JPH01107339A - 光デイスクの作製方法 - Google Patents
光デイスクの作製方法Info
- Publication number
- JPH01107339A JPH01107339A JP26377987A JP26377987A JPH01107339A JP H01107339 A JPH01107339 A JP H01107339A JP 26377987 A JP26377987 A JP 26377987A JP 26377987 A JP26377987 A JP 26377987A JP H01107339 A JPH01107339 A JP H01107339A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- producing
- resin
- optical disc
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 28
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 claims description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims 4
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 claims 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 8
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 7
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
スフ作製時の剥離性の向上、またはスタンパの長寿命化
に好適な光ディスクの作製方法に関する。
に好適な光ディスクの作製方法に関する。
面に凹凸パターンの付いた原盤7の上に、スタンパ用紫
外線硬化樹脂4を塗布し、透光性部材5を重ね合わせ、
紫外線6を照射後、原盤7の境界面から剥離を行ない、
光ディスク用スタンパ作製を行う。次に、第3図のよう
に、先のスタンパ用紫外線硬化樹脂4の上に、光ディス
ク用紫外線硬化樹脂2を塗布し、光ディスク用基板1を
重ね合わせ、紫外線6を照射後、スタンパ用紫外線硬化
樹脂4との境界面から剥離を行ない、光ディスク作製を
行なっていた。このような例として、例えば特願昭55
−139867号が挙げられる。
外線硬化樹脂4を塗布し、透光性部材5を重ね合わせ、
紫外線6を照射後、原盤7の境界面から剥離を行ない、
光ディスク用スタンパ作製を行う。次に、第3図のよう
に、先のスタンパ用紫外線硬化樹脂4の上に、光ディス
ク用紫外線硬化樹脂2を塗布し、光ディスク用基板1を
重ね合わせ、紫外線6を照射後、スタンパ用紫外線硬化
樹脂4との境界面から剥離を行ない、光ディスク作製を
行なっていた。このような例として、例えば特願昭55
−139867号が挙げられる。
上記従来技術は、光ディスク作製の際、剥離が困難であ
るという作製上の欠点と、剥離の衝撃によって、スタン
パ表面の凹凸パターン、特に凸形状のパターンが欠ける
という欠点については配慮されておらず、作製方法に問
題があった。
るという作製上の欠点と、剥離の衝撃によって、スタン
パ表面の凹凸パターン、特に凸形状のパターンが欠ける
という欠点については配慮されておらず、作製方法に問
題があった。
本発明の目的は、上記の問題点に対処するため、剥離性
の良い膜をスタンパの表面に形成することにある。
の良い膜をスタンパの表面に形成することにある。
上記目的は、凹凸パターン付き原盤の上に、薄膜の有機
物質を塗布することにより、達成される。
物質を塗布することにより、達成される。
より具体的には、テフロンをスパッタするか、あるいは
弗素あるいはシリコンを含んだ有機物の溶液、アジド化
ペルフルオロポリエーテル液を回転塗布することにより
達成される。
弗素あるいはシリコンを含んだ有機物の溶液、アジド化
ペルフルオロポリエーテル液を回転塗布することにより
達成される。
スタンパ基板である透光性部材上の紫外線硬化樹脂で形
成された凹凸パターンの上に、テフロン。
成された凹凸パターンの上に、テフロン。
(弗素あるいはシリコンを含んだ有機物の溶液、または
アジド化ペルフルオロポリエーテル液)を形成したこと
により、光ディスク用紫外線硬化樹脂とスタンパとの接
着力が低くなることから、スタンパから光ディスクの剥
離が容易になる。
アジド化ペルフルオロポリエーテル液)を形成したこと
により、光ディスク用紫外線硬化樹脂とスタンパとの接
着力が低くなることから、スタンパから光ディスクの剥
離が容易になる。
また、凹凸面の上にテフロン(弗素あるいはシリコンを
含んだ有機物の溶液、またはアジド化ペルフルオロポリ
エーテル液)が付着することから、剥離時に加わる応力
にも充分耐え、ひいては、スタンパの凹凸形状のパター
ンの欠けを防止できることになり、スタンパの長寿命化
をも図ることができる。
含んだ有機物の溶液、またはアジド化ペルフルオロポリ
エーテル液)が付着することから、剥離時に加わる応力
