JP7323151B2 - ヘアスプレー用整髪料原液、ヘアスプレー用組成物 - Google Patents
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例えば、特許文献1および2には、セット力を維持しながら再整髪性を向上させたヘアスプレー原液、エアゾールスプレー整髪剤が開示されている。
本発明は、例えば以下の[1]~[6]である。
[2]メチラール(C)を1~50質量%含む、[1]に記載のヘアスプレー用整髪料原液。
[3]エタノール(D)を含む、[1]または[2]に記載のヘアスプレー用整髪料原液。
[4]前記両性樹脂(A)が、(メタクリル酸エチルベタイン/アクリレーツ)コポリマー、(アクリレーツ/アクリル酸ラウリル/アクリル酸ステアリル/メタクリル酸エチルアミンオキシド)コポリマー、(メタクリロイルオキシエチルカルボキシベタイン/メタクリル酸アルキル)コポリマー、(アクリレーツ/アクリル酸ステアリル/メタクリル酸エチルアミンオキシド)コポリマー、および(アクリル酸オクチルアミド/アクリル酸ヒドロキシプロピル/メタクリル酸ブチルアミノエチル)コポリマーから選ばれる少なくとも1つである、[1]~[3]のいずれかに記載のヘアスプレー用整髪料原液。
[5]前記ノニオン性樹脂(B)が、(ジメチルアクリルアミド/アクリル酸ヒドロキシエチル/アクリル酸メトキシエチル)コポリマー、および(アクリル酸ヒドロキシエチル/アクリル酸メトキシエチル)コポリマーから選ばれる少なくとも1つである、[1]~[4]のいずれかに記載のヘアスプレー用整髪料原液。
[6][1]~[5]のいずれかに記載のヘアスプレー用整髪料原液と、噴射剤とを含むヘアスプレー用組成物。
<ヘアスプレー用整髪料原液>
本発明のヘアスプレー用組成物は、ヘアスプレー用整髪料原液と、噴射剤とから構成される。本発明のヘアスプレー用整髪料原液は、両性樹脂(A)を0.1~25質量%と、ノニオン性樹脂(B)を0.1~20質量%とを含む。
なお、ヘアスプレー用整髪料原液における、各成分の含有量は、ヘアスプレー用整髪料原液を100質量%とした場合の含有量を示している。
本発明のヘアスプレー用整髪料原液は、両性樹脂(A)を0.1~25質量%、好ましくは1~20質量%、より好ましくは5~15質量%含む。
本発明のヘアスプレー用整髪料原液は、両性樹脂(A)が上記の範囲内にあると、洗い落ちに優れ、セット力を付与することができる。
両性樹脂(A)は、1種単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
本発明のヘアスプレー用整髪料原液は、ノニオン性樹脂(B)を0.1~20質量%、好ましくは0.5~15質量%、より好ましくは2~10質量%含む。
ノニオン性樹脂(B)が前記下限量より少ないと、セット力とキープ力が付与できず、前記上限量より多いと、べたつきが生じ、洗い落ちが悪くなる。
ノニオン性樹脂(B)は、1種単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
メチラール(C)はジメトキシメタンとも呼ばれており、本発明のヘアスプレー用整髪料原液は、任意で、メチラール(C)を好ましくは1~50質量%、より好ましくは5~15質量%含む。
本発明のヘアスプレー用整髪料原液は、任意で、エタノール(D)を含むことが好ましい。本発明のヘアスプレー用整髪料原液において、任意でエタノール(D)を含むことによって、両性樹脂(A)およびノニオン性樹脂(B)の析出等に起因した濁りの発生を抑制することができる。
本発明のヘアスプレー用整髪料原液は、任意で、エタノール(D)を好ましくは15~99.8質量%、より好ましくは60~88質量%含む。
本発明のヘアスプレー用整髪料原液は、さらに、本発明の効果を損なわない範囲で、上記成分以外に、保湿剤、生薬類、界面活性剤、pH調整剤、増粘剤、キレート剤、防腐剤、清涼剤、ビタミン類、蛋白質、香料、抗菌剤、酸化防止剤、抗炎症剤、および色素等の添加剤を含有することができる。
