JP7464410B2 - 加工装置 - Google Patents

加工装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7464410B2
JP7464410B2 JP2020036321A JP2020036321A JP7464410B2 JP 7464410 B2 JP7464410 B2 JP 7464410B2 JP 2020036321 A JP2020036321 A JP 2020036321A JP 2020036321 A JP2020036321 A JP 2020036321A JP 7464410 B2 JP7464410 B2 JP 7464410B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
chuck
grindstone
grinding wheel
grinding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020036321A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021137900A (ja
Inventor
正 村里
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP2020036321A priority Critical patent/JP7464410B2/ja
Publication of JP2021137900A publication Critical patent/JP2021137900A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7464410B2 publication Critical patent/JP7464410B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Description

本発明は、非円形状のワークを加工する加工装置に関する。
半導体製造分野では、シリコンウェハ等の半導体ウェハ(以下、「ワーク」という)を薄膜に形成するために、ワークの裏面を研削する裏面研削が行われている。
ワークの裏面研削を行う加工装置として、特許文献1に示すように、下端に砥石が取り付けられたスピンドル送り機構が定圧シリンダに吊設され、ワークに切り込ませた砥石に作用する摩擦力が所定値より高い場合に、定圧シリンダが、スピンドル及びスピンドル送り機構を鉛直方向に上昇させるものが知られている。
このような研削盤では、砥石に作用する摩擦力が過大となる場合に、定圧シリンダが、スピンドルとスピンドル送り機構とを一時的に上昇させるため、砥石とワークとが過度に接触しない状態でワークが延性モード研削されるため、ワークにダメージを与えることなく安定して研削することができる。
特許第6030265号公報
しかしながら、砥石及び矩形ワーク等の非円形状のワークをそれぞれ回転させながら研削する場合、砥石とワークとの接触面積は常に一定ではなく、例えば、砥石とワークとの接触面積が比較的大きい領域は、接触面積が比較的小さい領域と比べて、ワークの研削量が減少しがちである。すなわち、砥石をワークに対して一様に接触させると、砥石とワークとの接触面積の変動に応じて、加工後のワークに厚みばらつきが生じるという問題があった。
そこで、非円形状のワークを所望の厚みに加工するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る加工装置は、非円形状のワークを平面加工する加工装置であって、前記ワークを吸着保持可能なチャックと、前記チャックを回転させるチャックスピンドルと、前記チャックの回転角度を検出可能な検出部と、を備えている保持手段と、前記ワークを加工する砥石と、前記砥石を回転させる砥石スピンドルと、前記砥石を垂直方向に移動させるスピンドル送り機構と、前記スピンドル送り機構を保持するエアシリンダと、を備えている加工手段と、前記ワークと前記砥石とが接触する接触面積の変化に応じて、前記チャックの所定回転角度毎に前記エアシリンダに供給される空気圧を加減圧して前記砥石を昇降させる制御手段と、を備えている。
この構成によれば、チャックの回転に伴うワーク及び砥石の接触面積の変化に応じて、チャックの所定回転角度毎に砥石を昇降させることにより、非円形状のワークの加工量が局所的に変化することを抑制し、ワークの形状に起因する加工後のワークの厚みバラつきを軽減することができる。
また、本発明に係る加工装置は、前記制御手段が、前記接触面積が予め設定された基準面積と比較して大きい場合には、前記エアシリンダに供給される空気圧を予め設定された基準圧より加圧して、前記砥石を降下させることが好ましい。
この構成によれば、基準面積より広いワーク及び砥石の接触面積内の加工量が局所的に低下することを抑制できる。
また、本発明に係る加工装置は、前記制御手段が、前記接触面積が予め設定された基準面積と比較して小さい場合には、前記エアシリンダに供給される空気圧を予め設定された基準圧より減圧して、前記砥石を上昇させることが好ましい。
この構成によれば、基準面積より狭いワーク及び砥石の接触面積内の加工量が局所的に増大することを抑制できる。
本発明は、チャックの回転に伴うワーク及び砥石の接触面積の変化に応じて、チャックの所定回転角度毎に砥石を昇降させることにより、非円形状のワークの加工量が局所的に変化することを抑制し、ワークの形状に起因する加工後のワークの厚みバラつきを軽減することができる。
本発明の一実施形態に係る研削装置を示す斜視図。 図1に示すメインユニットの側面図。 図1に示すメインユニットの平面図。 ワーク内の2箇所におけるワークと砥石との接触面積を比較した平面図。 チャックの回転角度に応じて、砥石の高さ位置を変化させる様子を示す図。
本発明の実施形態について図面に基づいて説明する。なお、以下では、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。
また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。
また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。
