JP7310500B2 - レーザ加工装置 - Google Patents

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Description

本開示は、レーザマーキング中のガルバノスキャナの動きが一時的に止まるレーザ加工装置に関するものである。
従来より、上記のレーザ加工装置に関し、種々の技術が提案されている。例えば、下記特許文献1に記載の技術は、レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光の方向を変えてワーク上に前記レーザ光の照射点を照射させるガルバノスキャナと、印字すべき文字、図形、記号等を構成する線分要素について、その始点及び終点である端点を含む複数の座標データを生成し、前記座標データを順次出力して前記ガルバノスキャナに与える制御手段とを備えて、前記レーザ光の照射点を現在位置から前記制御手段にて出力された前記複数の座標データに対応する目標位置へと順次移動させるよう前記ガルバノスキャナを駆動させることで前記文字、記号、図形等を前記ワーク上に印字するレーザマーキング装置において、前記ガルバノスキャナの機械的振動(リンギング)を収めるため、前記各端点にはそれぞれに対応付けられたウエイト時間が設けられ、前記端点の座標データを出力した後、前記ウエイト時間経過後に次の前記座標データを出力するよう構成されるとともに、前記ウエイト時間を、前記端点について個別に変更可能な変更手段が設けられていることを特徴とする。
更に、レーザマーキング装置は、前記端点が、前記レーザ光源をオフして前記照射点を移動させる非印字区間の終端点となる印字開始点であるか、前記レーザ光源をオンして前記照射点を移動させる印字区間の終端点となる印字停止点であるか、2以上の前記線分要素が連続して印字される場合においてそれらの線分要素の接点となる頂点であるかを識別する識別手段が備えられ、前記変更手段は、前記ウエイト時間を、前記識別手段による識別結果に応じて、次の(a)~(c)のように変更されることを特徴とする。
(a)前記端点が前記印字開始点であるときは、前記非印字区間の長さに基づき変更。
(b)前記端点が前記印字停止点であるときは、それを終点とする線分要素の長さに基づき変更。
(c)前記端点が前記頂点であるときは、当該頂点を挟む両線分要素がなす角度に基づき変更。
下記特許文献1の記載によれば、レーザマーキング装置は、端点が、印字開始点であるときは非印字区間の長さに基づきウエイト時間を変更し、印字停止点であるときはそれを終点とする線分要素の長さに基づき変更し、更に、頂点であるときは、その頂角に基づき変更するよう構成されている。
特開2004-148322号公報
しかしながら、ガルバノスキャナによるレーザ光の走査速度、つまり、ガルバノスキャナの駆動速度がユーザ等によって遅く設定された場合、非印字区間の長さに基づきウエイト時間が設けられると、ウエイト時間が経過するよりも比較的早く、ガルバノスキャナの機械的振動(リンギング)が収まる場合がある。そのような場合、印字品質が低下しないにも拘わらず、ウエイト時間が経過するまで、レーザ光の照射点が移動しないことになる。
そこで、本開示は、上述した点を鑑みてなされたものであり、レーザマーキング中のガルバノスキャナによって移動するレーザ光の走査位置が一時的に止まる待機時間について、無駄を省くことが可能なレーザ加工装置を提供する。
本明細書は、被加工物に照射されるレーザ光の走査によって被加工物にレーザマーキングを行うレーザ加工装置であって、レーザ光を発振するレーザ発振器と、レーザ光を走査するガルバノスキャナと、レーザ発振器及びガルバノスキャナを制御する制御部と、を備え、制御部は、レーザ発振器によるレーザ光の発振を停止したオフ状態でレーザ光の走査位置を移動させる非印字区間での走査位置の最高速度を設定し、非印字区間に続く区間であって、レーザ発振器によるレーザ光の発振が実行されるオン状態で走査位置を移動させる印字区間の開始点における走査位置の待機時間を、最高速度が遅いほど短く設定し、非印字区間での走査位置の移動速度が最高速度に達することに応じ、印字区間における走査位置を、開始点に到達してから、設定された待機時間が経過するまで開始点に停止させることを特徴とするレーザ加工装置を開示する。
本開示によれば、レーザ加工装置は、レーザマーキング中のガルバノスキャナによって移動するレーザ光の走査位置が一時的に止まる待機時間について、無駄を省くことが可能である。
本実施形態のレーザ加工装置の概略構成が表された図である。 同レーザ加工装置の電気的構成が表されたブロック図である。 非印字区間及び印字区間等を説明する図である。 データテーブルが表された図である。 同レーザ加工装置が実行する各処理のフローチャートである。 非印字区間及び印字区間等の変更例を説明する図である。
