JP6602457B2 - 減圧システム内でマスクデバイスを取り扱う方法、マスクハンドリング装置、及び減圧システム - Google Patents

Description

［０００１］本開示の実施形態は、減圧条件下でマスクデバイスを取り扱う方法に関し、具体的には、減圧システム内での基板へのマスク堆積（ｍａｓｋｅｄ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）向けに構成されたマスクデバイスを取り扱う方法に関する。更なる実施形態は、減圧システム内でマスクデバイスを取り扱うように構成された、マスクハンドリングアセンブリに関する。より具体的には、減圧条件下での基板へのマスク堆積向けに構成されたマスクデバイスを取り扱うように構成された、マスクハンドリングアセンブリについて説明する。更なる実施形態は、減圧システム内でマスクデバイスを取り扱うように構成された少なくとも１つのマスクハンドリングアセンブリを有する、減圧システムに関する。

［０００２］有機材料を利用する光電子デバイスは、数々の理由により人気が高まっている。かかるデバイスの作製に使用される材料の多くは比較的安価であるため、有機光電子デバイスは、無機デバイスに対してコスト面で優位に立つ可能性を有している。有機材料の可撓性などの固有特性は、フレキシブル基板又は非フレキシブル基板への堆積向けなどの応用に、有利でありうる。有機光電子デバイスの例は、有機発光デバイス（ＯＬＥＤ）、有機フォトトランジスタ、有機光起電力セル、及び有機光検出器を含む。

［０００３］ＯＬＥＤに関しては、有機材料が、従来材料を凌駕する性能上の利点を有しうる。例えば、有機発光層が光を発するその波長は、適切なドーパントを用いて容易に微調整されうる。ＯＬＥＤは、電圧がデバイス全体に印加されると光を発する、薄型有機膜を利用する。ＯＬＥＤは、フラットパネルディスプレイ、照明、及びバックライトなどの応用で使用する上で、益々興味深い技術になりつつある。

［０００４］材料、具体的には有機材料は、典型的には、低大気圧の減圧システム内で基板に堆積される。堆積中、マスクデバイスが基板に正対して配置されてよく、このマスクデバイスは、例えば蒸着によって基板に堆積されるべき材料パターンに対応する開口パターンを画定する、少なくとも１つの開口又は複数の開口を有しうる。基板は、典型的には、堆積中にマスクデバイスの背後に配置され、かつ、マスクデバイスに対して位置合わせされる。例えば、減圧システムの堆積チャンバ内にマスクデバイスを搬送するために、マスクキャリアが使用されてよく、マスクデバイスの背後に基板を配置するように堆積チャンバ内に基板を搬送するために、基板キャリアが使用されうる。

［０００５］例えば洗浄、マスク交換、又は使用済みマスクデバイスのメンテナンスのために、規則的な時間間隔で減圧システムから使用済みマスクデバイスを除去することは、有利でありうる。更に、例えばマスク交換のため、又は、システム内にクリーンな若しくは未使用のマスクを提供するために、規則的な時間間隔で、減圧システム内に未使用のマスクデバイスをローディングすることは、有利でありうる。しかし、マスク交換は、時間がかかり、所有コストを増大させるシステムのアイドルタイムにつながりうる。

［０００６］したがって、減圧システム内での迅速かつ効率的なマスクの取り扱いのための、方法及び装置が必要とされている。詳細には、基板へのマスク堆積向けに構成された減圧システム内での、マスク搬送及びマスク交換を簡略化し、促進することが、有利になろう。

［０００７］上記を踏まえて、マスクデバイスを取り扱う方法、マスクハンドリングアセンブリ、並びに、少なくとも１つのマスクハンドリングアセンブリを有する減圧システムが、提供される。

［０００８］本開示の一態様により、基板へのマスク堆積向けに構成されたマスクデバイスを取り扱う方法が提供される。この方法は、減圧システム内にマスクデバイスをローディングすることと、減圧システム内でマスクキャリアにマスクデバイスを取り付けることと、減圧システム内の搬送経路に沿って、非水平配向でマスクデバイスを保持するマスクキャリアを搬送することとを、含む。

［０００９］本開示の更なる態様により、基板へのマスク堆積向けに構成されたマスクデバイスを取り扱う方法が提供される。この方法は、減圧システム内の搬送経路に沿って、非水平配向でマスクデバイスを保持するマスクキャリアを搬送することと、減圧システム内でマスクキャリアからマスクデバイスを取り外すことと、減圧システムからマスクデバイスをアンローディングすることとを、含む。

［００１０］本開示の更なる態様により、減圧システム内でマスクデバイスを取り扱うためのマスクハンドリングアセンブリが提供される。このマスクハンドリングアセンブリは、マスクデバイスを保持するように構成されたマスク保持部と、マスク保持部を動かすように構成された第１アクチュエータと、マスク保持部からマスクキャリアに、及び／又はその逆に、非水平配向でマスクデバイス受け渡すように構成された受け渡し機構とを、含む。

［００１１］本開示の更なる態様により、基板に材料を堆積させるための減圧システムが提供される。この減圧システムは、マスクハンドリングチャンバと、ロードロックチャンバであって、マスクハンドリングチャンバとロードロックチャンバとの間に閉鎖可能な開口が設けられる、ロードロックチャンバと、マスクハンドリングアセンブリであって、マスクハンドリングアセンブリの第１アクチュエータが、閉鎖可能な開口を通して、マスクハンドリングチャンバとロードロックチャンバとの間でマスクハンドリングアセンブリのマスク保持部を動かすように構成される、マスクハンドリングアセンブリとを、含む。このマスクハンドリングアセンブリは、マスク保持部からマスクキャリアに、及び／又はその逆に、非水平配向でマスクデバイスを受け渡すように構成された受け渡し機構を、更に含む。受け渡し機構又は「移送機構（ｔｒａｎｓｆｅｒｒｉｎｇ ｍｅｃｈａｎｉｓｍ）」は、マスクデバイスの磁気的な取り付け及び取り外し向けに構成された、機構でありうる。

［００１２］本開示の更なる態様により、基板に材料を堆積させるための減圧システムが提供される。この減圧システムは、マスクハンドリングチャンバと、少なくとも１つの堆積チャンバと、マスクハンドリングチャンバと少なくとも１つの堆積チャンバとの間で、非水平配向で未使用のマスクデバイス及び使用済みマスクデバイスを搬送するように構成された、マスク搬送システムとを含み、マスクハンドリングチャンバは、（ｉ）未使用のマスクデバイス及び使用済みマスクデバイスを取り扱うように構成されている、本書に記載のマスクハンドリングアセンブリ、又は、（ｉｉ）未使用のマスクデバイスを取り扱うように構成された第１マスクハンドリングアセンブリを有する第１マスクハンドリング領域と使用済みマスクデバイスを取り扱うように構成された第２マスクハンドリングアセンブリを有する第２マスクハンドリング領域、のうちの一方を備える。

［００１３］本開示の更なる態様により、減圧システム内でマスクデバイスを取り扱う方法について説明する。この方法は、マスクハンドリングチャンバの第１マスクハンドリング領域内に、未使用のマスクデバイスを提供することと、第１マスクハンドリング領域から減圧システムの少なくとも１つの堆積チャンバに、具体的には、未使用のマスクデバイスがマスクキャリアによって非水平配向で保持されている間に、未使用のマスクデバイスを搬送することと、未使用のマスクデバイスを、少なくとも１つの堆積チャンバ内での基板へのマスク堆積に使用して、使用済みマスクデバイスにすることと、堆積チャンバからマスクハンドリングチャンバの第２マスクハンドリング領域に、具体的には、使用済みマスクデバイスがマスクキャリアによって非水平配向で保持されている間に、使用済みマスクデバイスを搬送することと、第２マスクハンドリング領域内で使用済みマスクデバイスを取り扱うこととを、含む。

［００１４］本開示の更なる態様、利点、及び特徴が、本明細書及び添付図面から明らかになる。

［００１５］本開示の上述の特徴を詳しく理解しうるように、上記で簡潔に要約した本開示の、より具体的な説明が、実施形態を参照することによって得られる。添付図面は、本開示の実施形態に関するものであり、下記で説明される。図面には典型的な実施形態を示しており、その詳細について下記で説明する。

