JPH01107339A - 光デイスクの作製方法 - Google Patents
光デイスクの作製方法Info
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- JPH01107339A JPH01107339A JP26377987A JP26377987A JPH01107339A JP H01107339 A JPH01107339 A JP H01107339A JP 26377987 A JP26377987 A JP 26377987A JP 26377987 A JP26377987 A JP 26377987A JP H01107339 A JPH01107339 A JP H01107339A
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- resin
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- optical disk
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
スフ作製時の剥離性の向上、またはスタンパの長寿命化
に好適な光ディスクの作製方法に関する。
に好適な光ディスクの作製方法に関する。
面に凹凸パターンの付いた原盤７の上に、スタンパ用紫
外線硬化樹脂４を塗布し、透光性部材５を重ね合わせ、
紫外線６を照射後、原盤７の境界面から剥離を行ない、
光ディスク用スタンパ作製を行う。次に、第３図のよう
に、先のスタンパ用紫外線硬化樹脂４の上に、光ディス
ク用紫外線硬化樹脂２を塗布し、光ディスク用基板１を
重ね合わせ、紫外線６を照射後、スタンパ用紫外線硬化
樹脂４との境界面から剥離を行ない、光ディスク作製を
行なっていた。このような例として、例えば特願昭５５
−１３９８６７号が挙げられる。
外線硬化樹脂４を塗布し、透光性部材５を重ね合わせ、
紫外線６を照射後、原盤７の境界面から剥離を行ない、
光ディスク用スタンパ作製を行う。次に、第３図のよう
に、先のスタンパ用紫外線硬化樹脂４の上に、光ディス
ク用紫外線硬化樹脂２を塗布し、光ディスク用基板１を
重ね合わせ、紫外線６を照射後、スタンパ用紫外線硬化
樹脂４との境界面から剥離を行ない、光ディスク作製を
行なっていた。このような例として、例えば特願昭５５
−１３９８６７号が挙げられる。
上記従来技術は、光ディスク作製の際、剥離が困難であ
るという作製上の欠点と、剥離の衝撃によって、スタン
パ表面の凹凸パターン、特に凸形状のパターンが欠ける
という欠点については配慮されておらず、作製方法に問
題があった。
るという作製上の欠点と、剥離の衝撃によって、スタン
パ表面の凹凸パターン、特に凸形状のパターンが欠ける
という欠点については配慮されておらず、作製方法に問
題があった。
本発明の目的は、上記の問題点に対処するため、剥離性
の良い膜をスタンパの表面に形成することにある。
の良い膜をスタンパの表面に形成することにある。
上記目的は、凹凸パターン付き原盤の上に、薄膜の有機
物質を塗布することにより、達成される。
物質を塗布することにより、達成される。
より具体的には、テフロンをスパッタするか、あるいは
弗素あるいはシリコンを含んだ有機物の溶液、アジド化
ペルフルオロポリエーテル液を回転塗布することにより
達成される。
弗素あるいはシリコンを含んだ有機物の溶液、アジド化
ペルフルオロポリエーテル液を回転塗布することにより
達成される。
スタンパ基板である透光性部材上の紫外線硬化樹脂で形
成された凹凸パターンの上に、テフロン。
成された凹凸パターンの上に、テフロン。
（弗素あるいはシリコンを含んだ有機物の溶液、または
アジド化ペルフルオロポリエーテル液）を形成したこと
により、光ディスク用紫外線硬化樹脂とスタンパとの接
着力が低くなることから、スタンパから光ディスクの剥
離が容易になる。
アジド化ペルフルオロポリエーテル液）を形成したこと
により、光ディスク用紫外線硬化樹脂とスタンパとの接
着力が低くなることから、スタンパから光ディスクの剥
離が容易になる。
また、凹凸面の上にテフロン（弗素あるいはシリコンを
含んだ有機物の溶液、またはアジド化ペルフルオロポリ