研削装置1は、ワークWを研削して薄膜に形成するものである。なお、以下では、平面視で正方形状のワークWを例に説明するが、ワークWの形状はこれに限定されるものではない。研削装置1を用いて研削加工が施されるワークWは、シリコンウェハ、シリコンカーバイドウェハ等の高硬度・高脆性を示すものが好適であるが、これらに限定されるものではない。
研削装置1は、砥石21を備えるメインユニット2と、メインユニット2の下方に配置された搬送ユニット3と、を備えている。
メインユニット2は、アーチ状のコラム22と、砥石21が取り付けられた砥石スピンドル23と、砥石スピンドル23を鉛直方向Vに摺動可能に支持する3つのリニアガイド24と、砥石スピンドル23を鉛直方向Vに昇降させるスピンドル送り機構25と、を備えている。
砥石スピンドル23は、コラム22の前面22aに鉛直方向Vに亘って凹設された溝22b内に収容されている。砥石スピンドル23は、砥石21を下端に取り付けたサドル23aと、サドル23a内に設けられて砥石21を回転させる図示しないモータと、を備えている。
リニアガイド24は、鉛直方向Vに沿って昇降するサドル23aの案内レールであり、2つの前方リニアガイド24aと、1つの後方リニアガイド24bと、で構成される。
前方リニアガイド24aは、コラム22の前方で溝22bの縁部に配置され、鉛直方向Vに沿って互いに平行に設けられている。また、前方リニアガイド24aには、サドル23aが直接取り付けられている。
後方リニアガイド24bは、溝22bの底部に鉛直方向Vに沿って互いに平行に設けられている。また、後方リニアガイド24bには、後述するナット25aを介して、サドル23aが取り付けられている。
前方リニアガイド24aと後方リニアガイド24bとは、図3に示すように、平面視で砥石スピンドル23の重心Gが前方リニアガイド24a及び後方リニアガイド24bで形成される三角形T内に配置されるように、互いに離間して配置されている。
スピンドル送り機構25は、サドル23aと後方リニアガイド24bとを連結するナット25aと、ナット25aを昇降させるボールネジ25bと、ボールネジ25bを回転させるモータ25cと、を備えている。
モータ25cが駆動してボールネジ25bが回転すると、ナット25aが鉛直方向Vと平行なボールネジ25bの送り込み方向D1にスライドすることにより、サドル23aが下降する。
メインユニット2には、エアシリンダ26が設けられている。エアシリンダ26は、スピンドル送り機構25を挟んで水平方向Hの両側に1つずつ設けられている。エアシリンダ26は、図示しないシリンダ、ピストン、ピストンロッド、コンプレッサ等から成る公知の構成である。
エアシリンダ26の駆動圧は、砥石21がワークWの臨界切り込み深さ(Dc値)だけ切り込んだ際に砥石21に作用する摩擦力に対応した値以下に設定される。Dc値は、ワークWの材料毎に異なり、例えば、シリコンウェハで0.09μm、シリコンカーバイドウェハで0.15μmである。さらに、エアシリンダ26に供給される圧縮空気の圧力(空気圧)を加減することにより、エアシリンダ26がスピンドル送り機構25を介して砥石21をワークWに押し付ける押圧力を調整して、砥石21の鉛直方向Vにおける位置(高さ位置)を昇降できる。
エアシリンダ26は、砥石スピンドル23及びスピンドル送り機構25を溝22b内で吊設しており、エアシリンダ26のピストンロッドが、モータ25cに連結されている。エアシリンダ26がスピンドル送り機構25を挟んで水平方向Hの両側に設けられることにより、スピンドル送り機構25が昇降する際にスピンドル送り機構25が水平方向Hに傾くことが抑制される。
搬送ユニット3は、ワークWを吸着保持可能なチャック31と、チャック31の回転角度を検出する検出部32と、チャック31を載置するスライダ33と、を備えている。
チャック31は、上面にアルミナ等の多孔質材料からなる吸着体34と、吸着体34を略中央に埋設する緻密体35と、を備えている。チャック31は、内部を通って表面に延びる図示しない管路を備えている。管路は、図示しないロータリージョイントを介して真空源、圧縮空気源又は給水源に接続されている。真空源が起動すると、吸着体34に載置されたワークWが吸着体34に吸着保持される。また、圧縮空気源又は給水源が起動すると、ワークWと吸着体34との吸着が解除される。
吸着体34は、平面から視てワークWに応じた形状に形成されている。また、緻密体35は、平面から視て略円形状に形成されているが、緻密体35の形状はこれに限定されるものではない。また、チャック31は、図示しないサーボモータによってチャック31の中心を通る鉛直軸回りに回動可能である。
検出部32は、チャック31の回転角度を検出し、チャック31が所定角度だけ回転する度に検出信号を後述する制御装置5に送る。検出部32は、例えば、チャック31を回転させるサーボモータとチャック31の回転角度とサーボモータの回転角度とが対応するため、サーボモータの回転角度を読み取ることで、チャック31の回転角度を検出することができる。
スライダ33は、図示しないスライダ駆動機構によってレール36上を摺動可能であり、これにより、チャック31とスライダ33とは、搬送方向D2に一体になってスライドするようになっている。
このようにして、チャック31上に真空吸着されたワークWは、研削加工前に、スライダ33によって砥石21の下方まで搬入され、研削加工後に、砥石21の下方からメインユニット2の後方まで搬出される。
研削装置1には、ワークWの厚みを計測するインプロセスゲージ4が設けられている。インプロセスゲージ4は、加工中にワークWの厚みを計測する。
研削装置1の動作は、制御装置5によって制御される。制御装置5は、研削装置1を構成する構成要素をそれぞれ制御するものである。制御装置5は、例えば、CPU、メモリ等により構成される。なお、制御装置5の機能は、ソフトウェアを用いて制御することにより実現されても良く、ハードウェアを用いて動作することにより実現されても良い。
次に、研削装置1を用いてワークWを研削加工する手順について説明する。
まず、ワークWをチャック31に吸着保持させる。また、ボールネジ25bを正回転させ、ナット25a及びサドル23aを送り込み方向D1にスライドさせて、砥石21をワークWの近傍まで下降させる。
次に、砥石21及びチャック31をそれぞれ回転させる。例えば、砥石スピンドル23の回転速度は2000rpm、チャック31の回転速度は300rpmに設定される。砥石21の番手は、例えば#8000である。
スピンドル送り機構25が砥石スピンドル23をワークWに接近させ、砥石21がワークWに着座した状態から研削加工を開始する。例えば、スピンドル送り機構25の送り速度は0.4μm/sに設定される。