以下、本開示のレーザ加工装置について、具体化した実施形態に基づき、図面を参照しつつ説明する。以下の説明に用いる図1及び図2では、基本的構成の一部が省略されて描かれており、描かれた各部の寸法比等は必ずしも正確ではない。
[1.レーザ加工装置の概略構成]
先ず、図1及び図2に基づいて、本実施形態のレーザ加工装置1の概略構成について説明する。本実施形態のレーザ加工装置1は、印字情報作成部2及びレーザ加工部3で構成されている。印字情報作成部2は、パーソナルコンピュータ等で構成されている。
レーザ加工部3は、加工レーザ光Rを被加工物7の加工面8上で2次元走査してレーザマーキング(印字)加工を行うものである。レーザ加工部3は、レーザコントローラ6を備えている。
レーザコントローラ6は、コンピュータで構成され、印字情報作成部2と双方向通信可能に接続されている。レーザコントローラ6は、印字情報作成部2から送信された印字データ、制御パラメータ、各種指示情報等に基づいてレーザ加工部3を駆動制御する。ここで、印字データとは、レーザ加工において加工レーザ光Rにより描画される加工パターンの形状を示すXY座標データと、XY座標データにレーザ加工の条件である加工条件を示す加工条件データとが対応付けられたデータである。尚、以後の説明において、方向は、図3及び図6に示す方向を用いる。
レーザ加工部3の概略構成について説明する。レーザ加工部3は、レーザ発振ユニット12、ガイド光部15、ダイクロイックミラー101、ガルバノスキャナ18、及びfθレンズ19等を備えており、不図示の略直方体形状の筐体カバーで覆われている。
レーザ発振ユニット12は、レーザ発振器21等で構成されている。レーザ発振器21は、CO2レーザ、YAGレーザ等で構成されており、加工レーザ光Rを発振し出射する。尚、加工レーザ光Rの光径は、不図示のビームエキスパンダで調整(例えば、拡大)される。
ガイド光部15は、可視半導体レーザ28等で構成されている。可視半導体レーザ28は、可視可干渉光である可視レーザ光Q、例えば、赤色レーザ光を出射する。可視レーザ光Qは、不図示のレンズ群で平行光にされ、更に、2次元走査されることによって、例えば、加工レーザ光Rでレーザマーキング(印字)加工すべき印字パターンの像、その像を取り囲んだ矩形の像、又は所定形状の像等を、被加工物7の加工面8上に軌跡(時間残像)で映し出すものである。つまり、可視レーザ光Qには、レーザマーキング(印字)加工の能力がない。
ダイクロイックミラー101では、入射された加工レーザ光Rのほぼ全部が透過する。また、ダイクロイックミラー101では、加工レーザ光Rが透過する略中央位置にて、可視レーザ光Qが45度の入射角で入射され、45度の反射角で加工レーザ光Rの光路上に反射される。ダイクロイックミラー101の反射率は、波長依存性を持っている。具体的には、ダイクロイックミラー101は、誘電体層と金属層との多層膜構造の表面処理がなされており、可視レーザ光Qの波長に対して高い反射率を有し、それ以外の波長の光をほとんど(99%)透過するように構成されている。
ガルバノスキャナ18は、ダイクロイックミラー101を経た加工レーザ光Rと可視レーザ光Qとを2次元走査するものである。ガルバノスキャナ18では、ガルバノX軸モータ31とガルバノY軸モータ32とが、それぞれのモータ軸が互いに直交するように取り付けられ、各モータ軸の先端部に取り付けられた第1ガルバノミラー18X及び第2ガルバノミラー18Yが内側で互いに対向している。そして、各モータ31、32の回転制御で、第1ガルバノミラー18X及び第2ガルバノミラー18Yを回転させることによって、加工レーザ光Rと可視レーザ光Qとを2次元走査する。この2次元走査方向は、X方向とY方向である。X方向の走査は、第1ガルバノミラー18Xの回転で行われる。Y方向の走査は、第2ガルバノミラー18Yの回転で行われる。第1ガルバノミラー18Xには、指向性に優れた加工レーザ光Rが入射する。これに対して、第2ガルバノミラー18Yには、回転する第1ガルバノミラー18Xで反射した加工レーザ光Rが入射する。そのため、第2ガルバノミラー18Yは、第1ガルバノミラー18Xと比べ、大きく、重い。
fθレンズ19は、ガルバノスキャナ18によって2次元走査された加工レーザ光Rと可視レーザ光Qとを被加工物7の加工面8上に集光するものである。従って、加工レーザ光Rと可視レーザ光Qは、各モータ31、32の回転制御によって、被加工物7の加工面8上でX方向とY方向に2次元走査される。
次に、レーザ加工装置1を構成する印字情報作成部2とレーザ加工部3の回路構成について図2に基づいて説明する。先ず、レーザ加工部3の回路構成について説明する。