エーテル液）が付着することから、剥離時に加わる応力
にも充分耐え、ひいては、スタンパの凹凸形状のパター
ンの欠けを防止できることになり、スタンパの長寿命化
をも図ることができる。
含んだ有機物の溶液、またはアジド化ペルフルオロポリ
エーテル液）が付着することから、剥離時に加わる応力
にも充分耐え、ひいては、スタンパの凹凸形状のパター
ンの欠けを防止できることになり、スタンパの長寿命化
をも図ることができる。
以下、本発明の一実施例を図を用いて説明する。
まず、従来例で説明したように、第２図に示したように
、光学的に情報を記録させた原盤７に、スタンパ用紫外
線硬化樹脂４を使用してスタンパを作製する。その後、
スタンパの凹凸パターン上に、テフロン３を真空スパッ
タ（あるいは蒸着９重合法等）の方法により、付着させ
る。この時、膜形成の直前に紫外線硬化樹脂４をスパッ
タエツチングし、その表面をクリーンな状態にしておく
１次に、第１図のように、先のスタンパ（用紫外線樹脂
４）の上に、光ディスク用紫外線硬化樹脂２を塗布し、
光ディスク用基板１を光の樹脂２の押しつけ平坦にし、
紫外線６を照射する。その後、紫外線硬化樹脂２とテフ
ロン３の境界層からの剥離をするが、従来例と比較する
と容易に行うことができ、光ディスクを簡便に作製でき
る。
、光学的に情報を記録させた原盤７に、スタンパ用紫外
線硬化樹脂４を使用してスタンパを作製する。その後、
スタンパの凹凸パターン上に、テフロン３を真空スパッ
タ（あるいは蒸着９重合法等）の方法により、付着させ
る。この時、膜形成の直前に紫外線硬化樹脂４をスパッ
タエツチングし、その表面をクリーンな状態にしておく
１次に、第１図のように、先のスタンパ（用紫外線樹脂
４）の上に、光ディスク用紫外線硬化樹脂２を塗布し、
光ディスク用基板１を光の樹脂２の押しつけ平坦にし、
紫外線６を照射する。その後、紫外線硬化樹脂２とテフ
ロン３の境界層からの剥離をするが、従来例と比較する
と容易に行うことができ、光ディスクを簡便に作製でき
る。
この実施例で重要なのは、光ディスク用紫外線硬化樹脂
２とテフロン３との接着性であるが、これはスパッタエ
ツチング条件をＡｒガスの雰囲気中において、放電パワ
ーを１０〜５０Ｗで２〜５分行えばセロテープ接着テス
トに充分耐えるものとなる。
２とテフロン３との接着性であるが、これはスパッタエ
ツチング条件をＡｒガスの雰囲気中において、放電パワ
ーを１０〜５０Ｗで２〜５分行えばセロテープ接着テス
トに充分耐えるものとなる。
上記のレプリカ作製は、少なくとも２回以上繰り返して
も、前述した効果と同じである。
も、前述した効果と同じである。
また、本説明においてテフロンの他に、弗素、またはシ
リコンを含んだ有機物の溶液と、アジド基を付加したペ
ルフルオロポリエーテル液を回転塗布することによって
も、先と同じ効果を得ることができる。
リコンを含んだ有機物の溶液と、アジド基を付加したペ
ルフルオロポリエーテル液を回転塗布することによって
も、先と同じ効果を得ることができる。
アジド基を付加したペルフルオロポリエーテル層の形成
方法としては、先ず、回＠塗布した後。
方法としては、先ず、回＠塗布した後。
紫外線を照射させ、次に、フレオン液槽中で超音波洗浄
を行い、余分のアジド化ペルフルオロポリエーテル液を
除去し、単分子層を得る方法があげられる。
を行い、余分のアジド化ペルフルオロポリエーテル液を
除去し、単分子層を得る方法があげられる。
本発明によれば、光ディスク作製方法において、テフロ
ンを光ディスク用スタンパの凹凸パターンの上にスパッ
タできることと、弗素あるいはシリコンを含む有機物の
溶液、またはアジド化ペルフルオロポリエーテル液の回
転塗布が可能であることから、光ディスク作製における
剥離性の向上、凹凸パターンの長寿命化を図る上で効果
がある。
ンを光ディスク用スタンパの凹凸パターンの上にスパッ
タできることと、弗素あるいはシリコンを含む有機物の
溶液、またはアジド化ペルフルオロポリエーテル液の回
転塗布が可能であることから、光ディスク作製における
剥離性の向上、凹凸パターンの長寿命化を図る上で効果
がある。
これによって、従来は１枚のスタンパからの光ディスク
の作製枚数は５０枚程度に留まっていたが、１００枚以
