JPH01107213A - 光導波路素子 - Google Patents

光導波路素子

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JPH01107213A
JPH01107213A JP26501987A JP26501987A JPH01107213A JP H01107213 A JPH01107213 A JP H01107213A JP 26501987 A JP26501987 A JP 26501987A JP 26501987 A JP26501987 A JP 26501987A JP H01107213 A JPH01107213 A JP H01107213A
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JP
Japan
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light
optical waveguide
diffraction grating
optical
grating
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Application number
JP26501987A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuharu Nozaki
野崎 信春
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/124Geodesic lenses or integrated gratings

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光導波路素子、特に詳細には光導波路の表面に
回折格子を備え、導波光をこの回折格子によって光導波
路外へ出射させ、あるいは外部光をこの回折格子によっ
て光導波路内に入射させるようにした光導波路素子に関
するものである。
(従来の技術) 例えば光走査記録装置や光走査読取装置等において光ビ
ームを偏向させる光偏向装置として、従来より、ガルバ
ノメータミラーやポリゴンミラー等の機械式光偏向器や
、EOD (電気光学光偏向器) 、AOD (音響光
学光偏向器)が多く用いられている。しかし機械式光偏
向器においては、耐久性に難がある、大型化しやすいと
いった問題があり、一方EODやAODにおいては、光
偏向角が大きく取れないのでビーム光路が長くなり、光
走査記録装置等の大型化を招くといった問題がある。
上述のような問題を解消しうる光偏向装置として近時、
光導波路を用いる光偏向装置が注目されている。この光
偏向装置は、表面弾性波が伝播可能な材料から形成され
たスラブ状の光導波路と、この光導波路内を導波する光
ビームと交わる方向に進行して周波数が連続的に変化す
る表面弾性波を該光導波路において発生させる手段(例
えば交叉くし形電極対と、この電極対に周波数が連続的
に変化する交番電圧を印加するドライバとから構成され
る)とを有するものである。この光偏向装置においては
、光導波路内を導波する光ビームが表面弾性波との音響
光学相互作用によりブラッグ回折し、そしてこの回折角
は表面弾性波周波数に応じて変化するので、表面弾性波
周波数を上述のように変えることにより、光ビームを光
導波路内において連続的に偏向させることができる。こ
うして偏向させた光−ビームは、例えば光導波路の表面
に形成した回折格子(グレーティングカブラ)やプリズ
ムカブラ等によって光導波路外に出射させることができ
る。なおこのような光偏向装置については、例えば特開
昭62−77761号公報に詳しい記載がなされている
(発明が解決しようとする問題点) ところで、光偏向装置によって記録媒体上に光ビームを
走査させて画像を記録する場合、高精細な画一像を記録
するためには、走査ビームを小さなスポットに絞り、し
かもその光強度分布が少なくともビーム副走査方向に亘
ってガウス分布をとるようにすることが求められる。
ところが、前述のような回折格子を用いて光導波路から
導波光を外部に出射させる場合は、上記のような光強度
分布のビームスポットを得ることは極めて困難となって
いる。すなわち第5図に示すように、基板40上の光導
