JP7325634B2 - ワークハンドリングシートおよびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
図1には、一実施形態に係るワークハンドリングシートの断面図が示される。図1に示されるワークハンドリングシート1は、基材12と、基材12における片面側に積層された界面アブレーション層11とを備える。
本実施形態における界面アブレーション層11の具体的な構成や組成は、ワーク小片を保持可能であるとともに、レーザー光の照射によって界面アブレーションするという性質を有する他、光重合開始剤を含有するとともに、ワークハンドリングシート1としての上述した吸光度を可能とするものである限り、特に限定されない。
本実施形態における光重合開始剤の種類は特に限定されない。好ましい光重合開始剤の例としては、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルフォリノ-フェニル)ブタン-1-オン、エタノン,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-(0-アセチルオキシム)、1,2-オクタンジオン,1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-,2-(O-ベンゾイルオキシム)、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オンの少なくとも1種を使用することが好ましい。
前述した通り、本実施形態における界面アブレーション層11は、光重合開始剤に加えて、粘着剤を含むものであってもよい。この場合、界面アブレーション層11は、光重合開始剤を含有する粘着性組成物から形成されるものであることが好ましい。
上述した粘着性組成物には、適宜他の成分を配合してもよい。他の成分としては、例えば、活性エネルギー線非硬化性ポリマー成分またはオリゴマー成分(D)、架橋剤(E)等が挙げられる。
本実施形態における界面アブレーション層11の厚さは、3μm以上であることが好ましく、特に20μm以上であることが好ましく、さらには25μm以上が好ましい。また、界面アブレーション層11の厚さは、100μm以下であることが好ましく、特に50μm以下であることが好ましく、さらには40μm以下であることが好ましい。界面アブレーション層11の厚さが上記範囲であることで、界面アブレーション層11上におけるワーク小片の保持と、界面アブレーションによるワーク小片の分離とを両立し易いものとなる。
本実施形態における基材12は、その組成や物性について特に限定されない。ワークハンドリングシート1が所望の機能を発揮し易いという観点からは、基材12は、樹脂から構成されることが好ましい。基材12が樹脂から構成される場合、当該樹脂の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン、エチレン-ノルボルネン共重合体、ノルボルネン樹脂等のポリオレフィン系樹脂;エチレン-酢酸ビニル共重合体;エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸メチル共重合体、その他のエチレン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体等のエチレン系共重合樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等のポリ塩化ビニル系樹脂;(メタ)アクリル酸エステル共重合体;ポリウレタン;ポリイミド;ポリスチレン;ポリカーボネート;フッ素樹脂などが挙げられる。また、基材12を構成する樹脂は、上述した樹脂を架橋したものや、上述した樹脂のアイオノマーといった変性したものであってもよい。また、基材12は、上述した樹脂からなる単層のフィルムであってもよく、あるいは、当該フィルムが複数積層されてなる積層フィルムであってもよい。この積層フィルムにおいて、各層を構成する材料は同種であってもよく、異種であってもよい。
本実施形態に界面アブレーション層11が、それを構成する成分の1つとして粘着剤を含む場合、界面アブレーション層11における基材12とは反対側の面をワーク小片に貼付するまでの間、当該面を保護する目的で、当該面に剥離シートが積層されていてもよい。
本実施形態に係るワークハンドリングシート1では、界面アブレーション層11における基材12とは反対側の面に接着剤層が積層されていてもよい。当該シートでは、接着剤層における界面アブレーション層11とは反対側の面にワークを貼付し、当該ワークとともに接着剤層をダイシングすることで、個片化された接着剤層が積層されたワーク小片を得ることができる。当該チップは、この個片化された接着剤層によって、当該ワーク小片が搭載される対象に対して容易に固定することが可能となる。上述した接着剤層を構成する材料としては、熱可塑性樹脂と低分子量の熱硬化性接着成分とを含有するものや、Bステージ(半硬化状)の熱硬化型接着成分を含有するもの等を用いることが好ましい。
本実施形態に係るワークハンドリングシート1では、シリコンウエハのミラー面に対する粘着力が、10mN/25mm以上であることが好ましく、特に100mN/25mm以上であることが好ましく、さらには200mN/25mm以上であることが好ましい。上記粘着力が10mN/25mm以上であることにより、ワークハンドリングシート1にワーク小片等の被着体を良好に固定し易くなり、ハンドリング性により優れたものとなる。また、上記粘着力は、30000mN/25mm以下であることが好ましく、特に15000mN/25mm以下であることが好ましく、さらには10000mN/25mm以下であることが好ましい。上記粘着力が30000mN/25mm以下であることにより、レーザー光照射によるワーク小片の分離をより良好に行い易くなる。
