JP7391566B2

JP7391566B2 - 光走査装置およびそれを用いた画像形成装置

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Publication number: JP7391566B2
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Inventors: 充広太田; 嘉彦田中; 久倫小林; 孝敏田中; 直樹松下; 皓貴片山
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Description

本発明は、複写機やプリンタ等の画像形成装置に設けられる光走査装置に関するものである。

従来、複写機やプリンタ等の画像形成装置に用いられる光走査装置は、画像信号に応じて光源から出射したレーザ光を光変調し、光変調されたレーザ光をスキャナモータに搭載されたポリゴンミラーで偏向走査している。偏向走査されたレーザ光は、走査レンズによって感光ドラムの表面上に結像させて静電潜像を形成する。

近年の画像形成装置の高速化・小型化に伴い、ポリゴンミラーの駆動基板のＩＣや定着装置からの発熱量は増加する傾向にある。一方で、画像形成装置の内部空間は狭くなり、その空間内の温度は更に上昇し易くなる。そこで、熱による光走査装置の光学箱や光学箱の内部に支持される光学部品の変形を防ぐために、光走査装置に風を当てて冷却するためのファンを搭載したものもある。

特許文献１では、光学箱の側面に設けられたレーザ光が通る出射口の近傍に走査レンズが設けられている。ファンより塵埃を含む空気が光走査装置に吹き付けられたとき、光学箱の側面に設けられたレーザ光が通る出射口から光走査装置の内部に塵埃を含む空気が侵入し、光走査装置の内部に設けられた光学部品に塵埃が付着する可能性がある。特許文献２では、光走査装置に開いた穴に弾性の防塵部材を設けて光走査装置の防塵性能を向上している。また、特許文献３では、光走査装置の筺体内部の温度上昇による熱変形量が周辺の熱変形量よりも小さい筺体底面側に壁面を加熱するヒータを設けて筺体の熱変形による歪や捻じれを修正している。

特開２０１８－１５１６１７号公報特開平１１－１３３３３６号公報特開２０１２－１２８０６８号公報

特許文献３では、筺体の熱変形による歪や捻じれを修正するためのヒータの熱により光走査装置の温度がさらに上昇するおそれがある。ここで、特許文献１のように、出射口の近傍に走査レンズが設けられた構成に対して、特許文献２のように、光走査装置に開いた穴に弾性の防塵部材を設けて光走査装置の防塵性能を向上した場合を考慮する。このような構成であっても、光走査装置を冷やすために、ファンによって塵埃を含む空気が出射口の近傍に設けられた走査レンズに直接吹き付けられて走査レンズに塵埃が付着する場合がある。塵埃が走査レンズに付着すると、走査レンズの光学面の透過率または反射率が減少し、それに伴い、画像が局所的または全体的に薄くなるといった課題があった。

本発明は前記課題を解決するものであり、その目的とするところは、防塵性能を改善した光走査装置を提供するものである。

前記目的を達成するための本発明に係る画像形成装置の代表的な構成は、光源と、前記光源から出射された光束を偏向走査する回転多面鏡と、前記回転多面鏡によって偏向走査された前記光束を像担持体に導光する光学部品と、を支持する光学箱と、前記光学箱の開口を遮蔽する蓋と、を有し、前記光束を前記回転多面鏡の回転軸に直交する方向に出射する光走査装置であって、前記光学部品のうちで、前記光束の通過経路において最も前記像担持体側の前記光学部品の前記光束の出射方向側には、前記光学箱と前記蓋との間に出射口が形成されており、前記蓋の一部には、前記出射口よりも前記光束の出射方向に延伸した蓋延伸部が設けられている光走査装置と、前記蓋の外側に設けられたファンと、を有し、記録材に前記光走査装置から出射する光束に応じた画像を形成する画像形成装置において、前記ファンから前記蓋に向かって流れる風は、前記蓋延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする。

本発明によれば、光走査装置の防塵性能を改善することができる。

画像形成装置の構成を示す断面図である。第１実施形態の光走査装置とファンによる風の流れを示す断面図である。第１実施形態の光走査装置と他の位置のファンによる風の流れを示す断面図である。第１実施形態の光走査装置の第１変形例の構成とファンによる風の流れを示す断面図である。第１実施形態の光走査装置とポリゴンミラーの回転による風の流れを示す断面図である。第１実施形態の光走査装置の第２変形例の構成とファンによる風の流れを示す断面図である。第１実施形態の光走査装置の第３変形例の構成とファンによる風の流れを示す断面図である。第２実施形態の光走査装置と、画像形成装置に設けられる光学台とを下方から見た斜視図である。第２実施形態の光走査装置とファンによる風の流れを示す断面図である。第２実施形態の光走査装置とポリゴンミラーの回転による風の流れを示す断面図である。第２実施形態の光走査装置の第１変形例とファンによる風の流れを示す断面図である。第２実施形態の光走査装置の第２変形例とファンによる風の流れを示す断面図である。第３実施形態の光走査装置の構成を示す斜視図である。第３実施形態の光走査装置とファンによる風の流れを示す断面図である。第３実施形態の光走査装置とポリゴンミラーの回転による風の流れを示す断面図である。第３実施形態の光走査装置の第１変形例とファンによる風の流れを示す断面図である。第３実施形態の光走査装置の第２変形例とファンによる風の流れを示す断面図である。

図により本発明に係る光走査装置を備えた画像形成装置の一実施形態を具体的に説明する。

〔第１実施形態〕
先ず、図１～図７、図１３を用いて本発明に係る光走査装置を備えた画像形成装置１１０の第１実施形態の構成について説明する。

＜画像形成装置＞
図１を用いて画像形成装置１１０の構成について説明する。図１は、画像形成装置１１０の構成を示す断面図である。図１に示す画像形成装置１１０は、紙等の記録材Ｐに画像を形成するレーザビームプリンタの一例である。図１に示す画像形成装置１１０は、装置本体１１０ａに対して着脱可能に装着されたプロセスカートリッジ１０２が設けられている。プロセスカートリッジ１０２には、感光ドラム１０３と、帯電ローラ３と、現像装置４と、クリーナ５等が設けられている。

像担持体としての感光ドラム１０３は、図１の時計回り方向に回転する。感光ドラム１０３の表面は、帯電ローラ３により一様に帯電される。一様に帯電された感光ドラム１０３の表面に対して露光手段としての光走査装置１０から画像情報に基づいたレーザ光Ｌ（光束）が照射される。これにより感光ドラム１０３の表面上に静電潜像が形成される。感光ドラム１０３の表面上に形成された静電潜像に対して現像手段としての現像装置４から現像剤が供給されてトナー像として顕像化される。

一方、画像形成装置１１０の下部には、紙等の記録材Ｐを収容する給送カセット６が設けられている。給送カセット６の内部に設けられた積載板１０４上に積載された記録材Ｐは、給送ローラ１０５によって繰り出され、分離ローラ７により１枚ずつ分離されながら給送される。その後、記録材Ｐは、レジストレーションローラ１０６によって所定のタイミングで感光ドラム１０３と転写ローラ１０７により形成される転写ニップ部Ｎに搬送される。

転写ニップ部Ｎに搬送された記録材Ｐ上には、感光ドラム１０３の表面上に形成されたトナー像が転写ローラ１０７によって転写される。転写後に感光ドラム１０３の表面上に残留した残トナーは、クリーニング手段としてのクリーナ５により除去される。

転写ニップ部Ｎにおいて未定着トナー像が担持された記録材Ｐは、さらに下流側に搬送され、内部に加熱体を有する加熱ローラ１０８ａと加圧ローラ１０８ｂとを有する定着装置１０８により加熱及び加圧されてトナー像が記録材Ｐに定着される。その後、記録材Ｐは、排出ローラ１０９によって画像形成装置１１０の外部に設けられた排出トレイ１１１上に排出される。