波路41の表面に格子高さやピッチが一定に揃った線状
回折格子42を形成して導波光43を光導波路外に出射
させる場合、出射ビーム43°の光強度は図中曲線gで
示すように、導波光43の進行方向に沿って指数関数的
に漸次低下するものとなる。この第5図に示すように光
導波路に導波光を進行させて、表面弾性波により該導波
光を偏向させる場合、その偏向方向(主走査方向)はこ
の図の紙面に交わる方向であり、副走査方向は図中の矢
印V方向となる。つまり出射ビーム43°は、この副走
査方向に沿って指数関数的に漸減あるいは漸増する光強
度分布を有するものとなってしまうので、この方向に沿
って光強度分布がガウス分布となるようなビームスポッ
トを得ることは非常に難しくなるのである。
以上、回折格子によって導波光を光導波路外に出射させ
る場合の問題について述べたが、このような回折格子に
よって外部光を光導波路内に入射させることも従来から
広く行なわれており、その場合は、入射結合効率が低下
するという問題が生じる。すなわち光出射の場合と光入
射の場合の相反定理から導かれる通り、光入射の場合は
、入射させる光ビームが第5図の曲線gで示すような光
強度分布を有するものでなければ、全体的に効率良く光
導波路内に入射し得ないことになる。各種レーザ等の光
源から発せられる光ビームは、通常光強度分布がビーム
径方向にガウス分布をとるのが一般的であり、このよう
な光ビームを上記のように指数関数的に漸減(漸増)す
る光強度分布を有するビームに整形することは、非常に
困難である。
そこで本発明は、光導波路表面に形成した回折格子によ
って導波光を光導波路外に出射させる場合、あるいは外
部光を光導波路内に入射させる場合に、以上述べたよう
な問題を生じることのない光導波路素子を提供すること
を目的とするものである。
(問題点を解決するための手段及び作用)本発明の光導
波路素子は、先に述べたように光導波路の表面に、該光
導波路内を進行する導波光を外部に出射させ、あるいは
外部光を光導波路内に入射させる回折格子が形成された
光導波路素子において、回折格子の格子高さを、導波光
を該回折格子によって光導波路外に出射させたとき、出
射光の強度分布が導波光の進行方向に沿って略ガウス分
布となるように、該方向に沿って山形状に変化させたこ
とを特徴とするものである。
なお、光導波路上に設ける回折格子の高さを変化させる
ことは、例えば特開昭60−111220号公報に示さ
れているが、該公報に示される光導波路素子は、格子高
さを導波光の進行方向に沿って漸次大きくなるようにし
たものであり、このような構成では本発明の目的を達成
することはできない。
(実 施 例) 以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細な説明
する。
第1図および第2図はそれぞれ、本発明の一実施例によ
る光導波路素子lOを示す側面図と斜視図である。この
光導波路素子lOは一例として、画像記録用の光偏向器
を構成するものであり、透明な基板16上に形成された
スラブ状光導波路11と、この光導波路11の側端部に
設けられた交叉くし形電極対(I nter  D 1
g1tal  T ransdueer 、以下■DT
と称する) 15と、この光導波路11の表面において
互いに離して設けられた光入射用線状回折格子(L 1
near G rating  Coupler :以
下LGCと称する)20および光出射用LGC21とを
有している。また基板1Gの光導波路11と反対側の表
面11sa上には、光入射用プリズム30と、光出射用
プリズム31が取り付けられている。光入射用プリズム
30は断面三角形状のもので、第1の光通過面30aと
゛ 第2−の光通過面30bを有し、上記第1の光通過
面30aが基板表面leaに強く押圧されることにより
、あるいは高屈折率の接着剤を用いる等により、該表面
leaに密着固定されている。光出射用プリズム31も
上記光入射用プリズム30ど同様の形状とされ、第1の
光通過面31a1第2の光通過面31bを有し、上述と
同様にして基板leaに固定されている。。
本実施例においては一例として、基板16にLiNbO
3ウェハを用い、このウェハの表面にTi拡散膜を設け
ることにより光導波路11を形成している。なお基板1
Bとしてその他サファイア、Si等からなる結晶性基板
