビング法、ブレ
ードダイシング法、或いはエツチング等が好適に用いら
れる。
上に形成される半導体がその溝によって互いに分離され
るようになっておれば良く、溝の幅寸法および深さ寸法
はそれぞれ10m以上であることが望ましい、また、溝
の間隔は、製造する半導体素子に許容される変形量等を
考慮して、例えば0.4fi〜1(In程度に設定され
るが、製造された半導体素子がその後小分割されるもの
である場合には、その分割位置に沿って上記溝を形成す
ることが望ましい。この溝の形成に際しては、ダイヤモ
ンドスクライビング法、レーザスクライビング法、ブレ
ードダイシング法、或いはエツチング等が好適に用いら
れる。
また、前記Si基板上に形成する半導体としては、Ga
As、AlGaAs等のGaAs系の半導体が広く知ら
れているが、所望する半導体素子の構造に従って他の種
々のものを用いることも可能である。この半導体を形成
するエピタキシャル成長法としては、有機金属化学気相
成長法や分子線エピタキシー法が好適に用いられ、その
成長温度は約600〜800℃程度の高温度である。
As、AlGaAs等のGaAs系の半導体が広く知ら
れているが、所望する半導体素子の構造に従って他の種
々のものを用いることも可能である。この半導体を形成
するエピタキシャル成長法としては、有機金属化学気相
成長法や分子線エピタキシー法が好適に用いられ、その
成長温度は約600〜800℃程度の高温度である。
上記半導体としてGaAs系の半導体を形成する際には
、Si基板との格子不整合を緩和するための緩和工程を
経て、そのGaAs系半導体を形成することとなる。す
なわち、Siの格子定数は5.431人であるのに対し
てGaAsの格子定数は5’、653人で、それ等の間
には4%程度の格子不整合が存在するため、Si基板の
上に直接GaAsをエピタキシャル成長させると、格子
欠陥等によって結晶性が著しく阻害されるからである。
、Si基板との格子不整合を緩和するための緩和工程を
経て、そのGaAs系半導体を形成することとなる。す
なわち、Siの格子定数は5.431人であるのに対し
てGaAsの格子定数は5’、653人で、それ等の間
には4%程度の格子不整合が存在するため、Si基板の
上に直接GaAsをエピタキシャル成長させると、格子
欠陥等によって結晶性が著しく阻害されるからである。
なお、このことは、GaAs系の半導体のみならず、格
子定数がSiと大きく異なる他の半導体を形成する場合
でも同様である。
子定数がSiと大きく異なる他の半導体を形成する場合
でも同様である。
上記緩和工程としては、前記Si基板上にGaP、
(GaP/GaAsP)歪超格子、および(GaAsP
/GaAs)歪超格子から成るバッファ層を形成する方
法が知られている。これは、格子定数を徐々に変化させ
てGaAsに近づけるようにするものであるが、格子不
整合を緩和するためのバッファ層としては、この他、G
eを電子ビーム蒸着、クラスタイオンビーム蒸着等でS
i基板上に設ける方法もある。前記GaAs系の半導体
を形成するのに先立ってこのようなバッファ層をSi基
板上に形成することにより、その上には、優れた結晶性
のGaAs系半導体がエピタキシャル成長させられるよ
うになる。
(GaP/GaAsP)歪超格子、および(GaAsP
/GaAs)歪超格子から成るバッファ層を形成する方
法が知られている。これは、格子定数を徐々に変化させ
てGaAsに近づけるようにするものであるが、格子不
整合を緩和するためのバッファ層としては、この他、G
eを電子ビーム蒸着、クラスタイオンビーム蒸着等でS
i基板上に設ける方法もある。前記GaAs系の半導体
を形成するのに先立ってこのようなバッファ層をSi基
板上に形成することにより、その上には、優れた結晶性
のGaAs系半導体がエピタキシャル成長させられるよ
うになる。
また、このようなバッファ層を形成することなく格子不
整合を緩和する手段として、450〜500℃程度の低
温で前記Si基板上に多結晶GaAsを付着した後、A
sガス雰囲気中で600〜800℃程度に一定時間、例
えば数分間加熱することにより、その多結晶GaAsを
単結晶GaASに変換し、その上に前記GaAs系半導
体をエピタキシャル成長させるようにする方法もある。
整合を緩和する手段として、450〜500℃程度の低
温で前記Si基板上に多結晶GaAsを付着した後、A
sガス雰囲気中で600〜800℃程度に一定時間、例
えば数分間加熱することにより、その多結晶GaAsを
単結晶GaASに変換し、その上に前記GaAs系半導
体をエピタキシャル成長させるようにする方法もある。
試験例
以下、本発明の効果を更に具体的に明らかにするために
、本発明者等が行った試験結果について説明する。
、本発明者等が行った試験結果について説明する。
先ず、第1図は板厚が400趨、直径が2インチで、面
方位が(100)面に対して2°オフのn型Si5仮1
0を示す図であるが、このSi基板10の表面には多数
の溝12がダイシングマシン等によって縦横に形成され
ている。この溝12の幅寸法は25μm、深さ寸法は1
00μmであり、5 mm間隔で形成されている。そし
て、かかるSi基板10は、有機溶剤洗浄やフッ化水素
酸によるエツチング等によって表面が清浄化された後、
MOCVD装置の反応炉内に収容されて所定の半導体結
晶が形成される。MOCVD装置は、有機金属化学気相
成長法に従って半導体結晶をエピタキシャル成長させる
もので、Si基板10上には、先ず、GaF、 (G
aP/GaAsP)歪超格子。
方位が(100)面に対して2°オフのn型Si5仮1
0を示す図であるが、このSi基板10の表面には多数
の溝12がダイシングマシン等によって縦横に形成され
ている。この溝12の幅寸法は25μm、深さ寸法は1
00μmであり、5 mm間隔で形成されている。そし
て、かかるSi基板10は、有機溶剤洗浄やフッ化水素
酸によるエツチング等によって表面が清浄化された後、
MOCVD装置の反応炉内に収容されて所定の半導体結
晶が形成される。MOCVD装置は、有機金属化学気相
成長法に従って半導体結晶をエピタキシャル成長させる
もので、Si基板10上には、先ず、GaF、 (G
aP/GaAsP)歪超格子。
および(GaAs P/GaAs)歪超格子から成るバ
ッファ層を形成し、その上にGaAsを形成する。これ
等のバッファ層およびGaAsの厚さは、約4μmであ
る。
ッファ層を形成し、その上にGaAsを形成する。これ
等のバッファ層およびGaAsの厚さは、約4μmであ
る。
そして、このように溝12が設けられたSi基板10上
にGaAsを形成した半導体素子と、従来のように前記
溝12のないSi基板を用いてGaAsを形成した半導
体素子とを用いて、その変形量、具体的には中心部から
外周部までにおける表面の変位量を測定したところ、第
2図に示す結果が得られた。かかる第2図において、実
線は溝12を形成した本発明に係る半導体素子に関する
もので、−点鎖線は溝12がない半導体素子に関するも
のである。これ等の結果から明らかなように、溝12が
ない半導体素子では中心部と外周部とで約25μmもの
変位が存在するのに対し、本発明に係る半導体素子は殆
ど変形していないのである。
にGaAsを形成した半導体素子と、従来のように前記
溝12のないSi基板を用いてGaAsを形成した半導
体素子とを用いて、その変形量、具体的には中心部から
外周部までにおける表面の変位量を測定したところ、第
