JP2001134925A - 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 - Google Patents
情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板Info
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- JP2001134925A JP2001134925A JP34361899A JP34361899A JP2001134925A JP 2001134925 A JP2001134925 A JP 2001134925A JP 34361899 A JP34361899 A JP 34361899A JP 34361899 A JP34361899 A JP 34361899A JP 2001134925 A JP2001134925 A JP 2001134925A
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】失透しにくい高ヤング率情報記録媒体基板用ガ
ラスを得る。 【解決手段】モル％で、３０≦ＳｉＯ2≦６０、１≦Ａ
ｌ2Ｏ3＜２０、１≦ＭｇＯ＜２０、ＣａＯ≦２５、Ｓｒ
Ｏ≦１５、ＺｎＯ≦２０、ＴｉＯ2≦１０、ＺｒＯ2≦１
０、Ｌｉ2Ｏ≦１５、Ｎａ2Ｏ≦２、Ｙ2Ｏ3≦２５、Ｌａ
2Ｏ3≦２５、Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＜２８、Ａｌ2Ｏ3＋Ｍｇ
Ｏ＋ＣａＯ＜４０のガラス。
ラスを得る。 【解決手段】モル％で、３０≦ＳｉＯ2≦６０、１≦Ａ
ｌ2Ｏ3＜２０、１≦ＭｇＯ＜２０、ＣａＯ≦２５、Ｓｒ
Ｏ≦１５、ＺｎＯ≦２０、ＴｉＯ2≦１０、ＺｒＯ2≦１
０、Ｌｉ2Ｏ≦１５、Ｎａ2Ｏ≦２、Ｙ2Ｏ3≦２５、Ｌａ
2Ｏ3≦２５、Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＜２８、Ａｌ2Ｏ3＋Ｍｇ
Ｏ＋ＣａＯ＜４０のガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク、光
ディスク、等の情報記録媒体の基板に用いられるガラス
に関する。
ディスク、等の情報記録媒体の基板に用いられるガラス
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、情報記録媒体用基板、たとえば磁
気ディスク（ハードディスク）用基板の材料としては、
アルミニウム、ガラス、セラミックス、カーボンなどが
知られている。現在では、サイズや用途に応じて主にア
ルミニウムおよびガラスが実用化されている。なかでも
ガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れている
ため、その使用範囲が拡大している。
気ディスク（ハードディスク）用基板の材料としては、
アルミニウム、ガラス、セラミックス、カーボンなどが
知られている。現在では、サイズや用途に応じて主にア
ルミニウムおよびガラスが実用化されている。なかでも
ガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れている
ため、その使用範囲が拡大している。
【０００３】このようなガラス基板として、質量百分率
表示の組成が、ＳｉＯ2：６５．３％、Ａｌ2Ｏ3：８．
６％、ＺｒＯ2：３．５％、Ｌｉ2Ｏ：１２．５％、Ｎａ
2Ｏ：１０．１％、であるガラス（以下「従来ガラス」
という。）からなるガラス基板が例示される。
表示の組成が、ＳｉＯ2：６５．３％、Ａｌ2Ｏ3：８．
６％、ＺｒＯ2：３．５％、Ｌｉ2Ｏ：１２．５％、Ｎａ
2Ｏ：１０．１％、であるガラス（以下「従来ガラス」
という。）からなるガラス基板が例示される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】近年ハードディスクド
ライブについては記憶容量の向上が求められており、高
記録密度化および高速回転化が進行している。ハードデ
ィスクの回転速度は現在７２００ｒｐｍ程度であるが、
今後１００００ｒｐｍ、さらには１４０００ｒｐｍに増
加すると予測されている。この高速回転化に伴いガラス
基板がたわみやすくなる。
ライブについては記憶容量の向上が求められており、高
記録密度化および高速回転化が進行している。ハードデ
ィスクの回転速度は現在７２００ｒｐｍ程度であるが、
今後１００００ｒｐｍ、さらには１４０００ｒｐｍに増
加すると予測されている。この高速回転化に伴いガラス
基板がたわみやすくなる。
【０００５】またパソコンの小型化に伴いハードディス
クの小型化および薄型化が提言されている。現在、６５
ｍｍハードディスクのガラス基板の厚さは０．６３ｍｍ
程度であるが、将来的には０．４３ｍｍ、さらには０．
３８ｍｍへと薄くなることが予想されている。しかしガ
ラス基板が薄くなればなるほどたわみや反りが生じやす
くなる。
クの小型化および薄型化が提言されている。現在、６５
ｍｍハードディスクのガラス基板の厚さは０．６３ｍｍ
程度であるが、将来的には０．４３ｍｍ、さらには０．
３８ｍｍへと薄くなることが予想されている。しかしガ
ラス基板が薄くなればなるほどたわみや反りが生じやす
くなる。
【０００６】一方、前記高記録密度化の進行に伴ない、
ハードディスクと読み取り磁気ヘッドとの間隔は狭くな
ってきており、上記のようなガラス基板のたわみや反り
はハードディスク破損の原因となる。従来使用されてい
るガラス基板を薄くしていくと上記のたわみや反りによ
る問題が顕在化するため、薄型化が困難である。
ハードディスクと読み取り磁気ヘッドとの間隔は狭くな
ってきており、上記のようなガラス基板のたわみや反り
はハードディスク破損の原因となる。従来使用されてい
るガラス基板を薄くしていくと上記のたわみや反りによ
る問題が顕在化するため、薄型化が困難である。
【０００７】この問題を解決するため、特開平１１−１
１６２６７においては高いヤング率を有するガラス基板
が開示されている。このガラス基板のヤング率は１１０
ＧＰａ以上であり、薄型化した場合でもガラス基板のた
わみや反りの問題が生じにくい。しかしハードディスク
用ガラス基板には、高ヤング率に加え大量生産が容易で
あることが求められている。大量生産という観点から
は、溶融ガラスをガラス板に成形するに際しガラスが失
透しにくいことが求められている。
１６２６７においては高いヤング率を有するガラス基板
が開示されている。このガラス基板のヤング率は１１０
ＧＰａ以上であり、薄型化した場合でもガラス基板のた
わみや反りの問題が生じにくい。しかしハードディスク
用ガラス基板には、高ヤング率に加え大量生産が容易で
あることが求められている。大量生産という観点から
は、溶融ガラスをガラス板に成形するに際しガラスが失
透しにくいことが求められている。
【０００８】さらに、ハードディスク用ガラス基板に
は、その在庫中に表面性状が著しく変化して前記ガラス
基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等がはがれ
ることがないこと、すなわち耐候性が求められる。
は、その在庫中に表面性状が著しく変化して前記ガラス
基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等がはがれ
ることがないこと、すなわち耐候性が求められる。
【０００９】前記従来ガラスからなるガラス基板の耐候
性は高くないが、このガラス基板は化学強化等の処理に
