JP7318086B1 - 連続加熱炉 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本実施形態に係る連続加熱炉を模式的に示す縦断面図である。図2は、図1のII-II断面図である。図3は、本実施形態に係る連続加熱炉を模式的に示すブロック図である。図4は、図3中の気化器を模式的に示す断面図である。図5は、制御装置による制御動作を説明するフロー図である。なお、以下の説明において、図面中の符号L、R、F、Rr、U、Dは、それぞれ、左方、右方、前方、後方、上方、下方を表すものとする。
図1に示すように、炉体10は、予め定められた搬送方向Tに沿って被処理物Aが搬送されるトンネル状の炉体である。具体的には、炉体10は、前方Fから後方Rrに向かって延びている。被処理物Aは、この炉体10の内部(炉体内10i)を搬送される。また、本実施形態における炉体10は、被処理物Aが搬入される搬入口14と、被処理物Aが搬出される搬出口16とを備えている。そして、搬入口14と搬出口16は、炉体内10iを介して連通している。なお、図示は省略するが、搬入口14には、当該搬入口14に被処理物Aを搬入する搬入コンベアが取り付けられていてもよい。また、搬出口16には、当該搬出口16から被処理物Aを搬出する搬出コンベアが取り付けられていてもよい。さらに、炉体10は、基台19の上に載置されている。
本実施形態に係る連続加熱炉1は、複数の搬送ローラ20によって被処理物Aを搬送するローラハースキルンである。図1に示すように、複数の搬送ローラ20は、上下方向における位置が揃うように搬送方向Tに沿って連続的に配置されている。具体的には、図2に示すように、搬送ローラ20は、左方Lから右方Rに延びる円筒状のローラである。この搬送ローラ20は、炉体10の両側壁10cに形成された挿通孔10dに挿通される。そして、搬送ローラ20の両端部20a、20bは、炉体10の外部において、一対の支持板21a、21bに回転可能に支持される。この一対の支持板21a、21bの各々は、搬送方向(図2の紙面に対して垂直方向)に延びている。この搬送方向に延びる支持板21a、21bには、複数の搬送ローラ20が支持されている。これによって、複数の搬送ローラ20を搬送方向Tに沿って連続的に配置することができる。
ヒータ30は、炉体内10iに配置されている。図1に示すように、本実施形態に係る連続加熱炉1は、複数のヒータ30を備えている。複数のヒータ30は、上記複数の搬送ローラ20に沿うように、搬送方向Tに沿って所定の間隔を空けて並べられている。これによって、搬送ローラ20上を搬送される被処理物Aを連続的に加熱できる。また、本実施形態におけるヒータ30は、搬送ローラ20の上方Uに配置される上部ヒータ32と、搬送ローラ20の下方Dに配置される下部ヒータ34とを備えている。これによって、搬送中の被処理物Aを均一に加熱できる。なお、ヒータ30は、加熱炉に使用され得る従来公知のヒータを特に制限なく使用できる。かかるヒータ30の一例として、セラミックヒータ、金属シースヒータ、カーボンヒータ等が挙げられる。また、ヒータの形状も特に限定されない。例えば、ヒータは、図1に示す円筒状のヒータ30に限定されず、板状のパネルヒータ等を使用してもよい。
隔壁40は、炉体内10iを搬送方向Tに沿って複数の領域R1~R3に仕切る部材である。ここに開示される技術を限定するものではないが、隔壁40には、断熱部15と同様の断熱材を使用することができる。本実施形態における隔壁40は、炉体10の天井10aから下方Dに突出する上部隔壁42と、炉体10の底面10bから上方Uに突出する下部隔壁44とを備えている。この上部隔壁42と下部隔壁44とは、搬送ローラ20を挟んで対向している。換言すると、本実施形態における隔壁40は、隣接した領域を連通させ、被処理物Aを通過させる開口部40aを有している。本実施形態における炉体内10iには、この隔壁40の開口部40aを介して複数の領域R1~R3を通過する搬送領域1aが形成される。
湿潤ガス供給配管80は、複数の領域R1~R3の少なくとも1つの領域に設けられている。図1に示すように、本実施形態における湿潤ガス供給配管80は、搬送方向Tの最上流側の領域(第1領域R1)に設けられている。なお、湿潤ガス供給配管を取り付ける領域の位置は、ここに開示される技術を限定するものではない。湿潤ガス供給配管は、下流側の領域(第2領域R2や第3領域R3)に設けられていてもよい。また、湿潤ガス供給配管を取り付ける領域の数も、ここに開示される技術を限定するものではない。すなわり、湿潤ガス供給配管は、2つ以上の領域に取り付けられていてもよい。また、湿潤ガス供給配管80には、保温部材やヒータなどの保温機構が取り付けられていることが好ましい。これによって、湿潤ガス供給配管80の内部での結露を抑制できる。
加湿機構50は、湿潤ガス供給配管80に湿潤ガスを供給する。かかる加湿機構50の構成は、特に限定されず、湿潤ガスの供給に用いられ得る従来公知の装置を特に制限なく使用できる。例えば、図3に示すように、本実施形態における加湿機構50は、気化器54と、水供給ラインL1と、ガス供給ラインL2と、湿潤ガス供給ラインL3とを備えている。以下、図3を参照しながら加湿機構50の具体的な構成を説明する。なお、図3では、バルブや逆止弁などの流体制御に関する部材を、一部を除いて省略している。これらの流体制御に関する部材は、ここに開示される技術を限定するものではなく、流体(水、ガスなど)を適切に供給するという目的の下で適宜設置することができる。
