JP7454021B2 - 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ - Google Patents
磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP7454021B2 JP7454021B2 JP2022138270A JP2022138270A JP7454021B2 JP 7454021 B2 JP7454021 B2 JP 7454021B2 JP 2022138270 A JP2022138270 A JP 2022138270A JP 2022138270 A JP2022138270 A JP 2022138270A JP 7454021 B2 JP7454021 B2 JP 7454021B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- magnetic recording
- content
- recording medium
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 273
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 136
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 title description 36
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 claims description 16
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 13
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 description 44
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 19
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 17
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 11
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 6
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 6
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 3
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018979 CoPt Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005335 FePt Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 2
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 2
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N arsenous acid Chemical compound O[As](O)O GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/095—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Holding Or Fastening Of Disk On Rotational Shaft (AREA)
Description
SiO2の含有量が45~68%、
Al2O3の含有量が5~20%、
SiO2とAl2O3の合計含有量(SiO2+Al2O3)が60~80%、
B2O3の含有量が0~5%、
MgOの含有量が3~28%、
CaOの含有量が0~18%、
BaOおよびSrOの合計含有量(BaO+SrO)が0~2%、
アルカリ土類金属酸化物の合計含有量(MgO+CaO+SrO+BaO)が12~30%、
アルカリ金属酸化物の合計含有量(Li2O+Na2O+K2O)が3.5~15%、
であり、
Sn酸化物およびCe酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一種を含み、Sn酸化物およびCe酸化物の合計含有量が0.05~2.00%であり、
ガラス転移温度が625℃以上、
ヤング率が83GPa以上、
比重が2.85以下、かつ
100~300℃における平均線膨張係数が48×10-7/℃以上である非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス、
に関する。
本発明の一態様は、上記ガラス組成を有し、ガラス転移温度が625℃以上、ヤング率が83GPa以上、比重が2.85以下、かつ100~300℃における平均線膨張係数が48×10-7/℃以上である非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス(以下、単に「ガラス」とも記載する。)に関する。
以下、上記ガラスについて、更に詳細に説明する。
本発明および本明細書では、ガラス組成を、酸化物基準のガラス組成で表示する。ここで「酸化物基準のガラス組成」とは、ガラス原料が熔融時にすべて分解されてガラス中で酸化物として存在するものとして換算することにより得られるガラス組成をいうものとする。また、特記しない限り、ガラス組成はモル基準(モル%、モル比)で表示するものとする。
本発明および本明細書におけるガラス組成は、例えばICP-AES(Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometry)等の方法により求めることができる。定量分析は、ICP-AESを用い、各元素別に行われる。その後、分析値は酸化物表記に換算される。ICP-AESによる分析値は、例えば、分析値の±5%程度の測定誤差を含んでいることがある。したがって、分析値から換算された酸化物表記の値についても、同様に±5%程度の誤差を含んでいることがある。