よってその耐候性は高くなり許容されるレベルとなる。
これは、耐候性を低下させる主たる原因であるアルカリ
金属酸化物成分が化学強化等の処理によってガラス基板
表面から除去されるためと考えられる。しかし、たとえ
ば化学強化処理には、工程数増加以外に、化学強化処理
後のガラス基板表面に汚れが付着しやすい、等の問題が
あった。
性は高くないが、このガラス基板は化学強化等の処理に
よってその耐候性は高くなり許容されるレベルとなる。
これは、耐候性を低下させる主たる原因であるアルカリ
金属酸化物成分が化学強化等の処理によってガラス基板
表面から除去されるためと考えられる。しかし、たとえ
ば化学強化処理には、工程数増加以外に、化学強化処理
後のガラス基板表面に汚れが付着しやすい、等の問題が
あった。
【００１０】また、ハードディスクと読み取り磁気ヘッ
ドとの間隔がより狭くなりつつあるのに伴ってハードデ
ィスクにはより高い表面平滑性が求められている。その
ため研磨しやすいハードディスク用ガラス基板が求めら
れている。本発明は、以上の課題を解決し、高いヤング
率を有し、かつ失透しにくい情報記録媒体基板用ガラ
ス、および耐候性の高い情報記録媒体用ガラス基板の提
供を目的とする。
ドとの間隔がより狭くなりつつあるのに伴ってハードデ
ィスクにはより高い表面平滑性が求められている。その
ため研磨しやすいハードディスク用ガラス基板が求めら
れている。本発明は、以上の課題を解決し、高いヤング
率を有し、かつ失透しにくい情報記録媒体基板用ガラ
ス、および耐候性の高い情報記録媒体用ガラス基板の提
供を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記酸化物基
準のモル％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ３０％以上６０％以下、 Ａｌ2Ｏ3 １％以上２０％未満、 ＭｇＯ １％以上２０％未満、 ＣａＯ ２５％以下、 ＳｒＯ １５％以下、 ＺｎＯ ２０％以下、 ＴｉＯ2 １０％以下、 ＺｒＯ2 １０％以下、 Ｌｉ2Ｏ １５％以下、 Ｎａ2Ｏ ２％以下、 Ｙ2Ｏ3 ２５％以下、 Ｌａ2Ｏ3 ２５％以下、 からなり、Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋
ＭｇＯが２８％未満、かつ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣ
ａＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋ＣａＯが４０％
未満である情報記録媒体基板用ガラスを提供する。ま
た、本発明は、前記情報記録媒体基板用ガラスからなる
情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
準のモル％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ３０％以上６０％以下、 Ａｌ2Ｏ3 １％以上２０％未満、 ＭｇＯ １％以上２０％未満、 ＣａＯ ２５％以下、 ＳｒＯ １５％以下、 ＺｎＯ ２０％以下、 ＴｉＯ2 １０％以下、 ＺｒＯ2 １０％以下、 Ｌｉ2Ｏ １５％以下、 Ｎａ2Ｏ ２％以下、 Ｙ2Ｏ3 ２５％以下、 Ｌａ2Ｏ3 ２５％以下、 からなり、Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋
ＭｇＯが２８％未満、かつ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣ
ａＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋ＣａＯが４０％
未満である情報記録媒体基板用ガラスを提供する。ま
た、本発明は、前記情報記録媒体基板用ガラスからなる
情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の情報記録媒体基板用ガラ
ス（以下単に本発明のガラスという。）は、ハードディ
スク、光ディスク、等の情報記録媒体の基板に用いられ
る。本発明のガラスの液相温度は１３００℃以下である
ことが好ましい。１３００℃超ではガラス製造時に失透
するおそれがある。より好ましくは１２６０℃以下、さ
らに好ましくは１２３０℃以下、特に好ましくは１２１
０℃以下である。
ス（以下単に本発明のガラスという。）は、ハードディ
スク、光ディスク、等の情報記録媒体の基板に用いられ
る。本発明のガラスの液相温度は１３００℃以下である
ことが好ましい。１３００℃超ではガラス製造時に失透
するおそれがある。より好ましくは１２６０℃以下、さ
らに好ましくは１２３０℃以下、特に好ましくは１２１
０℃以下である。
【００１３】本発明のガラスのヤング率は１００ＧＰａ
以上であることが好ましい。１００ＧＰａ未満では情報
記録媒体高速回転時に基板がたわんだり反ったりするお
それがある。より好ましくは１１０ＧＰａ以上、さらに
好ましくは１２０ＧＰａ以上である。一方、そのヤング
率は１５０ＧＰａ以下であることが好ましい。１５０Ｇ
Ｐａ超では研磨しにくくなるおそれがある。より好まし
くは１４０ＧＰａ以下、特に好ましくは１３０ＧＰａ以
下である。
以上であることが好ましい。１００ＧＰａ未満では情報
記録媒体高速回転時に基板がたわんだり反ったりするお
それがある。より好ましくは１１０ＧＰａ以上、さらに
好ましくは１２０ＧＰａ以上である。一方、そのヤング
率は１５０ＧＰａ以下であることが好ましい。１５０Ｇ
Ｐａ超では研磨しにくくなるおそれがある。より好まし
くは１４０ＧＰａ以下、特に好ましくは１３０ＧＰａ以
下である。
【００１４】比弾性率（＝ヤング率÷密度）もガラス基
板のたわみやすさまたは反りやすさの指標であるが、本
発明のガラスの比弾性率は３２ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3以上
であることが好ましい。より好ましくは３３ＧＰａ／ｇ
／ｃｍ3以上である。一方、その比弾性率は３８ＧＰａ
／ｇ／ｃｍ3以下であることが好ましい。３８ＧＰａ／
ｇ／ｃｍ3超では研磨しにくくなるおそれがある。研磨
をよりしやすくするためには３６ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3未
満とすることが好ましい。
板のたわみやすさまたは反りやすさの指標であるが、本
発明のガラスの比弾性率は３２ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3以上
であることが好ましい。より好ましくは３３ＧＰａ／ｇ
／ｃｍ3以上である。一方、その比弾性率は３８ＧＰａ
／ｇ／ｃｍ3以下であることが好ましい。３８ＧＰａ／
ｇ／ｃｍ3超では研磨しにくくなるおそれがある。研磨
をよりしやすくするためには３６ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3未
満とすることが好ましい。
【００１５】本発明のガラスは、下記酸化物基準のモル
％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ３８％以上５７％以下、 Ａｌ2Ｏ3 ３％以上１５％以下、 ＭｇＯ ５％以上２０％未満、 ＣａＯ １５％以下、 ＳｒＯ ８％以下、 ＺｎＯ １５％以下、 ＴｉＯ2 ７％以下、 ＺｒＯ2 ５％以下、 Ｌｉ2Ｏ １％以上１０％以下、 Ｎａ2Ｏ ２％以下、 Ｙ2Ｏ3 １０％以下、 Ｌａ2Ｏ3 １０％以下、 からなり、Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋
ＭｇＯが２８％未満、かつ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣ
ａＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋ＣａＯが４０％
未満であることが好ましい。
％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ３８％以上５７％以下、 Ａｌ2Ｏ3 ３％以上１５％以下、 ＭｇＯ ５％以上２０％未満、 ＣａＯ １５％以下、 ＳｒＯ ８％以下、 ＺｎＯ １５％以下、 ＴｉＯ2 ７％以下、 ＺｒＯ2 ５％以下、 Ｌｉ2Ｏ １％以上１０％以下、 Ｎａ2Ｏ ２％以下、 Ｙ2Ｏ3 １０％以下、 Ｌａ2Ｏ3 １０％以下、 からなり、Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋
ＭｇＯが２８％未満、かつ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣ
ａＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋ＣａＯが４０％
未満であることが好ましい。
【００１６】また、下記酸化物基準のモル％表示で実質
的に、 ＳｉＯ2 ３８％以上５７％以下、 Ａｌ2Ｏ3 １％以上９．９％以下、 ＭｇＯ ５％以上２０％未満、 ＣａＯ ２０％以下、 ＳｒＯ １０％以下、 ＺｎＯ ３％以上２０％以下、 ＴｉＯ2 ５％以下、 ＺｒＯ2 ３％以下、 Ｌｉ2Ｏ １２％以下、 Ｎａ2Ｏ ２％以下、 Ｙ2Ｏ3 ３％未満、 Ｌａ2Ｏ3 ３％未満、 からなり、Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋
ＭｇＯが２８％未満、かつ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣ
ａＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋ＣａＯが４０％
未満であることが好ましい。
的に、 ＳｉＯ2 ３８％以上５７％以下、 Ａｌ2Ｏ3 １％以上９．９％以下、 ＭｇＯ ５％以上２０％未満、 ＣａＯ ２０％以下、 ＳｒＯ １０％以下、 ＺｎＯ ３％以上２０％以下、 ＴｉＯ2 ５％以下、 ＺｒＯ2 ３％以下、 Ｌｉ2Ｏ １２％以下、 Ｎａ2Ｏ ２％以下、 Ｙ2Ｏ3 ３％未満、 Ｌａ2Ｏ3 ３％未満、 からなり、Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋
ＭｇＯが２８％未満、かつ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣ
ａＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋ＣａＯが４０％
未満であることが好ましい。
【００１７】また、下記酸化物基準のモル％表示で実質
的に、 ＳｉＯ2 ３０％以上６０％以下、 Ａｌ2Ｏ3 １％以上９．９％以下、 ＭｇＯ １％以上２０％未満、 ＣａＯ ２５％以下、 ＳｒＯ １５％以下、 ＺｎＯ ２０％以下、 ＴｉＯ2 ５％以下、 ＺｒＯ2 ３％以下、 Ｌｉ2Ｏ １２％以下、 Ｎａ2Ｏ ２％以下、 Ｙ2Ｏ3 ２５％以下、 Ｌａ2Ｏ3 ２５％以下、 からなり、Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋
ＭｇＯが２８％未満、かつ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣ
ａＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋ＣａＯが４０％
未満であることも好ましい。
的に、 ＳｉＯ2 ３０％以上６０％以下、 Ａｌ2Ｏ3 １％以上９．９％以下、 ＭｇＯ １％以上２０％未満、 ＣａＯ ２５％以下、 ＳｒＯ １５％以下、 ＺｎＯ ２０％以下、 ＴｉＯ2 ５％以下、 ＺｒＯ2 ３％以下、 Ｌｉ2Ｏ １２％以下、 Ｎａ2Ｏ ２％以下、 Ｙ2Ｏ3 ２５％以下、 Ｌａ2Ｏ3 ２５％以下、 からなり、Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋
ＭｇＯが２８％未満、かつ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣ
ａＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋ＣａＯが４０％
未満であることも好ましい。
【００１８】本発明のガラスの組成について、モル％を
単に％と表記して以下に述べる。ＳｉＯ2は、ガラスを
安定化させるネットワークフォーマであり、また液相温
度を下げる成分であり必須である。６０％超ではヤング
率が小さくなりすぎる。好ましくは５７％以下、より好
ましくは５５％以下である。３０％未満ではガラスの安
定性が低下する。好ましくは３３％以上、より好ましく
は３５％以上、特に好ましくは３８％以上である。
単に％と表記して以下に述べる。ＳｉＯ2は、ガラスを
安定化させるネットワークフォーマであり、また液相温
度を下げる成分であり必須である。６０％超ではヤング
率が小さくなりすぎる。好ましくは５７％以下、より好
ましくは５５％以下である。３０％未満ではガラスの安
定性が低下する。好ましくは３３％以上、より好ましく
は３５％以上、特に好ましくは３８％以上である。
【００１９】Ａｌ2Ｏ3はガラスを安定化させ、またヤン
グ率を大きくする成分であり必須である。２０％以上で
は液相温度が高くなりすぎる。好ましくは１５％以下、
より好ましくは１０％以下、特に好ましくは９．９％以
下、最も好ましくは５％未満である。１％未満ではヤン
グ率が小さくなりすぎる。好ましくは３％以上である。
グ率を大きくする成分であり必須である。２０％以上で
は液相温度が高くなりすぎる。好ましくは１５％以下、
より好ましくは１０％以下、特に好ましくは９．９％以
下、最も好ましくは５％未満である。１％未満ではヤン
グ率が小さくなりすぎる。好ましくは３％以上である。
【００２０】ＭｇＯはヤング率を大きくする成分であり
必須である。２０％以上では液相温度が高くなりすぎ
る。好ましくは１５％以下、より好ましくは１２％以
下、特に好ましくは１０％以下、最も好ましくは９．９
％以下である。１％未満ではヤング率が小さくなりすぎ
る。好ましくは５％以上である。なお、Ａｌ2Ｏ3含有量
が５％以上の場合、液相温度を低下させるためにＭｇＯ
含有量を１５％以下とすることが好ましい。
必須である。２０％以上では液相温度が高くなりすぎ
る。好ましくは１５％以下、より好ましくは１２％以
下、特に好ましくは１０％以下、最も好ましくは９．９
％以下である。１％未満ではヤング率が小さくなりすぎ
る。好ましくは５％以上である。なお、Ａｌ2Ｏ3含有量
が５％以上の場合、液相温度を低下させるためにＭｇＯ
含有量を１５％以下とすることが好ましい。
【００２１】Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの合量が２８％以上で
は、液相温度が高くなりすぎる。好ましくは２５％以
下、より好ましくは２３％以下、特に好ましくは２０％
以下である。
は、液相温度が高くなりすぎる。好ましくは２５％以