生薬類としては、例えば、植物エキスが挙げられ、具体的には、ダイサンチクエキス、アルニカエキス、カモミラエキス、シコンエキス、シナノキエキス、スギナエキス、セイヨウノコギリソウエキス、セージエキス、トウキエキス、ノバラエキス、ビワ葉エキス、マロニエエキス、モモ葉エキス、ヨクイニンエキスおよびローズマリーエキスなどが挙げられる。生薬類は1種単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
本発明のヘアスプレー用整髪料原液は、上述した各成分を上述の量で使用する以外は、例えば公知の方法で、撹拌、混合、加熱、溶解、分散等することによって製造することができ、製造方法は特に限定されない。
本発明のヘアスプレー用組成物は、ヘアスプレー用整髪料原液と、噴射剤とを含む。
本発明のヘアスプレー用組成物において、ヘアスプレー用組成物を100質量%とした場合、ヘアスプレー用整髪料原液と噴射剤との割合(質量比)は特に限定されないが、好ましくは80:20~20:80、より好ましくは70:30~30:70、最も好ましくは60:40~40:60である。
本発明のヘアスプレー用組成物は、ヘアスプレー用整髪料原液と、噴射剤とから構成される。噴射剤は、前記ヘアスプレー用整髪料原液と共に用いることにより、ヘアスプレーとして使用できる成分であれば特に限定されず、噴射剤の状態は、気体でもよく、液体でもよい。
噴射剤としては、ヘアスプレー用整髪料原液を噴射する際の勢いを、より使用に適した勢いとする観点から、LPGを単独で使用する、またはLPGとその他の噴射剤とを混合して使用することが好ましい。
本発明のヘアスプレー用組成物において、噴射剤としては、例えば、LPGとDMEを混合して使用することが好ましい。
本発明のヘアスプレー用組成物の製造方法は特に制限されないが、例えば、上述したヘアスプレー用整髪料原液と噴射剤とを特定の割合で、容器に充填することによって製造することができる。
<実施例1~19、比較例1~4>
表1~表3に示す処方で各成分を混合することによりヘアスプレー用整髪料原液を調製した。なお、表中の処方の数値は、ヘアスプレー用整髪料原液を100質量%とした場合の、各成分の質量%を表している。
室温(25℃)の条件下で、トップ10cm、ネープ5cmの人毛ウィッグ(人毛ウィッグUN:PAMS社製)に、上記で調製したヘアスプレー用組成物をウィッグから30cmの距離で、3gスプレー塗布した。
ヘアスプレー用組成物について、10人の専門パネラー(美容師)が以下の(1)~(8)に記載の評価項目と評価基準に従って官能評価を行った。
◎:10人の専門パネラー(美容師)の評価点の平均が3.5点以上である。
○:10人の専門パネラー(美容師)の評価点の平均が2.5点以上3.5点未満である。
△:10人の専門パネラー(美容師)の評価点の平均が1.5点以上2.5点未満である。
×:10人の専門パネラー(美容師)の評価点の平均が1.5点未満である。
(メタクリル酸エチルベタイン/アクリレーツ)コポリマー:RAMレジン2000/大阪有機化学工業株式会社
(アクリレーツ/アクリル酸ラウリル/アクリル酸ステアリル/メタクリル酸エチルアミンオキシド)コポリマー:ダイヤフォーマーZ-631/三菱化学株式会社
(メタクリロイルオキシエチルカルボキシベタイン/メタクリル酸アルキル)コポリマー:ユカフォーマーR205/三菱化学株式会社
(ジメチルアクリルアミド/アクリル酸ヒドロキシエチル/アクリル酸メトキシエチル)コポリマー:プラスサイズL-2714/互応化学工業株式会社
(アクリル酸ヒドロキシエチル/アクリル酸メトキシエチル)コポリマー:プラスサイズL-2220/互応化学工業株式会社
メチラール:メチラール コスメティックス/DKSHジャパン株式会社
エタノール:99%未変性アルコール/日本アルコール販売株式会社
(1)セット力
ヘアスタイルを形成しながら、スプレー塗布し、ヘアスタイルの形成のしやすさを触感で評価した。
4点:ヘアスタイルが自在に形成できる