研削加工は、砥石21の砥粒が研削加工中にワークWに過剰に接触しない、いわゆるフローティングした状態でワークWを延性モード研削することで行われる。
具体的には、砥石スピンドル23が自重(例えば、20kg)で砥石21をワークWに押し付けながら研削加工を行い、砥石21に作用する摩擦力がピストンロッドに伝わると、エアシリンダ26のシリンダ内に充填された圧縮空気を押し戻すようにピストンを上昇させる。したがって、砥石21が所望の研削量(例えば、Dc値)より深く切り込もうとして、砥石21に作用する摩擦力が過大になる場合、砥石スピンドル23及びスピンドル送り機構25が一時的に上昇する。これにより、砥石21がDc値以上に切り込むことが抑制される。
そして、インプロセスゲージ4の測定値がワークWの仕上げ厚みに達すると、ボールネジ25bを逆回転させて、ナット25a及びサドル23aを上昇させることにより、砥石21をワークWから離間させて、研削加工を終了する。
ところで、砥石21及び正方形状のワークWをそれぞれ回転させながらワークWを研削加工する場合、砥石21とワークWとの接触面積が一定でないことに起因して、研削加工後のワークWの厚みがワークW面内でばらつくことがある。このような研削量のばらつきは、ワークWとの接触面積の変動による影響を受けがちな目の細かい砥石21ほど生じがちである。
例えば、図4に示すように、砥石21の加工面がワークWの角及びチャック31の回転中心Oを通るように設定されたワークWと砥石21との接触面積S1(チャック31の回転角度=Θ)と、砥石21の加工面がワークWの辺の中央及び回転中心Oを通るように設定されたワークWと砥石21との接触面積S2(チャック31の回転角度=Θ―45度)とを比較すると、接触面積S1が接触面積S2より約2倍程度広い。
そして、砥石21をワークWに全面に亘って一様に接触させた場合、ワークWと砥石21との接触面積が増大するにつれて、ワークWの研削量が減少して研削加工後のワークWは厚くなる。したがって、図4に示す接触面積S1、S2内の厚みを比較すると、研削加工後のワークWでは、接触面積S1の方が接触面積S2より厚くなることが予測される。
そこで、研削装置1では、以下の手順により、研削加工後のワークWの厚みばらつきを抑制する。
[準備工程]
まず、チャック31の所定回転角度毎に、ワークW及び砥石21の接触面積を算出し、制御装置5に記憶させる。なお、接触面積を算出するチャック31の回転角度の間隔は、任意に変更可能である。
また、制御装置5は、予め記憶された基準となる任意のチャック31の回転角度におけるワークW及び砥石21の接触面積(基準面積)と、チャック31の回転角度毎のワークW及び砥石21の接触面積とを比較し、チャック31の回転角度毎に加工時のワークWに対する砥石21の高さ位置及びその砥石21の高さ位置を実現可能なエアシリンダ26に供給される空気圧を算出して記憶する。
具体的には、ワークW及び砥石21の接触面積が基準面積より大きい場合には、エアシリンダ26に供給される空気圧を加圧して、砥石21を基準位置より降下させ、ワークWの研削量を局所的に増大させる。なお、「基準位置」とは、基準面積内における砥石21の高さ位置を意味する。これにより、基準面積より広いワークW及び砥石21の接触面積内での研削量が局所的に低下することを抑制できる。
一方、ワークW及び砥石21の接触面積が基準面積より小さい場合には、エアシリンダ26に供給される空気圧を減圧して、砥石21を基準位置より上昇させ、ワークWの研削量を局所的に減少させる。これにより、基準面積より狭いワークW及び砥石21の接触面積内の研削量が局所的に増大することを抑制できる。
なお、砥石21の基準位置に対する昇降量やエアシリンダ26の空気圧は、通常の研削を行った場合に生じるワークW面内の厚みばらつきを相殺するように設定されるのが好ましい。
例えば、サンプルとして図4に示すような300mm四方のモールド基板を研削してワークW面内で3μm程度の厚みばらつきが生じた場合、最大面積である接触面積S1(チャック31の回転角度:Θ度)内での砥石21の高さ位置を、接触面積S2(チャック31の回転角度:Θ-45度)内での砥石21の高さ位置より3μm程度降下させる必要がある。
そこで、通常の研削におけるエアシリンダ26の空気圧を基準圧とした場合、接触面積S1内においてエアシリンダ26の空気圧を基準圧に所定の加圧量(例えば、約0.2MPa)だけ加圧する。
さらに、チャック31の回転角度が(Θ―45)度~(Θ+45)度の間では、エアシリンダ26の基準圧に加圧される加圧量を0~0.2MPaの間でワークW及び砥石21の接触面積の比率に応じて比例して設定される。なお、基準圧に加圧される加圧量は、砥石21の番手やワークWの材質等により変動し得る。
[砥石位置調整]
砥石21及びワークWをそれぞれ回転させながら砥石21をワークWに向けて押し付けてワークWを研削する際に、検出部32が、加工中のチャック31の回転角度を検出し、チャック31の回転角度を制御装置5に送る。
次に、制御装置5は、検出部32が検出したチャック31の回転角度に基づいて、予め記憶されたチャック31の回転角度毎の砥石21の高さ位置に合致するように、エアシリンダ26の空気圧を加減して、砥石21がワークWを研削する研削量を調整する。図5は、チャック31の回転角度に応じて砥石21の高さ位置が変化する様子を示す模式図である。
このようにして、本実施形態に係る研削装置1は、ワークW及び砥石21の接触面積の変化に応じて、チャック31の回転角度毎に砥石21がワークWを研削する研削量を調整させることにより、非円形状のワークWの研削量が局所的に変化することを抑制し、ワークWの形状に起因する研削後のワークWの厚みバラつきを軽減することができる。
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が該改変されたものにも及ぶことは当然である。
1 :研削装置
2 :メインユニット(加工手段)
21 :砥石
22 :コラム
22a :前面
22b :溝
23 :砥石スピンドル
23a :サドル
24 :リニアガイド
24a :前方リニアガイド
24b :後方リニアガイド
25 :スピンドル送り機構
25a :ナット
25b :ボールネジ
25c :モータ
26 :エアシリンダ
3 :搬送ユニット(保持手段)
31 :チャック
32 :検出部
33 :スライダ
34 :吸着体
35 :緻密体
36 :レール
4 :インプロセスゲージ
5 :制御装置(制御手段)
W :ワーク