下、より好ましくは２３％以下、特に好ましくは２０％
以下である。
【００２２】ＣａＯは必須ではないが、溶融ガラスの粘
度を低下させ溶解を促進し、また液相温度を低下させる
ために２５％未満の範囲で含有してもよい。２５％超で
はヤング率が小さくなりすぎるおそれがある。より好ま
しくは２０％以下、さらに好ましくは１５％以下、特に
好ましくは１２％以下である。ＣａＯを含有する場合は
２％以上含有することがより好ましく、４％以上含有す
ることがさらに好ましい。
度を低下させ溶解を促進し、また液相温度を低下させる
ために２５％未満の範囲で含有してもよい。２５％超で
はヤング率が小さくなりすぎるおそれがある。より好ま
しくは２０％以下、さらに好ましくは１５％以下、特に
好ましくは１２％以下である。ＣａＯを含有する場合は
２％以上含有することがより好ましく、４％以上含有す
ることがさらに好ましい。
【００２３】Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣａＯの合量が４
０％以上では、液相温度が高くなりすぎる。好ましくは
３６％以下、より好ましくは３３％以下、特に好ましく
は３０％以下である。
０％以上では、液相温度が高くなりすぎる。好ましくは
３６％以下、より好ましくは３３％以下、特に好ましく
は３０％以下である。
【００２４】ＳｒＯは必須ではないが、溶融ガラスの粘
度を低下させ溶解を促進するために、また液相温度を低
下させるために１５％まで含有してもよい。１５％超で
はヤング率が小さくなりすぎるおそれがある。より好ま
しくは１２％以下、さらに好ましくは１０％以下、特に
好ましくは８％以下である。
度を低下させ溶解を促進するために、また液相温度を低
下させるために１５％まで含有してもよい。１５％超で
はヤング率が小さくなりすぎるおそれがある。より好ま
しくは１２％以下、さらに好ましくは１０％以下、特に
好ましくは８％以下である。
【００２５】ＺｎＯは必須ではないが、液相温度を低下
させ、またヤング率を大きくするために２０％まで含有
してもよい。２０％超では液相温度が高くなりすぎるお
それがある。より好ましくは１７％以下、特に好ましく
は１５％以下である。ＺｎＯを含有する場合は１％以上
含有することが好ましい。より好ましくは３％以上、特
に好ましくは５％以上、最も好ましくは８％以上であ
る。
させ、またヤング率を大きくするために２０％まで含有
してもよい。２０％超では液相温度が高くなりすぎるお
それがある。より好ましくは１７％以下、特に好ましく
は１５％以下である。ＺｎＯを含有する場合は１％以上
含有することが好ましい。より好ましくは３％以上、特
に好ましくは５％以上、最も好ましくは８％以上であ
る。
【００２６】ＴｉＯ2は必須ではないが、ヤング率を大
きくし、また化学的耐久性を高くするために１０％まで
含有してもよい。１０％超では、分相、結晶化等により
ガラスの安定性が低下するおそれがある。より好ましく
は７％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好ましく
は３％以下である。ガラスの安定性をより高めたい場合
はＴｉＯ2を実質的に含有しないことが好ましい。ま
た、ＴｉＯ2を含有する場合は１％以上含有することが
好ましい。
きくし、また化学的耐久性を高くするために１０％まで
含有してもよい。１０％超では、分相、結晶化等により
ガラスの安定性が低下するおそれがある。より好ましく
は７％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好ましく
は３％以下である。ガラスの安定性をより高めたい場合
はＴｉＯ2を実質的に含有しないことが好ましい。ま
た、ＴｉＯ2を含有する場合は１％以上含有することが
好ましい。
【００２７】ＺｒＯ2は必須ではないが、ヤング率を大
きくし、また化学的耐久性を高くするために１０％まで
含有してもよい。１０％超では溶融ガラスの粘度が大き
くなりすぎ溶解が困難になるおそれがある。より好まし
くは８％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好まし
くは３％以下、最も好ましくは２％以下である。ＺｒＯ
2を含有する場合は１％以上含有することがより好まし
い。
きくし、また化学的耐久性を高くするために１０％まで
含有してもよい。１０％超では溶融ガラスの粘度が大き
くなりすぎ溶解が困難になるおそれがある。より好まし
くは８％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好まし
くは３％以下、最も好ましくは２％以下である。ＺｒＯ
2を含有する場合は１％以上含有することがより好まし
い。
【００２８】Ｌｉ2Ｏは必須ではないが、溶融ガラスの
粘度を低下させ溶解を促進するために、またヤング率を
大きくするために１５％まで含有してもよい。１５％超
では液相温度が高くなりすぎ、また耐候性が低下するお
それがある。好ましくは１２％以下、より好ましくは１
０％以下、さらに好ましくは７％以下、特に好ましくは
３％以下、最も好ましくは２％未満である。Ｌｉ2Ｏを
含有する場合は１％以上含有することがより好ましい。
粘度を低下させ溶解を促進するために、またヤング率を
大きくするために１５％まで含有してもよい。１５％超
では液相温度が高くなりすぎ、また耐候性が低下するお
それがある。好ましくは１２％以下、より好ましくは１
０％以下、さらに好ましくは７％以下、特に好ましくは
３％以下、最も好ましくは２％未満である。Ｌｉ2Ｏを
含有する場合は１％以上含有することがより好ましい。
【００２９】Ｎａ2Ｏは必須ではないが、溶融ガラスの
粘度を低下させ溶解を促進するために２％まで含有して
もよい。２％超では耐候性が低下し、またヤング率が小
さくなりすぎるおそれがある。より好ましくは１％以下
である。耐候性をより高め、またはヤング率をより大き
くしたい場合は実質的に含有しないことが好ましい。
粘度を低下させ溶解を促進するために２％まで含有して
もよい。２％超では耐候性が低下し、またヤング率が小
さくなりすぎるおそれがある。より好ましくは１％以下
である。耐候性をより高め、またはヤング率をより大き
くしたい場合は実質的に含有しないことが好ましい。
【００３０】Ｌｉ2ＯとＮａ2Ｏの含有量の合計は２％未
満であることが好ましい。２％以上では耐候性が低下す
るおそれがある。より好ましくは１％以下である。耐候
性をより高めたい場合はＬｉ2ＯとＮａ2Ｏのいずれも実
質的に含有しないことが好ましい。
満であることが好ましい。２％以上では耐候性が低下す
るおそれがある。より好ましくは１％以下である。耐候
性をより高めたい場合はＬｉ2ＯとＮａ2Ｏのいずれも実
質的に含有しないことが好ましい。
【００３１】Ｙ2Ｏ3は必須ではないが、ヤング率を大き
くするために２５％まで含有してもよい。２５％超では
液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましく
は１５％以下、さらに好ましくは１０％以下、特に好ま
しくは６％未満、最も好ましくは３％未満である。液相
温度をより低くしたい場合はＹ2Ｏ3を実質的に含有しな
いことが好ましい。また、Ｙ2Ｏ3を含有する場合は１％
以上含有することがより好ましく、２％以上含有するこ
とが特に好ましい。
くするために２５％まで含有してもよい。２５％超では
液相温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましく
は１５％以下、さらに好ましくは１０％以下、特に好ま
しくは６％未満、最も好ましくは３％未満である。液相
温度をより低くしたい場合はＹ2Ｏ3を実質的に含有しな
いことが好ましい。また、Ｙ2Ｏ3を含有する場合は１％
以上含有することがより好ましく、２％以上含有するこ
とが特に好ましい。
【００３２】Ｌａ2Ｏ3は必須ではないが、ヤング率を大
きくするために２５％まで含有してもよい。２５％超で
は液相温度が高くなりすぎ、また密度が大きくなりすぎ
るおそれがある。より好ましくは１５％以下、さらに好
ましくは１０％以下、特に好ましくは６％未満、最も好
ましくは３％未満である。液相温度をより低くしたい場
合はＬａ2Ｏ3を実質的に含有しないことが好ましい。ま
た、Ｌａ2Ｏ3を含有する場合は１％以上含有することが
より好ましく、２％以上含有することが特に好ましい。
きくするために２５％まで含有してもよい。２５％超で
は液相温度が高くなりすぎ、また密度が大きくなりすぎ
るおそれがある。より好ましくは１５％以下、さらに好
ましくは１０％以下、特に好ましくは６％未満、最も好
ましくは３％未満である。液相温度をより低くしたい場
合はＬａ2Ｏ3を実質的に含有しないことが好ましい。ま
た、Ｌａ2Ｏ3を含有する場合は１％以上含有することが
より好ましく、２％以上含有することが特に好ましい。
【００３３】この他に、ヤング率を大きくするために、
必須ではないが、Ｖ2Ｏ5、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｎＯ、Ｆｅ
2Ｏ3、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、
Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｐ
ｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔｂ2Ｏ3、Ｄ
ｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙｂ2Ｏ3、Ｈ
ｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3からなる群から選ばれる１
種以上を含有してもよい。
必須ではないが、Ｖ2Ｏ5、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｎＯ、Ｆｅ
2Ｏ3、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、
Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｐ
ｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔｂ2Ｏ3、Ｄ
ｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙｂ2Ｏ3、Ｈ
ｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3からなる群から選ばれる１
種以上を含有してもよい。
【００３４】Ｖ2Ｏ5、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃ
ｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｙ2Ｏ3、
Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｌａ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎ
ｄ2Ｏ 3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔ
ｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙ
ｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3の含有量の合計
ＲxＯyは２５％以下であることが好ましい。２５％超で
は液相温度が高くなりすぎるおそれ、または、密度が大
きくなりすぎ比弾性率が低下するおそれがある。より好
ましくは２０％以下、さらに好ましくは１５％以下、特
に好ましくは１０％以下、最も好ましくは３％以下であ
る。
ｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｙ2Ｏ3、
Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｌａ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎ
ｄ2Ｏ 3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔ
ｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙ
ｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3の含有量の合計
ＲxＯyは２５％以下であることが好ましい。２５％超で
は液相温度が高くなりすぎるおそれ、または、密度が大
きくなりすぎ比弾性率が低下するおそれがある。より好
ましくは２０％以下、さらに好ましくは１５％以下、特
に好ましくは１０％以下、最も好ましくは３％以下であ
る。
【００３５】Ｖ2Ｏ5、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃ
ｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｙ2Ｏ3、
Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｌａ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎ
ｄ2Ｏ 3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔ
ｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙ
ｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3からなる群から
選ばれる１種以上を含有する場合、ＲxＯyは０．１％以
上であることがより好ましく、さらに好ましくは１％以
上、特に好ましくは２％以上である。
ｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｙ2Ｏ3、
Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｌａ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎ
ｄ2Ｏ 3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔ
ｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙ
ｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3からなる群から
選ばれる１種以上を含有する場合、ＲxＯyは０．１％以
上であることがより好ましく、さらに好ましくは１％以
上、特に好ましくは２％以上である。