また、本発明および本明細書において、構成成分の含有量が0%または含まないもしくは導入しないとは、この構成成分を実質的に含まないことを意味し、この構成成分の含有量が不純物レベル程度以下であることを指す。不純物レベル程度以下とは、例えば、0.01%未満であることを意味する。
上記ガラスは、以上記載した組成調整を行うことにより、以下に記載する各種ガラス特性を有することができる。
先に記載したように、磁気記録媒体基板は、通常、基板上に磁気記録層を形成する工程で高温処理に付される。例えば、磁気記録媒体の高密度記録化のために近年開発されている磁気異方性エネルギーが高い磁性材料を含む磁気記録層を形成するためには、通用、高温で成膜が行われるか、または成膜後に高温で熱処理が行われる。磁気記録媒体基板がこのような高温処理に耐え得る耐熱性を有さないと、高温処理において高温に晒されて基板の平坦性が損なわれてしまう。これに対し、上記ガラスは、耐熱性の指標であるガラス転移温度(以下、「Tg」とも記載する。)が625℃以上である。ガラス転移温度が625℃以上である高い耐熱性を有するガラスからなる基板であれば、高温処理後にも優れた平坦性を維持することができる。ただし、上記ガラスは、高温処理を必要とする磁性材料を含む磁気記録層を有する磁気記録媒体の基板用ガラスに限定されるものではなく、各種磁性材料を備えた磁気記録媒体の作製に用いることができる。ガラス転移温度は、630℃以上であることが好ましく、640℃以上であることがより好ましく、650℃以上であることが更に好ましく、660℃以上であることが一層好ましく、670℃以上であることがより一層好ましく、675℃以上であることが更に一層好ましく、680℃以上であることが更により一層好ましい。また、ガラス転移温度の上限は、例えば770℃程度であるが、ガラス転移温度が高いほど耐熱性の観点から好ましいため、特に限定されるものではない。
先に記載した磁気記録媒体の剛性向上に対する要求に対応するために、磁気記録媒体基板用ガラスは高い剛性を有することが望ましい。この点に関して、上記ガラスは、剛性の指標であるヤング率が83G以上である。83G以上のヤング率を示す高い剛性を有する磁気記録媒体基板用ガラスによれば、スピンドルモータの回転中の基板変形を抑制することができるため、基板変形に伴う磁気記録媒体の反りやたわみも抑制することができる。上記ガラスのヤング率は、85GPa以上であることが好ましく、86GPa以上であることがより好ましく、88GPa以上であることが更に好ましく、90GPa以上であることが一層好ましい。ヤング率の上限は、例えば120GPa程度であるが、ヤング率が高いほど剛性が高く好ましいため特に限定されるものではない。
上記ガラスの比重は2.85以下であり、2.80以下であることが好ましく、2.75以下であることがより好ましく、2.70以下であることが更に好ましく、2.65以下であることが一層好ましい。磁気記録媒体基板用ガラスの低比重化により、磁気記録媒体基板を軽量化することができ、更には磁気記録媒体の軽量化、これによりHDDの消費電力抑制が可能になる。比重の下限は、例えば2.40程度であるが、比重が低いほど好ましいため特に限定されるものではない。
比弾性率は、ガラスのヤング率を密度で除したものである。ここで密度とはガラスの比重に、g/cm3という単位を付けた値と考えればよい。より変形しにくい基板を提供する観点から、上記ガラスの比弾性率は31MNm/kg以上であることが好ましく、33MNm/kg以上であることがより好ましく、34MNm/kg以上であることが更に好ましい。比弾性率の上限は、例えば40MNm/kg程度であるが、比弾性率が高いほど好ましいため特に限定されるものではない。
磁気記録媒体の信頼性向上の観点からは、先に記載したように磁気記録媒体基板用ガラスは適度な熱膨張係数を有することが望ましい。一般にHDDのスピンドル材料は、100~300℃の温度範囲において70×10-7/℃以上の平均線膨張係数(熱膨張係数)を有するものであり、磁気記録媒体基板用ガラスの100~300℃における平均線膨張係数が48×10-7/℃以上であれば、スピンドル材料との熱膨張係数の差が少なく磁気記録媒体の信頼性向上に寄与することができる。上記ガラスの100~300℃における平均線膨張係数(以下、「α」とも記載する。)は48×10-7/℃以上であり、50×10-7/℃以上であることがより好ましく、51×10-7/℃以上であることが更に好ましい。また、上記ガラスの100~300℃における平均線膨張係数(α)は、90×10-7/℃以下であることが好ましい。
上記ガラスは、高いガラス安定性を示すことができる。ガラス安定性の評価方法としては、詳細を後述する1300℃16時間保持テストおよび1250℃16時間保持テストを挙げることができる。1300℃16時間保持テストにおいて評価結果Aであることが好ましく、1300℃16時間保持テストにおいて評価結果Aであって、かつ1250℃16時間保持テストにおいて評価結果AまたはBであることがより好ましく、両保持テストにおいて評価結果Aであることが更に好ましい。
上記ガラスは、先に記載した組成調整により、泡の低減も可能である。ガラス中の泡に関しては、単位質量あたりの泡の密度が、光学顕微鏡(倍率40~100倍)により観察される直径0.03mm超の泡の密度として、好ましくは50個/kg未満であり、より好ましくは20個/kg未満であり、更に好ましくは10個/kg未満であり、一層好ましくは2個/kg以下であり、最も好ましくは0個/kgである。
本発明の一態様にかかる磁気記録媒体基板は、上記磁気記録媒体基板用ガラスからなる。
本発明の一態様は、上記磁気記録媒体基板上に磁気記録層を有する磁気記録媒体に関する。
例えば、磁気記録媒体基板を、真空引きを行った成膜装置内に導入し、DC(Direct Current)マグネトロンスパッタリング法にてAr雰囲気中で、磁気記録媒体基板の主表面上に付着層から磁性層まで順次成膜する。付着層としては例えばCrTi、下地層としては例えばCrRuを用いることができる。上記成膜後、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition)法によりC2H4を用いて保護層を成膜し、同一チャンバ内で、表面に窒素を導入する窒化処理を行うことにより、磁気記録媒体を形成することができる。その後、例えばPFPE(ポリフルオロポリエーテル)をディップコート法により保護層上に塗布することにより、潤滑層を形成することができる。
