JPS6079351A - スタンパの作製法 - Google Patents

スタンパの作製法

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Publication number
JPS6079351A
JPS6079351A JP18692383A JP18692383A JPS6079351A JP S6079351 A JPS6079351 A JP S6079351A JP 18692383 A JP18692383 A JP 18692383A JP 18692383 A JP18692383 A JP 18692383A JP S6079351 A JPS6079351 A JP S6079351A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoresist
film
stamper
thin film
glass substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18692383A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Segawa
秀樹 瀬川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP18692383A priority Critical patent/JPS6079351A/ja
Publication of JPS6079351A publication Critical patent/JPS6079351A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/30Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/355Temporary coating

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は情報記録媒体の製造に使用されるスタンパの作
製法に関する。さらに詳しくは、本発明は光ディスク用
プレグルーブ付き基板作製のための2P用スタン、aに
関する。
従来技術 従来の光デイスク基板は第1図〜第6図に示すような手
順で製造されている。まずガラス基板1上にフォトレジ
スト膜2(40〜130 nm ) ’を塗布し、レー
ザによシバ光し現像してピットま九はプレグルーブ2′
(幅0.5〜1.0μm)を形成する(第1図)。次に
、これにスパッタリング法または真空蒸着法によって銀
またはニッケルを付着させて導電膜3とする(第2図)
。この導電膜3を陰極としてニッケル板4を電鋳によ多
形成する(第3図)。電鋳板4を導電膜3と一緒にガラ
ス基板上 2を除去してスタンパ(マスター)とする(第4図)。
このようにして作製したスタンパとアクリル基板50間
に紫外線硬化樹脂6を入れ圧着し紫外線硬化樹脂6にピ
ットやプレグルーブの形状を転写しアクリル基板5側か
ら紫外線7を照射して硬化させる(第5図)。これをス
タンパから剥離して基板とする(第6図)。このように
射出成形のような高温高圧をスタンパへ作用させずに紫
外線硬化樹脂を用いて基板を作製する方法を2P法と称
する。かかる従来の方法では、スタンパをガラス基板か
ら剥離□する過程で平面度が悪くなる、スタンパ作製の
工程が多いためその間にゴミが付着したシ転写精度が悪
(なるまた製作コストも高くなるという問題があった。
目 的 本発明は上記問題に鑑みてなされたものであって、その
目的はガラス基板の平面度を保ち、製作工程数が少なく
、ゴミの付着する機会が少なく、転写精度も良くしかも
製作コストも安価なスタンパの作製法を提供することで
ある。
構成 本発明によるスタンパの作製法は、ガラス基板上に金属
薄膜を形成し、この金属薄膜の上にフォトレジストを適
用し、このフォトレジストを露光し現像して凹凸を形成
させた後金属を付着させ次にフォトレジストを除去する
ことからなるものである。また、本発明の別法によれば
上述のようにして凹凸を形成させた後金属を付着させる
代りに金属薄膜上の7オトレジストをマスクとして前記
金属薄膜をエツチングし次いでフォトレジストを除去し
てスタンパを作製することができる。ここで「凹凸」と
は情報信号と対応するピットやプレグルーブを意味する
以下添付図面を参照して本発明のスタンパ作製法の一実
施例について詳細に説明する。
第7図に示すように、ガラス基板1の上にスパッタリン
グ法または真・空蒸着法などによってニッケル等の金属
薄膜8を形成し次にこの上にスピナー等によυピット深
さよシ厚いフォトレジスト2を形成する。次に、情報信
号によって変調されたレーザを照射して露光し次いで現
像処理を行なって金属薄膜の上に情報信号と対応した凹
凸(ピット2′)を形成する(第8図)。
次に、第9図に示すように凹凸(ピット、グループ)の
上に金属薄膜8の形成に使用したと同じ金属をスパッタ
リング法または真空蒸着法などによって必要なピット深
さと等しい膜厚の金属薄膜9を形成する。次いで、第9
図で2で示すフォトレジストを除去すると第10図に示
すように溝内に付着された金属薄膜9だけが金属薄膜8
上に残って本発明のスタンパが作製される。
また、本発明の別の実施例ではガラス基板1の上に金属
薄膜の膜厚をピット深さと等しくする以外には上述した
と同様にして金属薄膜8を形成した後フォトレジスト2
を形成する(第8図)。次に、この金属薄膜8上のフォ
トレジスト2をマスクとしてエツチングし第11図に示
すようにピット2′を形成する。次に、フォトレジスト
2を除去するとガラス基板1上に金属薄膜8が残存して
第12図に示すようなスタンパが作製される。
なお、上述した実施例は本発明の例示のために掲げたも
のであって本発明の要旨の範囲内で種々変形実施できる
ことはもちろんである。
効果 本発明の方法によれば以下の効果を得ることができる。
a)平面度の良いガラス基板がそのままスタンパの基板
として使用されるので、従来のスタンパに比べ非常に平
面度がよい。
b)工程数が少ないので、ゴミの付着する機会が少な(
転写精度もよく、製作コストも安い。
C)メッキ工程がないので、メッキ液の処理等の環境汚
染を生じることがない。
d)紫外線硬化性樹脂を使用する場合は射出成形と異な
シ熱や圧力が殆ど作用しないので、本発明のガラス基板
でも充分に使用に耐える。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第6図は従来のスタンパの製作工程を説明する
部分断面図でありそして第7図〜第12図は本発明のス
タンパの製作工程を説明する部分断面図である。 1・・・ガラス基板、2・・・フォトレジスト、2′・
・・ピットまたはプレグルーブ、3・・・導電膜、4・
・・ニッケル電鋳板、5・・・アクリル板、6・・・紫
外線硬化樹脂、7・・・紫外線、8,9・・・金属薄膜
。 特許出願人 株式会社 リ コ − 第7図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)ガラス基板、上に金属薄膜を形成し、この金属薄膜
    の上に7オトレジストを適用し、このフォトレジストを
    露光し現像して凹凸を形成させた後金属を付着させ次に
    フォトレジストを除去することを特徴とする、スタンパ
    ノ作製法。 2)ガラス基板上に金属薄膜を形成し、この金属薄膜の
    上に7オトレジストを適用し、このフォトレジストを露
    光し現像して凹凸を形成させた後、前記金属薄膜上のフ
    ォトレジストをマスクとして前記金属薄膜をエツチング
    し次にフォトレジストを除去することを特徴とする、ス
    タンパの作製法。
JP18692383A 1983-10-07 1983-10-07 スタンパの作製法 Pending JPS6079351A (ja)

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JP18692383A JPS6079351A (ja) 1983-10-07 1983-10-07 スタンパの作製法

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JP (1) JPS6079351A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02271934A (ja) * 1989-04-11 1990-11-06 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光ディスク基板
EP1564735A3 (en) * 2004-01-08 2007-01-10 Komag, Inc. Method and apparatus for making a stamper for patterning CDs and DVDs

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02271934A (ja) * 1989-04-11 1990-11-06 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光ディスク基板
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