が用いられてもよい。また光導波路11も上記のTi拡
散に限らず、基板16上にその他の材料をスパッタ、蒸
着する等して形成することもできる。なお光導波路につ
いては、例えばティー タミール(T、 Tam1r)
編「インチグレイテッド オプティクス(I nteg
rated Opiics)J()ピックス イン ア
プライド フィジックス(Topics in  Ap
pHed  Physics)第7巻)スブリンガー 
フエアラーグ(S pringer−Verlag )
刊(1975);西原、音名、栖原共著「光集積回路」
オーム社刊(1985)等の成著に詳細な記述があり、
本発明では光導波路11としてこれら公知の光導波路の
いずれをも使用できる。ただしこの光導波路11は、上
記Ti拡散膜等、後述する表面弾性波が伝播可能な材料
から形成される。また光導波路は2層以上の積層構造を
有していてもよい。
記録光を発する半導体レーザ18は、光入射用プリズム
30の第2の光通過面30bに向けて垂直に光ビーム(
レーザビーム)13を射出するよ′うに配置されている
。発散ビームであるこの光ビーム13は、コリメーター
レンズ25によって平行ビームとされた上で上記第2の
光通過面30bから光入射用プリズム30内に入射し、
その第1の光通過面30aを通過して基板16内に入射
し、光導波路11を透過して、その表面に形成された前
記LGC20の部分に入射する。それにより光ビーム1
3はこのL G C20で回折して光導波路ll内に入
射し、該光導波路11内を導波モードで矢印A方向に進
行する。
画像記録を行なう際には、例えばエンドレスベルト等の
移送手段22上に感光体23がセットされる。
そして半導体レーザ18はレーザ駆動回路19により、
レーザビーム13を射出するように°駆動され、それと
ともにIDT15には、駆動回路17から連続的に周波
数が変化する交番電圧が印加される。なおレーザ駆動回
路19は変調回路24によって制御され、画像信号Sに
応じて光出力を変えるように(すなわち光ビーム13の
強度や、光ビーム13をパルス状に射出する場合はパル
ス数やパルス幅を変えるように)半導体レーザ18を駆
動する。
IDT15に上述のような電圧印加がなされることによ
り、光導波路11の表面を表面弾性波12が第2図の矢
印B方向に進行する。IDT15は、この表面弾性波1
2が導波光(平行ビーム) 13°の光路に交わる方向
に進行するように配設されている。
したがって導波光13°は、表面弾性波12を横切るよ
うに進行するが、その際該導波光13’ は表面弾性波
12との音響光学相互作用によりブラッグ(Bragg
)回折する。周知の通り、この回折による導波光13°
の偏向角は、表面弾性波12の周波数にほぼ比例する。
前述の通り駆動回路17はIDT15に、周波数が連続
的に変化する交番電圧を印加するので、表面弾性波12
の周波数が連続的に変化し、上記偏向角が連続的に変化
するようになる。したがってこの導波光13′は矢印C
で示す通り、回折角が連続的に変化するように回折、偏
向する。このようにして偏向した導波光13′ は、L
GC21により回折して光導波路11から基板16側に
出射する。
こうして光導波路11から出射して外部光となった光ビ
ーム13″は、光出射用プリズム31の第1の光通過面
31aを通過して該プリズム31内に入射し、i2の光
通過面31bを垂直に通過してプリズム外に出射する。
上述のようにして光導波路素子lO外に出射した光ビー
ム13”は、例えばfθレンズからなる走査レンズ2B
を通過して小さなビームスポットQに絞られ、感光体2
3上を矢印U方向に走査(主走査)する。それとともに
感光体23が、移送手段22により上−肥土走査の方向
と略直角な矢印V方向に移送されて副走査がなされるの
で、感光体23は光ビーム13“により2次元的に走査
される。前述したようにこの光ビーム13“は画像信号
Sに基づいて変調されているので、感光体23上にはこ
の画像信号Sが担う画像が記録される。
なお1主走査ライン分の画像信号Sと光ビーム13”の
主走査との同期をとるためには、この画像信号Sに含ま
れるブランキング信号sbをトリガ信号として用いて、
IDT15への電圧印加タイミングを制御すればよい。
またこのブランキング信号sbにより移送手段22の駆
動タイミングを制御することにより、上記主走査と副走