にも充分耐え、ひいては、スタンパの凹凸形状のパター
ンの欠けを防止できることになり、スタンパの長寿命化
をも図ることができる。
以下、本発明の一実施例を図を用いて説明する。
まず、従来例で説明したように、第2図に示したように
、光学的に情報を記録させた原盤7に、スタンパ用紫外
線硬化樹脂4を使用してスタンパを作製する。その後、
スタンパの凹凸パターン上に、テフロン3を真空スパッ
タ(あるいは蒸着9重合法等)の方法により、付着させ
る。この時、膜形成の直前に紫外線硬化樹脂4をスパッ
タエツチングし、その表面をクリーンな状態にしておく
1次に、第1図のように、先のスタンパ(用紫外線樹脂
4)の上に、光ディスク用紫外線硬化樹脂2を塗布し、
光ディスク用基板1を光の樹脂2の押しつけ平坦にし、
紫外線6を照射する。その後、紫外線硬化樹脂2とテフ
ロン3の境界層からの剥離をするが、従来例と比較する
と容易に行うことができ、光ディスクを簡便に作製でき
る。
、光学的に情報を記録させた原盤7に、スタンパ用紫外
線硬化樹脂4を使用してスタンパを作製する。その後、
スタンパの凹凸パターン上に、テフロン3を真空スパッ
タ(あるいは蒸着9重合法等)の方法により、付着させ
る。この時、膜形成の直前に紫外線硬化樹脂4をスパッ
タエツチングし、その表面をクリーンな状態にしておく
1次に、第1図のように、先のスタンパ(用紫外線樹脂
4)の上に、光ディスク用紫外線硬化樹脂2を塗布し、
光ディスク用基板1を光の樹脂2の押しつけ平坦にし、
紫外線6を照射する。その後、紫外線硬化樹脂2とテフ
ロン3の境界層からの剥離をするが、従来例と比較する
と容易に行うことができ、光ディスクを簡便に作製でき
る。
この実施例で重要なのは、光ディスク用紫外線硬化樹脂
2とテフロン3との接着性であるが、これはスパッタエ
ツチング条件をArガスの雰囲気中において、放電パワ
ーを10〜50Wで2〜5分行えばセロテープ接着テス
トに充分耐えるものとなる。
2とテフロン3との接着性であるが、これはスパッタエ
ツチング条件をArガスの雰囲気中において、放電パワ
ーを10〜50Wで2〜5分行えばセロテープ接着テス
トに充分耐えるものとなる。
上記のレプリカ作製は、少なくとも2回以上繰り返して
も、前述した効果と同じである。
も、前述した効果と同じである。
また、本説明においてテフロンの他に、弗素、またはシ
リコンを含んだ有機物の溶液と、アジド基を付加したペ
ルフルオロポリエーテル液を回転塗布することによって
も、先と同じ効果を得ることができる。
リコンを含んだ有機物の溶液と、アジド基を付加したペ
ルフルオロポリエーテル液を回転塗布することによって
も、先と同じ効果を得ることができる。
アジド基を付加したペルフルオロポリエーテル層の形成
方法としては、先ず、回@塗布した後。
方法としては、先ず、回@塗布した後。
紫外線を照射させ、次に、フレオン液槽中で超音波洗浄
を行い、余分のアジド化ペルフルオロポリエーテル液を
除去し、単分子層を得る方法があげられる。
を行い、余分のアジド化ペルフルオロポリエーテル液を
除去し、単分子層を得る方法があげられる。
本発明によれば、光ディスク作製方法において、テフロ
ンを光ディスク用スタンパの凹凸パターンの上にスパッ
タできることと、弗素あるいはシリコンを含む有機物の
溶液、またはアジド化ペルフルオロポリエーテル液の回
転塗布が可能であることから、光ディスク作製における
剥離性の向上、凹凸パターンの長寿命化を図る上で効果
がある。
ンを光ディスク用スタンパの凹凸パターンの上にスパッ
タできることと、弗素あるいはシリコンを含む有機物の
溶液、またはアジド化ペルフルオロポリエーテル液の回
転塗布が可能であることから、光ディスク作製における
剥離性の向上、凹凸パターンの長寿命化を図る上で効果
がある。
これによって、従来は1枚のスタンパからの光ディスク
の作製枚数は50枚程度に留まっていたが、100枚以
上に作製が可能になった。
の作製枚数は50枚程度に留まっていたが、100枚以
上に作製が可能になった。
第1図は本発明の光ディスクの作製方法を示す断面図、
第2図は光ディスクスタンパの作製方法を示す断面図、
第3図は従来の光ディスクの作製方法を示す断面図であ
る。 1・・・光ディスク用基板、2・・・光ディスク用紫外
線硬化樹脂、3・・・テフロン、4・・・スタンパ用紫
外線硬化樹脂、5・・・透光性部材、6・・・紫外線、
7・・・原盤。
第2図は光ディスクスタンパの作製方法を示す断面図、
第3図は従来の光ディスクの作製方法を示す断面図であ
る。 1・・・光ディスク用基板、2・・・光ディスク用紫外
線硬化樹脂、3・・・テフロン、4・・・スタンパ用紫
外線硬化樹脂、5・・・透光性部材、6・・・紫外線、
7・・・原盤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、所定基板上の感光性樹脂膜に光学的に情報を記録さ
せた原盤に、母型作製用の紫外線硬化樹脂を塗布する工
程と、透光性部材を該母型用樹脂に押しつける工程と、
該母型用樹脂を上記原盤から剥離する工程から成る母型
(スタンパ)と、該母型から更に、光ディスク用の紫外
線硬化樹脂を塗布し、光ディスク基板を押しつけ、該光