積載板１０４上の記録材Ｐが給送ローラ１０５により給送が開始された後、前記記録材Ｐが排出トレイ１１１上に排出されるまでの時間と、その前後の時間において、画像形成装置１１０の内部に設けられたファン１１２が駆動する。ファン１１２により装置本体１１０ａの外部の空気を装置本体１１０ａの内部に送り、画像形成装置１１０の内部の昇温を抑える。

尚、本実施形態では、感光ドラム１０３に作用するプロセス手段としての帯電ローラ３及び現像装置４を感光ドラム１０３と一体的にプロセスカートリッジ１０２内に設けた構成としたが、各プロセス手段を感光ドラム１０３と別体で構成することでも良い。

＜光走査装置＞
次に、図２及び図１３を用いて本実施形態の光走査装置１０の構成について説明する。図２は、本実施形態の光走査装置１０とファン１１２による風８の流れを示す断面図である。図１３は、後述する第３実施形態の光走査装置３１０の構成を示す斜視図であるが、本実施形態の光走査装置１０の内部構成も略同様に構成されているため本実施形態の光走査装置１０の符号をカッコ書きで図１３に併記している。

図１３に示す光走査装置１０は、画像形成装置１１０の枠体の一部である光学台１１３（図８参照）に固定して設置される。図１３に示す光走査装置１０において、光源１１から出射されたレーザ光Ｌは、シリンドリカルレンズ１２によって副走査方向に集光され、光学箱１６に形成された光学絞り１７によって所定のビーム径に制限される。

その後、レーザ光Ｌは、スキャナモータ１３によって回転軸１を中心にＺ軸回りに回転駆動される回転多面鏡としてのポリゴンミラー１４によって偏向走査される。その後、レーザ光Ｌは、走査レンズであるトーリックレンズ１５を通過後、感光ドラム１０３の表面に集光し、Ｙ軸方向に走査され、感光ドラム１０３の表面に静電潜像を形成する。ポリゴンミラー１４の反射面１４ａに反射したレーザ光Ｌは、回転軸１に直交する方向に出射される。

トーリックレンズ１５は、ポリゴンミラー１４によって偏向走査されたレーザ光Ｌを感光ドラム１０３に導光する光学部品のうちの１つである。トーリックレンズ１５は、レーザ光Ｌが角度θで入ってくると、該トーリックレンズ１５の焦点距離ｆを掛け合わせた大きさ（ｆ×θ）の像を結ぶようなレンズ特性（ｆθ特性）を有する。トーリックレンズ１５は、光走査装置１０の内部に支持される複数の光学部品のうちで、レーザ光Ｌの通過経路において、最も感光ドラム１０３側（像担持体側）の光学部品として構成される。

光源１１、シリンドリカルレンズ１２、スキャナモータ１３、トーリックレンズ１５等の光学部品は、光学箱１６の内部に収容されて光学箱１６に支持されている。光学箱１６の上部開口１６ｄは、樹脂や金属製の光学蓋１８によって遮蔽される。

図２に示すように、光学箱１６の底板１６ｂからレーザ光Ｌに向かう方向に光学箱リブ１６ａが設けられている。一方、光学蓋１８の天板１８ｂからレーザ光Ｌに向かう方向に蓋リブ１８ａが設けられている。蓋リブ１８ａと光学箱リブ１６ａとは、レーザ光Ｌの出射方向において、互いにずれた位置に設けられている。

トーリックレンズ１５のレーザ光Ｌの出射方向下流側（光学面１５ｂ側）には、光学箱１６と光学蓋１８との間に出射口２２が形成されている。出射口２２は、蓋リブ１８ａと光学箱リブ１６ａとの間に形成されている。更に、光学蓋１８の一部には、出射口２２よりもレーザ光Ｌの出射方向下流に延伸した蓋延伸部１８ｃが設けられている。光学蓋１８の外側上部で、レーザ光Ｌの出射方向において、出射口２２とは反対側の位置には、ファン１１２が設けられている。ファン１１２により送風された風８は、光学蓋１８の天面１８ｂ１に対してレーザ光Ｌの出射方向下流に向けて吹き付けられる。

＜風の流れ＞
次に、図２を用いて本実施形態の光走査装置１０とファン１１２による風８の流れについて説明する。図２に示すように、トーリックレンズ１５のレーザ光Ｌの出射側の光学面１５ｂ側において、光学箱１６の底板１６ｂと光学蓋１８の天板１８ｂからそれぞれレーザ光Ｌに向かって伸びた光学箱リブ１６ａと蓋リブ１８ａが設けられている。

光学箱リブ１６ａと蓋リブ１８ａとで囲まれた出射口２２からレーザ光Ｌの出射方向下流に光学蓋１８の天板１８ｂの天面１８ｂ１に沿って伸びた蓋延伸部１８ｃが設けられている。光走査装置１０の上方には、ファン１１２が設けられている。ファン１１２から光走査装置１０の天面１８ｂ１に向かって風８が流れ、その風８が蓋延伸部１８ｃを含む光学蓋１８の天面１８ｂ１に当たっている。

図２に示す本実施形態の光走査装置１０では、蓋延伸部１８ｃの先端部１８ｃ１は、トーリックレンズ１５の光学面１５ｂからレーザ光Ｌの出射方向下流に十分離れた位置にある。そのためファン１１２から光学蓋１８に向かって流れる風８は、蓋延伸部１８ｃによって出射口２２に向かう流れが遮られる。これによりファン１１２から塵埃を含んだ風８が出射口２２を通りトーリックレンズ１５に回り込む空気の流入量を減らすことができる。

また、蓋延伸部１８ｃにより出射口２２からの空気の流入量が減るため光走査装置１０の内部でトーリックレンズ１５よりも更に奥側に侵入する空気の流入量も減らすことができる。これにより出射口２２の近傍に設けられたトーリックレンズ１５や光走査装置１０の内部で出射口２２から離れた位置に設けられたポリゴンミラー１４等の他の光学部品に付着する塵埃の量を減らすことが可能となる。これにより光学部品に塵埃が付着することで生じる濃度低下等の画像不良を低減することが可能となる。

次に、図３を用いて本実施形態の光走査装置１０と他の位置のファン１１２による風８の流れについて説明する。図３は、本実施形態の光走査装置１０と他の位置のファン１１２による風８の流れを示す断面図である。図２に示す光走査装置１０では、蓋延伸部１８ｃよりもレーザ光Ｌの出射方向と反対側にファン１１２が設けられた場合の一例について説明した。図３に示す光走査装置１０では、ファン１１２が光走査装置１０の上部で蓋延伸部１８ｃよりもレーザ光Ｌの出射方向下流に設けられた場合の一例である。符号１１７は、ファン１１２の吹き出し口に設けられたダクトである。

図３に示す光走査装置１０であってもファン１１２から光学蓋１８に向かって流れる風８は、蓋延伸部１８ｃによって出射口２２に向かう流れが遮られる。このように、ファン１１２からの風８が直接、出射口２２に向かわない風路構成であれば、蓋延伸部１８ｃによってファン１１２からの風８を遮るため前述したと同様の効果が得られる。これにより光走査装置１０の防塵性能を改善することができる。

＜第１変形例＞
次に、図４を用いて本実施形態の光走査装置１０の第１変形例の構成とファン１１２による風８の流れについて説明する。図４は、本実施形態の光走査装置１０の第１変形例の構成とファン１１２による風８の流れを示す断面図である。図２に示す光走査装置１０では、トーリックレンズ１５の近傍に開口（貫通穴）からなる出射口２２が設けられた場合の一例について説明した。