水供給ラインL1は、気化器54に水を供給するラインである。この水供給ラインL1は、配管やバルブ等を適宜組み合わせることによって構築される。そして、本実施形態における水供給ラインL1は、貯水タンク51と、ポンプ56とを備えている。貯水タンク51は、水Wを貯留するタンクである。この貯水タンク51の下流側にポンプ56が設置されている。このポンプ56を稼働させることによって、貯水タンク51内の水Wが気化器54に圧送される。
ガス供給ラインL2は、気化器54にガスを供給するラインである。このガス供給ラインL2も、配管とバルブとを適宜組み合わせることによって構築できる。ガス供給ラインL2は、ガス供給手段53と、ガス量調整手段57とを備えている。ガス供給手段53は、所定のガスを気化器54に圧送する機器である。なお、ガス供給手段53は、ガスの種類に応じて従来公知の機器を適宜採用することができる。例えば、圧縮空気を使用する場合には、ガス供給手段53としてコンプレッサを使用できる。一方、特定のガス(O2ガス等)を使用する場合には、目的のガスが充填されたガスボンベをガス供給手段53として使用できる。また、ガス量調整手段57は、ガス供給手段53と気化器54との間に設置されている。ガス量調整手段57は、気化器54に供給されるガスの流量を調整する。かかるガス量調整手段57は、水供給ラインL1の流量調整手段52と同様に、マスフローコントローラ等を使用できる。
気化器54は、水とガスとを混合して湿潤ガスを生成する機器である。図4に示すように、本実施形態における気化器54は、混合タンク54aと、ガス排出部材54bとを備えている。混合タンク54aは、水WとガスGとが混合される容器である。混合タンク54aの底面には、水供給ラインL1が接続されている。そして、水供給ラインL1から供給された水Wは、混合タンク54a内に貯められる。次に、ガス排出部材54bは、混合タンク54a内の水Wに浸漬された多孔質部材である。このガス排出部材54bは、ガス供給ラインL2と接続されている。そして、ガス供給ラインL2から供給されたガスGは、ガス排出部材54bを介して、混合タンク54a内の水Wの中に排出される。そして、ガスGが水Wを通過しながら浮上することによって、混合タンク54aの上部空間に湿潤ガスが生成される。
湿潤ガス供給ラインL3は、気化器54で生成した湿潤ガスを湿潤ガス供給配管80に供給する。図4に示すように、湿潤ガス供給ラインL3は、混合タンク54aの上部に接続されている。これによって、混合タンク54aの上部空間に溜まった湿潤ガスが、湿潤ガス供給ラインL3を介して気化器54の外部に排出される。なお、湿潤ガス供給ラインL3も、配管とバルブとを適宜組み合わせることによって構築できる。また、湿潤ガス供給ラインL3を構成する配管の外側には、保温部材やヒータが取り付けられていることが好ましい。これによって、湿潤ガス供給ラインL3の配管内部での結露を抑制できる。
露点計60は、炉体内10iのうち湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する。なお、本明細書における「湿潤ガスが供給される領域」は、湿潤ガス供給配管から湿潤ガスが直接供給される領域だけでなく、隔壁の開口部を介して間接的に湿潤ガスが供給される領域を包含する。本実施形態に係る連続加熱炉1では、湿潤ガス供給配管80が設けられた第1領域R1を露点計60の測定対象としている。以下、かかる露点計60の構成について説明する。
制御装置70は、加湿機構50を制御して湿潤ガスの露点を調節するマイクロコンピュータである。制御装置70は、各種制御を司るコントローラ(例えばCPU)と、プログラムおよびデータを記憶する記憶装置を備える。
本実施形態に係る連続加熱炉1では、露点計60が第1領域R1の露点D1を測定する露点測定工程S10を実施する。このときの測定結果は、露点記憶部71に記憶される。
上述の通り、本実施形態における露点計60は、炉体10外部の測定管62に設置されている。このとき、露点計60が測定する露点D1は、測定環境の気圧によって変動する。このため、測定管62内の圧力変動によって測定値に誤差が生じる可能性がある。これに対して、補正手段73は、圧力計69の測定値(測定管62の圧力)に基づいて、露点計60の測定値(第1領域R1の露点D1)を補正する圧力補正工程S20を行う。例えば、補正手段73は、圧力計69の測定値に基づいて、露点計60の測定値を大気圧換算する。これによって、より正確な露点D1を得ることができる。具体的には、本実施形態における圧力補正工程S20は、圧力計69が測定管62の圧力を測定して圧力記憶部72に記憶する圧力測定工程S22と、補正手段73が露点D1を補正する露点補正工程S24とを備えている。
次に、制御装置70の演算部75は、露点比較工程S30において、露点計60の測定値(第1領域R1の露点D1)と目的露点範囲DRとを比較検討する。この露点比較工程S30は、下限比較工程S32と上限比較工程S34を備えている。
以上、本実施形態に係る連続加熱炉1の主要な構成について説明した。なお、本実施形態に係る連続加熱炉1は、上述の主要な構成の他に、以下の構成も有している。