ディスク用樹脂の硬化後、該基板を剥離する工程から成
る、光ディスクの作製方法において、該母型上に有機物
質から成る離型剤を塗布したことを特徴とする光ディス
クの作製方法。 2、特許請求の範囲第1項記載の光ディスクの作製方法
において、離型剤としてテフロン等の弗素樹脂を使用し
たことを特徴とする光ディスクの作製方法。 3、特許請求の範囲第1項記載の光ディスクの作製方法
において、離型剤として、光、電子線、及び熱により化
学結合する官能基を有する弗素系化合物を用いたことを
特徴とする光ディスクの作製方法。 4、特許請求の範囲第1項記載の光ディスクの作製方法
において、離型剤として、弗素あるいはシリコンを含ん
だ有機物の溶液を回転塗布したことを特徴とする光ディ
スクの作製方法。 5、特許請求の範囲第1項記載の光ディスクの作製方法
において、弗素樹脂を真空槽の中でスパッタ、蒸着、重
合法等により気相から堆積させ、母型に薄膜を形成させ
ることを特徴とする光ディスクの作製方法。 6、特許請求の範囲第5項記載の光ディスクの作製方法
において、スパッタ法において弗素樹脂を沈着させる際
に、膜形成の直前に該母型にスパッタエッチングを施す
ことを特徴とする光ディスクの作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26377987A JPH01107339A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 光デイスクの作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26377987A JPH01107339A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 光デイスクの作製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01107339A true JPH01107339A (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=17394160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26377987A Pending JPH01107339A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 光デイスクの作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01107339A (ja) |
-
1987
- 1987-10-21 JP JP26377987A patent/JPH01107339A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6126952A (ja) | 情報記録担体の製造法 | |
JPS5835742A (ja) | 情報記録媒体円盤の製作に用いられるスタンパの製作法 | |
KR100284728B1 (ko) | 광 디스크 제조방법 및 이 제조방법에 의한 광 디스크 | |
JPH01107339A (ja) | 光デイスクの作製方法 | |
JPH01107338A (ja) | 光デイスク用スタンパの作製方法 | |
JP3221627B2 (ja) | 光ディスク用スタンパの製造方法 | |
JP3344602B2 (ja) | 光デイスク原盤及びその作成方法 | |
JPH02204023A (ja) | 光学式ディスク用スタンパー及びその製造方法 | |
JP2967958B2 (ja) | 光ディスク用スタンパー及びその製法 | |
JPH02172041A (ja) | 光デイスク用スタンパの作製方法 | |
JP3237085B2 (ja) | ガラスを基板とする成形品 | |
JPH06103617A (ja) | 光ディスク用スタンパおよび基板の作製方法 | |
JP2000251335A (ja) | 光情報記録媒体製造方法 | |
JPH08106656A (ja) | 光ディスク用スタンパおよび基板の作製方法 | |
JPS6079351A (ja) | スタンパの作製法 | |
JPH02245321A (ja) | 光ディスク用スタンパの製造法及びそのスタンパを使用した光ディスク基板の製造法 | |
JPS59114032A (ja) | デイスクスタンプ盤の製造方法 | |
JPH03120638A (ja) | 情報記録ディスクの製造方法 | |
JP2753388B2 (ja) | スタンパの製造方法 | |
JPH01235044A (ja) | 光ディスク基板およびその製造方法 | |
JPS61163342A (ja) | フオトレジスト除去方法 | |
JPS63124243A (ja) | 光学的記録媒体用スタンパ−及びその製造方法 | |
JPS61275839A (ja) | フオトレジスト膜の形成方法 | |
JPS62192947A (ja) | 光デイスクの複製方法 | |
JPH02208842A (ja) | 光ディスク用スタンパの作製方法 |