本発明の一態様は、
モル%表示にて、
SiO2の含有量が45~68%、
Al2O3の含有量が5~20%、
SiO2とAl2O3の合計含有量(SiO2+Al2O3)が60~80%、
B2O3の含有量が0~5%、
MgOの含有量が3~28%、
CaOの含有量が0~18%、
BaOおよびSrOの合計含有量(BaO+SrO)が0~2%、
アルカリ土類金属酸化物の合計含有量(MgO+CaO+SrO+BaO)が12~30%、
アルカリ金属酸化物の合計含有量(Li2O+Na2O+K2O)が3.5~15%、
であり、
Sn酸化物およびCe酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一種を含み、Sn酸化物およびCe酸化物の合計含有量が0.05~2.00%であり、
ガラス転移温度が625℃以上、
ヤング率が83GPa以上、
比重が2.85以下、かつ
100~300℃における平均線膨張係数が48×10-7/℃以上である非晶質の酸化物ガラスからなる磁気記録再生装置用ガラススペーサ、
に関する。
なお、磁気記録媒体の回転時に生じる静電気を除去するために、ガラスペーサの表面に、浸漬法、蒸着法、スパッタリング法等により導電性膜を形成することもできる。また、ガラススペーサは、研磨加工により表面平滑性を高くすることができ(例えば、平均表面粗さが1μm以下)、これにより磁気記録媒体とスペーサとの密着度を強めて位置ずれの発生を抑制することができる。
本発明の一態様は、
本発明の一態様にかかる磁気記録媒体;および
本発明の一態様にかかるガラススペーサ、
の少なくとも一方を含む磁気記録再生装置、
に関する。
上記の本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、少なくとも1つの磁気記録媒体として本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を含むことができ、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を複数含むこともできる。上記の本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、少なくとも1つのスペーサとして本発明の一態様にかかるガラススペーサを含むことができ、本発明の一態様にかかるガラススペーサを複数含むこともできる。磁気記録媒体の熱膨張係数とスペーサの熱膨張係数との差が小さいことは、両者の熱膨張係数の差に起因して生じ得る現象、例えば、磁気記録媒体の歪み、磁気記録媒体の位置ずれによる回転時の安定性の低下等、の発生を抑制する観点から好ましい。この観点から、本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、少なくとも1つの磁気記録媒体として、また複数の磁気記録媒体が含まれる場合にはより多くの磁気記録媒体として、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を含み、かつ、少なくとも1つのスペーサとして、また複数のスペーサが含まれる場合にはより多くのスペーサとして、本発明の一態様にかかるガラススペーサを含むことが好ましい。また、例えば、本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、磁気記録媒体に含まれる磁気記録媒体基板を構成するガラスと、ガラススペーサを構成するガラスとが、同一のガラス組成を有するものであることができる。
表1に示す組成のガラスが得られるように、酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等の原料を秤量し、混合して調合原料とした。この調合原料を熔融槽に投入して1400~1600℃の範囲で加熱、熔解して得られた熔融ガラスを、清澄槽において1400~1550℃で6時間保持した後、温度を低下(降温)させて1200~1400℃の範囲に1時間保持してから熔融ガラスを成形して、下記評価のためのガラス(非晶質の酸化物ガラス)を得た。
(1)ガラス転移温度(Tg)、平均線膨張係数(α)
各ガラスのガラス転移温度Tgおよび100~300℃における平均線膨張係数αを、熱機械分析装置(TMA;Thermomechanical Analysis)を用いて測定した。
各ガラスのヤング率を超音波法にて測定した。
各ガラスの比重をアルキメデス法にて測定した。
上記(2)で得られたヤング率および(3)で得られた比重から、比弾性率を算出した。
各ガラス100gを白金製の坩堝に入れて、炉内温度を1250℃または1300℃に設定した加熱炉内に各坩堝を投入し、炉内温度を維持したまま16時間放置(保持テスト)した。16時間経過後、加熱炉内から坩堝を取り出し、坩堝内のガラスを耐火物上に移して室温まで冷却し、各ガラスの結晶の有無を光学顕微鏡で観察し、以下の基準で評価した。
A:光学顕微鏡で拡大観察(倍率40~100倍)して結晶が確認されない。
B:光学顕微鏡で拡大観察(倍率40~100倍)して結晶が確認されるが、目視観察で結晶が確認されない。
C:目視観察で結晶が確認される。
上記で得られた熔融ガラスから厚さ約1.2mmのガラス板(基板ブランク)を作製した。このガラス板の表面を平坦かつ平滑に研磨し、研磨面からガラス内部を光学顕微鏡で拡大観察(倍率40~100倍)し、直径が0.03mm超の泡(以下、単に「泡」と記載する。)の数をカウントした。拡大観察した領域に相当するガラスの質量で、カウントした泡の数を割ったものを泡の密度とした。
泡密度ランクを、上記方法で求めた泡の密度に応じてSランク~Fランクで評価した。具体的には、泡密度が0個/kgのものをSランク、泡が存在し、泡密度が2個/kg以下のものをAランク、泡密度が2個/kg超10個/kg未満のものをBランク、泡密度が10個/kg以上20個/kg未満のものをCランク、泡密度が20個/kg以上50個/kg未満のものをDランク、泡密度が50個/kg以上80個未満のものをEランク、泡密度が80個/kg以上のものをFランクとした。