一般的な連続加熱炉は、炉体内の状態(酸素濃度、ガス組成など)を測定するために、種々のセンサを備えている。しかし、上述の露点計60と同様に、これらのセンサを炉体内に設置すると熱劣化が生じ得る。一方で、炉体外にセンサを配置し、当該センサに炉体内のガスを移送すると、結露による劣化が生じるおそれがある。このため、露点計以外のセンサを取り付ける場合、当該センサは、センサの測定対象となる領域における目的露点範囲の上限値よりも高温であり、かつ、センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域になる領域に配置されていることが好ましい。
加熱加湿処理用の連続加熱炉1では、炉体内10iに湿潤ガスが供給されるため、炉体10の底面10bに水が溜まる可能性がある。このため、図3に示すように、炉体10の底面10bには、炉体10外部に水を排出するためのドレン管10fが取り付けられていることが好ましい。そして、このドレン管10fには、当該ドレン管10fを開閉するドレンバルブ10eが設けられているとよい。これによって、炉体内10iに溜まった水を必要に応じて排出できる。また、このようなドレン構造を設ける場合、炉体10の底面10bは、ドレン管10fに向かって下るように傾斜していると好ましい。これによって、炉体内10iの水をより容易に排出できる。
以上、ここに開示される技術の一実施形態について説明した。しかし、上述した実施形態は、ここに開示される技術を限定することを意図したものではない。以下、ここに開示される技術の他の実施形態について説明する。
図1に示すように、上述の実施形態に係る連続加熱炉1は、複数の搬送ローラ20で被処理物Aを搬送するローラハースキルンである。しかしながら、ここに開示される連続加熱炉は、所定の搬送方向に沿って被処理物を搬送しながら加熱できればよく、ローラハースキルンに限定されない。例えば、ここに開示される連続加熱炉は、プッシャー炉でもよい。このプッシャー炉は、図1中の搬送ローラ20のような駆動ローラは有していない。代わりに、プッシャー炉の炉体内には、被処理物の搬送をガイドするセラミックレールが敷設される。このセラミックレールの上には、被処理物が隙間なく載置される。この状態で搬入口から一個の被処理物を搬入すると、搬出口から一個分の被処理物が押し出される。プッシャー炉では、この搬入処理を繰り返すことによって、セラミックレールに沿って被処理物を順次搬送する。かかる構成のプッシャー炉においても、ここに開示される技術を、特に制限なく適用することができる。
図5中の圧力補正工程S20に示すように、上述の実施形態における制御装置70は、圧力計69の測定結果に基づいて露点計60の測定結果を補正する。しかし、この圧力補正S20に関する構成は、ここに開示される技術における必須の構成ではない。例えば、制御装置は、露点計が測定した露点をそのまま用いて加湿機構を制御してもよい。この場合でも、炉体内の所望の領域の露点を十分に制御できる。また、露点の圧力補正は、露点計の周囲に圧力計を設けなくても実施することができる。例えば、炉体内と露点計の周囲の各々の圧力を測定する予備試験を実施し、当該予備試験の結果に基づいた補正値を予め設定してもよい。かかる構成を採用した場合でも、露点の圧力補正を適切に実施できる。
図3に示すように、上述の実施形態では、測定管62に吸引装置65と流量計66が設けられている、しかし、測定管は、炉体内のガスを露点計に供給できればよく、上述の実施形態に記載した構成に限定されない。例えば、炉体内の圧力は、焼成条件に応じて適宜設定される。このとき、炉体内の圧力は、大気圧よりも格段に高い圧力になることがある。このような場合には、測定管の他端を大気に開放するだけでも、炉体内のガスを炉体外に移送できる。そして、この測定管の途中に露点計を設置することによって、炉体内のガスを露点計に供給することができる。但し、露点計へのガスの供給量を安定化させるという観点から、ポンプや真空エジェクタなどの吸引装置を測定管に設けた方が好ましい。
上記の通り、ここに開示される技術における露点計は、「湿潤ガスが供給される領域」の露点を測定する。そして、本明細書における「湿潤ガスが供給される領域」は、湿潤ガス供給配管から湿潤ガスが直接供給される領域だけでなく、隔壁の開口部を介して間接的に湿潤ガスが供給される領域を包含する。すなわち、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域(図1中の第1領域R1)以外の領域の露点を測定してもよい。例えば、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域よりも下流側の領域(図1中の第2領域R2や第3領域R3など)を測定してもよい。また、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域よりも上流側の領域(図1中の搬入口12)を測定してもよい。これらの領域の露点を測定した場合でも、露点が適切に制御された加熱加湿処理を実施できる。なお、湿潤ガス供給配管が設けられた領域と、露点計が露点を測定する領域とが離れ過ぎると、露点計で測定される露点が低くなり、湿潤ガスの露点制御が難しくなる可能性がある。このことから、露点計は、湿潤ガス供給配管が設けられた領域を基準として、5領域以内(より好適には3領域以内、さらに好適には2領域以内、特に好適には1領域以内)の領域の露点を測定することが好ましい。