他に、図４に示すように、レーザ光Ｌが透過する板状の透光部材２３を出射口２２の近傍に設けた場合を考慮する。このような構成であっても光走査装置１０の上部で蓋延伸部１８ｃよりもレーザ光Ｌの出射方向と反対側に設けられたファン１１２からの風８を蓋延伸部１８ｃにより遮ることにより出射口２２を通り透光部材２３に回り込む空気の流入量を減らすことができる。

＜透光部材＞
出射口２２において、光学箱１６の光学箱リブ１６ａと光学蓋１８の天板１８ｂの内面１８ｂ２との間に透光部材２３が設けられている。レーザ光Ｌの出射方向において、光学箱リブ１６ａと透光部材２３は、蓋リブ１８ａよりもトーリックレンズ１５側に設けられている。透光部材２３は、レーザ光Ｌを通過させ、空気の流入を遮蔽する。ファン１１２からの塵埃を含んだ風８を蓋延伸部１８ｃにより遮ることにより透光部材２３に付着する塵埃の量を減らすことが可能となる。

図２～図４に示す光走査装置１０において、出射口２２から出射されるレーザ光Ｌの出射方向下流に光学蓋１８の天板１８ｂに沿って延伸させた蓋延伸部１８ｃの先端部１８ｃ１の位置を考慮する。蓋延伸部１８ｃの先端部１８ｃ１の位置は、トーリックレンズ１５の光学面１５ｂからレーザ光Ｌの出射方向下流に十分離れた位置にある。そのため画像形成装置１１０に搭載されたファン１１２からの塵埃を含んだ風８を蓋延伸部１８ｃにより遮ぎる。これにより出射口２２を通りトーリックレンズ１５や透光部材２３に回り込む空気の流入量を減らすことができる。

また、出射口２２への空気の流入量が減るため図２及び図３に示す光走査装置１０では、光走査装置１０の内部でトーリックレンズ１５よりも更に奥に侵入する空気の流入量も減らすことが可能となる。これにより塵埃を含む空気が光学部品に当たるのを低減することができる。よって、透光部材２３やトーリックレンズ１５や他の光学部品に付着する塵埃の量を減らすことが可能となり、光学部品に塵埃が付着することで生じる濃度低下等の画像不良を低減することが可能となる。

次に、図５を用いて本実施形態の光走査装置１０とポリゴンミラー１４の回転による風８の流れについて説明する。図５は、本実施形態の光走査装置１０とポリゴンミラー１４の回転による風８の流れを示す断面図である。図２～図４に示す光走査装置１０では、画像形成装置１１０にファン１１２が設けられた場合の一例について説明した。図５に示す光走査装置１０において、スキャナモータ１３に設けられたポリゴンミラー１４が回転すると、その周囲が負圧となり、ポリゴンミラー１４に向かって空気が吸い寄せられる。その結果、光走査装置１０の外側の出射口２２近傍にある、塵埃を含んだ風８が出射口２２に向かって流れる。

ポリゴンミラー１４の回転により出射口２２から光走査装置１０の内部に向かって流れる風８のうちで、光学蓋１８の外側上部の塵埃を含んだ風８ａ（空気）は、蓋延伸部１８ｃによって出射口２２に向かう流れが遮られる。ここで、画像形成装置１１０内の空気内に含まれる塵埃の濃度が光学蓋１８の下方よりも上方の方が濃い場合において、塵埃を含んだ風８ａを蓋延伸部１８ｃによって遮ることにより、トーリックレンズ１５や他の光学部品に向かう塵埃を減らすことができる。よって、ファン１１２が無い画像形成装置１１０においても前述したと同様の効果が得られる。

＜第２変形例＞
次に、図６を用いて本実施形態の光走査装置の第２変形例の構成とファン１１２による風８の流れについて説明する。図６は、本実施形態の光走査装置の第２変形例の構成とファン１１２による風８の流れを示す断面図である。図６に示すように、本変形例の光走査装置３０では、光学箱１６の上部開口１６ｄは、樹脂や金属製の光学蓋３８によって閉塞される。

図６に示すように、光学箱１６の底板１６ｂと光学蓋３８の天板３８ｂからそれぞれレーザ光Ｌに向かって伸びた光学箱リブ１６ａと蓋リブ３８ａが設けられている。光学箱リブ１６ａと蓋リブ３８ａは、トーリックレンズ１５のレーザ光Ｌの出射側の光学面１５ｂよりもレーザ光Ｌの出射方向下流側に設けられている。光学箱リブ１６ａと蓋リブ３８ａとで囲まれた出射口３２からレーザ光Ｌの出射方向下流に光学蓋３８の天板３８ｂに沿って伸びた蓋延伸部３８ｃが設けられている。

蓋延伸部３８ｃのレーザ光Ｌの出射方向下流の先端部３８ｃ１の近傍には、レーザ光Ｌに向かう方向に設けられた第２の蓋リブ３８ｄが設けられている。光走査装置３０の上方には、ファン１１２が設けられている。ファン１１２から光走査装置３０の天面３８ｂ１に向かって風８が流れ、その風８が蓋延伸部３８ｃを含む光学蓋３８の天面３８ｂ１に当たっている。

画像形成装置１１０の印刷速度アップに伴いファン１１２の風量が増えてファン１１２からの風８の一部である風８ｂが蓋延伸部３８ｃの先端部３８ｃ１を乗り越えて出射口３２に向かう場合を考慮する。このような場合でも本変形例によれば、蓋延伸部３８ｃの先端部３８ｃ１の近傍に設けられた第２の蓋リブ３８ｄによってファン１１２からの風８ｂの出射口３２に向かう流れは遮られる。そのためファン１１２の風量が増えた場合でも前述したと同様の効果が得られる。

＜第３変形例＞
次に、図７を用いて本実施形態の光走査装置の第３変形例の構成とファン１１２による風８の流れについて説明する。図７は、本実施形態の光走査装置の第３変形例の構成とファン１１２による風８の流れを示す断面図である。図７に示すように、本変形例の光走査装置４０では、光学箱１６の上部開口１６ｄは、樹脂や金属製の光学蓋４８によって閉塞される。図７に示すように、光学箱１６の底板１６ｂと光学蓋４８の天板４８ｂからそれぞれレーザ光Ｌに向かって伸びた光学箱リブ１６ａと蓋リブ４８ａが設けられている。光学箱リブ１６ａと蓋リブ４８ａは、トーリックレンズ１５のレーザ光Ｌの出射側の光学面１５ｂよりもレーザ光Ｌの出射方向下流側に設けられている。

光学箱リブ１６ａと蓋リブ４８ａとで囲まれた出射口４２からレーザ光Ｌの出射方向下流に光学蓋４８の天板４８ｂの天面４８ｂ１に対してレーザ光Ｌに向かって所定角度傾斜して伸びた蓋延伸部４８ｃが設けられている。蓋延伸部４８ｃは、出射口４２よりもレーザ光Ｌの出射方向下流に向かうにつれてレーザ光Ｌに向かって傾斜している。

光走査装置４０の光学蓋４８の上方で出射口４２よりもレーザ光Ｌの出射方向と反対側には、ファン１１２が設けられている。ファン１１２から光走査装置４０の天面４８ｂ１に対してレーザ光Ｌの出射方向下流に風８が流れ、その風８が光学蓋４８の天面４８ｂ１と蓋延伸部４８ｃの上面４８ｃ２に当たっている。画像形成装置１１０の光走査装置４０の近傍には、蓋延伸部４８ｃよりも更にレーザ光Ｌの出射方向下流で、レーザ光Ｌが通過する貫通穴からなる出射窓１１８ａを有する本体フレーム１１８が設けられている。光走査装置４０の光学蓋４８に設けられた蓋延伸部４８ｃは、出射窓１１８ａに向かって傾斜している。