3点:ヘアスタイルが形成できる
2点:ヘアスタイルがあまり形成できない
1点:ヘアスタイルが全く形成できない
(2)キープ力
ヘアスタイルについて、8時間後の状態を目視で評価した。
4点:ヘアスタイルが持続し、全く崩れていない
3点:ヘアスタイルが持続し、ほとんど崩れていない
2点:ヘアスタイルが持続せず、少し崩れている
1点:ヘアスタイルが持続せず、崩れている
(3)毛髪の立ち上げ
毛髪を根元から立ち上げながら、スプレー塗布し、毛髪を根元から立ち上げるスタイルの作りやすさを触感で評価した。
4点:毛髪の立ち上げがとても作りやすい
3点:毛髪の立ち上げが作りやすい
2点:毛髪の立ち上げがやや作りにくい
1点:毛髪の立ち上げが作れない
(4)べたつき
ヘアスタイルを形成する際のべたつきを触感で評価した。
4点:べたつきが全くない
3点:べたつきがほとんどない
2点:べたつきがややある
1点:べたつきが非常にあり、不快である
(5)フレーキング
ヘアスタイルを形成した後、手ぐしを4、5回通した場合に、フレーキング(白い粉の発生)がないかを目視で評価した。
4点:フレーキングが全くない
3点:フレーキングがほとんどない
2点:フレーキングがややある
1点:フレーキングが非常にある
(6)洗い落ち
スプレーが十分に乾いてから、シャンプー(シェルパD2シャンプー:アリミノ社製)1.0gを用いて洗浄し、シャンプー中およびシャンプー後の濡れた状態における、毛髪のごわつきを触感で評価した。
4点:洗い落ちがとても良く、ごわつきが全くない
3点:洗い落ちが良く、ごわつきがほとんどない
2点:洗い落ちが悪く、ごわつきがある
1点:洗い落ちがとても悪く、ごわつきが非常にあるため、洗浄しにくい
(7)糸引き
スプレー噴霧中に樹脂が固まり、糸が舞わないかを目視で評価した。
4点:糸引きが全くない
3点:糸引きがほとんどない
2点:糸引きがややある
1点:糸引きが非常にある
(8)基剤臭
スプレー噴霧後、周辺に漂う基剤臭を評価した。
4点:基剤臭がなく、全く気にならない
3点:基剤臭がほとんどなく、気にならない
2点:基剤臭があり、やや不快である
1点:基剤臭が非常にあり、不快である
本発明のヘアスプレー用整髪料原液、およびヘアスプレー用組成物は、優れたセット力を有しながらも、スプレー塗布後にべたつかず、ヘアスタイル形成でき、洗い落ちにも優れることがわかる。
比較例2で製造したヘアスプレー用整髪料原液は、両性樹脂(A)が規定量より多いため、洗い落ちが悪く、フレーキングも非常にあった。
比較例4で製造したヘアスプレー用整髪料原液は、ノニオン性樹脂(B)が規定量より多いため、べたつきが非常にあり、洗い落ちも悪かった。また、フレーキングもあった。
Claims (4)
- 両性樹脂(A)を5~15質量%と、
ノニオン性樹脂(B)を0.1~20質量%とを含み、
前記両性樹脂(A)が、(メタクリル酸エチルベタイン/アクリレーツ)コポリマー、(アクリレーツ/アクリル酸ラウリル/アクリル酸ステアリル/メタクリル酸エチルアミンオキシド)コポリマー、(メタクリロイルオキシエチルカルボキシベタイン/メタクリル酸アルキル)コポリマー、(アクリレーツ/アクリル酸ステアリル/メタクリル酸エチルアミンオキシド)コポリマー、および(アクリル酸オクチルアミド/アクリル酸ヒドロキシプロピル/メタクリル酸ブチルアミノエチル)コポリマーから選ばれる少なくとも1つであり、
前記ノニオン性樹脂(B)が、(ジメチルアクリルアミド/アクリル酸ヒドロキシエチル/アクリル酸メトキシエチル)コポリマーである、ヘアスプレー用整髪料原液。 - メチラール(C)を1~50質量%含む、請求項1に記載のヘアスプレー用整髪料原液。
- エタノール(D)を含む、請求項1または2に記載のヘアスプレー用整髪料原液。
- 請求項1~3のいずれか1項に記載のヘアスプレー用整髪料原液と、噴射剤とを含むヘアスプレー用組成物。
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