図2に表されたように、レーザ加工部3は、レーザコントローラ6、ガルバノコントローラ35、ガルバノドライバ36、レーザドライバ37、及び半導体レーザドライバ38等から構成されている。レーザコントローラ6は、レーザ加工部3の全体を制御する。レーザコントローラ6には、ガルバノコントローラ35、レーザドライバ37、及び半導体レーザドライバ38等が電気的に接続されている。また、レーザコントローラ6には、外部の印字情報作成部2が双方向通信可能に接続されている。レーザコントローラ6は、印字情報作成部2から送信された各情報(例えば、印字データ、レーザ加工部3に対する制御パラメータ、ユーザからの各種指示情報等)を受信可能に構成されている。
レーザコントローラ6は、CPU41、RAM42、及びROM43等を備えている。CPU41は、レーザ加工部3の全体の制御を行う演算装置及び制御装置である。CPU41、RAM42、及びROM43は、不図示のバス線により相互に接続されて、相互にデータのやり取りが行われる。
RAM42は、CPU41により演算された各種の演算結果や印字パターンの(XY座標)データ等を一時的に記憶させておくためのものである。
ROM43は、各種のプログラムを記憶させておくものであり、例えば、印字情報作成部2から送信された印字データに基づいて印字パターンのXY座標データを算出してRAM42に記憶するプログラム等が記憶されている。尚、各種プログラムには、上述したプログラムに加えて、例えば、各種のディレイ値、印字情報作成部2から入力された印字データに対応する印字パターンの太さ、深さ及び本数、レーザ発振器21のレーザ出力、加工レーザ光Rのレーザパルス幅、及びガルバノスキャナ18による加工レーザ光Rを走査する速度等を示す各種制御パラメータをRAM42に記憶するプログラム等がある。更に、ROM43には、フォントの種類別に、直線と楕円弧とで構成された各文字のフォントの始点、終点、焦点、曲率等のデータが記憶されている。
CPU41は、ROM43に記憶されている各種のプログラムに基づいて各種の演算及び制御を行う。
CPU41は、印字情報作成部2から入力された印字データに基づいて算出した印字パターンのXY座標データ、及びガルバノスキャナ18による加工レーザ光Rを走査する速度等を示すガルバノ走査速度情報等を、ガルバノコントローラ35に出力する。また、CPU41は、印字情報作成部2から入力された印字データに基づいて設定したレーザ発振器21のレーザ出力、及び加工レーザ光Rのレーザパルス幅等を示すレーザ駆動情報を、レーザドライバ37に出力する。
CPU41は、可視半導体レーザ28の点灯開始を指示するオン信号又は消灯を指示するオフ信号を半導体レーザドライバ38に出力する。
ガルバノコントローラ35は、レーザコントローラ6から入力された各情報(例えば、印字パターンのXY座標データ、ガルバノ走査速度情報等)に基づいて、ガルバノX軸モータ31とガルバノY軸モータ32の駆動角度、回転速度等を算出して、駆動角度及び回転速度を示すモータ駆動情報をガルバノドライバ36に出力する。ガルバノドライバ36は、ガルバノコントローラ35から入力されたモータ駆動情報に基づいて、ガルバノX軸モータ31とガルバノY軸モータ32を駆動制御して、加工レーザ光Rと可視レーザ光Qを2次元走査する。
レーザドライバ37は、レーザコントローラ6から入力されたレーザ発振器21のレーザ出力、及び加工レーザ光Rのレーザパルス幅等を示すレーザ駆動情報等に基づいて、レーザ発振器21を駆動させる。半導体レーザドライバ38は、レーザコントローラ6から入力されたオン信号又はオフ信号に基づいて、可視半導体レーザ28を点灯駆動又は、消灯させる。
次に、印字情報作成部2の回路構成について説明する。印字情報作成部2は、制御部51、入力操作部55、液晶ディスプレイ(LCD)56、及びCD-ROMドライブ58等を備えている。制御部51には、不図示の入出力インターフェースを介して、入力操作部55、液晶ディスプレイ56、及びCD-ROMドライブ58等が接続されている。
入力操作部55は、不図示のマウス及びキーボード等から構成されており、例えば、各種指示情報をユーザが入力する際に使用される。
CD-ROMドライブ58は、各種データ、及び各種アプリケーションソフトウェア等をCD-ROM57から読み込むものである。
制御部51は、印字情報作成部2の全体を制御するものであって、CPU61、RAM62、ROM63、及びハードディスクドライブ(以下、「HDD」という。)66等を備えている。CPU61は、印字情報作成部2の全体の制御を行う演算装置及び制御装置である。CPU61、RAM62、及びROM63は、不図示のバス線により相互に接続されており、相互にデータのやり取りが行われる。更に、CPU61とHDD66とは、不図示の入出力インターフェースを介して接続されており、相互にデータのやり取りが行われる。
RAM62は、CPU61により演算された各種の演算結果等を一時的に記憶させておくためのものである。ROM63は、各種のプログラム等を記憶させておくものである。
HDD66には、各種アプリケーションソフトウェアのプログラム、及び各種データファイル等が記憶される。