また、加湿機構は、湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給することができればよく、上述の構成に限定されない。例えば、上述の実施形態では、水供給ラインL1の流量調整手段52を制御することによって湿潤ガスの露点を調節している。しかし、湿潤ガスの露点を調節する手段は、流量調整手段52に限定されない。例えば、気化器に水を供給するポンプ(図3中のポンプ56に相当)と制御装置とを接続し、当該ポンプの稼働を制御してもよい。かかる構成を採用した場合でも、湿潤ガスの露点を制御できる。
また、ここに開示される技術は、以下の項目1~項目12に記載の形態を包含する。
予め定められた搬送方向に沿って被処理物が搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも1つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する露点計と、
制御装置と
を備え、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記露点計が露点を測定する領域の露点が、予め定められた目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成された、連続加熱炉。
前記露点計は、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点を測定するように構成されており、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点が前記目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成された、項目1に記載の連続加熱炉。
前記露点計が露点を測定する領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
をさらに備え、
前記露点計は、前記測定管のうち、前記目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該露点計の耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている、項目1または2に記載の連続加熱炉。
前記測定管は、前記露点計が配置された位置の圧力を測定するための圧力計を有し、
前記制御装置は、前記圧力計の測定値に基づいて前記露点計の測定値を補正するように構成された、項目3に記載の連続加熱炉。
前記測定管は、
前記炉体内から流入したガスを前記保護温度域まで冷却する冷却部と、
前記冷却部を通過したガスを前記保護温度域に維持する保温部と
を備えている、項目3または4に記載の連続加熱炉。
前記露点計よりも前記炉体に近い位置にフィルタが配置されている、項目3~5のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
前記加湿機構は、
水とガスとを混合して湿潤ガスを生成する気化器と、
前記気化器に水を供給する水供給ラインと、
前記気化器にガスを供給するガス供給ラインと、
前記気化器で生成した前記湿潤ガスを前記湿潤ガス供給配管に供給する湿潤ガス供給ラインと
を備えている、項目1~6のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
前記水供給ラインは、前記気化器に供給される水の流量を調整する流量調整手段を備えており、
前記制御部は、前記流量調整手段を制御することによって前記湿潤ガスの露点を調節する、項目7に記載の連続加熱炉。
前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の上方に配置され、下方に向けて前記湿潤ガスを噴射する上部噴射口を備えている、項目1~8のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
前記露点計は、前記上部噴射口と前記被処理物との間における露点を測定する、項目9に記載の連続加熱炉。
前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の下方に配置され、上方に向けて前記湿潤ガスを噴射する下部噴射口を備えている、項目1~10のいずれか一項に記載の連続加熱炉。
被処理物が予め定められた搬送方向に沿って搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも1つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の状態を測定するセンサと、
前記センサの測定対象となる領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
を備え、
前記センサは、前記測定管のうち、前記センサの測定対象となる領域における目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている、連続加熱炉。
前記センサは、酸素センサ、マルチガスアナライザーから選択される少なくとも一種である、項目12に記載の連続加熱炉。
10 炉体