本実施形態に係るワークハンドリングシート1の製造方法は特に限定されない。例えば、基材12上に界面アブレーション層11を直接形成してもよく、あるいは、工程シート上で界面アブレーション層11を形成した後、当該界面アブレーション層11を基材12上に転写してもよい。
本実施形態に係るワークハンドリングシート1は、ワーク小片の取り扱いのために好適に使用することができる。前述した通り、本実施形態に係るワークハンドリングシート1では、界面アブレーション層11が、レーザー光の照射によって効率的に界面アブレーションするものであるため、界面アブレーション層11上に保持されたワーク小片を高い精度で所定の位置に向けて分離することができる。
(1)粘着性組成物の調製
アクリル酸2-エチルヘキシル70質量部と、アクリル酸2-ヒドロキシエチル30質量部とを、溶液重合法により重合させて、(メタ)アクリル酸エステル重合体を得た。この(メタ)アクリル酸エステル重合体に対し、そのアクリル酸2-ヒドロキシエチルに対して90モル%のメタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)を反応させて、側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入された(メタ)アクリル酸エステル共重合体(活性エネルギー線硬化型重合体(A))を得た。この活性エネルギー線硬化型重合体(A)の重量平均分子量(Mw)を前述の方法によって測定したところ、80万であった。
基材としての、片面が易接着処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製,製品名「コスモシャイン A4100」,厚さ:50μm)における易接着処理面に対して、上記工程(1)で得られた粘着性組成物の塗布液を塗布し、得られた塗膜を加熱により乾燥させた。これにより、基材上に厚さ30μmの界面アブレーション層(粘着剤層)を形成した。
前述した重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて以下の条件で測定(GPC測定)した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量である。
<測定条件>
・測定装置:東ソー社製,HLC-8320
・GPCカラム(以下の順に通過):東ソー社製
TSK gel superH-H
TSK gel superHM-H
TSK gel superH2000
・測定溶媒:テトラヒドロフラン
・測定温度:40℃
光重合開始剤の種類および含有量を表1に示すように変更する以外、実施例1と同様にしてワークハンドリングシートを製造した。なお、比較例1は、光重合開始剤を使用しなかった例である。
実施例および比較例で製造したワークハンドリングシートから剥離シートを剥離し、界面アブレーション層を露出させた。このワークハンドリングシートについて、紫外・可視・近赤外分光光度計(島津製作所社製,製品名「UV-3600」)および付属の大形試料室(島津製作所社製,製品名「MPC-3100」)を用いて、紫外線吸光度を測定した。当該測定は、上記大形試料室に内蔵の積分球を使用して、スリット幅20nmにて、波長355nmの光線を、界面アブレーション層側の面に向けて照射させることで行った。結果を表1に示す。
実施例および比較例にて製造したワークハンドリングシートを、25mm幅の短冊状に裁断した。得られた短冊状のワークハンドリングシートから剥離シートを剥離し、露出した界面アブレーション層の露出面を、鏡面加工してなるシリコンウエハの当該鏡面(ミラー面)に対して、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、2kgゴムローラーを用いて貼付し、20分静置し、粘着力測定用サンプルとした。
(1)ワークハンドリングシート上におけるチップの準備(準備工程)
シリコンウエハ(#2000,厚さ:350μm)の片面に、ダイシングシート(リンテック社製,製品名「D-485H」)の粘着面を貼付した。続いて、当該ダイシングシートにおける上記粘着面の周縁部(シリコンウエハとは重ならない位置)に、ダイシング用リングフレームを付着させた。さらに、リングフレームの外径に合わせてダイシングシートを裁断した。その後、ダイシング装置(ディスコ社製,製品名「DFD6362」)を用いて、シリコンウエハを、300μm×300μmのサイズを有するチップにダイシングした。その後、ダイシングシートに対して、紫外線(照度230mW/cm2,光量190mJ/cm2)を照射した。これにより、ダイシングシート上に複数のチップが設けられてなる積層体を得た。
上記工程(1)にて得られた、ワークハンドリングシート上に複数のチップが設けられてなる積層体について、レーザー光照射装置を用いて、ワークハンドリングシート越しにチップに対してレーザー光を照射した。
以上の照射を行ったワークハンドリングシートおよびチップについて、ワークハンドリングシートにおける基材と界面アブレーション層との界面におけるブリスターの発生の有無、およびワークハンドリングシートからのチップの脱離の有無を確認し、以下の基準に基づいて、レーザーリフトオフ適性を評価した。結果を表1に示す。
◎…100個全てのチップの位置においてブリスターが発生し、且つ、100個全てのチップが脱離した。
○…ブリスターの発生および脱離が生じたチップの数が、80個以上、100個未満であった。
×…ブリスターの発生および脱離が生じたチップの数が、80個未満であった。
IrugacureOXE02:エタノン,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-(0-アセチルオキシム)(BASF社製,製品名「IrugacureOXE02」)