本変形例によれば、本体フレーム１１８が光走査装置４０の近傍に設けられても光学蓋４８の天面４８ｂ１からレーザ光Ｌに向かって傾斜した蓋延伸部４８ｃが設けられる。これによって、ファン１１２から光学蓋４８に向かって流れる風８ｃは、蓋延伸部４８ｃの上面４８ｃ２に沿って本体フレーム１１８に設けられた貫通穴からなる出射窓１１８ａに向かって流れ、出射窓１１８ａを通り抜ける。

また、蓋延伸部４８ｃのレーザ光Ｌの出射方向下流の先端部４８ｃ１は、トーリックレンズ１５の光学面１５ｂからレーザ光Ｌの出射方向下流に十分離れた位置にある。これにより風８ｃは、蓋延伸部４８ｃによって出射口４２に向かう流れが遮られ、出射口４２の付近で塵埃を含んだ風８ａが滞留することがない。そのため画像形成装置１１０の構成上、本体フレーム１１８が光走査装置４０の近傍に設けられた場合でもファン１１２からの塵埃を含んだ風８が出射口４２の付近で滞留することが無いため前述したと同様の効果が得られる。

〔第２実施形態〕
次に、図８～図１２を用いて本発明に係る光走査装置を備えた画像形成装置１１０の第２実施形態の構成について説明する。尚、前記第１実施形態と同様に構成したものは同一の符号、或いは符号が異なっても同一の部材名を付して説明を省略する。図８は、本実施形態の光走査装置２１０と、画像形成装置１１０に設けられる光学台１１３とを下方から見た斜視図である。図８に示すように、光走査装置２１０は、画像形成装置１１０の枠体の一部である光学台１１３に固定して設置される。

＜支持部材＞
光学箱２１６を支持する支持部材としての光学台１１３は、光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１（固定面）が固定される一対の固定板１１３ｃと、各固定板１１３ｃに連続されるダクト部１１３ｄとを有している。ダクト部１１３ｄは、底板１１３ａと、底板１１３ａに対して略直交して起立した一対の側板１１３ｂとにより構成されている。固定板１１３ｃは、側板１１３ｂの外側に向かって側板１１３ｂに略直交して底板１１３ａと平行に延長されている。光学台１１３は、底板１１３ａと一対の側板１１３ｂと一対の固定板１１３ｃとを有して断面ハット型で構成されている。

光学箱２１６の底板２１６ｂには、貫通孔１９ａ～１９ｄが設けられており、底板２１６ｂの下面２１６ｂ１の貫通孔１９ａ～１９ｄの周囲には、台座２０ａ～２０ｄが設けられている。各台座２０ａ～２０ｄの下面は、取付基準面２０ａ１～２０ｄ１として構成されている。

一方、光学台１１３の固定板１１３ｃには、光学箱２１６の底板２１６ｂに設けられた貫通孔１９ａ～１９ｄに対向する位置にビス孔１１４ａ～１１４ｄが設けられている。更に、光学台１１３の固定板１１３ｃには、光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１に設けられた台座２０ａ～２０ｄの取付基準面２０ａ１～２０ｄ１に対向する位置に座面１１５ａ～１１５ｄが設けられている。座面１１５ａ～１１５ｄは、各ビス孔１１４ａ～１１４ｄの周囲に設けられている。

また、光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１には、下方に向けて突出したピン２１ａ，２１ｂが設けられている。一方、光学台１１３の固定板１１３ｃにおいて、光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１に設けられたピン２１ａ，２１ｂに対向する位置には、貫通穴からなる丸穴１１６ａと、貫通穴からなる長丸穴１１６ｂがそれぞれ設けられている。

光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１に突出したピン２１ａ，２１ｂを、それぞれ光学台１１３の固定板１１３ｃに設けられた丸穴１１６ａと長丸穴１１６ｂに対して嵌合する。これにより光学台１１３に対する光学箱２１６の位置決めがされる。光学台１１３に対する光学箱２１６の位置決めがされた状態で、ビス１１９ａ～１１９ｄを光学箱２１６の底板２１６ｂに設けた貫通孔１９ａ～１９ｄに挿通し、光学台１１３の固定板１１３ｃに設けられたビス孔１１４ａ～１１４ｄに締結する。このようにビス１１９ａ～１１９ｄをビス孔１１４ａ～１１４ｄに締結することによって、光学箱２１６が光学台１１３に固定される。

次に、図９を用いて、本実施形態の光走査装置２１０とファン１１２による風８の流れについて説明する。図９は、本実施形態の光走査装置２１０とファン１１２による風８の流れを示す断面図である。光学箱２１６の一部には、出射口２２２よりもレーザ光Ｌの出射方向下流に延伸した箱延伸部２１６ｃが設けられている。

箱延伸部２１６ｃには、光走査装置２１０を画像形成装置１１０に設けられた光学台１１３の固定板１１３ｃに装着して固定される装着部としての取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１が設けられている。各取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１は、箱延伸部２１６ｃの先端部２１６ｃ１の近傍の下面２１６ｃ２１に設けられた各台座２０ｂ，２０ｃの下面により構成される。

図９に示すように、光学箱２１６の底板２１６ｂと光学蓋２１８の天板２１８ｂからそれぞれレーザ光Ｌに向かって伸びた光学箱リブ２１６ａと蓋リブ２１８ａが設けられている。光学箱リブ２１６ａと蓋リブ２１８ａは、光走査装置２１０内に設けられるトーリックレンズ１５のレーザ光Ｌが出射する側の光学面１５ｂよりもレーザ光Ｌの出射方向下流側に設けられている。

また、光学箱リブ２１６ａと蓋リブ２１８ａとで囲まれた出射口２２２よりもレーザ光Ｌの出射方向下流に光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１に沿って光学箱２１６の一部が伸びた箱延伸部２１６ｃが設けられている。箱延伸部２１６ｃの先端部２１６ｃ１の近傍の下面２１６ｃ２に取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１が設けられた台座２４ｂ，２４ｃが設けられている。

画像形成装置１１０に設けられるファン１１２は、光学箱２１６の底板２１６ｂの外側下部で、出射口２２２よりもレーザ光Ｌの出射方向と反対側に設けられている。ファン１１２は、光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１（固定面）と、ダクト部１１３ｄとにより形成される風路９内に風８を送る位置に配置されている。ファン１１２から風路９内を光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１に向かって流れる風８は、箱延伸部２１６ｃによって出射口２２２に向かう流れが遮られる。

本実施形態によれば、ファン１１２が光走査装置２１０の下方に設けられた場合でも、箱延伸部２１６ｃによりファン１１２からの塵埃を含んだ風８が遮られて出射口２２２の付近に塵埃を含んだ空気が滞留することを防止できる。これにより前述したと同様の効果を得ることが可能となる。

更に、箱延伸部２１６ｃの先端部２１６ｃ１の近傍の下面２１６ｃ２に取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１が形成された台座２０ｂ，２０ｃを設けている。ここで、光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１に設けられている台座２０ａ，２０ｄの取付基準面２０ａ１，２０ｄ１を考慮する。更に、箱延伸部２１６ｃの先端部２１６ｃ１の近傍の下面２１６ｃ２に設けられている台座２０ｂ，２０ｃの取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１を考慮する。取付基準面２０ａ１，２０ｄ１と取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１とのＸ軸方向における間隔Ｄ２が拡がる。