[2.待機時間]
次に、待機時間について説明する。待機時間とは、レーザマーキング(印字)中のガルバノスキャナ18によって2次元走査される加工レーザ光Rの位置(以下、「加工レーザ光Rの走査位置」又は「走査位置」という。)が、ガルバノX軸モータ31及びガルバノY軸モータ32の駆動停止によって、一時的に止まる時間をいう。従って、走査位置は、待機時間中であっても、ガルバノスキャナ18の機械的振動(リンギング)が収まるまでは、小刻みに振動している。尚、レーザマーキング(印字)中には、後述するように、走査位置に加工レーザ光Rが照射される状態に加えて、走査位置に加工レーザ光Rが照射されない状態も含まれる。
以下、待機時間を具体的に説明する。レーザマーキング(印字)中の走査位置は、被加工物7の加工面8上において、例えば、図3に表されたように、非印字区間J1,J2と、印字区間P1,P2とを移動する。非印字区間J1,J2は、レーザ発振器21による加工レーザ光Rの発振が停止されるオフ状態で、加工レーザ光Rの走査位置SCが移動する区間である。よって、非印字区間J1,J2では、被加工物7の加工面8上を走査位置SCが移動しても、走査位置SCに加工レーザ光Rは照射されない。これに対して、印字区間P1,P2は、非印字区間J1,J2に続く区間であって、レーザ発振器21による加工レーザ光Rの発振が実行されるオン状態で、加工レーザ光Rの走査位置SCが移動する区間である。よって、印字区間P1,P2では、被加工物7の加工面8上を移動する走査位置SCにおいて、加工レーザ光Rが照射される。
尚、加工レーザ光Rの走査位置SCが移動する区間(非印字区間J1,J2及び印字区間P1,P2)には、加速区間、定速区間、及び減速区間(移動距離が短ければ、加速区間及び減速区間)が存在する。また、非印字区間J1,J2や印字区間P1,P2を表す矢印は、走査位置SCが移動する方向を示している。また、非印字区間J1,J2を表す矢印の点線は、レーザ発振器21のオフ状態を示している。これに対して、印字区間P1,P2を表す矢印の実線は、レーザ発振器21のオン状態を示している。
非印字区間J1,J2と印字区間P1,P2との接続点である、印字区間P1,P2の開始点ST1,ST2には、待機時間が設定される。従って、走査位置SCは、非印字区間J1,J2を移動して、印字区間P1,P2の開始点ST1,ST2に到達すると、待機時間が経過するまで、その移動が一時的に止まる。以下、待機時間は、「走査位置SCの待機時間」と表記する。
走査位置SCの待機時間は、非印字区間J1,J2における走査位置SCの最高速度に基づいて設定される。
例えば、図4に表されたデータテーブル68のように、走査位置SCの最高速度が1000,1500,2000,2500,3000(mm/ms)の場合、走査位置SCの待機時間は、300,500,700,900,1000(μs)に設定される。つまり、走査位置SCの最高速度が1000~3000(mm/ms)の間では、走査位置SCの待機時間は、走査位置SCの最高速度が遅いほど、短く設定される。このような設定は、ガルバノスキャナ18の機械的振動(リンギング)が収まる時間を考慮したことによる。これに対して、走査位置SCの最高速度が3000(mm/ms)以上の場合には、走査位置SCの待機時間は、一定の1000(μs)に設定される。
但し、非印字区間J1,J2における走査位置SCの最高速度は、ユーザが入力操作部55を操作することによって、各非印字区間J1,J2で共通する数値に設定される。設定される最高速度は、非印字区間J1,J2の加速区間、定速区間、及び減速区間のうち、定速区間の速度である。更に、走査位置SCの待機時間は、印字区間P1,P2の開始点ST1,ST2に接続する非印字区間J1,J2において、走査位置SCの移動速度が設定された最高速度に達しない場合、例えば、非印字区間J1,J2の距離が短く定速区間がないため、走査位置SCの移動速度が、設定された最高速度に達する前に減速する場合、上述した最高速度に基づく設定時間よりも短くされる。従って、印字区間P1の開始点ST1と、印字区間P2の開始点ST2とでは、走査位置SCの待機時間が異なることがある。
尚、データテーブル68は、制御部51のROM63に記憶されている。また、以下の説明において、非印字区間J1,J2、印字区間P1,P2、及び開始点ST1,ST2を区別せずに総称して説明する場合には、非印字区間J、印字区間P、及び開始点STと表記する。
[3.制御フロー]
図5のフローチャートで表された制御プログラムは、印字情報作成部2の制御部51のROM63に記憶されており、加工レーザ光Rによるレーザマーキング(印字)が行われる際、走査位置SCの待機時間を設定するため、印字情報作成部2の制御部51のCPU61により実行される。以下、図5のフローチャートで表された制御プログラムを、図3に表された具体例を参照しながら説明する。