ガラス安定性に関して、上記方法により行われる保持テストにおいて、より低い温度で評価結果が良好なほど、熔融状態で結晶が析出しにくいガラスであり、成形温度を下げて成形することができる。成形温度を下げるほど、発熱体、炉体、パイプ等の成形装置の構成部材の寿命を延ばすことができる。特に、プレス成形により基板ブランクを作製する場合には、成形温度は低いほど好ましい。また、成形温度を下げることができれば、ガラス粘度を上げて成形することができるため、揮発、脈理および成形泡の発生を抑制することができる。
一方、比較例1の磁気記録媒体基板用ガラスは、特開2010-64921号公報(特許文献1)の実施例9、比較例2の磁気記録媒体基板用ガラスは同公報の実施例18、比較例3の磁気記録媒体基板用ガラスは同公報の実施例27、比較例4の磁気記録媒体基板用ガラスは同公報の実施例29、比較例5の磁気記録媒体基板用ガラスは同公報の実施例30の組成を有する。比較例1の磁気記録媒体基板用ガラスはSiO2およびAl2O3の合計含有量が過剰であり、比較例4および比較例5の磁気記録媒体基板用ガラスは、SiO2の含有量ならびにSiO2およびAl2O3の合計含有量が過剰である。更に、比較例4および比較例5の磁気記録媒体基板用ガラスは、アルカリ土類酸化物の合計含有量が少ない。また、比較例1~3の磁気記録媒体基板用ガラスは、アルカリ金属酸化物を含まないか、またはアルカリ金属酸化物の含有量が少ない。かかる比較例1~5の磁気記録媒体基板用ガラスは、いずれも熱膨張係数が低く、しかもガラス安定性に劣っていた。
また、表1に示す実施例のガラスは、いずれも泡密度ランクがS、AまたはBであり、泡の発生が抑制されていることも確認された。
これに対し、Sn酸化物およびCe酸化物の合計含有量が0.05質量%を下回る参考例1の磁気記録媒体基板用ガラスは、泡の発生が顕著(泡密度ランクE)であった。
(1)基板ブランクの作製
次に、下記方法AまたはBにより、円盤状の基板ブランクを作製した。また、同様の方法により、磁気記録再生装置用ガラススペーサ作製のためのガラスブランクを得ることができる。
(方法A)
清澄、均質化した上述の実施例の熔融ガラスを流出パイプから一定流量で流出するとともにプレス成形用の下型で受け、下型上に所定量の熔融ガラス塊が得られるよう流出した熔融ガラスを切断刃で切断した。そして熔融ガラス塊を載せた下型をパイプ下方から直ちに搬出し、下型と対向する上型および胴型を用いて、直径66mm、厚さ1.2mmの薄肉円盤状にプレス成形した。プレス成形品を変形しない温度にまで冷却した後、型から取り出してアニールし、基板ブランクを得た。なお、上述の成形では複数の下型を用いて流出する熔融ガラスを次々に円盤状の基板ブランクに成形した。
(方法B)
清澄、均質化した上述の実施例の熔融ガラスを円筒状の貫通孔が設けられた耐熱性鋳型の貫通孔に上部から連続的に鋳込み、円柱状に成形して貫通孔の下側から取り出した。取り出したガラスをアニールした後、マルチワイヤーソーを用いて円柱軸に垂直な方向に一定間隔でガラスをスライス加工し、円盤状の基板ブランクを作製した。
なお、本実施例では上述の方法A、Bを採用したが、円盤状の基板ブランクの製造方法としては、下記方法C、Dも好適である。また、下記方法C、Dは、磁気記録再生装置用ガラススペーサ作製のためのガラスブランクの製造方法としても好適である。
(方法C)
上述の実施例の熔融ガラスをフロートバス上に流し出し、シート状のガラスに成形(フロート法による成形)し、次いでアニールした後にシートガラスから円盤状のガラスをくり貫いて基板ブランクを得ることもできる。
(方法D)
上述の実施例の熔融ガラスをオーバーフローダウンドロー法(フュージョン法)によりシート状のガラスに成形、アニールし、次いでシートガラスから円盤状のガラスをくり貫いて基板ブランクを得ることもできる。
上述の各方法で得られた基板ブランクの中心に貫通孔をあけて、外周、内周の研削加工を行い、円盤の主表面をラッピング、ポリッシング(鏡面研磨加工)して直径65mm、厚さ0.8mmの磁気ディスク用ガラス基板に仕上げた。また、同様の方法により、磁気記録再生装置用ガラススペーサ作製のためのガラスブランクを、磁気記録再生装置用ガラススペーサに仕上げることができる。
上記で得られたガラス基板は、1.7質量%の珪弗酸(H2SiF)水溶液、次いで、1質量%の水酸化カリウム水溶液を用いて洗浄し、次いで純水ですすいだ後に乾燥させた。実施例のガラスから作製した基板の表面を拡大観察したところ、表面荒れなどは認められず、平滑な表面であった。
以下の方法により、実施例のガラスから得られたガラス基板の主表面上に、付着層、下地層、磁気記録層、保護層、潤滑層をこの順に形成し、磁気ディスクを得た。
以上の製造工程により、磁気ディスクを得た。得られた磁気ディスクを、DFH機構を備えたハードディスクドライブ(フライングハイト:8nm)に搭載し、磁気ディスクの主表面上の記録用領域に、1平方インチあたり20ギガビットの記録密度で磁気信号を記録したところ、磁気ヘッドと磁気ディスク表面が衝突する現象(クラッシュ障害)は確認されなかった。
例えば、上記に例示されたガラス組成に対し、明細書に記載の組成調整を行うことにより、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体基板用ガラスおよび磁気記録再生装置用ガラススペーサを作製することができる。
また、明細書に例示または好ましい範囲として記載した事項の2つ以上を任意に組み合わせることは、もちろん可能である。
Claims (9)
- モル%表示にて、
SiO2の含有量が52~68%、
Al2O3の含有量が12~18%、
SiO2とAl2O3の合計含有量(SiO2+Al2O3)が80%以下、
B2O3の含有量が0~5%、
MgOの含有量が20.80~28%、
CaOの含有量が0~18%、
TiO2の含有量が0~5%、
ZrO2の含有量が0~3%、
BaOおよびSrOの合計含有量(BaO+SrO)が0~2%、
アルカリ土類金属酸化物の合計含有量(MgO+CaO+SrO+BaO)が12~30%、
アルカリ土類金属酸化物の合計含有量に対するMgOおよびCaOの合計含有量のモル比{(MgO+CaO)/(MgO+CaO+SrO+BaO)}は、0.75~1.00、
アルカリ金属酸化物の合計含有量(Li2O+Na2O+K2O)が3.5~13%、
アルカリ金属酸化物の合計含有量に対するLi2O含有量のモル比{Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)}が0.4~1、
Li2Oの含有量が8%以下、
Na2Oの含有量が6%以下、
K2Oの含有量が5%以下、
TiO2の含有量が0~5%、
HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3およびY2O3の合計含有量(HfO2+Nb2O5+Ta2O5+La2O3+Y2O3)が0~5%、
ZrO2の含有量が0~3%、
ZnOの含有量が0~3%、
P2O5の含有量が0~2%、
である、非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス。 - CaOの含有量が0~4.00%であり、かつHfO 2 、Nb 2 O 5 、Ta 2 O 5 、La 2 O 3 およびY 2 O 3 の合計含有量(HfO 2 +Nb 2 O 5 +Ta 2 O 5 +La 2 O 3 +Y 2 O 3 )が0~3%である、請求項1に記載の磁気記録媒体基板用ガラス。
- モル%表示にて、
SiO 2 の含有量が52~68%、
Al 2 O 3 の含有量が12~18%、
SiO 2 とAl 2 O 3 の合計含有量(SiO 2 +Al 2 O 3 )が80%以下、
B 2 O 3 の含有量が0~5%、
MgOの含有量が3~28%、
CaOの含有量が0~4.00%、
TiO 2 の含有量が0~5%、
ZrO 2 の含有量が0~3%、
BaOおよびSrOの合計含有量(BaO+SrO)が0~2%、
アルカリ土類金属酸化物の合計含有量(MgO+CaO+SrO+BaO)が12~30%、
アルカリ土類金属酸化物の合計含有量に対するMgOおよびCaOの合計含有量のモル比{(MgO+CaO)/(MgO+CaO+SrO+BaO)}は、0.75~1.00、
アルカリ金属酸化物の合計含有量(Li 2 O+Na 2 O+K 2 O)が3.5~13%、
アルカリ金属酸化物の合計含有量に対するLi 2 O含有量のモル比{Li 2 O/(Li 2 O+Na 2 O+K 2 O)}が0.4~1、
Li 2 Oの含有量が8%以下、
Na 2 Oの含有量が6%以下、
K 2 Oの含有量が5%以下、
TiO 2 の含有量が0~5%、
HfO 2 、Nb 2 O 5 、Ta 2 O 5 、La 2 O 3 およびY 2 O 3 の合計含有量(HfO 2 +Nb 2 O 5 +Ta 2 O 5 +La 2 O 3 +Y 2 O 3 )が0~3%、
ZrO 2 の含有量が0~3%、
ZnOの含有量が0~3%、
P 2 O 5 の含有量が0~2%、
である、非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス。 - 比弾性率が31MNm/kg以上である、請求項1~3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体基板用ガラス。
- 1250℃の温度を維持したまま16時間放置し、その後室温まで冷却した後に、ガラスの結晶の有無を光学顕微鏡にて倍率40~100倍で観察したときに、結晶が確認されない、請求項1~4のいずれか1項に記載の磁気記録媒体基板用ガラス。
- ガラスの単位質量あたりの泡の密度が、光学顕微鏡にて倍率40~100倍で観察される直径0.03mm超の泡の密度として、50個/kg未満である、請求項1~5のいずれか1項に記載の磁気記録媒体基板用ガラス。
- 請求項1~6のいずれか1項に記載の磁気記録媒体基板用ガラスからなる磁気記録媒体基板。
- 請求項7に記載の磁気記録媒体基板上に磁気記録層を有する磁気記録媒体。
- 請求項8に記載の磁気記録媒体を含む磁気記録再生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024035418A JP2024069356A (ja) | 2016-11-14 | 2024-03-08 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016221389 | 2016-11-14 | ||
JP2016221389 | 2016-11-14 | ||
JP2020073228A JP7135024B2 (ja) | 2016-11-14 | 2020-04-16 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020073228A Division JP7135024B2 (ja) | 2016-11-14 | 2020-04-16 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024035418A Division JP2024069356A (ja) | 2016-11-14 | 2024-03-08 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022180402A JP2022180402A (ja) | 2022-12-06 |
JP7454021B2 true JP7454021B2 (ja) | 2024-03-21 |
Family
ID=62109170
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018550300A Active JP6694074B2 (ja) | 2016-11-14 | 2017-11-14 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
JP2020073228A Active JP7135024B2 (ja) | 2016-11-14 | 2020-04-16 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
JP2022138270A Active JP7454021B2 (ja) | 2016-11-14 | 2022-08-31 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
JP2024035418A Pending JP2024069356A (ja) | 2016-11-14 | 2024-03-08 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018550300A Active JP6694074B2 (ja) | 2016-11-14 | 2017-11-14 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