各取付基準面２０ａ１～２０ｄ１の高さにバラツキが生じる場合がある。ここで、図１～図７に示す光走査装置１０，３０，４０の光学箱１６の底板１６ｂの下面１６ｂ１のみに設けられた台座２０ａ，２０ｄの取付基準面２０ａ１，２０ｄ１を考慮する。更に、台座２０ｂ，２０ｃの取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１を考慮する。そして、取付基準面２０ａ１，２０ｄ１と取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１とのＸ軸方向における間隔Ｄ１が狭い場合を考慮する。間隔Ｄ１と比較して、間隔Ｄ２が拡がることで、感光ドラム１０３の表面に対する光走査装置２１０の傾きのバラツキを減らすことができる。これにより感光ドラム１０３の表面上に照射するレーザ光Ｌの照射位置のバラツキが低減する。

これにより感光ドラム１０３の表面上に照射するレーザ光Ｌの位置を補正する機構を別途、光走査装置に設けたり、記録材Ｐへの印字位置を補正する機構を別途、画像形成装置１１０に設けなくても、印字精度を向上することができる。これにより印字精度を向上する機構を別途設けることによるコストアップを招くことなく、比較的安価な画像形成装置１１０を提供することが可能となる。

次に、図１０を用いて本実施形態の光走査装置２１０とポリゴンミラー１４の回転による風８の流れについて説明する。図１０は、本実施形態の光走査装置２１０とポリゴンミラー１４の回転による風８の流れを示す断面図である。図９では、画像形成装置１１０にファン１１２が設けられた場合の一例について説明した。一方、図１０に示すように、画像形成装置１１０にファン１１２を設けていない場合でもスキャナモータ１３に設けられたポリゴンミラー１４が回転すると、その周囲が負圧となり、ポリゴンミラー１４に向かって空気が吸い寄せられる。その結果、光走査装置２１０の開口となる出射口２２２の近傍に滞留していた塵埃を含んだ空気が風８となって出射口２２２に向かって流れる。

画像形成装置１１０によっては、空気内に含まれる塵埃の濃度が光走査装置２１０の上方よりも下方の方が濃い場合がある。その場合には、ポリゴンミラー１４の回転により出射口２２２から光走査装置２１０の内部に向かって流れる風８のうちで、光学箱２１６の外側の塵埃を含んだ空気が風８ｄとなっても箱延伸部２１６ｃによって出射口２２２に向かう流れが遮られる。これにより塵埃を含んだ風８ｄが出射口２２２に向かって吹き込むことがなく、前述したと同様の効果が得られる。

光学箱２１６の底板２１６ｂからレーザ光Ｌの出射方向下流に延長して箱延伸部２１６ｃを設ける。光走査装置２１０内の光学部品としてのトーリックレンズ１５は、レーザ光Ｌの通過経路上で感光ドラム１０３に最も近い側に設けられる。箱延伸部２１６ｃは、トーリックレンズ１５のレーザ光Ｌが出射する側の光学面１５ｂ側から感光ドラム１０３の方向に延伸している。

更に、箱延伸部２１６ｃの先端部２１６ｃ１の近傍の下面２１６ｃ２に設けた台座２０ｂ，２０ｃの下面が取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１として構成されている。光走査装置２１０を画像形成装置１１０に設けられた光学台１１３に支持する。その際に図８に示す光学台１１３の固定板１１３ｃの座面１１５ａ～１１５ｄに、光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１に設けられた台座２０ａ，２０ｄの取付基準面２０ａ１，２０ｄ１が当接する。

更に、箱延伸部２１６ｃの下面２１６ｃ２に設けられた台座２０ｂ，２０ｃの取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１が当接する。これにより光学台１１３の固定板１１３ｃの座面１１５ａ～１１５ｄに対する光学箱２１６の高さ方向の位置決めがされる。これにより感光ドラム１０３の表面上に照射するレーザ光Ｌの位置のバラツキを低減させ、印字精度を向上することができる。

＜第１変形例＞
次に、図１１を用いて本実施形態の光走査装置の第１変形例とファン１１２による風８の流れについて説明する。図１１は、本実施形態の光走査装置の第１変形例とファン１１２による風８の流れを示す断面図である。尚、前記各実施形態と同様に構成したものは同一の符号を付して説明を省略する。図１１に示すように、光学箱２３６の底板２３６ｂと光学蓋２１８の天板２１８ｂからそれぞれレーザ光Ｌに向かって伸びた光学箱リブ２３６ａと蓋リブ２１８ａが設けられている。光学箱リブ２３６ａと蓋リブ２１８ａは、光走査装置２３０内に設けられるトーリックレンズ１５のレーザ光Ｌが出射する側の光学面１５ｂ側に設けられている。符号２１８ｂ１は、光学蓋２１８の天板２１８ｂの天面である。

また、光学箱リブ２３６ａと蓋リブ２１８ａとで囲まれた出射口２２２よりもレーザ光Ｌの出射方向下流に光学箱２３６の底板２３６ｂの下面２３６ｂ１に沿って光学箱２３６の一部が伸びた箱延伸部２３６ｃが設けられている。更に、箱延伸部２３６ｃのレーザ光Ｌの出射方向下流の先端部２３６ｃ１の近傍には、レーザ光Ｌに向かう方向に設けられた第２の光学箱リブ２３６ｄが設けられている。符号２３６ｅは、光学箱２３６の上部開口であり、光学蓋２１８により閉塞されている。

画像形成装置１１０の印刷速度アップに伴いファン１１２の風量が増えてファン１１２からの風８の一部である風８ｅが箱延伸部２３６ｃの先端部２３６ｃ１を乗り越えて出射口２２２に向かう場合を考慮する。このような場合でも、本変形例によれば、箱延伸部２３６ｃに設けられた第２の光学箱リブ２３６ｄによってファン１１２からの風８ｅが出射口２２２に向かう流れが遮られる。また、箱延伸部２３６ｃの先端部２３６ｃ１の近傍の下面２３６ｃ２には、取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１が形成された台座２０ｂ，２０ｃが設けられている。これにより前述と同様の効果が得られる。

＜第２変形例＞
次に、図１２を用いて本実施形態の光走査装置の第２変形例とファン１１２による風８の流れについて説明する。図１２は、本実施形態の光走査装置の第２変形例とファン１１２による風８の流れを示す断面図である。尚、前述の各実施形態と同様に構成したものは同一の符号を付して説明を省略する。本変形例では、図１２に示すように、画像形成装置１１０には、光走査装置２４０の近傍で感光ドラム１０３との間にレーザ光Ｌが通る貫通穴からなる出射窓１１８ａを有する本体フレーム１１８が設けられている。

図１２に示すように、光学箱２４６の底板２４６ｂと光学蓋２１８の天板２１８ｂからそれぞれレーザ光Ｌに向かって伸びた光学箱リブ２４６ａと蓋リブ２１８ａが設けられている。光学箱リブ２４６ａと蓋リブ２１８ａは、光走査装置２４０内に設けられるトーリックレンズ１５のレーザ光Ｌが出射する側の光学面１５ｂ側に設けられている。更に、光走査装置２４０の光学箱２４６には、底板２４６ｂから出射窓１１８ａに向かってレーザ光Ｌに近づく方向に傾斜した箱延伸部２４６ｃが設けられている。符号２４６ｄは、光学箱２４６の上部開口であり、光学蓋２１８により閉塞されている。