図5のフローチャートで表された制御プログラムでは、先ず、ステップ(以下、単に「S」と表記する。)10において、印字オブジェクトの設定処理が行われる。この処理では、加工レーザ光Rにより描画される加工パターンの形状を示すXY座標データが、印字オブジェクトとして設定される。これにより、非印字区間J及び印字区間Pが設けられる。尚、この設定は、ユーザが入力操作部55を操作することによって行われる。
最高速度の設定処理(S12)では、非印字区間Jにおける走査位置SCの最高速度が設定される。この設定では、上述したように、各非印字区間J1,J2で共通する数値が、走査位置SCの最高速度として設定される。尚、この設定も、ユーザが入力操作部55を操作することによって行われる。
待機時間の仮定処理(S14)では、走査位置SCの待機時間が仮定される。この仮定では、データテーブル68において、走査位置SCの最高速度に対応付けられた走査位置SCの待機時間が、走査位置SCの待機時間として仮に定められる。例えば、上記の設定処理(S12)でユーザが走査位置SCの最高速度を3000(mm/s)に設定した場合、1000(μs)が、走査位置SCの待機時間として仮に定められる。
S16では、上記の設定処理(S10)で設定された印字オブジェクトに非印字区間Jが含まれているか否かが判定される。印字オブジェクトに非印字区間Jが含まれていない場合(S16:NO)、後述するS28の処理が行われる。これに対して、印字オブジェクトに非印字区間Jが含まれている場合(S16:YES)、S18の判定処理が行われる。S18では、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が、上記の設定処理(S12)でユーザが設定した走査位置SCの最高速度に達するか否かが判定される。
非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が最高速度に達する場合(S18:YES)、待機時間の第1設定処理(S20)が行われる。この処理では、上記の仮定処理(S14)で仮に定められた走査位置SCの待機時間が、非印字区間Jに続く印字区間Pの開始点STに対する走査位置SCの待機時間として設定される。
これに対して、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が最高速度に達しない場合(S18:NO)、待機時間の第2設定処理(S22)が行われる。この処理では、上記の仮定処理(S14)で仮に定められた走査位置SCの待機時間よりも短い時間が、非印字区間Jに続く印字区間Pの開始点STに対する走査位置SCの待機時間として設定される。例えば、データテーブル68において、非印字区間Jにおける実際の走査位置SCの最高速度に対応付けられた待機時間が設定される。具体的には、非印字区間Jにおける実際の走査位置SCの最高速度が1000(mm/s)である場合、データテーブル68で1000(mm/s)の最高速度に対応付けられた300(μm)が、待機時間として設定される。
レーザON設定処理(S24)では、上記の各設定処理(S20,22)で走査位置SCの待機時間が設定された印字区間Pの開始点STにおいて、レーザ発振器21がオフ状態からオン状態にされるタイミング(以下、「レーザ発振器21のONタイミング」という。)が、走査位置SCが開始点STに到達してから走査位置SCの待機時間が経過するよりも前になるように設定される。
S26では、上記の設定処理(S10)で設定された印字オブジェクトに含まれる全ての非印字区間Jについて、S18乃至S24の各処理が行われたか否かが判定される。印字オブジェクトに含まれる全ての非印字区間Jについて、S18乃至S24の各処理が行なわれていない場合(S26:NO)、上述したS18以降の各処理が繰り返し行われる。これにより、印字オブジェクトに含まれる全ての印字区間Pの開始点STに対して、走査位置SCの待機時間とレーザ発振器21のONタイミングとが設定される。
これに対して、印字オブジェクトに含まれる全ての非印字区間Jについて、S18乃至S24の各処理が行なわれた場合(S26:YES)、印字データ生成処理(S28)が行われる。この処理では、レーザコントローラ6に送信される印字データが生成される。印字データには、全ての印字区間Pの開始点STに対して設定された、走査位置SCの待機時間とレーザ発振器21のONタイミングとが含まれる。その後、図5のフローチャートで表された制御プログラムは、終了する。
尚、レーザコントローラ6は、印字データ生成処理(S28)で生成された印字データを印字情報作成部2から受信すると、印字データに含まれる走査位置SCの待機時間とレーザ発振器21のONタイミングとに基づいて、ガルバノスキャナ18で走査位置SCを移動させると共に、レーザ発振器21をオフ状態からオン状態にさせる。
[4.まとめ]