JP2020073228A Active JP7135024B2 (ja) | 2016-11-14 | 2020-04-16 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024035418A Pending JP2024069356A (ja) | 2016-11-14 | 2024-03-08 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US11081133B2 (ja) |
JP (4) | JP6694074B2 (ja) |
CN (2) | CN115072991B (ja) |
SG (1) | SG10202102247RA (ja) |
WO (1) | WO2018088563A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6694074B2 (ja) * | 2016-11-14 | 2020-05-13 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
WO2018152845A1 (en) * | 2017-02-27 | 2018-08-30 | Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. | Lithium containing aluminosilicate glass with low expansion after chemical toughening |
SG11202011211RA (en) * | 2018-05-16 | 2020-12-30 | Hoya Corp | Glass for magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium, glass spacer for magnetic recording and reproducing apparatus, and magnetic recording and reproducing apparatus |
JP7389545B2 (ja) * | 2018-12-10 | 2023-11-30 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体 |
WO2021015240A1 (ja) * | 2019-07-22 | 2021-01-28 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 |
WO2021019654A1 (ja) * | 2019-07-29 | 2021-02-04 | Agc株式会社 | 支持ガラス基板 |
US11697608B2 (en) * | 2019-10-01 | 2023-07-11 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Selective chemical fining of small bubbles in glass |
WO2021117897A1 (ja) * | 2019-12-13 | 2021-06-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 |
EP4303197A1 (en) | 2021-03-05 | 2024-01-10 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate or for glass spacer to be used in magnetic recording/reproducing device, magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium, glass spacer to be used in magnetic recording/reproducing device, and magnetic recording/reproducing device |
WO2024053741A1 (ja) * | 2022-09-08 | 2024-03-14 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板および磁気記録再生装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001134925A (ja) | 1999-08-25 | 2001-05-18 | Asahi Glass Co Ltd | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6245411B1 (en) * | 1959-09-25 | 2001-06-12 | Kabushiki Kaisha Ohara | High rigidity glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
JP3022524B1 (ja) * | 1998-02-26 | 2000-03-21 | 株式会社オハラ | 情報磁気記憶媒体用高剛性ガラスセラミックス基板 |
JP3011703B1 (ja) * | 1998-02-26 | 2000-02-21 | 株式会社オハラ | 情報磁気記憶媒体用高剛性ガラスセラミックス基板 |
JP4086211B2 (ja) | 1998-04-17 | 2008-05-14 | Hoya株式会社 | ガラス組成物およびその製造方法 |
JP2001039732A (ja) * | 1999-07-27 | 2001-02-13 | Ngk Insulators Ltd | 導電性ガラス組成物およびハードディスク用磁気記録媒体のアース用部品 |
JP2001076336A (ja) * | 1999-09-08 | 2001-03-23 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板およびそれを用いた情報記録媒体 |
AU7316500A (en) * | 1999-09-21 | 2001-04-24 | Kabushiki Kaisha Ohara | Holding member for information storage disk and information storage disk drive device |