箱延伸部２４６ｃは、出射口２４２よりもレーザ光Ｌの出射方向下流に向かうにつれてレーザ光Ｌに向かって傾斜している。箱延伸部２４６ｃの先端部２４６ｃ１の近傍の下面２４６ｃ２には、一対の脚部２４６ｃ３が設けられており、各脚部２４６ｃ３の下部に取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１が形成された台座２０ｂ，２０ｃが設けられている。取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１は、光学台１１３の固定板１１３ｃに設けられた座面１１５ｂ，１１５ｃに対向する位置に設けられている。

本変形例によれば、光走査装置２４０の近傍に設けられた本体フレーム１１８の出射窓１１８ａに向かって傾斜した箱延伸部２４６ｃが設けられている。これによって、ファン１１２から風路９内を光学箱２４６の下面２４６ｂ１に向かって流れる風８のうちで、一部の風８ｆは、箱延伸部２４６ｃの下面２４６ｃ２に沿って本体フレーム１１８に設けられた出射窓１１８ａに向かって流れる。その後、出射窓１１８ａを通り抜ける。また、箱延伸部２４６ｃによって出射口２４２に向かう風８ｆの流れが遮られる。

これにより画像形成装置１１０の本体フレーム１１８が光走査装置２４０の出射口２４２の近傍に設けられた場合でも、ファン１１２からの塵埃を含んだ風８が出射口２４２の付近に滞留することがないため前述したと同様の効果が得られる。他の構成は前記第１実施形態と同様に構成され、同様の効果を得ることが出来る。

〔第３実施形態〕
次に、図１３～図１７を用いて本発明に係る光走査装置を備えた画像形成装置１１０の第３実施形態の構成について説明する。図１３は、第３実施形態の光走査装置３１０の構成を示す斜視図である。尚、前記各実施形態と同様に構成したものは同一の符号、或いは符号が異なっても同一の部材名を付して説明を省略する。

図１４を用いて本実施形態の光走査装置３１０とファン１１２ａ，１１２ｂによる風８ｇ，８ｈの流れについて説明する。図１４は、本実施形態の光走査装置３１０とファン１１２ａ，１１２ｂによる風８ｇ，８ｈの流れを示す断面図である。図１４に示すように、光学箱２１６の底板２１６ｂと光学蓋１８の天板１８ｂからそれぞれレーザ光Ｌに向かって伸びた光学箱リブ２１６ａと蓋リブ１８ａが設けられている。光学箱リブ２１６ａと蓋リブ１８ａは、光走査装置３１０内に設けられたトーリックレンズ１５のレーザ光Ｌの出射側の光学面１５ｂ側に設けられている。図１３に示す光学箱２１６の上部開口２１６ｄは光学蓋１８により閉塞される。

光学箱リブ２１６ａと蓋リブ１８ａとで囲まれた出射口３２２からレーザ光Ｌの出射方向下流に光学蓋１８の天面１８ｂ１に沿って光学蓋１８の一部が伸びた蓋延伸部１８ｃが設けられている。また、出射口３２２からレーザ光Ｌの出射方向下流に底板２１６ｂの下面２１６ｂ１に沿って光学箱２１６の一部が伸びた箱延伸部２１６ｃが設けられている。

蓋延伸部１８ｃの先端部１８ｃ１及び箱延伸部２１６ｃの先端部２１６ｃ１は、トーリックレンズ１５の光学面１５ｂからレーザ光Ｌの出射方向下流に十分離れた位置にある。

また、光走査装置３１０の上方と下方で出射口３２２よりもレーザ光Ｌの出射方向とは反対側にそれぞれファン１１２ａ，１１２ｂが設けられている。光学蓋１８の外側上部に設けられた第１のファン１１２ａから光学蓋１８に対してレーザ光Ｌの出射方向下流に向かって流れる風８ｇは、蓋延伸部１８ｃによって出射口３２２に向かう流れが遮られる。

第２のファン１１２ｂは、光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１と、光学台１１３のダクト部１１３ｄとにより形成される風路９内に風８ｈを送る位置に配置されている。第２のファン１１２ｂから風路９内を光学箱２１６の下面２１６ｂ１に向かって流れる風８ｈは、箱延伸部２１６ｃによって出射口３２２に向かう流れが遮られる。

箱延伸部２１６ｃの先端部２１６ｃ１の近傍の下面２１６ｃ２には、取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１が形成された台座２０ｂ，２０ｃが設けられている。光学箱２１６の底板２１６ｂの下面２１６ｂ１で箱延伸部２１６ｃの反対側には、取付基準面２０ａ１，２０ｄ１が形成された台座２０ａ，２０ｄが設けられている。これにより前述したと同様の効果を得ることが可能となる。

光走査装置２１０の下方に設けられたファン１１２ｂとは別に、光走査装置２１０の上方にもファン１１２ａが追加されても、蓋延伸部１８ｃによりファン１１２ａからの風８ｇが出射口３２２の付近に滞留することを遮る。これによりトーリックレンズ１５や他の光学部品に付着する塵埃の量を減らすことが可能となり、光学部品に塵埃が付着することで生じる濃度低下等の画像不良を低減することが可能となる。

次に、図１５を用いて本実施形態の光走査装置３１０とポリゴンミラー１４の回転による風８の流れについて説明する。図１５は、本実施形態の光走査装置３１０とポリゴンミラー１４の回転による風８の流れを示す断面図である。図１４では、画像形成装置１１０にファン１１２ａ，１１２ｂが設けられた場合の一例について説明した。一方、図１５に示すように、画像形成装置１１０にファンが無い場合であっても、スキャナモータ１３に設けられたポリゴンミラー１４が回転すると、その周囲が負圧となり、ポリゴンミラー１４に向かって空気が吸い寄せられる。これにより出射口３２２の外側の付近に滞留する塵埃を含んだ空気が出射口３２２から光走査装置３１０の内部に向かって流れ込む。

ここで、ポリゴンミラー１４の回転により出射口３２２から光走査装置３１０の内部に向かって流れる風８のうちで、光学蓋１８の外側上部の風８ａを考慮する。この風８ａ（空気）は、蓋延伸部１８ｃによって出射口３２２に向かう流れが遮られる。

画像形成装置１１０によっては、光学蓋１８の上方と光学箱２１６の底板２１６ｂの下方の空気内に含まれる塵埃の濃度を比較したとき、光学箱２１６の底板２１６ｂの下方の塵埃の濃度の方が濃い場合がある。このような場合であっても光学箱２１６の外側下部の風８ｄ（空気）は、箱延伸部２１６ｃによって出射口３２２に向かう流れが遮られる。これにより塵埃を含んだ風８ａ，８ｄが出射口３２２の付近に滞留することを防止することができる。これにより前述したと同様の効果が得られる。

＜第１変形例＞
次に、図１６を用いて本実施形態の光走査装置の第１変形例とファン１１２ａ，１１２ｂによる風８の流れについて説明する。図１６は、本実施形態の光走査装置の第１変形例とファン１１２ａ，１１２ｂによる風８の流れを示す断面図である。尚、前記各実施形態と同様に構成したものは同一の符号を付して説明を省略する。

図１６に示すように、本変形例の光走査装置３３０では、光学箱リブ２３６ａと蓋リブ３８ａとで囲まれた出射口３３２が設けられる。出射口３３２よりもレーザ光Ｌの出射方向下流に光学蓋３８の天板３８ｂの天面３８ｂ１に沿って光学蓋３８の一部が伸びた蓋延伸部３８ｃが設けられている。また、出射口３３２よりもレーザ光Ｌの出射方向下流に光学箱２３６の底板２３６ｂの下面２３６ｂ１に沿って光学箱２３６の一部が伸びた箱延伸部２３６ｃが設けられている。