［００１６］本書に記載の実施形態による、マスク取り扱い方法の連続的なステージ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の概略図である。 ［００１７］本書に記載の実施形態による、マスク取り扱い方法の連続的なステージ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の概略図である。 ［００１８］本書に記載の実施形態による、マスクハンドリングアセンブリを伴うマスク取り扱い方法の連続的なステージ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）の概略図である。 ［００１９］本書に記載の実施形態による、減圧システムの概略断面図である。 ［００２０］本書に記載の実施形態による、マスクの取り扱い方法を示すフロー図である。 ［００２１］本書に記載の実施形態による、マスクの取り扱い方法を示すフロー図である。 ［００２２］本書に記載の実施形態による、減圧システムの概略断面図である。 ［００２３］本書に記載の実施形態による、減圧システムの概略上面図である。 ［００２４］本書に記載の実施形態による、減圧システムの概略上面図である。 ［００２５］本書に記載の実施形態による、減圧システムの概略上面図である。 ［００２６］本書に記載の実施形態による、減圧システムの概略上面図である。 ［００２７］本書に記載の実施形態による、マスクの取り扱い方法を示すフロー図である。

［００２８］様々な実施形態をこれより詳細に参照し、それらの実施形態の一又は複数の例を図に示す。各例は、説明として提供されており、限定を意味するものではない。例えば、一実施形態の一部として図示又は説明される特徴は、他の任意の実施形態に使用され、又は任意の実施形態と併せて使用されて、更に別の実施形態を生み出すことが可能である。本開示はかかる修正例及び変形例を含むことが、意図されている。

［００２９］図面についての下記の説明の中では、同じ参照番号が同じ又は類似の構成要素を表している。概括的に、個々の実施形態に関して相違点のみが説明される。別段の指定がない限り、一実施形態における一部分又は一態様の説明は、別の実施形態における対応する部分又は態様にも同様に当てはまる。

［００３０］図１は、本書に記載の実施形態による、マスクデバイス１０を取り扱う方法の連続的なステージ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を概略的に示している。マスクデバイス１０は、基板へのマスク堆積向けに構成される。詳細には、マスクデバイス１０は、マスクデバイスによって画定される材料パターンを伴ってコーティングされるべき基板に正対して配置されるよう、構成される。例えば、マスクデバイス１０は、蒸着によってマスクパターンが基板に形成されるマスク蒸着プロセス向けに、構成されうる。一部の実施形態では、蒸着された材料が有機化合物を含みうる。例えば、ＯＬＥＤデバイスが製造されうる。

［００３１］一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、マスク及びマスク支持体を含みうる。マスク支持体は、典型的には壊れやすい構成要素であるマスクを支持し、保持するように構成されうる。例えば、マスク支持体は、マスクを囲み、かつフレーム形状を有する、マスクフレームでありうる。マスクは、例えば溶接によってマスクフレームに恒久的に固定されうるか、又は、マスクフレームに取り外し可能に固定されうる。マスクの外周エッジがマスクフレームに固定されうる。

［００３２］マスクは、パターンに形成されており、かつ、マスク堆積プロセスによって対応する材料パターンを基板に堆積させるよう構成された、複数の開口を含みうる。堆積中に、マスクは、基板に正対して近距離に、又は、基板の表側面に直接接触して、配置されうる。例えば、マスクは、複数の開口（例えば、１００．０００以上の開口）を有する微細金属マスク（ｆｉｎｅ ｍｅｔａｌ ｍａｓｋ：ＦＭＭ）でありうる。例えば、有機ピクセルのパターンが基板に堆積されうる。エッジ除外マスクなどの他の種類のマスクでもよい。

［００３３］一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、少なくとも部分的に、金属で（例えばインバー（ｉｎｖａｒ）などの熱膨張係数が小さい金属で）作製されうる。マスクは、堆積中にマスクが基板に向けて磁気的に誘引されうるように、磁性材料を含みうる。代替的又は追加的には、マスクデバイスが磁力によってマスクキャリアへ誘引されうるように、マスクフレームが磁性材料を含みうる。

［００３４］マスクデバイス１０は、０．５ｍ²以上、具体的には１ｍ²以上の面積を有しうる。例えば、マスクデバイスの高さが０．５ｍ以上、具体的には１ｍであってよく、かつ／又は、マスクデバイスの幅が０．５ｍ以上、具体的には１ｍ以上でありうる。マスクデバイスの厚さは１ｃｍ以下であってよく、マスクフレームはマスクよりも厚くなりうる。

［００３５］一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、減圧システム内で、例えば減圧システム１００の２つ以上の減圧チャンバ同士の間で、搬送されうる。例えば、マスクデバイス１０は、減圧システムの第１減圧チャンバ内（例えばマスクハンドリングチャンバ１０５内）に進入してよく、減圧システムの中で、第２減圧チャンバに向かって（例えば堆積チャンバに向かって）搬送されうる。一又は複数の更なる減圧チャンバ（例えば移行チャンバ又はルーティングチャンバ）が、第１減圧チャンバと第２減圧チャンバとの間に配置されうる。

［００３６］マスクデバイス１０は、減圧システム１００内での搬送中、マスクキャリア１５によって保持されうる。例えば、マスクデバイス１０を保持するマスクキャリア１５は、例としては第１減圧チャンバから第２減圧チャンバに、減圧システム１００内の搬送経路に沿って搬送されうる。一部の実施形態では、マスクキャリア１５は、減圧システムを通るマスク軌道に沿って導かれうる。例えば、マスクキャリア１５は、マスク軌道に沿って導かれるよう構成された、ガイド部（ｇｕｉｄｅｄ ｐｏｒｔｉｏｎ）を含みうる。

［００３７］一部の実施形態では、マスクキャリア１５は、磁気浮上システムを含みうるマスク搬送システムによって搬送される。例えば、磁気浮上システムは、マスクキャリア１５の重量の少なくとも一部が磁気浮上システムによって担われうるように、提供されうる。マスクキャリア１５は次いで、減圧システムを通るマスク軌道に沿って、実質的に非接触で導かれうる。マスク軌道に沿ってマスクキャリアを動かすための駆動装置が、提供されうる。

［００３８］マスクキャリア１５は、搬送中及び／又は堆積中に、非水平配向（Ｖ）でマスクデバイス１０を保持しうる。例えば、マスクデバイス１０は、搬送中及び／又は堆積中に、実質的に垂直な配向で、マスクキャリア１５によって保持されうる。

［００３９］本書において、「実質的に垂直な配向（ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｖｅｒｔｉｃａｌ ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）」とは、マスクデバイス１０の配向であって、マスクデバイス１０の主要面と重力ベクトルとの間の角度が＋１０°から−１０°、具体的には０°から−５°である、配向として理解されうる。一部の実施形態では、マスクの配向は、搬送中及び／又は堆積中に、（厳密に）垂直ではないが、垂直軸に対して若干、例えば０°−５°の傾斜角だけ傾きうる。負の角度は、マスクデバイスが下向きに傾くマスクデバイスの配向を表す。堆積中にマスク（及び基板）配向が重力ベクトルからずれていることは、有利であり、かつ、より安定的な堆積プロセスをもたらしうる。或いは、下を向いた配向は、堆積中に基板上の粒子を減少させるのに好適でありうる。しかし、搬送中及び／又は堆積中に、マスクデバイス１０を厳密に垂直な配向（＋／−１°）にしてもよい。

［００４０］搬送中及び／又は堆積中の重力ベクトルとマスクデバイスとの間の角度を、より大きくしてもよい。本書において、０°から＋／−８０°の角度が、「マスクデバイスの非水平配向（ｎｏｎ−ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌ ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｍａｓｋ ｄｅｖｉｃｅ）」であると理解されうる。非水平配向でマスクデバイスを搬送することで、省スペースとなり、かつ、より小さな減圧チャンバが可能になりうる。

［００４１］マスクキャリア１５のマスク保持面は、マスクデバイスの搬送中に、少なくとも一時的に、実質的に垂直に配向されうる。大面積のマスクを実質的に垂直な配向で保持することは困難である。なぜなら、マスクは、マスクの重量によって曲がることがあり、把持力が不十分な場合にはマスク支持面から滑り落ちることがあり、かつ／又は、堆積中にマスクの背後に配置されうる基板に対して動きうるからである。