US6426311B1 (en) | 2000-02-01 | 2002-07-30 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramics |
JP4136268B2 (ja) | 2000-04-26 | 2008-08-20 | Hoya株式会社 | ガラススペーサおよびそれを用いた情報記録装置 |
AU2003275708A1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-05-25 | Hoya Corporation | Chemically strengthened glass, substrate for information recording medium and information recording medium |
JP5068258B2 (ja) * | 2006-06-08 | 2012-11-07 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体とそれらの製造方法 |
JP4467597B2 (ja) * | 2007-04-06 | 2010-05-26 | 株式会社オハラ | 無機組成物物品 |
JP4755135B2 (ja) * | 2007-04-27 | 2011-08-24 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス |
JP5292028B2 (ja) | 2008-09-10 | 2013-09-18 | 株式会社オハラ | ガラス |
WO2011019010A1 (ja) | 2009-08-10 | 2011-02-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
US20120052275A1 (en) * | 2010-08-30 | 2012-03-01 | Avanstrate Inc. | Glass substrate, chemically strengthened glass substrate and cover glass, and method for manufactruing the same |
US8394516B2 (en) | 2010-10-29 | 2013-03-12 | Hoya Corporation | Glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium |
US8652660B2 (en) * | 2010-12-21 | 2014-02-18 | Hoya Corporation | Glass substrate for magnetic recording medium and its use |
CN102531384B (zh) * | 2010-12-29 | 2019-02-22 | 安瀚视特股份有限公司 | 玻璃盖片及其制造方法 |
JP5737043B2 (ja) * | 2011-07-29 | 2015-06-17 | 旭硝子株式会社 | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
JPWO2013027651A1 (ja) * | 2011-08-23 | 2015-03-19 | Hoya株式会社 | 強化ガラス基板の製造方法および強化ガラス基板 |
SG188775A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-30 | Hoya Corp | Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, magnetic disk, and magnetic data recording/reproducing device |
WO2013172247A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラスおよびその利用 |
SG11201601609RA (en) * | 2013-09-09 | 2016-04-28 | Hoya Corp | Glass substrate |
JP6131154B2 (ja) * | 2013-09-11 | 2017-05-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラスおよび磁気記録媒体基板 |
US10717670B2 (en) * | 2015-02-10 | 2020-07-21 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass for laser processing and method for producing perforated glass using same |
JP6694074B2 (ja) * | 2016-11-14 | 2020-05-13 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
SG11202011211RA (en) * | 2018-05-16 | 2020-12-30 | Hoya Corp | Glass for magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium, glass spacer for magnetic recording and reproducing apparatus, and magnetic recording and reproducing apparatus |
-
2017
- 2017-11-14 JP JP2018550300A patent/JP6694074B2/ja active Active
- 2017-11-14 CN CN202210793597.4A patent/CN115072991B/zh active Active
- 2017-11-14 US US16/349,795 patent/US11081133B2/en active Active