蓋延伸部３８ｃと箱延伸部２３６ｃのそれぞれのレーザ光Ｌの出射方向下流の先端部３８ｃ１，２３６ｃ１の近傍には、それぞれレーザ光Ｌに向かう方向に伸びた第２の蓋リブ３８ｄ及び第２の光学箱リブ２３６ｄが設けられている。光学蓋３８の外側上部で出射口３３２よりもレーザ光Ｌの出射方向と反対側には、第１のファン１１２ａが設けられている。一方、光学箱２３６の底板２３６ｂの外側下部で出射口３３２よりもレーザ光Ｌの出射方向と反対側には、第２のファン１１２ｂが設けられている。第２のファン１１２ｂは、光学箱２３６の底板２３６ｂの下面２３６ｂ１と、光学台１１３のダクト部１１３ｄとにより形成される風路９に向けて風８ｈが吹き込む位置に設けられている。

画像形成装置１１０の印刷速度アップに伴い、ファン１１２ａ，１１２ｂの風量が増える場合がある。その際に、各ファン１１２ａ，１１２ｂからの風８ｇ，８ｈの一部の風８ｉ，８ｊが蓋延伸部３８ｃと箱延伸部２３６ｃのそれぞれの先端部３８ｃ１，２３６ｃ１を乗り越えて出射口３３２に向かう場合を考慮する。

このような場合でも、本変形例によれば、第１のファン１１２ａから光学蓋３８に向かって流れる風８ｉは、蓋延伸部３８ｃ及び第２の蓋リブ３８ｄによって出射口３３２に向かう流れが遮られる。また、第２のファン１１２ｂから光学箱２３６の底板２３６ｂの下面２３６ｂ１に向かって流れる風８ｊは、箱延伸部２３６ｃ及び第２の光学箱リブ２３６ｄによって出射口３３２に向かう流れが遮られる。これによりファン１１２ａ，１１２ｂの風量が増えた場合でも前述したと同様の効果が得られる。

＜第２変形例＞
次に、図１７を用いて本実施形態の光走査装置の第２変形例とファン１１２ａ，１１２ｂによる風８の流れについて説明する。図１７は、本実施形態の光走査装置の第２変形例とファン１１２ａ，１１２ｂによる風８の流れを示す断面図である。尚、前記各実施形態と同様に構成したものは同一の符号を付して説明を省略する。

図１７に示すように、本変形例の光走査装置３４０では、光学蓋３４８の天板３４８ｂの天面３４８ｂ１からレーザ光Ｌに近づく方向に直交して下方に伸びた垂下部３４８ａが設けられている。垂下部３４８ａは、光走査装置３４０内に設けられるトーリックレンズ１５のレーザ光Ｌの出射側の光学面１５ｂよりもレーザ光Ｌの出射方向下流側に設けられている。更に、垂下部３４８ａからレーザ光Ｌの出射方向下流に沿って伸びた蓋延伸部３４８ｃが設けられている。

一方、トーリックレンズ１５のレーザ光Ｌの出射側の光学面１５ｂ側において、光学箱３４６の底板３４６ｂからレーザ光Ｌに近づく方向に直交して上方に伸びた起立部３４６ａが設けられている。更に、起立部３４６ａからレーザ光Ｌの出射方向下流に沿って伸びた箱延伸部３４６ｃが設けられている。即ち、蓋延伸部３４８ｃは、出射口３４２を境に光学蓋３４８の天面３４８ｂ１からレーザ光Ｌに向かう下方へ一段下がり、箱延伸部３４６ｃは、出射口３４２を境に光学箱３４６の底板３４６ｂの下面３４６ｂ１からレーザ光Ｌに向かう上方へ一段上がっている。符号３４６ｄは、光学箱３４６の上部開口であり、光学蓋３４８により閉塞されている。

蓋延伸部３４８ｃと、箱延伸部３４６ｃとによって、レーザ光Ｌが通過する空間領域２が形成される。この空間領域２の副走査方向の幅Ｗ１は、トーリックレンズ１５の光学面１５ｂの副走査方向の幅Ｗ２よりも小さい。これによりレーザ光Ｌが通過する空間領域２を確保した上で、出射口３４２の副走査方向の幅Ｗ１を小さくできるため外部から出射口３４２を通って光走査装置３４０の内部に侵入しようとする風８を更に抑制することができる。

光学蓋３４８の外側上部で出射口３４２よりもレーザ光Ｌの出射方向と反対側には、第１のファン１１２ａが設けられている。一方、光学箱３４６の底板３４６ｂの外側下部でレーザ光Ｌの出射方向と反対側には、光学箱３４６の底板３４６ｂの下面３４６ｂ１と、光学台１１３のダクト部１１３ｄとにより形成される風路９に風８ｈが吹き込む位置に第２のファン１１２ｂが設けられている。

蓋延伸部３４８ｃの先端部３４８ｃ１及び箱延伸部３４６ｃの先端部３４６ｃ１は、トーリックレンズ１５の光学面１５ｂからレーザ光Ｌの出射方向下流に十分離れた位置にある。そのため第１のファン１１２ａから光学蓋３４８に向かって流れる風８ｇは、蓋延伸部３４８ｃによって出射口３４２に向かう流れが遮られる。また、第２のファン１１２ｂから風路９内を光学箱３４６の底板３４６ｂの下面３４６ｂ１に向かって流れる風８ｈは、箱延伸部３４６ｃによって出射口３４２に向かう流れが遮られる。これにより前記各実施形態と同様の効果を得ることが可能となる。

本変形例によれば、蓋延伸部３４８ｃと箱延伸部３４６ｃとの間の空間領域２の副走査方向の幅Ｗ１が狭くなっている。このため出射口３４２から光走査装置３４０の内部に設けられたトーリックレンズ１５に回り込む塵埃の量を更に減らし、トーリックレンズ１５から更に奥の光走査装置３４０内部に侵入する塵埃の量も更に減らすことができる。これにより画像形成装置１１０の印刷速度アップに伴いファン１１２ａ，１１２ｂの風量が増えた場合でも、前述したと同様の効果が得られる。

箱延伸部３４６ｃの先端部３４６ｃ１近傍の下面３４６ｃ２には、一対の脚部３４６ｃ３を介して取付基準面２０ｂ１，２０ｃ１が形成された台座２０ｂ，２０ｃが設けられている。また、光学箱３４６の底板３４６ｂの下面３４６ｂ１で箱延伸部３４６ｃの反対側には、取付基準面２０ａ１，２０ｄ１が形成された台座２０ａ，２０ｄが設けられている。他の構成は前記各実施形態と同様に構成され、同様の効果を得ることが出来る。

Ｌ…レーザ光（光束）
１…回転軸
１０…光走査装置
１１…光源
１４…ポリゴンミラー（回転多面鏡）
１５…トーリックレンズ（光学部品）
１６…光学箱
１６ｄ…上部開口（開口）
１８…光学蓋（蓋）
１８ｃ…蓋延伸部
２２…出射口
１０３…感光ドラム（像担持体）

Claims

光源と、
前記光源から出射された光束を偏向走査する回転多面鏡と、
前記回転多面鏡によって偏向走査された前記光束を像担持体に導光する光学部品と、
を支持する光学箱と、
前記光学箱の開口を遮蔽する蓋と、
を有し、
前記光束を前記回転多面鏡の回転軸に直交する方向に出射する光走査装置であって、
前記光学部品のうちで、前記光束の通過経路において最も前記像担持体側の前記光学部品の前記光束の出射方向側には、前記光学箱と前記蓋との間に出射口が形成されており、
前記蓋の一部には、前記出射口よりも前記光束の出射方向に延伸した蓋延伸部が設けられている光走査装置と、
前記蓋の外側に設けられたファンと、
を有し、記録材に前記光走査装置から出射する光束に応じた画像を形成する画像形成装置において、
前記ファンから前記蓋に向かって流れる風は、前記蓋延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする画像形成装置。
光源と、
前記光源から出射された光束を偏向走査する回転多面鏡と、
前記回転多面鏡によって偏向走査された前記光束を像担持体に導光する光学部品と、
を支持する光学箱と、
前記光学箱の開口を遮蔽する蓋と、
を有し、
前記光束を前記回転多面鏡の回転軸に直交する方向に出射する光走査装置において、
前記光学部品のうちで、前記光束の通過経路において最も前記像担持体側の前記光学部品の前記光束の出射方向側には、前記光学箱と前記蓋との間に出射口が形成されており、
前記蓋の一部には、前記出射口よりも前記光束の出射方向に延伸した蓋延伸部が設けられ、
前記光学箱の一部には、前記出射口よりも前記光束の出射方向に延伸した箱延伸部が設けられており、
前記箱延伸部には、前記光走査装置を画像形成装置に装着する装着部が設けられていることを特徴とする光走査装置。
光源と、
前記光源から出射された光束を偏向走査する回転多面鏡と、
前記回転多面鏡によって偏向走査された前記光束を像担持体に導光する光学部品と、
を支持する光学箱と、
前記光学箱の開口を遮蔽する蓋と、
を有し、
前記光束を前記回転多面鏡の回転軸に直交する方向に出射する光走査装置において、
前記光学部品のうちで、前記光束の通過経路において最も前記像担持体側の前記光学部品の前記光束の出射方向側には、前記光学箱と前記蓋との間に出射口が形成されており、
前記蓋の一部には、前記出射口よりも前記光束の出射方向に延伸した蓋延伸部が設けられ、
前記光学箱の一部には、前記出射口よりも前記光束の出射方向に延伸した箱延伸部が設けられており、
前記蓋延伸部と、前記箱延伸部とによって、前記光束が通過する領域が形成され、前記領域の副走査方向の幅は、前記光束の通過経路において最も前記像担持体側の前記光学部品の副走査方向の幅よりも小さいことを特徴とする光走査装置。
前記出射口は、前記蓋から前記光束に向かう方向に設けられた蓋リブと、前記光学箱から前記光束に向かう方向に設けられた光学箱リブとの間に形成されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の光走査装置。
前記蓋リブと、前記光学箱リブとは、前記光束の出射方向において、互いにずれた位置に設けられていることを特徴とする請求項４に記載の光走査装置。
前記出射口において、前記光学箱リブと前記蓋との間に透光部材を設け、前記透光部材は、前記光束を通過させ、空気を遮蔽することを特徴とする請求項４又は５に記載の光走査装置。
前記蓋延伸部の前記光束の出射方向の先端部には、前記光束に向かう方向に設けられた第２の蓋リブが設けられていることを特徴とする請求項２又は３に記載の光走査装置。
前記箱延伸部の前記光束の出射方向の先端部には、前記光束に向かう方向に設けられた第２の光学箱リブが設けられていることを特徴とする請求項２又は３に記載の光走査装置。
記録材に画像を形成する画像形成装置であって、
請求項２乃至請求項８のいずれか１項に記載の光走査装置を有することを特徴とする画像形成装置。
前記蓋の外側に設けられたファン、
を有し、
前記ファンから前記蓋に向かって流れる風は、前記蓋延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
前記回転多面鏡の回転により前記出射口から前記光走査装置の内部に向かって流れる風のうちで、前記蓋の外側の空気は、前記蓋延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
前記光束が通過する貫通穴からなる出射窓が設けられた本体フレーム、
を有し、
前記蓋延伸部は、前記出射口よりも前記光束の出射方向に向かうにつれて前記光束に向かって傾斜して設けられ、
前記ファンから前記蓋に向かって流れる風は、前記蓋延伸部に沿って前記出射窓に向かって流れ、前記蓋延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項１１に記載の画像形成装置。
前記光学箱を支持する支持部材、
を有し、
前記支持部材は、
前記光学箱の固定面が固定される固定板と、
前記固定板に連続されるダクト部と、
を有し、
更に、前記画像形成装置は、前記固定面と前記ダクト部とにより形成される風路に前記ファンを有し、
前記ファンから前記固定面に向かって流れる風は、前記箱延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項１０に記載の画像形成装置。
前記光学箱を支持する支持部材、
を有し、
前記支持部材は、
前記光学箱の固定面が固定される固定板と、
前記固定板に連続されるダクト部と、
を有し、
前記装着部は、前記固定板に装着して固定されることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
前記回転多面鏡の回転により前記出射口から前記光走査装置の内部に向かって流れる風のうちで、前記光学箱の外側の空気は、前記箱延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
前記光束が通過する貫通穴からなる出射窓が設けられた本体フレームと、
前記光学箱を支持する支持部材と、
を有し、
前記支持部材は、
前記光学箱の固定面が固定される固定板と、
前記固定板に連続されるダクト部と、
を有し、
更に、前記固定面と前記ダクト部とにより形成される風路に設けられたファンと、
を有し、
前記箱延伸部は、前記出射口よりも前記光束の出射方向に向かうにつれて前記光束に向かって傾斜して設けられ、
前記ファンから前記固定面に向かって流れる風は、前記箱延伸部に沿って前記出射窓に向かって流れ、前記箱延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
前記蓋の外側に設けられた第１のファンと、
前記光学箱を支持する支持部材と、
を有し、
前記支持部材は、
前記光学箱の固定面が固定される固定板と、
前記固定板に連続されるダクト部と、
を有し、
更に、前記画像形成装置は、前記固定面と前記ダクト部とにより形成される風路に設けられた第２のファンを有し、
前記第１のファンから前記蓋に向かって流れる風は、前記蓋延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られ、
前記第２のファンから前記固定面に向かって流れる風は、前記箱延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
前記回転多面鏡の回転により前記出射口から前記光走査装置の内部に向かって流れる風のうちで、前記蓋の外側の空気は、前記蓋延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られ、
前記光学箱の外側の空気は、前記箱延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
前記光走査装置は、
前記蓋延伸部の前記光束の出射方向の先端部に前記光束に向かう方向に設けられた第２の蓋リブと、
前記箱延伸部の前記光束の出射方向の先端部に前記光束に向かう方向に設けられた第２の光学箱リブと、
を有し、
前記画像形成装置は、
前記蓋の外側に設けられた第１のファンと、
前記光学箱を支持する支持部材と、
を有し、
前記支持部材は、
前記光学箱の固定面が固定される固定板と、
前記固定板に連続されるダクト部と、
を有し、
更に、前記画像形成装置は、前記固定面と前記ダクト部とにより形成される風路に設けられた第２のファンを有し、
前記第１のファンから前記蓋に向かって流れる風は、前記蓋延伸部及び前記第２の蓋リブによって前記出射口に向かう流れが遮られ、
前記第２のファンから前記固定面に向かって流れる風は、前記箱延伸部及び前記第２の光学箱リブによって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
前記蓋の外側に設けられた第１のファンと、
前記光学箱を支持する支持部材と、
を有し、
前記支持部材は、
前記光学箱の固定面が固定される固定板と、
前記固定板に連続されるダクト部と、
を有し、
更に、前記画像形成装置は、前記固定面と前記ダクト部とにより形成される風路に設けられた第２のファンを有し、
前記第１のファンから前記蓋に向かって流れる風は、前記蓋延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られ、
前記第２のファンから前記固定面に向かって流れる風は、前記箱延伸部によって前記出射口に向かう流れが遮られることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。