以上詳細に説明したように、本実施の形態のレーザ加工装置1では、印字区間Pの開始点STにおける走査位置SCの待機時間が、印字区間Pの開始点STに接続する非印字区間Jでの走査位置SCの最高速度が遅いほど短く設定される(S14,S20,S22)。更に、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が最高速度に達することに応じ、その非印字区間Jに続く印字区間Pにおける走査位置SCは、開始点STに到達してから、設定された走査位置SCの待機時間が経過するまで、開始点STに停止する。
そのため、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が最高速度に達するのであれば、非印字区間Jに続く印字区間Pの開始点STにおける走査位置SCの待機時間は、非印字区間Jの距離の長短に関係なく、一定である。これにより、本実施の形態のレーザ加工装置1は、従来技術(非印字区間Jの距離に基づいて設定される走査位置SCの待機時間)と比べ、走査位置SCの待機時間の無駄を省くことが可能である。
また、本実施の形態のレーザ加工装置1では、ROM63に記憶されたデータテーブル68で対応付けられた、走査位置SCの最高速度と待機時間とに基づいて、印字区間Pの開始点STにおける走査位置SCの待機時間が設定される(S14,S20)。そのため、設定された走査位置SCの待機時間は、精度がよい。
また、本実施の形態のレーザ加工装置1では、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が最高速度に達しないことに応じ、非印字区間Jに続く印字区間Pの開始点STにおける走査位置SCの待機時間が、走査位置SCの最高速度に基づいて設定される時間よりも短く設定される(S14,S22)。つまり、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が最高速度に達しないのであれば、非印字区間Jに続く印字区間Pの開始点STにおける走査位置SCの待機時間は、ユーザが入力操作部55の操作により設定した走査位置SCの最高速度ではなく、非印字区間Jにおける実際の走査位置SCの最高速度に即して設定される。そのため、本実施の形態のレーザ加工装置1は、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が設定した最高速度に達しない場合、設定した最高速度に基づいて設定される待機時間分待機する場合よりも、走査位置SCの待機時間の無駄を省くことが可能である。
但し、非印字区間Jに続く印字区間Pの開始点STにおける走査位置SCの待機時間が、設定された走査位置SCの最高速度に基づいて設定される時間よりも短く設定されるのであれば、非印字区間Jにおける実際の走査位置SCの最高速度に即さなくてもよい。
また、本実施の形態のレーザ加工装置1では、走査位置SCが印字区間Pの開始点STに到達してから、走査位置SCの待機時間が経過するよりも前において、レーザ発振器21がオフ状態からオン状態にされる(S24)。従って、レーザ発振器21においてオフ状態からオン状態に要する時間が、ガルバノスキャナ18の応答時間よりも比較的長くても、印字区間Pにおいては、ガルバノスキャナ18により走査位置SCを開始点STから移動させるタイミングで、レーザ発振器21からの加工レーザ光Rを走査位置SCに照射させることが可能である。
ちなみに、本実施形態において、ROM63は、「記憶部」の一例である。加工レーザ光Rは、「レーザ光」の一例である。X方向は、「第1方向」の一例である。Y方向は、「第2方向」の一例である。
[5.その他]
尚、本開示は、本実施形態に限定されるものでなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
例えば、S18処理においては、非印字区間J1,J2での走査位置SCの移動距離L1,L2が、所定距離よりも長いか否かが判定されてもよい。ここで、所定距離とは、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が、上記の設定処理(S12)でユーザが設定した走査位置SCの最高速度に達するのに必要な距離をいう。よって、非印字区間J1,J2での走査位置SCの移動距離L1,L2が所定距離よりも長い場合(S18:YES)、待機時間の第1設定処理(S20)が行われる。これに対して、非印字区間J1,J2での走査位置SCの移動距離L1,L2が所定距離よりも短い場合(S18:NO)、待機時間の第2設定処理(S22)が行われる。