Omnirad379:2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルフォリノ-フェニル)ブタン-1-オン(IGM Resins社製,製品名「Omnirad379」)
Omnirad651:2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン(IGM Resins社製,製品名「Omnirad651」)
11…界面アブレーション層
12…基材
13…反応領域
2,2’…ワーク小片
3…対象物
4…レーザー光
5…ブリスター
6…レーザー光照射点
Claims (16)
- 基材と、
前記基材における片面側に積層され、ワーク小片を保持可能であるとともに、レーザー光の照射によって界面アブレーションする界面アブレーション層と
を備えるワークハンドリングシートであって、
前記界面アブレーション層が、光重合開始剤を含有し、且つ、活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成される粘着剤層であり、
前記ワークハンドリングシートは、波長355nmの光線の吸光度が1.5以上である
ことを特徴とするワークハンドリングシート。 - 前記光重合開始剤は、200nm以上、400nm以下の波長の範囲に吸収ピークを有することを特徴とする請求項1に記載のワークハンドリングシート。
- 前記活性エネルギー線硬化性粘着剤は、アクリル系粘着剤であることを特徴とする請求項1または2に記載のワークハンドリングシート。
- 前記界面アブレーション層は、ガス発生剤を含有しないことを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載のワークハンドリングシート。
- 前記基材は、樹脂製フィルムであることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載のワークハンドリングシート。
- 前記レーザー光は、紫外域の波長を有するものであることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載のワークハンドリングシート。
- 前記界面アブレーション層に界面アブレーションを生じさせたときに、当該界面アブレーションが生じた位置においてブリスターが形成されることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載のワークハンドリングシート。
- 前記界面アブレーション層において局所的に生じさせた界面アブレーションによって、前記界面アブレーション層における前記基材とは反対の面上に保持された複数のワーク小片のうちの任意のワーク小片を、前記界面アブレーション層から選択的に分離するために使用されるものであることを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載のワークハンドリングシート。
- 前記ワーク小片は、前記界面アブレーション層における前記基材とは反対の面上に保持されたワークを当該面上において個片化することで得られたものであることを特徴とする請求項8に記載のワークハンドリングシート。
- 前記ワーク小片は、半導体部品および半導体装置から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項8または9に記載のワークハンドリングシート。
- 前記ワーク小片は、ミニ発光ダイオードおよびマイクロ発光ダイオードから選択される発光ダイオードであることを特徴とする請求項8~10のいずれか一項に記載のワークハンドリングシート。
- 基材と、前記基材における片面側に積層された、光重合開始剤を含有する界面アブレーション層とを備え、波長355nmの光線の吸光度が1.5以上であるワークハンドリングシートにおける、前記界面アブレーション層側の面上に複数のワーク小片が保持されてなる積層体を準備する準備工程と、
前記ワーク小片を受容可能な対象物に対して、前記積層体における前記ワーク小片側の面が向かい合うように前記積層体を配置する配置工程と、
前記積層体における前記界面アブレーション層における、少なくとも1つの前記ワーク小片が貼付されている位置に対し、レーザー光を照射して、前記界面アブレーション層における前記照射された位置において界面アブレーションを生じさせることで、当該界面アブレーションが生じた位置に存在する前記ワーク小片を前記ワークハンドリングシートから分離し、前記ワーク小片を前記対象物上に載置する分離工程と
を備え、
前記界面アブレーション層は、活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成される粘着剤層である
ことを特徴とするデバイス製造方法。 - 前記準備工程においては、前記界面アブレーション層における前記基材とは反対の面上に保持されたワークを当該面上において個片化することで、前記ワーク小片を得ることを特徴とする請求項12に記載のデバイス製造方法。
- 前記ワーク小片は、半導体部品および半導体装置から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項12または13に記載のデバイス製造方法。
- ミニ発光ダイオードおよびマイクロ発光ダイオードから選択される発光ダイオードを前記ワーク小片として用いて、前記発光ダイオードを複数備える発光装置を製造することを特徴とする請求項12~14のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
- 前記発光装置は、ディスプレイであることを特徴とする請求項15に記載のデバイス製造方法。
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