- 2017-11-14 CN CN201780069628.9A patent/CN109923083B/zh active Active
- 2017-11-14 SG SG10202102247RA patent/SG10202102247RA/en unknown
- 2017-11-14 WO PCT/JP2017/040833 patent/WO2018088563A1/ja active Application Filing
-
2020
- 2020-04-16 JP JP2020073228A patent/JP7135024B2/ja active Active
-
2021
- 2021-06-24 US US17/357,281 patent/US11551714B2/en active Active
-
2022
- 2022-08-31 JP JP2022138270A patent/JP7454021B2/ja active Active
- 2022-12-06 US US18/075,606 patent/US12040003B2/en active Active
-
2024
- 2024-03-08 JP JP2024035418A patent/JP2024069356A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001134925A (ja) | 1999-08-25 | 2001-05-18 | Asahi Glass Co Ltd | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7135024B2 (ja) | 2022-09-12 |
SG10202102247RA (en) | 2021-04-29 |
US20190362754A1 (en) | 2019-11-28 |
JPWO2018088563A1 (ja) | 2019-10-10 |
JP2024069356A (ja) | 2024-05-21 |
US20230103236A1 (en) | 2023-03-30 |
CN109923083A (zh) | 2019-06-21 |
WO2018088563A1 (ja) | 2018-05-17 |
JP2022180402A (ja) | 2022-12-06 |
US20210387896A1 (en) | 2021-12-16 |
US12040003B2 (en) | 2024-07-16 |
US11551714B2 (en) | 2023-01-10 |
JP6694074B2 (ja) | 2020-05-13 |
CN109923083B (zh) | 2022-07-26 |
JP2020121920A (ja) | 2020-08-13 |
CN115072991A (zh) | 2022-09-20 |
US11081133B2 (en) | 2021-08-03 |
CN115072991B (zh) | 2024-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7454021B2 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ | |
JP7328313B2 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 | |
JP2023166439A (ja) | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 | |
JP7165655B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体基板、情報記録媒体および記録再生装置用ガラススペーサ | |
JP6793119B2 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板および磁気記録媒体 | |
JP7389545B2 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体 | |
JP7488416B2 (ja) | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 | |
WO2024053740A1 (ja) | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 | |
WO2024053741A1 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板および磁気記録再生装置 | |
JP2024102290A (ja) | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 | |
CN116964013A (zh) | 磁记录介质基板用玻璃或磁记录再生装置用玻璃间隔物用的玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质、磁记录再生装置用玻璃间隔物和磁记录再生装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220831 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220902 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230822 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231011 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240109 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20240206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240308 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7454021 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |