JP7492554B2 - 雰囲気が制御された移送モジュール及び処理システム - Google Patents
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Description
102 ファクトリインターフェース
104 モジュール
106 処理モジュール
108 フープ
110 チャンバ
112 ロードロック
114 チャンバ
116 処理チャンバ
202 第1のロードロックチャンバ
204 チャンバ
206 第2のロードロックチャンバ
208 チャンバ
210 本体
212 第1のスリットバルブ
214 第1のスリットバルブドア
216 第2のスリットバルブドア
218 パージガス導管
220 本体
222 蓋
224 ロボット
226 第1のLCFセンサ
228 第2のLCFセンサ
230 基板
302 上面
304 ハンドル
306 ポートアダプター
308 取り付けプレート
310 スリットバルブ
312 スリットバルブドア
316 ねじ
402 ベースプレート
404 排気ポート
406 第1のパージガスポート
408 第2のパージガスポート
410 ディフューザー
412 ディフューザー
414 任意選択的な排気ポート
416 アーム
418 ブレード
420 第2のベースプレート
502 内部空間
504 ディフューザープレート
506 蓋
508 基板支持体
509 基板支持表面
510 流体導管
511 凹部
512 冷却流体源
513 側壁
514 パージガス源
516 ヒータ
518 第2のスリットバルブ
520排気導管
522 酸素センサ
524 第1の導管
526 第2の導管
528 チェックバルブ
530 ポンプ
532 排気出口
534 底面
536 部分
602 リフトピン
604 凹部
606 シャフト
608 第1の拡張部
610 第2の拡張部
612 上面
614 上面
616 第1の支持ボール
618 第2の支持ボール
620 距離
622 接触ボール
624 距離
626 排気ポート
628 側壁
700 処理システム
702 ファクトリインターフェース
704 モジュール
706 処理モジュール
708 フープ
710 チャンバ
712 ロードロックチャンバ
714 チャンバ
716 単一のチャンバ
718 処理チャンバ
800 処理システム
802 ファクトリインターフェース
804 モジュール
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808 フープ
810 チャンバ
812 ロードロックチャンバ
814 チャンバ
818 処理チャンバ
900 プラットフォーム
902 第1のファクトリインターフェース
904 第2のファクトリインターフェース
906 トンネルチャンバ
908 第1のロードロックチャンバ
910 第2のロードロックチャンバ
912 チャンバ
914 モジュール
916 ロードロックチャンバ
918 チャンバ
920 処理モジュール
922 第1の処理チャンバ
924 第2の処理チャンバ
926 チャンバ
928 処理チャンバ
930 処理チャンバ
932 処理チャンバ
934 フープ
936 フープ
938 ロードロックチャンバ
1000 プラットフォーム
1002 第1のファクトリインターフェース
1004 第2のファクトリインターフェース
1006 トンネルチャンバ
1008 第1のロードロックチャンバ
1010 第2のロードロックチャンバ
1012 チャンバ
1014 モジュール
1016 ロードロックチャンバ
1018 チャンバ
1020 処理モジュール
1022 第1の処理チャンバ
1024 第2の処理チャンバ
1026 チャンバ
1028 処理チャンバ
1030 処理チャンバ
1032 ロードロックチャンバ
1034 フープ
1036 フープ
1100 方法
1110 動作
1120 動作
1130 動作
1140 動作
1150 動作
1160 動作
1170 動作
1180 動作
Claims (20)
- ほぼ大気圧において水蒸気を含まない実質的に不活性な環境を生成するためのロードロックチャンバであって、
処理空間を画定するロードロックチャンバ本体、
前記処理空間内に配置されたペデスタル、
前記ペデスタルに対向して前記ロードロックチャンバ本体に連結される蓋、
前記蓋を通って配置されたパージガスポート、および
前記ペデスタルに隣接し前記パージガスポートに対向して前記ロードロックチャンバ本体内に配置された排気ポート
を含むロードロックチャンバと、
前記ロードロックチャンバに連結される、ほぼ大気圧において水蒸気を含まない実質的に不活性な環境を生成するための移送チャンバであって、
移送空間を画定する移送チャンバ本体、
前記移送空間内に配置されたロボット、
前記移送空間に流体連通したセンサ、
前記移送チャンバ本体内に配置された複数のパージガスポートであって、前記複数のパージガスポートの各々が、該パージガスポートから延在するディフューザーを有し、前記ディフューザーは、前記移送チャンバ本体の全体にガスを拡散させるように構成されている、複数のパージガスポート、および
前記複数のパージガスポートとは反対側の前記移送チャンバ本体内に配置された排気ポート
を含む移送チャンバと、
を備える基板移送装置。 - 前記ロードロックチャンバが、
前記ロードロックチャンバ本体内に形成された第1のスリットバルブと、
前記第1のスリットバルブとは反対側の前記ロードロックチャンバ本体内に形成された第2のスリットバルブと
をさらに含む、請求項1に記載の装置。 - 前記ロードロックチャンバが、
前記第1のスリットバルブに隣接して前記ロードロックチャンバ本体に連結された第1のスリットバルブドアと、
前記第2のスリットバルブに隣接して前記ロードロックチャンバ本体に連結された第2のスリットバルブドアと
をさらに含む、請求項2に記載の装置。 - 前記ロードロックチャンバが、前記ペデスタルの周りに配置された複数のリフトピンをさらに含み、前記リフトピンに隣接して、前記ペデスタル内に複数の凹部が形成されている、請求項1に記載の装置。
- 前記複数のリフトピンの各々が、シャフト、前記シャフトに連結され前記シャフトから延在する第1の拡張部、および前記シャフトに連結され前記シャフトから延在する第2の拡張部を含み、前記第2の拡張部が、前記第1の拡張部に隣接して、前記第1の拡張部から間隔を空けて配置されている、請求項4に記載の装置。
- 前記第1の拡張部および前記第2の拡張部が、10mmと30mmの間の距離だけ間隔を空けて配置されている、請求項5に記載の装置。
- 支持ボールが、前記第1の拡張部と前記第2の拡張部との各々に連結されている、請求項5に記載の装置。
- 前記支持ボールが窒化ケイ素材料を含む、請求項7に記載の装置。
- 前記ペデスタルが、内部に形成された複数の流体導管を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記ペデスタルの上面が、内部に配置された複数の窒化ケイ素材料の接触ボールを有する、請求項1に記載の装置。
- 前記移送チャンバが、前記移送チャンバ本体に連結される光学的に透明な蓋をさらに含む、請求項1に記載の装置。
- 前記光学的に透明な蓋が、ポリカーボネート材料から製造されている、請求項11に記載の装置。
- 前記センサが、1ppm未満の酸素の酸素濃度感知能力を有する酸素センサである、請求項1に記載の装置。
- 前記移送チャンバの前記排気ポートが、前記移送チャンバ本体内において、前記ロードロックチャンバが前記移送チャンバに連結される領域に隣接して配置されている、請求項1に記載の装置。
- ほぼ大気圧において酸化剤を含まない実質的に不活性な環境を生成するための移送チャンバを備える、基板移送装置であって、
前記移送チャンバが、
移送空間を画定するチャンバ本体、
前記チャンバ本体に連結される光学的に透明な蓋、
前記移送空間内に配置されたロボット、
前記移送チャンバ内の1つ以上の開孔と光学的に連結された複数のLCF(local center finding)センサ、
前記チャンバ本体内に配置された複数のパージガスポート、
前記パージガスポートから延在する複数のディフューザー、
前記複数のパージガスポートとは反対側の前記チャンバ本体内に配置された排気ポート、
前記チャンバ本体に連結され、前記排気ポートから延在する排気導管、および
前記排気導管と前記排気ポートとを介して、前記移送空間に流体連通した酸素センサ
を含む、基板移送装置。 - 前記酸素センサが、1ppm未満の酸素の酸素濃度感知能力を有する、請求項15に記載の装置。
- 前記酸素センサが、第1の導管および第2の導管を介して前記排気導管に連結されている、請求項15に記載の装置。
- ほぼ大気圧において実質的に不活性な環境を生成するためのロードロックチャンバであって、
処理空間を画定するロードロックチャンバ本体、
前記処理空間内に配置されたペデスタル、
前記ペデスタルに対向して前記ロードロックチャンバ本体に連結される蓋、
前記蓋を通って配置されたパージガスポート、および
前記ペデスタルに隣接し前記パージガスポートに対向して前記ロードロックチャンバ本体内に配置された排気ポート
を含むロードロックチャンバと、
前記ロードロックチャンバに連結される、ほぼ大気圧において実質的に不活性な環境を生成するための移送チャンバであって、
移送空間を画定する移送チャンバ本体、
前記移送空間内に配置されたロボット、
前記移送チャンバ本体に連結された複数のLCF(local center finding)センサ、
前記移送チャンバ本体内に配置された複数のパージガスポート、および
前記移送チャンバ本体に連結され、前記移送チャンバの排気ポートから延在する排気導管
を含む移送チャンバと、
を備える基板移送装置。 - 第1のLCFセンサが、前記ロードロックチャンバに隣接して前記移送チャンバ本体に連結され、第2のLCFセンサが、前記第1のLCFセンサとは反対側で前記移送チャンバ本体に連結されている、請求項18に記載の装置。
- 前記排気導管に流体連通した酸素センサをさらに備える、請求項19に記載の装置。
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