このような変更例でも、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が最高速度に達しないのであれば、非印字区間Jに続く印字区間Pの開始点STにおける走査位置SCの待機時間は、ユーザが入力操作部55の操作により設定した走査位置SCの最高速度ではなく、非印字区間Jにおける実際の走査位置SCの最高速度に即して設定される。そのため、本実施の形態のレーザ加工装置1は、非印字区間Jでの走査位置SCの移動速度が設定した最高速度に達しない場合、設定した最高速度に基づいて設定される待機時間分待機する場合よりも、走査位置SCの待機時間の無駄を省くことが可能である。
但し、本実施形態と同様にして、非印字区間Jに続く印字区間Pの開始点STにおける走査位置SCの待機時間が、設定された走査位置SCの最高速度に基づいて設定される時間よりも短く設定されるのであれば、非印字区間Jにおける実際の走査位置SCの最高速度に即さなくてもよい。
尚、図3に表されたように、非印字区間J1,J2での走査位置SCの移動距離L1,L2は、非印字区間J1,J2の長さである。
更に、例えば、非印字区間J1での走査位置SCの移動距離L1をX方向距離LX1とY方向距離LY1とに分解し、X方向距離LX1とY方向距離LY1のうち長い距離を、上記変更例のS18の処理における判定対象にして、非印字区間J1に続く印字区間P1の開始点ST1における、走査位置SCの待機時間が設定されてもよい。
このような変更例では、走査位置SCの待機時間が設定される際、ガルバノスキャナ18の第1ガルバノミラー18X及び第2ガルバノミラー18Yのうち、機械的振動(リンギング)が大きい方に係る方向に着目して、上記変更例のS18の処理における判定対象が、移動距離L1よりも短くされる。そのため、非印字区間J1での走査位置SCの移動速度が最高速度に達せず、非印字区間Jに続く印字区間Pの開始点STにおける走査位置SCの待機時間が、走査位置SCの最高速度に基づいて設定される時間よりも短く設定されることがあり得る(S14,S22)。この点は、非印字区間J2での走査位置SCの移動距離L2についても、同様である。これらにより、印字品質の低下を抑制しつつ、印字時間を短縮することが可能である。
尚、X方向距離LX1は、第1方向距離の一例である。Y方向距離LY1は、第2方向距離の一例である。
また、X方向距離LX1とY方向距離LY1とが同じである場合は、ガルバノスキャナ18の第1ガルバノミラー18X及び第2ガルバノミラー18Yのうち、重い方の第2ガルバノミラー18Yに係るY方向に関するY方向距離LY1を、上記変更例のS18の処理における判定対象にしてもよい。
このような変更例でも、走査位置SCの待機時間が設定される際、ガルバノスキャナ18の第1ガルバノミラー18X及び第2ガルバノミラー18Yのうち、機械的振動(リンギング)が大きい方の第2ガルバノミラー18Yに係るY方向に着目して、上記変更例のS18の処理における判定対象が、移動距離L1よりも短くされる。この点は、非印字区間J2での走査位置SCの移動距離L2についても、同様である。このようにしても、印字品質の低下を抑制しつつ、印字時間を短縮することが可能である。
また、印字オブジェクトとして、図6に表されたような複数の第1走査線SL1が設定されてもよい。このような設定は、例えば、2次元バーコードが被加工物7の加工面8上にレーザマーキング(印字)される場合に行われる。複数の第1走査線SL1は、X方向に対して平行であると共に、X方向とは直交するY方向側において所定間隔tを置いて並ぶように設定される。また、複数の第1走査線SL1では、走査位置SCが、X方向の上流側から下流側へ向かうに連れて、ドット印字の印字区間Pと、非印字区間Jとを交互に移動するように設定される。
複数の第1走査線SL1のうち一の第1走査線SL1におけるX方向の下流側の端点DE(印字区間P)と、一の第1走査線SL1の次に走査位置SCが移動する他の第1走査線SL1におけるX方向の上流側の端点UE(印字区間P)との間には、第2走査線SL2がそれぞれ設定される。各第2走査線SL2では、レーザ発振器21による加工レーザ光Rの発振が停止されるオフ状態で、加工レーザ光Rの走査位置SCが、一の第1走査線SL1におけるX方向の下流側の端点DE(印字区間P)から、他の第1走査線SL1におけるX方向の上流側の端点UE(印字区間P)へ移動するように設定される。つまり、第2走査線SL2が占める区間は、一つの非印字区間JRを構成し、上記実施形態のS18の処理における判定対象にされる。尚、第2走査線SL2の非印字区間JRは、第1走査線SL1上の各非印字区間Jよりも一段と長い。
このような場合、走査位置SCの待機時間は、各第1走査線SL1におけるX方向の上流側の端点UE(印字区間P)では一段と長い時間が設定され(S18:YES,S20)、その端点UE(印字区間P)以外の各印字区間P(例えば、X方向の下流側の端点DE)では一段と短い時間が設定される(S18:NO,S22)。そのため、印字品質の低下を抑制しつつ、印字時間を短縮することが可能である。特に、2次元バーコードが被加工物7の加工面8上にレーザマーキング(印字)される場合には、第1走査線SL1上の各非印字区間Jが多数設けられると共に、各非印字区間Jの距離が一段と短くなるため、そのような効果(印字品質の低下を抑制しつつ、印字時間を短縮すること)は大きくなる。