査との同期をとることができる。
ここで本発明のi徴部分として、第3図(A)に概略的
に示すように光出射用LGC21は、格子高さが導波光
13°の進行方向(すなわちL G C21の格子並び
方向)に沿ってなだらかな山形状に変化するように設定
されており、それにより光ビーム13“のこの方向の光
強度分布は、第3図CB)の曲線fで示すように略ガウ
ス分布となる。以下、このような光強度分布を得る格子
高さの分布について詳しく説明する。
LGC21の放射損失係数をα、長さをLとし、またそ
の格子高さhがエバネッセント波浸出し深さhcを超え
ないものとすると、 α−B h2     [13は係数]  ・・・・・
・(1)である。第3図(B)に示すように、L G 
C21上の導波光進行方向位置をy (O5y≦L)と
すると、LGC21設置部分の光導波路11における導
波光光量はyの関数となるので、これをP (y)とす
る。そしてこの導波光光JIP(y)のy方向単位長さ
当たりの減衰量は、LGC21から出射する光ビーム1
3″の光強度分布が第3図(B)の曲線fで示すように
y軸方向にガウス分布となる場合は、 となる。なおα(y)は、y軸方向各位置における放射
損失係数である。
一方上記曲線fは一般的に、 なる式で表わされるものである。なおWは、光強度が最
大値の1/e2以上となる範囲の格子長さの半値である
。上記(3)式を用いると、導波光光量P (y)は以
下の式で表わされる。
+δ 上式を(4)式とする。この(4)式の右辺第1項はL
GC21によって取り出される全光量、第2項はLGC
21の作用に係わらないで0≦y≦Lの範囲で定常的に
導波する光量、第3項はある位置yまでの間にLGC2
1から出射した光量であり、この式から、Aを係数とし
て、 となる。したがってこの式と前記(2)式より、前記(
4)式の右辺第1項と第2項の和は、LGC21設置部
に導波して来る導波光13’の光量Poと等しいからこ
の光ffi P oを知ることにより(4)式がらP 
(y)の値が求められ、それにより上記(5)式からα
(y)の値が求められる。
以上述べたようにして、第3図(B)の曲線fで示すよ
うな光強度分布の光ビーム13”が得られる放射損失係
数α(y)が求められれば、前記(1)式に基づいて、
そのような放射損失係数α(y)を実現する格子高さh
 (y)が求められる。このよう−にして求めた格子高
さhの分布の例を、第4図に2例示す。この第4図中の
曲線aは、回折格子の長さしを3fflIIlとしてビ
ーム径2w−211IIIの出射ビーム13″を得る格
子高さ分布を示し、また曲線a′はそれに対応する放射
損失゛係数αの分布を示し、−力曲線すは、回折格子の
長さLを7111Imとしてビーム径2w=4.7mg
+の出射ヒーム13”ヲ得る格子高さ分布を示し、曲線
b°はそれに対応する放射損失係数αの分布を示してい
る。なおこの例における導波光13’ の波長久は63
3nmであり、LGC21の屈折率n、は2.4である
前述した通り格子高さhは、エバネッセント波浸出し深
さり。よりも低い範囲で変化させる必要がある。このエ
バネッセント波浸出し深さh2は、光導波路11の実効
屈折率をN、LGC21とその外側の媒質(通常は空気
である)との平均的な屈折率をngeとすれば、 hc−λ/2πバフ;7「 である。なおnteは、LGC21の屈折率をn、、上
記媒質の屈折率をn(、格子ピッチをd1各格子の格子
並び方向厚さをdlとすると、で与えられる。
LGC21から出射する光ビーム13”の光強度分布が
以上説明したようなものとなっていれば、感光体23上
を走査するビームスポットQは、ビーム副走査方向の光
強度分布がガウス分布をとるものとなる。したがってビ
ームスポットQは、この方向に十分に絞られたものとな
り得、それにより、極めて精細な画像を記録できるよう
にな8゜なお以上説明した実施例においては、LGC2
1から光ビーム13”を基板1B側に出射させるように
しているが、基板16と反対の空気側、すなわち第1図
において上方側に光ビーム13”を出射させる場合にも
本発明は適用可能であり、その場合も上述と同様の作用
が得られる。また光ビーム13”を基板I6側に出射さ
せる場合、必ずしも前述のプリズム3【を用いる必要は
なく、従来から広(行なわれているように、基板1Bの
端面を斜めにカットして、そこから光ビーム13′を出