【００３６】ＭｇＯおよびＬｉ2Ｏの含有量の合計とＲx
Ｏyの和は、ガラスを安定化させ、また化学的耐久性を
高くするために２５％以下とすることが好ましい。
Ｏyの和は、ガラスを安定化させ、また化学的耐久性を
高くするために２５％以下とすることが好ましい。
【００３７】Ｌｉ2Ｏ、ＭｇＯ、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｃ
ｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅ
ｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅ
ｒ2Ｏ 3、Ｔｍ2Ｏ3およびＹｂ2Ｏ3の含有量の合計は２５
％以下であることが好ましい。
ｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅ
ｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅ
ｒ2Ｏ 3、Ｔｍ2Ｏ3およびＹｂ2Ｏ3の含有量の合計は２５
％以下であることが好ましい。
【００３８】本発明のガラスは実質的に上記成分からな
るが、他に、ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、等の清澄剤
を、それらの合量が２％までの範囲で適宜含有してもよ
い。また、ガラスの溶解を促進するためにＢａＯ、Ｋ2
Ｏ、等を含有してもよいが、過度の添加はヤング率を低
下させ、また耐候性を低下させるおそれがあるので、そ
れぞれ２％以下、それらの合量が３％以下、とすること
が好ましい。なお、ヤング率をより大きくしたい場合ま
たは耐候性をより高くしたい場合には、ＢａＯ、Ｋ2Ｏ
のいずれも実質的に含有しないことが好ましい。さら
に、ガラス溶解促進およびガラスの安定化をはかるため
に、Ｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、等を添加してもよい。以上で述べ
た成分、すなわち本発明のガラスを実質的に構成する成
分以外の成分の含有量は合量で５％以下である。
るが、他に、ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、等の清澄剤
を、それらの合量が２％までの範囲で適宜含有してもよ
い。また、ガラスの溶解を促進するためにＢａＯ、Ｋ2
Ｏ、等を含有してもよいが、過度の添加はヤング率を低
下させ、また耐候性を低下させるおそれがあるので、そ
れぞれ２％以下、それらの合量が３％以下、とすること
が好ましい。なお、ヤング率をより大きくしたい場合ま
たは耐候性をより高くしたい場合には、ＢａＯ、Ｋ2Ｏ
のいずれも実質的に含有しないことが好ましい。さら
に、ガラス溶解促進およびガラスの安定化をはかるため
に、Ｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、等を添加してもよい。以上で述べ
た成分、すなわち本発明のガラスを実質的に構成する成
分以外の成分の含有量は合量で５％以下である。
【００３９】本発明の情報記録媒体基板用ガラスを製造
する方法は特に限定されず、各種製造方法を採用でき
る。たとえば、目標組成となるように通常使用される原
料を調合し、これを溶解炉中で加熱溶融する。バブリン
グや清澄剤の添加や撹拌などによってガラスの均質化を
行い、周知のプレス法、ダウンドロー法、フロート法な
どの方法により所定の板厚に成形し、徐冷後、研削、研
磨などの加工を行い、所定のサイズ、形状の基板とす
る。
する方法は特に限定されず、各種製造方法を採用でき
る。たとえば、目標組成となるように通常使用される原
料を調合し、これを溶解炉中で加熱溶融する。バブリン
グや清澄剤の添加や撹拌などによってガラスの均質化を
行い、周知のプレス法、ダウンドロー法、フロート法な
どの方法により所定の板厚に成形し、徐冷後、研削、研
磨などの加工を行い、所定のサイズ、形状の基板とす
る。
【００４０】本発明の情報記録媒体用ガラス基板（以下
単に本発明のガラス基板という。）は本発明のガラスか
らなり、所定の寸法・形状に切断されたガラス板であ
る。本発明のガラス基板は、１２０℃、０．２ＭＰａの
水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在
する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数ＮLが１個／
ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の
付着物の数ＮSが１０ 5個／ｃｍ2以下であることが好ま
しい。
単に本発明のガラス基板という。）は本発明のガラスか
らなり、所定の寸法・形状に切断されたガラス板であ
る。本発明のガラス基板は、１２０℃、０．２ＭＰａの
水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在
する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数ＮLが１個／
ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の
付着物の数ＮSが１０ 5個／ｃｍ2以下であることが好ま
しい。
【００４１】ＮLが１個／ｃｍ2超またはＮSが１０5個／
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫時にその表面に付着物
（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下地
膜、磁性膜、保護膜等がはがれやすくなるおそれがあ
る。この付着物は、空気中の水分や炭酸ガスがガラス基
板と反応して生成したものと考えられ、拭いても除去で
きないものである。ＮLは、より好ましくは０．５個／
ｃｍ2以下、特に好ましくは０．２個／ｃｍ2以下であ
る。また、ＮSは、より好ましくは０．８×１０5個／ｃ
ｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下
である。
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫時にその表面に付着物
（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下地
膜、磁性膜、保護膜等がはがれやすくなるおそれがあ
る。この付着物は、空気中の水分や炭酸ガスがガラス基
板と反応して生成したものと考えられ、拭いても除去で
きないものである。ＮLは、より好ましくは０．５個／
ｃｍ2以下、特に好ましくは０．２個／ｃｍ2以下であ
る。また、ＮSは、より好ましくは０．８×１０5個／ｃ
ｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下
である。
【００４２】
【実施例】表のＳｉＯ2〜Ｎｂ2Ｏ5の欄にモル％表示で
示した組成となるように原料を調合して白金るつぼに入
れ、１４５０〜１６５０℃に加熱し３〜５時間溶融し
た。この際白金スターラにより２時間撹拌し溶融ガラス
を均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成
形後、徐冷を行った。
示した組成となるように原料を調合して白金るつぼに入
れ、１４５０〜１６５０℃に加熱し３〜５時間溶融し
た。この際白金スターラにより２時間撹拌し溶融ガラス