尚、複数の第1走査線SL1は、「複数の走査線」の一例である。X方向は、「所定方向」の一例である。第2走査線SL2の非印字区間JRは、「複数の走査線のうち一の走査線における所定方向の下流側の端点から、一の走査線の次に走査位置が移動する他の走査線における所定方向の上流側の端点までの区間」の一例である。
1:レーザ加工装置、7:被加工物、18:ガルバノスキャナ、18X:第1ガルバノミラー、18Y:第2ガルバノミラー、21:レーザ発振器、51:制御部、63:ROM、68:データテーブル、DE:下流側の端点、J:非印字区間、JR:非印字区間、L1,L2:走査位置の移動距離、LX1:X方向距離、LY1:Y方向距離、P:印字区間、R:加工レーザ光、SC:レーザ光の走査位置、SL1:第1走査線、ST:開始点、t:所定間隔、UE:上流側の端点

Claims (7)

  1. 被加工物に照射されるレーザ光の走査によって前記被加工物にレーザマーキングを行うレーザ加工装置であって、
    前記レーザ光を発振するレーザ発振器と、
    前記レーザ光を走査するガルバノスキャナと、
    前記レーザ発振器及び前記ガルバノスキャナを制御する制御部と、を備え、
    前記制御部は、
    前記レーザ発振器による前記レーザ光の発振を停止したオフ状態で前記レーザ光の走査位置を移動させる非印字区間での前記走査位置の最高速度を設定し、
    前記非印字区間に続く区間であって、前記レーザ発振器による前記レーザ光の発振が実行されるオン状態で前記走査位置を移動させる印字区間の開始点における前記走査位置の待機時間を、前記最高速度が遅いほど短く設定し、
    前記非印字区間での前記走査位置の移動速度が前記最高速度に達することに応じ、前記印字区間における前記走査位置を、前記開始点に到達してから、設定された前記待機時間が経過するまで前記開始点に停止させるものであって、
    前記制御部は、
    所定方向に対して平行であると共に、前記所定方向とは直交する側において所定間隔を置いて並び、前記走査位置が前記所定方向の上流側から下流側へ向かうに連れて前記印字区間と前記非印字区間とを交互に移動する複数の走査線を設定し、
    前記複数の走査線のうち一の走査線における前記所定方向の下流側の端点から、前記一の走査線の次に前記走査位置が移動する他の走査線における前記所定方向の上流側の端点までの区間を、前記最高速度が設定される前記非印字区間とすることを特徴とするレーザ加工装置。
  2. 前記最高速度が遅いほど前記待機時間が短くなるように対応付けられるデータテーブルを記憶する記憶部を備え、
    前記制御部は、前記データテーブルに基づいて前記待機時間を設定することを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
  3. 前記制御部は、前記非印字区間での前記走査位置の移動速度が前記最高速度に達しないことに応じ、前記待機時間を、前記最高速度に基づいて設定される時間よりも短く設定することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザ加工装置。
  4. 前記制御部は、前記非印字区間での前記走査位置の移動距離が所定距離よりも短いことに応じ、前記待機時間を、前記最高速度に基づいて設定される時間よりも短く設定することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザ加工装置。
  5. 前記ガルバノスキャナは、
    前記走査位置を第1方向へ移動させる第1ガルバノミラーと、
    前記走査位置を前記第1方向とは直交する第2方向へ移動させる第2ガルバノミラーと、を備え、
    前記制御部は、前記移動距離を構成する第1方向距離と第2方向距離とのうち長い距離の方向に関して、前記待機時間を設定することを特徴とする請求項4に記載のレーザ加工装置。
  6. 前記制御部は、前記第1方向距離と前記第2方向距離とが同じであることに応じ、前記第1ガルバノミラーと前記第2ガルバノミラーとのうち重いガルバノミラーに係る方向に関して、前記待機時間を設定することを特徴とする請求項5に記載のレーザ加工装置。
  7. 前記制御部は、前記走査位置が前記開始点に到達してから前記待機時間が経過するよりも前において前記レーザ発振器を前記オフ状態から前記オン状態にすることを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれか一つに記載のレーザ加工装置。
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