Claims (3)

  1. 非円形状のワークを平面加工する加工装置であって、
    前記ワークを吸着保持可能なチャックと、前記チャックを回転させるチャックスピンドルと、前記チャックの回転角度を検出可能な検出部と、を備えている保持手段と、
    前記ワークを加工する砥石と、前記砥石を回転させる砥石スピンドルと、前記砥石を垂直方向に移動させるスピンドル送り機構と、前記スピンドル送り機構を保持するエアシリンダと、を備えている加工手段と、
    前記ワークと前記砥石とが接触する接触面積の変化に応じて、前記チャックの所定回転角度毎に前記エアシリンダに供給される空気圧を加減圧して前記砥石を昇降させる制御手段と、
    を備えていることを特徴とする加工装置。
  2. 前記制御手段は、前記接触面積が予め設定された基準面積と比較して大きい場合には、前記エアシリンダに供給される空気圧を予め設定された基準圧より加圧して、前記砥石を降下させることを特徴とする請求項1記載の加工装置。
  3. 前記制御手段は、前記接触面積が予め設定された基準面積と比較して小さい場合には、前記エアシリンダに供給される空気圧を予め設定された基準圧より減圧して、前記砥石を上昇させることを特徴とする請求項1又は2記載の加工装置。
JP2020036321A 2020-03-03 2020-03-03 加工装置 Active JP7464410B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020036321A JP7464410B2 (ja) 2020-03-03 2020-03-03 加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020036321A JP7464410B2 (ja) 2020-03-03 2020-03-03 加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021137900A JP2021137900A (ja) 2021-09-16
JP7464410B2 true JP7464410B2 (ja) 2024-04-09