を均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成
形後、徐冷を行った。
【００４３】得られたガラスについて、ヤング率（単
位：ＧＰａ）、液相温度（単位：℃）および密度（単
位：ｇ／ｃｍ3）を測定した。ヤング率を密度で除した
比弾性率（単位：ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3）の値とともに表
に示す。なお、例５５〜１６７についてはヤング率のみ
測定した。
位：ＧＰａ）、液相温度（単位：℃）および密度（単
位：ｇ／ｃｍ3）を測定した。ヤング率を密度で除した
比弾性率（単位：ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3）の値とともに表
に示す。なお、例５５〜１６７についてはヤング率のみ
測定した。
【００４４】ヤング率、液相温度および密度の測定方法
は以下のとおりである。 ヤング率：４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面が平行にな
るように研磨して、厚さを１０〜２０ｍｍとした試料に
ついて、超音波パルス法により測定した。 液相温度：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕
し、このガラス粒を白金ボートの上に並べて置く。この
白金ボートを温度傾斜炉に入れて２時間熱処理し、結晶
が析出しているガラス粒が位置していた部分の温度の最
高値を液相温度とした。 密度：約２０ｇのガラスについて、アルキメデス法によ
り測定した。
は以下のとおりである。 ヤング率：４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面が平行にな
るように研磨して、厚さを１０〜２０ｍｍとした試料に
ついて、超音波パルス法により測定した。 液相温度：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕
し、このガラス粒を白金ボートの上に並べて置く。この
白金ボートを温度傾斜炉に入れて２時間熱処理し、結晶
が析出しているガラス粒が位置していた部分の温度の最
高値を液相温度とした。 密度：約２０ｇのガラスについて、アルキメデス法によ
り測定した。
【００４５】また、厚さが１〜２ｍｍであり、大きさが
４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、これを
炭酸カルシウムおよび中性洗剤により洗浄して耐候性試
験サンプルを用意した。このサンプルを超加速寿命試験
器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１０、タ
バイエスペック（株））に入れて１２０℃、０．２ＭＰ
ａの水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したサン
プルの表面２００μｍ×２００μｍの範囲を微分干渉顕
微鏡で観察し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と
大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウ
ントした。これら個数からＮL（単位：個／ｃｍ2）およ
びＮS（単位：１０5個／ｃｍ2）を算出した。結果を表
に示す。例１〜１７２は実施例、例１７３〜１７６は特
開平１１−１１６２６７等に開示されているガラスであ
り比較例である。
４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、これを
炭酸カルシウムおよび中性洗剤により洗浄して耐候性試
験サンプルを用意した。このサンプルを超加速寿命試験
器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１０、タ
バイエスペック（株））に入れて１２０℃、０．２ＭＰ
ａの水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したサン
プルの表面２００μｍ×２００μｍの範囲を微分干渉顕
微鏡で観察し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と
大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウ
ントした。これら個数からＮL（単位：個／ｃｍ2）およ
びＮS（単位：１０5個／ｃｍ2）を算出した。結果を表
に示す。例１〜１７２は実施例、例１７３〜１７６は特
開平１１−１１６２６７等に開示されているガラスであ
り比較例である。
【００４６】
【表１】
【００４７】
【表２】
【００４８】
【表３】
【００４９】
【表４】
【００５０】
【表５】
【００５１】
【表６】
【００５２】
【表７】
【００５３】
【表８】
【００５４】
【表９】
【００５５】
【表１０】
【００５６】
【表１１】
【００５７】
【表１２】
【００５８】
【表１３】
【００５９】
【表１４】
【００６０】
【表１５】
【００６１】
【表１６】
【００６２】
【表１７】
【００６３】
【表１８】
【００６４】
【発明の効果】本発明のガラスを用いることにより、基
板を薄くしてもたわみや反りの問題が生じにくく、研磨
がしやすく、また大量生産が容易な情報記録媒体基板用
ガラスを提供できる。また、本発明のガラス基板は耐候
性に優れ、その上に形成された下地膜、磁性膜、保護膜
等がはがれにくい。
板を薄くしてもたわみや反りの問題が生じにくく、研磨
がしやすく、また大量生産が容易な情報記録媒体基板用
ガラスを提供できる。また、本発明のガラス基板は耐候
性に優れ、その上に形成された下地膜、磁性膜、保護膜
等がはがれにくい。
Claims (6)
- 【請求項１】下記酸化物基準のモル％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ３０％以上６０％以下、 Ａｌ2Ｏ3 １％以上２０％未満、 ＭｇＯ １％以上２０％未満、 ＣａＯ ２５％以下、 ＳｒＯ １５％以下、 ＺｎＯ ２０％以下、 ＴｉＯ2 １０％以下、 ＺｒＯ2 １０％以下、 Ｌｉ2Ｏ １５％以下、 Ｎａ2Ｏ ２％以下、 Ｙ2Ｏ3 ２５％以下、 Ｌａ2Ｏ3 ２５％以下、 からなり、Ａｌ2Ｏ3とＭｇＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋
ＭｇＯが２８％未満、かつ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯおよびＣ
ａＯの含有量の合計Ａｌ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋ＣａＯが４０％
未満である情報記録媒体基板用ガラス。 - 【請求項２】Ｖ2Ｏ5、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃ
ｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｙ2Ｏ3、
Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｌａ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎ
ｄ2Ｏ 3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔ
ｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙ
ｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3からなる群から
選ばれる１種以上を含有し、これらの含有量の合計が
０．１モル％以上２５モル％以下である請求項１に記載
の情報記録媒体基板用ガラス。 - 【請求項３】液相温度が１３００℃以下である請求項１
または２に記載の情報記録媒体基板用ガラス。 - 【請求項４】ヤング率が１００ＧＰａ以上である請求項
１、２または３に記載の情報記録媒体基板用ガラス。 - 【請求項５】請求項１〜４のいずれかに記載の情報記録
媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項６】請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基
板であって、１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気に
２０時間保持した該ガラス基板表面に存在する、大きさ
が１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ2以下であ
り、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１
０5個／ｃｍ2以下である情報記録媒体用ガラス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34361899A JP2001134925A (ja) | 1999-08-25 | 1999-12-02 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23877899 | 1999-08-25 | ||
| JP11-238778 | 1999-08-25 | ||
| JP34361899A JP2001134925A (ja) | 1999-08-25 | 1999-12-02 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001134925A true JP2001134925A (ja) | 2001-05-18 |
Family
ID=26533884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34361899A Pending JP2001134925A (ja) | 1999-08-25 | 1999-12-02 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001134925A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7754356B2 (en) | 2008-01-28 | 2010-07-13 | Asahi Glass Company, Limited | Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium and magnetic disk |
| US7803472B2 (en) | 2007-03-23 | 2010-09-28 | Asahi Glass Company, Limited | Substrate glass for data storage medium and glass substrate |
| WO2011019010A1 (ja) | 2009-08-10 | 2011-02-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
| US8824248B2 (en) | 2012-05-16 | 2014-09-02 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate and usage thereof |
| US8885447B2 (en) | 2012-03-29 | 2014-11-11 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use |
| WO2018199046A1 (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | Ａｇｃ株式会社 | 化学強化ガラスおよび化学強化用ガラス |
| CN109851217A (zh) * | 2018-12-07 | 2019-06-07 | 成都光明光电股份有限公司 | 重镧火石玻璃及其预制件、光学元件和光学仪器 |
| CN111164055A (zh) * | 2017-09-21 | 2020-05-15 | 康宁股份有限公司 | 具有高断裂韧度的透明的可离子交换硅酸盐玻璃 |
| JP2021501110A (ja) * | 2017-12-15 | 2021-01-14 | 成都光明光▲電▼股▲分▼有限公司 | ガラス組成物 |
| US11028005B2 (en) | 2019-07-23 | 2021-06-08 | AGC Inc. | Glass for semiconductor processing |
| US11136258B2 (en) | 2017-10-31 | 2021-10-05 | Corning Incorporated | Peraluminous lithium aluminosilicates with high liquidus viscosity |
| US11292741B2 (en) | 2018-12-12 | 2022-04-05 | Corning Incorporated | Ion-exchangeable lithium-containing aluminosilicate glasses |
| US11407673B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-08-09 | Corning Incorporated | High index glasses |
| US11485674B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-11-01 | Corning Incorporated | Glasses having high fracture toughness |
| JP2022180402A (ja) * | 2016-11-14 | 2022-12-06 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ |
| US11584681B2 (en) | 2019-11-26 | 2023-02-21 | Corning Incorporated | Ion exchangeable alkali aluminosilicate glass compositions having improved mechanical durability |
-
1999
- 1999-12-02 JP JP34361899A patent/JP2001134925A/ja active Pending
Cited By (27)
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