上に作製が可能になった。
の作製枚数は５０枚程度に留まっていたが、１００枚以
上に作製が可能になった。
第１図は本発明の光ディスクの作製方法を示す断面図、
第２図は光ディスクスタンパの作製方法を示す断面図、
第３図は従来の光ディスクの作製方法を示す断面図であ
る。 １・・・光ディスク用基板、２・・・光ディスク用紫外
線硬化樹脂、３・・・テフロン、４・・・スタンパ用紫
外線硬化樹脂、５・・・透光性部材、６・・・紫外線、
７・・・原盤。
第２図は光ディスクスタンパの作製方法を示す断面図、
第３図は従来の光ディスクの作製方法を示す断面図であ
る。 １・・・光ディスク用基板、２・・・光ディスク用紫外
線硬化樹脂、３・・・テフロン、４・・・スタンパ用紫
外線硬化樹脂、５・・・透光性部材、６・・・紫外線、
７・・・原盤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、所定基板上の感光性樹脂膜に光学的に情報を記録さ
せた原盤に、母型作製用の紫外線硬化樹脂を塗布する工
程と、透光性部材を該母型用樹脂に押しつける工程と、
該母型用樹脂を上記原盤から剥離する工程から成る母型
（スタンパ）と、該母型から更に、光ディスク用の紫外
線硬化樹脂を塗布し、光ディスク基板を押しつけ、該光
ディスク用樹脂の硬化後、該基板を剥離する工程から成
る、光ディスクの作製方法において、該母型上に有機物
質から成る離型剤を塗布したことを特徴とする光ディス
クの作製方法。 ２、特許請求の範囲第１項記載の光ディスクの作製方法
において、離型剤としてテフロン等の弗素樹脂を使用し
たことを特徴とする光ディスクの作製方法。 ３、特許請求の範囲第１項記載の光ディスクの作製方法
において、離型剤として、光、電子線、及び熱により化
学結合する官能基を有する弗素系化合物を用いたことを
特徴とする光ディスクの作製方法。 ４、特許請求の範囲第１項記載の光ディスクの作製方法
において、離型剤として、弗素あるいはシリコンを含ん
だ有機物の溶液を回転塗布したことを特徴とする光ディ
スクの作製方法。 ５、特許請求の範囲第１項記載の光ディスクの作製方法
において、弗素樹脂を真空槽の中でスパッタ、蒸着、重
合法等により気相から堆積させ、母型に薄膜を形成させ
ることを特徴とする光ディスクの作製方法。 ６、特許請求の範囲第５項記載の光ディスクの作製方法
において、スパッタ法において弗素樹脂を沈着させる際
に、膜形成の直前に該母型にスパッタエッチングを施す
ことを特徴とする光ディスクの作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26377987A JPH01107339A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 光デイスクの作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26377987A JPH01107339A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 光デイスクの作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01107339A true JPH01107339A (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=17394160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26377987A Pending JPH01107339A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 光デイスクの作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01107339A (ja) |
-
1987
- 1987-10-21 JP JP26377987A patent/JPH01107339A/ja active Pending
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