2図に示す結果が得られた。かかる第2図において、実
線は溝12を形成した本発明に係る半導体素子に関する
もので、−点鎖線は溝12がない半導体素子に関するも
のである。これ等の結果から明らかなように、溝12が
ない半導体素子では中心部と外周部とで約25μmもの
変位が存在するのに対し、本発明に係る半導体素子は殆
ど変形していないのである。
なお、この試験例は、あくまでも本発明の効果を具体的
に示すための一つの具体例である。したがって、本発明
の実施に際しては、当業者の知識に基づいて種々の変更
、改良を加えた態様で実施することが可能である。
に示すための一つの具体例である。したがって、本発明
の実施に際しては、当業者の知識に基づいて種々の変更
、改良を加えた態様で実施することが可能である。
第1図は本発明方法に従って表面に複数の溝が形成され
たSi基板の一例を示す正面図である。 第2図は本発明に係る半導体素子の表面の変位量を、従
来品との比較において示す図である。 10:Si基板 12:溝
たSi基板の一例を示す正面図である。 第2図は本発明に係る半導体素子の表面の変位量を、従
来品との比較において示す図である。 10:Si基板 12:溝
Claims (6)
- (1)Si基板上に、Siと熱膨張係数が異なる半導体
をエピタキシャル成長法によって形成することにより、
所望する半導体素子を製造するに際して、 前記Si基板の表面に複数の溝を縦横に形成した後、該
表面上に前記半導体を形成するようにしたことを特徴と
する半導体素子の製造方法。 - (2)前記半導体はGaAs系のものである特許請求の
範囲第1項に記載の半導体素子の製造方法。 - (3)前記GaAs系の半導体は、格子不整合を緩和す
るための緩和工程を経て前記Si基板上に形成されるも
のである特許請求の範囲第2項に記載の半導体素子の製
造方法。 - (4)前記緩和工程は、GaP、(GaP/GaAsP
)歪超格子、および(GaAsP/GaAs)歪超格子
から成るバッファ層を形成するものである特許請求の範
囲第3項に記載の半導体素子の製造方法。 - (5)前記緩和工程は、450〜500℃程度の温度で
前記Si基板上に多結晶GaAsを付着した後、Asガ
ス雰囲気中で600〜800℃程度に一定時間加熱する
ものである特許請求の範囲第3項に記載の半導体素子の
製造方法。 - (6)前記溝の幅寸法および深さ寸法はそれぞれ10μ
m以上である特許請求の範囲第1項乃至第5項の何れか
に記載の半導体素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62264874A JPH01107515A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 半導体素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62264874A JPH01107515A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 半導体素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01107515A true JPH01107515A (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=17409423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62264874A Pending JPH01107515A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01107515A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009177167A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-08-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 半導体基板、半導体基板の製造方法および電子デバイス |
JP2009177165A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-08-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 半導体基板、半導体基板の製造方法および電子デバイス |
JP2009177170A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-08-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 半導体基板、半導体基板の製造方法および電子デバイス |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6191098A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-09 | Daido Steel Co Ltd | シリコン基板上における砒素化ガリウム成長結晶体とその結晶成長方法 |
JPS62219614A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Oki Electric Ind Co Ltd | 化合物半導体の成長方法 |
JPS62224946A (ja) * | 1986-03-27 | 1987-10-02 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体基体の製造方法 |
-
1987
- 1987-10-20 JP JP62264874A patent/JPH01107515A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6191098A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-09 | Daido Steel Co Ltd | シリコン基板上における砒素化ガリウム成長結晶体とその結晶成長方法 |
JPS62219614A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Oki Electric Ind Co Ltd | 化合物半導体の成長方法 |
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JP2009177165A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-08-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 半導体基板、半導体基板の製造方法および電子デバイス |
JP2009177170A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-08-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 半導体基板、半導体基板の製造方法および電子デバイス |
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