Family

ID=77667368

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020036321A Active JP7464410B2 (ja) 2020-03-03 2020-03-03 加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7464410B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024094184A (ja) * 2022-12-27 2024-07-09 株式会社東京精密 ワーク加工方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130102227A1 (en) 2011-10-21 2013-04-25 Strasbaugh Systems and methods of wafer grinding
JP6030265B1 (ja) 2015-03-31 2016-11-24 株式会社東京精密 研削盤
JP2019147232A (ja) 2018-02-28 2019-09-05 秀和工業株式会社 処理装置および処理方法
JP2019155531A (ja) 2018-03-13 2019-09-19 株式会社東京精密 研磨装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130102227A1 (en) 2011-10-21 2013-04-25 Strasbaugh Systems and methods of wafer grinding
JP6030265B1 (ja) 2015-03-31 2016-11-24 株式会社東京精密 研削盤
JP2019147232A (ja) 2018-02-28 2019-09-05 秀和工業株式会社 処理装置および処理方法
JP2019155531A (ja) 2018-03-13 2019-09-19 株式会社東京精密 研磨装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021137900A (ja) 2021-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI704979B (zh) 研磨裝置及其控制方法、以及修整條件輸出方法
JP6887846B2 (ja) 研削装置
JP6030265B1 (ja) 研削盤
JP2022180406A (ja) 加工装置
JP7464410B2 (ja) 加工装置
JP2023025122A (ja) 研削装置
JP4143763B2 (ja) 研磨装置
JP4487353B2 (ja) 研磨装置および研磨方法
JP7128635B2 (ja) 研削盤
JP6424081B2 (ja) 研削方法
JP4825374B2 (ja) 研削盤
JP2009078326A (ja) ウェーハ面取り装置、及びウェーハ面取り方法
JP2018027594A (ja) 研削装置
JP7451241B2 (ja) 加工装置
JP2000158306A (ja) 両面研削装置
JP7253953B2 (ja) 基板加工装置
JP2023022379A (ja) 研削装置
KR102078342B1 (ko) 접촉 영역의 조절이 가능한 다이아몬드 컨디셔너
JP2019155488A (ja) 研削盤
JP2012222123A (ja) 半導体ウェハの研削方法
JP7228438B2 (ja) 基板加工装置
JP2002009022A (ja) 研削加工基板および基板の研削装置ならびに研削方法
US20240017368A1 (en) Method of and apparatus for grinding wafer
JP7525268B2 (ja) 平面研削装置
JP2024013432A (ja) 研磨装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230130

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20231115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231121

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240305

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240328

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7464410

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150