射させるようにしてもよい。
また上記実施例においては、光出射用LGC21に対し
て本発明が適用されているが、光入射用LGC20に対
して本発明を適用することも可能である。その場合は、
上記実施例におけるのと相反的な作用効果が得られる。
すなわちこの場合は、光導波路ll内に入射させる光ビ
ーム13として、光強度分布が略ガウス分布となってい
る一般的なレーザビーム等を用いれば、その先ビーム1
3は入射結合効率が略最大で光導波路11内に取り込ま
れることになる。
さらに、以上説明した実施例の光導波路素子は光偏向器
を構成するものであるが、このような光偏向器に限らず
、光導波路から出射する光ビームを導波光進行方向の光
強度分布がガウス分布となるように整形したいという要
求、さらには、光強度分布が略ガウス分布となっている
一般的な光ビームを高い入射結合効率で光導波路内に入
射させたいという要求は広く存在するものであり、本発
明はそのような要求のあるすべての光導波路素子におい
て適用可能で、かつ有効である。
(発明の効果) 以上詳細に説明した通り本発明の光導波路素子において
は、光導波路表面に形成する回折格子の格子高さを、導
波光の進行方向に沿って山形状の分布を有するように設
定したことにより、該回折格子から出射する光ビームの
光強度分布を略ガウス分布とすることができる。したが
ってこの光導波路素子によれば、光導波路から出射した
光ビームを極めて小さなスポットに絞ることが可能とな
り、画像記録あるいは画像読取り用の光偏向器に適用し
た場合は画像記録あるいは読取りの精度を十分に高め、
さらに高周波スペクトルアナライザー等に適用した場合
は、周波数分析の分解能を高めることができる。
また本発明の光導波路素子においては、回折格子を上述
のような形状としたことにより、光強度分布がガウス分
布状となっている一般的なレーザビーム等の外部光を、
効率良く光導波路内に取り込むことが可能となる。した
がってこの光導波路素子によれば、−数的なレーザビー
ム等を整形するようなことなくそのまま用いた上で、上
記の光偏向器や高周波スペクトルアナラ°イザー等にお
ける光利用効率を十分に高めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図と第2図はそれぞれ、本発明の一実施例による光
導波路素子を示す側面図と斜視図、第3図(A)は上記
実施例の光導波路素子の回折格子部分を拡大して示す側
面図であり、第3図(B)はこの回折格子の並び方向に
沿った出射光の強度分布を示すグラフ、 第4図は本発明の光導波路素子における回折格子高さの
分布と、それに対応する放射損失係数の分布の例を示す
グラフ、 第5図は従来の光導波路素子の回折格子から出射する光
ビームの強度分布を説明する説明図である。 10・・・光導波路素子   11・・・光導波路12
・・・表面弾性波    13・・・光ビーム13゛ 
・・・導波光 13”・・・光導波路から出射した光ビーム21・・・
光出射用回折格子 第3図 第5図 第4図 ■+h將1ル渫y (mm) 昭和62年91)月24日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 光導波路の表面に、該光導波路内を進行する導波光と外
    部光とを結合する回折格子が形成された光導波路素子に
    おいて、 前記回折格子の格子高さが、導波光を該回折格子によっ
    て光導波路外に出射させたとき、導波光の進行方向に沿
    った出射光の強度分布が略ガウス分布となるように、該
    方向に沿って山形状に変えられていることを特徴とする
    光導波路素子。
JP26501987A 1987-10-20 1987-10-20 光導波路素子 Pending JPH01107213A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5101459A (en) * 1990-06-06 1992-03-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical waveguide grating coupler device
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