20 搬送ローラ
30 ヒータ
40 隔壁
50 加湿機構
51 貯水タンク
52 流量調整手段
53 ガス供給手段
54 気化器
56 ポンプ
57 ガス量調整手段
60 露点計
62 測定管
62c 冷却部
62d 保温部
65 吸引装置
66 流量計
69 圧力計
70 制御装置
80 湿潤ガス供給配管
82 上部噴射口
84 下部噴射口
90 酸素センサ
92 測定管
A 被処理物
L1 水供給ライン
L2 ガス供給ライン
L3 湿潤ガス供給ライン
R1 第1領域
R2 第2領域
R3 第3領域
WL 水位
Claims (11)
- 予め定められた搬送方向に沿って被処理物が搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも1つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する露点計と、
制御装置と
を備え、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記露点計が露点を測定する領域の露点が、予め定められた目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成されており、
前記露点計が露点を測定する領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
をさらに備え、
前記露点計は、前記測定管のうち、前記目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該露点計の耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されている、連続加熱炉。 - 前記露点計は、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点を測定するように構成されており、
前記制御装置は、前記露点計の測定値に基づいて、前記湿潤ガス供給配管が設けられた領域の露点が前記目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御するように構成された、請求項1に記載の連続加熱炉。 - 前記測定管は、前記露点計が配置された位置の圧力を測定するための圧力計を有し、
前記制御装置は、前記圧力計の測定値に基づいて前記露点計の測定値を補正するように構成された、請求項1または2に記載の連続加熱炉。 - 前記測定管は、
前記炉体内から流入したガスを前記保護温度域まで冷却する冷却部と、
前記冷却部を通過したガスを前記保護温度域に維持する保温部と
を備えている、請求項1または2に記載の連続加熱炉。 - 前記露点計よりも前記炉体に近い位置にフィルタが配置されている、請求項1または2に記載の連続加熱炉。
- 前記加湿機構は、
水とガスとを混合して湿潤ガスを生成する気化器と、
前記気化器に水を供給する水供給ラインと、
前記気化器にガスを供給するガス供給ラインと、
前記気化器で生成した前記湿潤ガスを前記湿潤ガス供給配管に供給する湿潤ガス供給ラインと
を備えている、請求項1または2に記載の連続加熱炉。 - 前記水供給ラインは、前記気化器に供給される水の流量を調整する流量調整手段を備えており、
前記制御装置は、前記流量調整手段を制御することによって前記湿潤ガスの露点を調節する、請求項6に記載の連続加熱炉。 - 前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の上方に配置され、下方に向けて前記湿潤ガスを噴射する上部噴射口を備えている、請求項1または2に記載の連続加熱炉。
- 前記露点計は、前記上部噴射口と前記被処理物との間における露点を測定する、請求項8に記載の連続加熱炉。
- 前記湿潤ガス供給配管は、前記炉体内における前記被処理物の下方に配置され、上方に向けて前記湿潤ガスを噴射する下部噴射口を備えている、請求項1または2に記載の連続加熱炉。
- 被処理物が予め定められた搬送方向に沿って搬送されるトンネル状の炉体と、
前記炉体内に配置されたヒータと、
前記炉体内を前記搬送方向に沿って複数の領域に仕切る隔壁と、
前記複数の領域の少なくとも1つの領域に設けられた湿潤ガス供給配管と、
前記湿潤ガス供給配管に湿潤ガスを供給する加湿機構と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の露点を測定する露点計と、
前記露点計の測定値に基づいて、前記露点計が露点を測定する領域の露点が、予め定められた目的露点範囲の範囲内になるように前記加湿機構を制御する制御装置と、
前記炉体内のうち前記湿潤ガスが供給される領域の状態を測定するセンサと、
前記センサの測定対象となる領域に一端が接続され、前記炉体の外部に他端が延びる測定管と、
前記炉体内のガスを前記測定管に引き込む吸引装置と
を備え、
前記センサは、前記測定管のうち、前記センサの測定対象となる領域における目的露点範囲の上限値よりも高温で、かつ、当該センサの耐熱温度よりも低温である保護温度域となる領域に配置されており、
前記センサは、酸素センサ、マルチガスアナライザーから選択される少なくとも一種である、連続加熱炉。
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