［００４２］図１のステージ（ａ）には、減圧システム１００の断面図が、四角形が減圧チャンバの壁を示すように、概略的に描かれている。減圧システム１００は、マスクキャリア及び／又は基板キャリア用の通路によって互いに接続されうる、複数の減圧チャンバを含みうる。マスクキャリアを導くためのマスク軌道が、減圧システム１００の２つ以上の減圧チャンバ同士の間に延在してよく、かつ／又は、基板キャリアを導くための基板軌道が、減圧システム１００の２つ以上の減圧チャンバ同士の間に延在しうる。

［００４３］減圧システム１００内は低大気圧にされうる。例えば、減圧システム１００の内部空間は、１００ｍｂａｒ以下、具体的には１０ｍｂａｒ以下、より具体的には１ｍｂａｒ以下の圧力、又はそれを下回る圧力まで、ポンプダウンされうる。詳細には、減圧システムの堆積チャンバは、堆積中、１０ｍｂａｒ以下という低い絶対圧にされうる。マスクハンドリングチャンバ１０５は、１０ｍｂａｒ以下という絶対圧にされうる。本書に記載の実施形態では、マスクデバイス１０は、減圧条件下で、減圧システム１００内で、具体的にはマスクハンドリングチャンバ１０５内で、取り扱われうる。

［００４４］図１のステージ（ａ）に示しているように、マスクデバイス１０は、減圧システム１００内に提供され、かつ、非水平配向Ｖで、具体的には実質的に垂直な配向で、マスクキャリア１５によって保持される。マスクデバイスは、マスクキャリア１５に保持されつつ、減圧システム１００の減圧チャンバ同士の間で搬送されうる。一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、例えば洗浄又は交換のために減圧システムからアンローディングされるべき、使用済みマスクデバイスでありうる。例えば、マスクデバイスは、堆積チャンバにおける基板への堆積に使用済みのものであり、搬送経路に沿って堆積チャンバからマスクハンドリングチャンバに搬送されうる。

［００４５］本書に記載の実施形態により、マスクデバイス１０は、減圧条件下の減圧システム１００内で、具体的には排気されたマスクハンドリングチャンバ内で、マスクキャリア１５から取り外される（Ｘ１）。マスクキャリア１５からのマスクデバイス１０の取り外し（Ｘ１）は、図１のステージ（ｂ）に概略的に描かれている。

［００４６］減圧条件下でマスクキャリア１５からマスクデバイス１０を取り外すために、マスク保持部２１を有するマスクハンドリングアセンブリ２０が提供されうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、ロボットアームなどのロボットデバイスを含みうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、減圧システム１００の減圧チャンバ内、例えばマスクハンドリングチャンバ１０５内に、配置されうる。

［００４７］一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクデバイス１０とマスクキャリア１５との間の機械的接続を断接するように構成されうる。例えば、マスクハンドリングアセンブリ２０は、減圧条件下でマスクデバイス１０とマスクキャリア１５との間のねじ接続を緩め、クランプ接続若しくは他の機械的接続を解除するように構成された、ロボットデバイスを含みうる。

［００４８］一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクデバイス１０とマスクキャリア１５との間の静電結合を解除するように構成されうる。例えば、搬送中に、マスクデバイスは、静電チャックデバイスにより生成された静電力によって、マスクキャリアに保持されうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、静電力を非活性化するよう、かつ／又は、マスクハンドリングアセンブリ自体の把持力を用いてマスクデバイスを把持するように、構成されうる。

［００４９］一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクデバイス１０とマスクキャリア１５との間の磁気結合を解除するように構成されうる。例えば、搬送中に、マスクデバイスは、マスクキャリアの磁気チャックデバイスにより生成された磁力によって、マスクキャリアに保持されうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、磁力を非活性化するよう、かつ／又は、マスクハンドリングアセンブリ自体の把持力を用いてマスクデバイスを把持するように、構成されうる。

［００５０］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクキャリア１５からマスクハンドリングアセンブリ２０のマスク保持部２１へと、及び／又はその逆に、マスクデバイス１０を受け渡すように構成された、受け渡し機構を含みうる。マスクハンドリングアセンブリ２０のマスク保持部２１は、把持力（例えば、機械的な力、静電力、及び磁力のうちの少なくとも１つ）によって、マスクデバイスを保持しうる。一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクハンドリングアセンブリ２０のマスク保持部２１に向けてマスクデバイスをチャックするように構成された、磁気チャックを含みうる。

［００５１］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、非水平配向（Ｖ）で、具体的には実質的に垂直な配向で、マスクキャリア１５によって保持されている間に、マスクキャリア１５から取り外される。例えば、マスクデバイス１０は、実質的に垂直な配向にある間に、マスクキャリア１５からマスクハンドリングアセンブリ２０のマスク保持部２１へと受け渡される。したがって、搬送及びマスクの取り外しの間中、マスクキャリアのこの配向は、実質的に一定に保たれうる。

［００５２］マスクキャリア１５からマスクデバイス１０を取り外すことの後に、マスクデバイス１０は、減圧システム１００からアンローディングされうる（Ｘ３）。

［００５３］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスクデバイスを減圧システムからアンローディングしている間、及び／又は、減圧システムにローディングしている間のマスクデバイスの配向は、マスクキャリア上にある時のマスクデバイスの配向とは異なる。

［００５４］例えば、図１のステージ（ｃ）に概略的に描かれているように、アンローディングすることは、減圧システム１００の壁を通って延在しうるマスクアンローディング通路に沿って、減圧システム１００の外にマスクデバイス１０を出すことを含みうる。一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、マスクハンドリングチャンバ１０５の側壁１０３内に設けられた閉鎖可能な開口１０２を通じて動かされうる。マスクデバイス１０は、ロードロックチャンバを経て減圧システムからアンローディングされうる（Ｘ３）。ロードロックチャンバを経て減圧チャンバからマスクデバイス１０をアンローディングすること（Ｘ３）は、有利でありうる。なぜなら、マスクハンドリングチャンバ１０５又は減圧システム全体をフラッドする必要がなくなりうるからである。むしろ、ロードロックチャンバをフラッドすれば十分でありうる。

［００５５］マスクデバイス１０は、減圧システム１００内でマスクキャリア１５からを取り外される（Ｘ１）。したがって、マスクデバイス１０だけが減圧システム１００の外に出される一方、マスクキャリア１５は、減圧システム１００内に留まりうる。例えば、マスクキャリア１５は、減圧システムの内部のキャリア保管部内に保管されてよく、新たなマスクデバイスが、このマスクキャリア１５に取り付けられて、堆積に使用されうる。

［００５６］マスクの取り扱いの従来型の方法は、減圧システムからマスクキャリアを、それに取り付けられたマスクデバイスと一緒に、除去することを含む。このマスクデバイスは次いで、減圧システムの外でマスクキャリアから取り外されうる。しかし、マスクキャリアが、典型的には、大きく重いキャリア本体を有することにより、減圧システムからマスクデバイスが取り付けられているマスクキャリアを除去するには、時間がかかり、大型のロードロックチャンバが必要になることもある。更に、ロードロックチャンバの外にマスクキャリアを搬送するためには、大規模で高価な持ち上げデバイスが使用されうる。

［００５７］本書に記載の実施形態により、マスクデバイス１０は、減圧システム１００内でマスクキャリア１５から取り外され、かつ、マスクキャリア１５がない状態で減圧システム１００の外に出される（マスクキャリア１５はより長い時間にわたって減圧システム内に留まりうる）。

［００５８］減圧システム１００からマスクデバイスをアンローディングすること（Ｘ３）は、減圧システム（例えばマスクハンドリングチャンバ１０５）の閉鎖可能な開口１０２を通して、ロードロックチャンバ（図１には図示せず）にマスクデバイス１０を入れることを含みうる。閉鎖可能な開口１０２は、マスクデバイスがロードロックチャンバ内に配置されると閉ざされてよく、ロードロックチャンバがフラッドされうる一方、第１減圧チャンバは低大気圧に保たれうる。その上で、マスクデバイス１０は、例えば持ち上げデバイスによって、ロードロックチャンバの外に取り出されうる。

［００５９］一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、非水平配向Ｖとは異なる第２配向Ｈにある間に、マスクハンドリングチャンバ１０５の外に出される。第２配向Ｈは、一部の実施形態では、実質的に水平な配向でありうる。例えば、マスクデバイス１０は、実質的に水平な配向にある間に、閉鎖可能な開口１０２を通ってマスクハンドリングチャンバ１０５の外へと、平行移動しうる。

［００６０］本書において、「実質的に水平な配向（ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌ ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）」とは、マスクデバイス１０の主要面と水平面との間の角度が３０°以下、具体的には２０°以下、より具体的には１０°以下であるか、又は、マスクデバイスが厳密に水平（＋／−１°）に配置されている配向として、理解されうる。

［００６１］マスクデバイスを実質的に水平な配向でマスクハンドリングチャンバ１０５の外に出すことは、有利でありうる。なぜなら、マスクデバイスをマスクハンドリングチャンバ１０５の外に出すのに、マスクハンドリングチャンバ１０５の側壁１０３内の比較的小さな開口で十分でありうるからである。例えば、マスクハンドリングチャンバ１０５の側壁内の閉鎖可能な開口１０２は、長方形の開口又はスリット開口でありうる。

［００６２］図１のステージ（ｃ）に概略的に描かれているように、マスクデバイス１０は、マスクデバイス１０が実質的に水平な配向に配置されている間に、水平経路でありうる実質的に直線的な搬送経路に沿って、マスクハンドリングチャンバ１０５の外に出されうる。例えば、マスクハンドリングアセンブリ２０は、側壁１０３内の閉鎖可能な開口１０２を通してマスク保持部２１を動かすよう、具体的には平行移動させるように、構成されうる。

［００６３］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、減圧システム１００からアンローディングされる前に、非水平配向Ｖから第２配向Ｈに回転しうる（Ｘ２）。例えば、マスクデバイスは、実質的に垂直な配向でマスクキャリア１５から取り外されてよく（Ｘ１）、次いで、実質的に垂直な配向から第２配向（Ｈ）に回転してよく（Ｘ２）、次いで、マスクデバイスが第２配向（Ｈ）にある間に、減圧システムからアンローディングされうる（Ｘ３）。マスク交換が促進されうる。

［００６４］マスクデバイスの「回転（ｒｏｔａｔｉｏｎ）」は、任意の種類のマスクデバイスのスイング移動又は枢動移動を含む。例えば、マスクデバイスは、非水平配向と第２配向との間で弧を描いてスイングしうる。詳細には、「回転」という用語は、マスクデバイスを通って延在する回転軸を暗示するものではない。むしろ、回転の軸は、マスクデバイスから離れていてよく、かつ、マスクハンドリングアセンブリ（例えばロボットアーム又はスイングモジュール）の枢動点に対応しうる。詳細には、マスクデバイスは、実質的に水平な軸の周囲で上方又は下方にスイングしうる。

［００６５］本書において、「デバイスの回転（ｒｏｔａｔｉｏｎ ｏｆ ａ ｄｅｖｉｃｅ）」とは、第１配向から第１配向とは異なる第２配向への、デバイスの動きであると理解されうる。

［００６６］マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクキャリア１５からマスクデバイス１０を取り外すよう、取り外されたマスクデバイスを非水平配向から第２配向に回転させるよう、並びに、回転したマスクデバイスをマスクハンドリングチャンバ１０５の外に出す（例えばロードロックチャンバ内に入れる）ように、構成されうる。一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクデバイスを把持するよう、把持されたマスクデバイスを回転軸の周囲で回転（又はスイング）させるよう、かつ、回転したマスクデバイスを、マスクハンドリングチャンバ１０５の外に直線的に平行移動させるよう構成されている、ロボットアームなどのロボットデバイスを含む。

［００６７］本書に記載の実施形態により、減圧システムから使用済みマスクデバイスをアンローディングすることが促進され、かつ、マスクの取り扱いが簡略化されうる。詳細には、減圧システムの外に重いマスクキャリアを持ち上げるための大型持ち上げデバイスを使用する頻度が、減少しうる。むしろ、軽量のマスクデバイスは、減圧システムの内部のロボットデバイスによってマスクキャリアから自動的に取り外されてよく、取り外されたマスクデバイスは、ロードロックチャンバからマスクデバイスを持ち上げるように構成されうる持ち上げデバイスなどの、より小型の搬送デバイスによって、減圧システムから取り出されうる。

［００６８］図２は、本書に記載の実施形態による、マスクデバイス１０を取り扱う方法の連続的なステージ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を概略的に示している。図１は、マスクキャリアからのマスクデバイスの取り外しに関する。図２は、減圧システム内での、マスクキャリアへのマスクデバイスの取り付けに関する。したがって、図２のステージ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、図１のステージ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）とは実質的に逆になっている。図１に描かれている減圧システム及びその中に設けられる構成要素の詳細は、図２に描かれている対応する構成要素に類似しうるため、上記の説明を参照することが可能であり、かかる説明をここでは繰り返さない。

［００６９］図２のマスク取り付け方法と図１のマスク取り外し方法とが組み合わされうることは、自明である。詳細には、マスクデバイスは、最初に、減圧システム内のマスクキャリア上にマスクデバイスを提供するために、図２の方法にしたがって取り扱われてよく、次いで、使用後にマスクキャリアからマスクデバイスを取り外すため、及び、（例えば洗浄のために）減圧システムからマスクデバイスをアンローディングするために、図１の方法にしたがって取り扱われうる。

［００７０］図２のステージ（ａ）において、マスクデバイス１０は、減圧システム１００内にローディングされる（Ｙ１）。図２のステージ（ｂ）において、マスクデバイス１０は、減圧条件下でマスクキャリア１５に取り付けられる（Ｙ３）。図２のステージ（ｃ）において、マスクデバイス１０は、非水平配向（Ｖ）でマスクキャリア１５によって保持される。その上で、非水平配向Ｖでマスクデバイス１０を保持しているマスクキャリア１５は、例えば、マスクハンドリングチャンバ１０５などの第１減圧チャンバから堆積チャンバなどの第２減圧チャンバへと、減圧システム１００内の搬送経路に沿って搬送されうる。

［００７１］図１のステージ（ａ）に概略的に描かれているように、減圧システム１００内にマスクデバイス１０をローディングすること（Ｙ１）は、マスクキャリア１５がない状態で、減圧システム１００のマスクハンドリングチャンバ１０５内に、マスクデバイス１０をローディングすることを含みうる。むしろ、マスクキャリア１５は、減圧システム１００内（例えばマスクハンドリングチャンバ１０５内）のマスクデバイスの取り付けのための位置に、既に配置されていることが可能である。減圧システムの外で行われうる、規則的な時間間隔でのマスクデバイス１０の洗浄及び／又は交換は、有利でありうる。その一方、マスクキャリア１５は、より長い時間にわたって減圧システム１００内に留まりうる。

［００７２］図１のステージ（ａ）に示しているように、減圧システム１００内にマスクデバイス１０をローディングすること（Ｙ１）は、減圧チャンバの側壁１０３内の閉鎖可能な開口１０２を通して、減圧システムの減圧チャンバにマスクデバイス１０を入れることを含みうる。マスクデバイス１０は、ロードロックチャンバ（図２には図示せず）を経て、減圧チャンバに入れられうる。詳細には、一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、ロードロックチャンバからマスクハンドリングチャンバ１０５内に、閉鎖可能な開口１０２を通って平行移動しうる。

［００７３］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクデバイス１０を、例えばロードロックチャンバからマスクハンドリングチャンバ内へと動かすために、提供されうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクハンドリングチャンバ１０５とロードロックチャンバとの間で動かされるよう構成されたマスク保持部２１を有する、ロボットアームなどのロボットデバイスを含みうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、図１のマスクハンドリングアセンブリでありうる。換言すると、単一のマスクハンドリングアセンブリが、マスクデバイスのマスクキャリアへの取り付けと、マスクキャリアからの取り外しの両方を行うように、構成されうる。あるいは、例えば、図１のステージを実施するための第１マスクハンドリングアセンブリと、図２のステージを実施するための第２マスクハンドリングアセンブリという、２つのマスクハンドリングアセンブリが提供されうる。

［００７４］一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、第２配向Ｈ（例えば実質的に水平な配向）にある間に、マスクハンドリングチャンバ１０５に入れられる。

［００７５］図２のステージ（ｂ）に概略的に描かれているように、マスクキャリア１５にマスクデバイス１０を取り付けること（Ｙ３）の前に、マスクデバイス１０は、第２配向Ｈから非水平配向（Ｖ）に回転しうる（Ｙ２）。詳細には、マスクデバイスは、実質的に水平な配向でマスクハンドリングチャンバ１０５に入れられ、マスクハンドリングアセンブリによって実質的に垂直な配向に回転させられ、かつ、実質的に垂直な配向でマスクキャリア１５に取り付けられる。

［００７６］一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０はマスクハンドリングチャンバ１０５内に配置される。マスクハンドリングアセンブリ２０は、実質的に水平な配向及び／又は実質的に垂直な配向でマスクデバイス１０を保持するように構成された、マスク保持部２１を含みうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、実質的に水平な方向に、マスクハンドリングチャンバにマスクデバイスを入れるよう、かつ、例えば実質的に水平な配向から実質的に垂直な配向に、マスクデバイスを回転させるように、構成されうる。更に、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクハンドリングアセンブリ２０のマスク保持部２１からマスクキャリア１５へと、マスクデバイス１０を受け渡すように構成されうる。詳細には、マスクデバイス１０は、（例えば磁力により）マスクデバイスを保持するように構成されているロボットアームを含みうるマスクハンドリングアセンブリ２０によって、平行移動させられ、回転させられ、かつ、取り付けられ（及び／又は取り外され）うる。

［００７７］図２のステージ（ａ）において、マスクデバイス１０は、マスクハンドリングチャンバ１０５の側壁１０３内に設けられた閉鎖可能な開口１０２を通して、複数のマスクデバイスを保管するよう構成されているマスクマガジン又は別のマスク保管デバイスから出されうる。例えば、マスクマガジンはロードロックチャンバ内に配置されてよく、マスクハンドリングアセンブリのマスク保持部は、開口を通ってマスクマガジンに入りうる。

［００７８］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスクデバイス１０は、磁力によってマスクキャリア１５に保持されうる。詳細には、マスクキャリア１５は、非水平配向（Ｖ）でマスクキャリア１５にマスクデバイス１０を保持するよう構成された、一又は複数の電磁石及び／又は永久磁石を含みうる。

［００７９］本書に記載の実施形態により、比較的軽量のマスクデバイスは、大気環境から減圧システム内にローディングされてよく、かつ、減圧システム内でマスクキャリアに迅速に取り付けられうる。したがって、マスクの取り扱いが促進され、かつ、システムのアイドルタイムが低減されうる。

［００８０］詳細には、マスクデバイスのマスクフレームは、減圧システム内で直接マスクキャリアから外されうる。したがって、マスクデバイスだけが、例えば頭上搬送ビークルによって、減圧システムの外に搬送されることになる。マスクキャリアは、マスクデバイスよりもずっと長い時間にわたって減圧システム内に留まりうるシールドセグメントと一緒に、減圧条件下に留まる。減圧システムの外で取り扱われる必要があるマスク１つあたりの最大重量は、例えば、マスクキャリアの約３００ｋｇ以上から、マスクキャリアを伴わないマスクデバイスの１５０ｋｇ以下へと、劇的に減少する。したがって、典型的な頭上搬送ビークルは、７つ以上のマスクデバイスを（ずっと少ない数のマスクキャリアの代わりに）容易に搬送しうる。マスク交換が促進され、かつ、頭上搬送システムの数、マスクキャリアの数、及び／又はマスクストッカの数が低減しうる。したがって、コストも削減され、空間要件が緩和されうる。マスクキャリアは、例えばそれに装着されたシールドと一緒に、より長い時間にわたって減圧条件下に留まりうる。したがって、メンテナンス労力が大幅に削減される。シールドが洗浄又は交換される際に、マスクキャリアは大気中に出されうる。したがって、マスクキャリアの総数が低減されうる。

［００８１］本書に記載の実施形態により、マスクデバイス及び／又は基板は、実質的に垂直な配向で、減圧システム内で搬送される。マスクデバイス及び／又は基板が実質的に水平な配向で搬送され、処理されるという概念と比較すると、垂直搬送という概念は、より大型サイズの基板を取り扱うことを可能にする。実質的に垂直な配向でマスクデバイス及び／又は基板を搬送することは、マスクデバイス及び／又は基板を対応するキャリアに装着することによって、容易になりうる。本書に記載の実施形態により、マスクデバイスのマスクキャリアへの取り付け、又はマスクキャリアからの取り外しは、大気条件下では実行されず、減圧システムの内部で実行される。したがって、減圧システムの外で取り扱われる必要がある重量が、低減されうる。

［００８２］図３は、本書に記載の実施形態による、マスクデバイス１０を取り扱う方法の連続的なステージ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）の概略図である。図３の方法は図１の方法に類似しているため、上記の説明を参照することが可能であり、上記の説明を繰り返すことはしない。

［００８３］図３は、減圧システム２００からマスクデバイスをアンローディングすることに関する。減圧システム内にマスクデバイスをローディングするために図３のステージが逆順に実施されうることは、自明である。

［００８４］図３のステージ（ａ）は、複数の減圧チャンバを含む減圧システム２００を示している。減圧チャンバのうちの１つはマスクハンドリングチャンバ１０５である。本書において、「減圧チャンバ（ｖａｃｕｕｍ ｃｈａｍｂｅｒ）」（「減圧モジュール（ｖａｃｕｕｍ ｍｏｄｕｌｅ）」とも称される）は、低大気圧にされうる、減圧システムの中の特定領域であると理解されうる。必ずというわけではないが典型的には、２つの隣接した減圧チャンバ又は減圧モジュール同士の間の通路は、隣の減圧チャンバをフラッドすることなく一方のチャンバに点検又はメンテナンスを行うために、閉鎖されうる。

［００８５］マスクデバイス１０を取り扱うためのマスクハンドリングアセンブリ２０が、マスクハンドリングチャンバ１０５内に配置される。ロードロックチャンバ１０１などの更なる減圧チャンバが、マスクハンドリングチャンバ１０５に隣接して配置されうる。閉鎖可能な開口１０２が、マスクハンドリングチャンバ１０５とロードロックチャンバ１０１との間の側壁１０３内に設けられうる。

［００８６］減圧システムを通ってマスクキャリア１５を導くためのマスク軌道３１が、マスクハンドリングチャンバ１０５内に設けられうる。マスク軌道３１は、マスクハンドリングチャンバ１０５から一又は複数の堆積チャンバに向けて延在しうる。マスクデバイスを保持するマスクキャリア１５は、マスクハンドリングチャンバ１０５と、一又は複数の堆積チャンバなどの更なる減圧チャンバとの間で、マスク軌道３１に沿って搬送されうる。

［００８７］マスク軌道３１に沿ってマスクキャリアを搬送するためのマスク搬送システムが設けられうる。一部の実施形態では、このマスク搬送システムは、上からの磁力によってマスクキャリア１５の重量の少なくとも一部を保持するように構成された、磁気浮上システム３５を含む。

［００８８］図３のステージ（ａ）において、非水平配向（Ｖ）でマスクキャリア１５によって保持されているマスクデバイス１０が、マスクハンドリングチャンバ１０５内に提供される。マスクデバイス１０は、堆積チャンバ内でのマスク堆積に使用された、使用済みマスクデバイスでありうる。使用済みマスクデバイスは、マスクキャリア１５から取り外され、例えば洗浄、補修、メンテナンス、交換、点検、又は品質チェックのために、減圧システム２００からアンローディングされることになる。

［００８９］マスクキャリア１５は、マスクハンドリングチャンバ１０５内へと、マスク軌道３１に沿ってマスクデバイス１０を運んでよく、このマスクハンドリングチャンバ１０５において、マスクキャリア１５は、図１のステージ（ａ）で示している、取り外しのためのある位置で停止しうる。例えばロボットアームを含むマスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクキャリア１５からマスクハンドリングアセンブリ２０のマスク保持部２１へとマスクデバイス１０を受け渡すように、構成されうる。図３のステージ（ａ）に概略的に描かれているように、マスク保持部２１は、マスクデバイスに向けて動いてよく、マスクデバイス１０は、マスクキャリアから取り外され、かつ、マスク保持部２１によって捕捉されうる。

［００９０］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、基板キャリアを搬送するように構成された一又は複数の基板軌道３２も、マスクハンドリングチャンバ１０５内に設けられうる。一又は複数の基板軌道３２は、少なくとも部分的に、マスク軌道３１とマスクハンドリングアセンブリ２０との間に配置されうる。基板キャリアによって保持されている基板は、マスクハンドリングチャンバ１０５を通る基板軌道３２に沿って導かれうる。この場合、基板キャリアがマスク軌道３１とマスクハンドリングアセンブリ２０との間の基板軌道３２上に配置されていない時に、マスクキャリア１５からのマスクデバイス１０の取り外しを行うことが可能である。マスクデバイス１０の垂直方向寸法は、マスクデバイス１０がマスクハンドリングアセンブリ２０によって、一又は複数の基板軌道３２を越えて動かされうるようなものにされうる。

［００９１］例えば、マスク保持部２１は、上方基板軌道と下方基板軌道との間の空間を通って、取り外されるべきマスクデバイス１０が配置されうる、基板軌道の別の側に到達するように構成されうる。マスクデバイス１０の垂直方向寸法は、上方基板軌道と下方基板軌道との間で導かれる基板キャリアの垂直方向寸法を下回りうる。それにより、マスクデバイス１０は、上方基板軌道と下方基板軌道との間の空間を通るよう適合し、かつ、システムからアンローディングされるよう基板軌道を越えて動かされうる。

［００９２］マスクデバイス１０は、マスクキャリア１５の磁気チャックにより生成されうる磁力によって、マスクキャリア１５に保持されうる。磁気チャックは、一又は複数の永久磁石及び／又は一又は複数の電磁石を含みうる。マスクキャリア１５からマスクデバイス１０を取り外すことは、マスクキャリア１５の磁気チャックにより生成される磁場を変化させることを含みうる。例えば、一又は複数の磁石により生成された磁場が、変更され、縮小され、逆転され、又は不活性化されうる。

［００９３］代替的又は追加的には、マスクキャリア１５からマスクデバイス１０を取り外すことは、マスクキャリアからマスクデバイスを解放するために、マスクキャリア１５の少なくとも１つの永久磁石の極性を反転させることを含みうる。例えば、少なくとも１つの永久磁石の磁場は、例えば少なくとも１つの永久磁石に巻かれているコイルによって電磁場を誘起することによって反転しうる。

［００９４］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクデバイス１０の取り外し又は取り付けのための位置にある時に、マスクキャリア１５に電流及び／又は電気信号を供給する。例えば、マスクデバイス１０の取り外し又は取り付けのための位置において、マスク保持部２１の第１の露出した電気接点が、マスクキャリア１５の第２の露出した電気接点と接触するようにされうる。例えば、マスクキャリアが取り外し又は取り付けのための位置につくと、電源の出力端子が次いで、第１と第２の露出した電気接点を介して、マスクキャリアの電磁石に電気的に接続されうる。このことには、電源がマスクキャリアに取り付けられなくてよいという利点がある。むしろ、電源は、例えば減圧システムの外の静止型構成要素として、又は、マスクハンドリングアセンブリ２０の構成要素として、設けられうる。電流及び／又は電気信号は、マスクデバイスを、マスクキャリアから取り外し、又はマスクキャリアに取り付けるために、使用されうる。

［００９５］マスクハンドリングアセンブリが、マスクデバイスをマスクキャリアに取り付け、かつ／又はマスクキャリアから取り外すために使用されうることは、自明である。例えば、マスクキャリアにマスクデバイスを取り付けることは、マスクハンドリングアセンブリを介してマスクキャリアのチャックデバイスに、電流及び／又は電気信号を提供することを含みうる。例えば、マスクキャリアにマスクデバイスを留め置くために、マスクキャリアの少なくとも１つの永久磁石の極性が反転しうる。少なくとも１つの永久磁石の極性は、電磁インパルスをもたらすために電磁石に一時的に電流を供給することによって、反転しうる。マスクキャリアの露出した電気接点は、マスクキャリアへのマスクデバイスの取り付けのための位置における電流供給に使用されうる。

［００９６］図３のステージ（ｂ）に描かれているように、取り外されたマスクデバイス１０は次いで、非水平配向（Ｖ）から第２配向（例えば実質的に水平な配向）に、回転又はスイングしうる。例えば、マスクハンドリングアセンブリは、回転軸の周囲でマスク保持部２１を回転又はスイングさせるように構成された、第２アクチュエータを有しうる。

［００９７］図３のステージ（ｃ）に描かれているように、次いで、マスクハンドリングチャンバ１０５の側壁１０３内の閉鎖可能な開口１０２を通して、更なる減圧チャンバ（例えばロードロックチャンバ１０１）にマスクデバイス１０を入れることによって、マスクデバイス１０が減圧システムからアンローディングされうる。

［００９８］複数のマスクデバイス１２を保管するためのマスクマガジン２０１が、ロードロックチャンバ１０１内に設けられうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、使用済みマスクデバイスをマスクマガジン２０１のスロットに入れるよう、かつ／又は、未使用のマスクデバイスをマスクマガジンのスロットから出すように、構成されうる。使用済みマスクデバイスは、マスク保持部がマスクマガジン２０１の空のスロット内に挿入されてから、マスクデバイスをマスクハンドリングアセンブリ２０のマスク保持部２１から開放することによって、マスクマガジン２０１のスロット内に置かれうる。未使用のマスクデバイスは、マスク保持部が未使用のマスクデバイスが保管されているマスクマガジン２０１のスロット内に挿入されてから、マスクデバイスをマスクハンドリングアセンブリのマスク保持部２１に誘引することによって、マスクマガジン２０１のスロットから取り出されうる。マスクデバイスは、マスクマガジン２０１内に一時的に保管されうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクマガジン２０１のスロットに出入りする、マスクデバイスの直線移動向けに構成されうる。

［００９９］一部の実施形態では、マスクマガジン２０１は、複数のマスクデバイス１２を保管するための複数のスロット２０３を含みうる。複数のスロット２０３は、実質的に水平に配向されうる。したがって、マスクデバイス１０は、例えば直線移動によって、実質的に水平な方向に、スロットのうちの１つに入れられ、かつ、スロットのうちの１つから出されることが可能である。

［００１００］このことにより、マスク保持部の水平方向の直線移動の後に、マスクデバイスをマスクマガジン（又はマスクカセットシステム）中で容易に積み重ねていくことが、可能になる。水平に積まれたマスクデバイスの一時的保管及び搬送のためにマスクカセットシステムを使用することは、迅速かつ効率的でありうる。

［００１０１］一部の実施形態では、マスクマガジン２０１は、複数のスロットを動かすように構成された変位機構２０５を含みうる。例えば、使用されているスロットは閉鎖可能な開口１０２の背後の位置から離れるように動かされてよく、空のスロットが、マスクハンドリングアセンブリ２０が空のスロット内にマスクデバイスを挿入しうるように、閉鎖可能な開口の背後の位置へと動かされうる。一部の実施形態では、マスクマガジンは、垂直方向に可動でありうる複数の積重型スロットを含む。したがって、複数の積重型スロットが順次、使用済みマスクデバイスで満たされうる。代替的又は追加的には、未使用のマスクデバイスが順次、複数の積重型スロットから取り出されうる。

［００１０２］図３のステージ（ｃ）において、マスクデバイス１０は、マスクハンドリングアセンブリ２０によって、閉鎖可能な開口１０２を通ってマスクマガジン２０１の空のスロット内に置かれる。図３のステージ（ｄ）に描かれているように、変位機構２０５は次いで、新たな空のスロットが更なるマスクデバイスの挿入のために位置付けられるように、例えば垂直方向に、マスクマガジン２０１を動かしうる。

［００１０３］マスクマガジン２０１が所定の数の使用済みマスクデバイスで一杯になると、マスクマガジン２０１は、図３のステージ（ｄ）の矢印２０８で示しているように、ロードロックチャンバ１０１から大気環境へとアンローディングされうる。例えば、マスクマガジン２０１は、持ち上げデバイスによって、ロードロックチャンバ１０１の開口を通って持ち上げられうる。代替的又は追加的には、未使用のマスクデバイスで満たされたマスクマガジン２０１が、持ち上げデバイスによって、この開口を通じてロードロックチャンバ内に動かされうる。

［００１０４］この開口は、ロードロックチャンバ１０１が低大気圧にされうるように、リッド２０２を用いて閉鎖可能でありうる。マスクマガジン２０１を、ロードロックチャンバから除去するため、かつ／又はロードロックチャンバ内に挿入するために、ロードロックチャンバ１０１はフラッドされてよく、リッド２０２は、図３のステージ（ｄ）に概略的に描かれているように開かれうる。

［００１０５］図３に描かれているマスクハンドリングアセンブリ２０は、本書に記載の実施形態によるマスクハンドリングアセンブリの一例である。マスクハンドリングアセンブリ２０は、減圧システム内でマスクデバイスを取り扱うように構成されており、かつ、マスクデバイスを保持するように構成されたマスク保持部２１と、マスクデバイスを保持しうるマスク保持部２１を動かすように構成された、第１アクチュエータと、マスクキャリア１５からマスク保持部２１へと、かつ／又は、マスク保持部２１からマスクキャリア１５へと、非水平配向（Ｖ）でマスクデバイス１０を受け渡すように構成された、受け渡し機構とを、含む。

［００１０６］本書において、「マスクデバイスの取り扱い（ｈａｎｄｌｉｎｇ ｏｆ ａ ｍａｓｋ ｄｅｖｉｃｅ）」とは、マスクキャリアにマスクデバイスを取り付けること、マスクキャリアからマスクデバイスを取り外すこと、マスクデバイスを減圧システムにローディングすること若しくは減圧システムからアンローディングすること、マスクデバイスを動かすこと、マスクデバイスを平行移動させること、又は、マスクデバイスを回転させることのうちの、少なくとも一又は複数であると、理解されうる。

［００１０７］第１アクチュエータは、マスク保持部２１を、具体的にはマスクハンドリングチャンバ１０５と第２減圧チャンバ（例えばロードロックチャンバ１０１）との間で、平行移動させるように構成されうる。例えば、マスクデバイスを保持しうるマスク保持部２１は、マスクハンドリングチャンバと第２減圧チャンバとの間で、実質的に水平な方向に沿って直線的に動きうる。

［００１０８］マスクハンドリングアセンブリ２０は更に、マスクデバイスを把持する（例えば、マスクキャリアからマスクデバイスを受け取る）よう、かつ、マスクデバイスを開放する（例えば、ロードロックチャンバ内に配置されうるマスクマガジン内にマスクデバイスを置く）ように、構成されうる。

［００１０９］マスクハンドリングアセンブリ２０は、例えば磁力によって、マスク保持部２１にマスクデバイスを保持するように構成されうる。例えば、マスクデバイスのマスクフレームをマスク保持部２１に向けて誘引するために、電磁石及び／又は永久磁石などの一又は複数の磁石がマスク保持部２１内に組み込まれうる。

［００１１０］一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリは、非水平配向（例えば実質的に垂直な配向）と第２配向（例えば実質的に水平な配向）との間で、マスク保持部２１を回転移動させるように構成された、第２アクチュエータを含む。

［００１１１］一部の実施形態では、受け渡し機構は、例えばマスク保持部２１からマスクキャリア１５へとマスクデバイスを受け渡すために、マスクキャリア１５へのマスクデバイス１０の取り付けを始動させるように構成される。代替的又は追加的には、受け渡し機構は、例えばマスクキャリア１５からマスク保持部２１へとマスクデバイスを受け渡すために、マスクキャリア１５からのマスクデバイス１０の取り外しを始動させるように構成される。

［００１１２］一部の実施形態では、受け渡し機構は、マスクキャリア１５に設けられた少なくとも１つの永久磁石の極性を反転させるように構成されうる。極性の前記反転により、マスクデバイスが、マスクキャリアに向けて誘引されうるか、又はマスクキャリアから解放されうる。

［００１１３］図４は、基板に材料をマスク堆積させるための減圧システム３００の概略図である。減圧システム３００は、本書に記載の方法のうちの任意のものに従って稼働することに適しうる。

［００１１４］減圧システム３００は、本書に記載の実施形態のうちの任意のものによる、マスクハンドリングチャンバ１０５と、ロードロックチャンバ３０１であって、マスクハンドリングチャンバ１０５とロードロックチャンバ３０１との間に閉鎖可能な開口１０２が設けられている、ロードロックチャンバ３０１と、マスクハンドリングアセンブリ２０とを、含む。

［００１１５］マスクハンドリングアセンブリ２０は、閉鎖可能な開口１０２を通して、ロードロックチャンバ３０１からマスクハンドリングチャンバ１０５へと、及び／又はその逆に、マスク保持部２１を動かすように構成された、第１アクチュエータを含む。

［００１１６］一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクキャリアから使用済みマスクデバイスを取り外すよう、かつ、例えば、マスクハンドリングチャンバ１０５から、マスクマガジン２０１又は別のマスク保管部が設けられうるロードロックチャンバ３０１内へと、取り外されたマスクデバイスを動かすことによって、減圧システム３００から使用済みマスクデバイスをアンローディングするように、構成される。

［００１１７］一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は更に、ロードロックチャンバから（例えばマスクマガジン又は別のマスク保管部から）マスクハンドリングチャンバ内へと未使用のマスクデバイスを動かすよう、かつ、マスクキャリアに未使用のマスクデバイスを取り付けるように、構成されうる。

［００１１８］あるいは、第２マスクハンドリングアセンブリ３２０が提供されうる。第２マスクハンドリングアセンブリ３２０は、例えば、第２ロードロックチャンバ３０２からマスクハンドリングチャンバ１０５内へと未使用のマスクデバイス３１０を動かすことによって、減圧システム３００内に未使用のマスクデバイス３１０をローディングするように、構成されうる。例えば、第２マスクハンドリングアセンブリ３２０は、第２ロードロックチャンバ３０２内に設けられた第２マスクマガジン３４１から、未使用のマスクデバイス３１０を取り出しうる。第２マスクハンドリングアセンブリ３２０は、マスクハンドリングチャンバ１０５内のマスクキャリアに、未使用のマスクデバイス３１０を取り付けるように構成されうる。

［００１１９］図４は、２つのマスクハンドリングアセンブリ、すなわち、マスクハンドリングアセンブリ２０及び第２マスクハンドリングアセンブリ３２０を含む、減圧システム３００を示している。マスクハンドリングアセンブリ２０と第２マスクハンドリングアセンブリは、１つの減圧チャンバ（例えばマスクハンドリングチャンバ１０５内）の別々の領域内に配置されうる。

［００１２０］マスクハンドリングアセンブリ２０はマスクキャリアから使用済みマスクデバイスを取り外すように構成され、第２マスクハンドリングアセンブリ３２０は、マスクキャリアに未使用のマスクデバイスを取り付けるように構成される。マスクハンドリングアセンブリ２０はマスクハンドリングチャンバ１０５から使用済みマスクデバイスを出すように構成されてよく、第２マスクハンドリングアセンブリ３２０は、マスクハンドリングチャンバ１０５に未使用のマスクデバイスを入れるように構成されうる。

［００１２１］本開示では、適宜、「使用済みマスクデバイス（ｕｓｅｄ ｍａｓｋ ｄｅｖｉｃｅ）」という用語が「第１マスクデバイス（ｆｉｒｓｔ ｍａｓｋ ｄｅｖｉｃｅ）」という用語で置き換え可能であり、「未使用のマスクデバイス（ｍａｓｋ ｄｅｖｉｃｅ ｔｏ ｂｅ ｕｓｅｄ）」という用語が「第２マスクデバイス（ｍａｓｋ ｄｅｖｉｃｅ ｔｏ ｂｅ ｕｓｅｄ）」という用語で置き換え可能であることに、留意されたい。

［００１２２］詳細には、未使用のマスクデバイス及び使用後のマスクデバイスは、別々に取り扱われうる。使用済みマスクデバイスは、マスクハンドリングアセンブリ２０が配置されうる、マスクハンドリングチャンバの第１ハンドリング領域において取り扱われてよく、未使用のマスクデバイスは、第２マスクハンドリングアセンブリ３２０が配置されうる、マスクハンドリングチャンバの第２ハンドリング領域において取り扱われうる。マスクデバイスを別々に取り扱うことは、使用済みマスクデバイスに接近することによる洗浄済みマスクデバイスの汚染を低減するか、又は回避するのに有用でありうる。

［００１２３］図５は、本書に記載の実施形態による、マスクの取り扱い方法を示すフロー図である。ボックス５１０において、マスクデバイスが減圧システム内にローディングされる。マスクデバイスを減圧システム内にローディングすることは、ロードロックチャンバからマスクハンドリングチャンバへと、マスクキャリアを伴わないでマスクデバイスを動かすことを含みうる。例えば、ロボットデバイスなどのマスクハンドリングアセンブリは、マスクハンドリングチャンバにマスクデバイスを入れるように構成されうる。マスクデバイスは、実質的に水平に配向されている間に、マスクハンドリングチャンバ内へと水平方向に平行移動しうる。

［００１２４］ボックス５２０において、マスクデバイスは、非水平配向に、具体的には実質的に垂直な配向に、回転しうる。例えば、ロボットデバイスなどのマスクハンドリングアセンブリは、マスクデバイスを回転させるように構成されうる。

［００１２５］ボックス５３０において、マスクデバイスは、減圧システム内で、具体的にはマスクデバイスが非水平配向にある間に、マスクキャリアに取り付けられる。

［００１２６］ボックス５４０において、非水平配向でマスクデバイスを保持するマスクキャリアが、例えばマスクハンドリングチャンバから堆積チャンバへと、減圧システム内の搬送経路に沿って搬送される。

［００１２７］図６は、本書に記載の実施形態による、マスクの取り扱い方法を示すフロー図である。図６のマスクの取り扱い方法は、図５のマスクの取り扱い方法の後に続きうる。

［００１２８］ボックス６１０において、非水平配向でマスクデバイスを保持するマスクキャリアが、例えば堆積チャンバからマスクハンドリングチャンバへと、減圧システム内の搬送経路に沿って搬送される。

［００１２９］ボックス６２０において、マスクデバイスは、減圧システム内で、具体的にはマスクデバイスが非水平配向にある間に、マスクキャリアから取り外される。

［００１３０］ボックス６３０において、マスクデバイスは、非水平配向から第２配向に、具体的には実質的に水平な配向に、回転しうる。例えば、ロボットデバイスなどのマスクハンドリングアセンブリは、マスクデバイスを回転させるように構成されうる。

［００１３１］ボックス６４０において、具体的には、マスクハンドリングチャンバからロードロックチャンバへとマスクキャリアを伴わないでマスクデバイスを動かすことによって、マスクデバイスが減圧システムからアンローディングされる。例えば、ロボットデバイスなどのマスクハンドリングアセンブリは、マスクデバイスを、マスクハンドリングチャンバの外に出し、かつ、ロードロックチャンバ内に設けられているマスクマガジンに入れるように、構成されうる。

［００１３２］アンローディングされたマスクデバイスは次いで、減圧システムの外で洗浄又は点検されうる。

［００１３３］本書に記載の別の態様により、基板に材料をマスク堆積させるための減圧システム４００が提供される。

［００１３４］図７は減圧システム４００の概略断面図であり、図８は減圧システム４００の上面図である。図７の減圧システム４００は、図４に描かれている減圧システム３００に類似しうるため、上記の説明を参照することが可能であり、かかる説明をここでは繰り返さない。減圧システムは、例えば蒸着によって、基板に一又は複数の材料を堆積させるように構成されうる。

［００１３５］減圧システム４００は、マスクハンドリングチャンバ４０５、少なくとも１つの堆積チャンバ（図７及び図８には図示せず）、及び、マスクハンドリングチャンバ４０５と少なくとも１つの堆積チャンバとの間で、非水平配向（Ｖ）でマスクデバイスを搬送するように構成されたマスク搬送システムを、含む。

［００１３６］マスクハンドリングチャンバ４０５は、未使用のマスクデバイス４１１を取り扱うように構成された第１マスクハンドリングアセンブリ４２１を有する第１マスクハンドリング領域４０１、及び、使用済みマスクデバイス４１２を取り扱うように構成された第２マスクハンドリングアセンブリ４２２を有する第２マスクハンドリング領域４０２を、含む。

［００１３７］本書において、「未使用のマスクデバイス（ｍａｓｋ ｄｅｖｉｃｅｓ ｔｏ ｂｅ ｕｓｅｄ）」とは、基板上へのマスク堆積に使用されるために少なくとも１つの堆積チャンバ内へと搬送されることになっている、マスクデバイスであると理解されうる。一部の実施形態では、未使用のマスクデバイスとは、新しいマスクデバイス、洗浄されたマスクデバイス、又は、点検若しくはメンテナンスを経たマスクデバイスでありうる。

［００１３８］本書において、「使用済みマスクデバイス（ｕｓｅｄ ｍａｓｋ ｄｅｖｉｃｅｓ）」とは、堆積チャンバ内でマスク堆積に使用されたマスクデバイスであると理解されうる。使用済みマスクデバイスは、例えば洗浄又はメンテナンスのために、堆積チャンバの外に搬送されることになる。例えば、使用済みマスクデバイスは、例としては大気圧条件下での洗浄のために、減圧システムからアンローディングされることになる。一又は複数の基板へのマスク堆積にマスクデバイスを使用することによって、未使用のマスクデバイスが使用済みマスクデバイスになる。典型的には、マスクデバイスは、１０以上の基板へのマスク堆積に使用されてから、洗浄されうる。マスクデバイスは、洗浄後には、減圧システム内に再度ローディングされて、マスク堆積に使用されうる。

［００１３９］第２マスクハンドリング領域４０２及び第１マスクハンドリング領域４０１は、マスクハンドリングチャンバ４０５の別々の区域に対応してよく、かかる区域同士は、互いに隣接していることも、互いから離間されていることもある。例えば、第１マスクハンドリング領域４０１と第２マスクハンドリング領域４０２は、マスクハンドリングチャンバの対向した部分でありうる。一部の実施形態では、第１マスクハンドリング領域４０１及び第２マスクハンドリング領域４０２は、マスクキャリア４１５を搬送するように構成された搬送経路の両側に位置する。例えば、図７に概略的に描かれているように、第１マスクハンドリング領域４０１は第１と第２のマスク軌道の第１の側に位置してよく、第２マスクハンドリング領域４０２は、第１と第２のマスク軌道の、反対の側に位置しうる。

［００１４０］本書に記載の一部の実施形態により、未使用のマスクデバイス４１１は、使用済みマスクデバイス４１２とは別々に、取り扱われ（例えば、取り付けられ、取り外され、ローディングされ、アンローディングされ、保管され、動かされ、回転させられ、かつ／又は平行移動させられ）うる。洗浄後のマスクデバイスの汚染が、低減又は回避されうる。

［００１４１］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態により、第１マスクハンドリング領域４０１まで延在するマスクローディング通路、及び、第２マスクハンドリング領域４０２から延在するマスクアンローディング通路が、設けられうる。マスクローディング通路は、マスクアンローディング通路から離間していることがある。例えば、マスクローディング通路とマスクアンローディング通路は、マスクキャリア４１５を搬送するように構成された搬送経路の両側に設けられうる。詳細には、マスクローディング通路とマスクアンローディング通路は、図７に概略的に描かれているように、マスクハンドリングチャンバ４０５の両側に配置されうる。

［００１４２］マスクローディング通路は、第１マスクハンドリング領域４０１まで延在してよく、かつ、例えば第１ロードロックチャンバ４０３を経て、減圧システム４００内に未使用のマスクデバイス４１１をローディングするように構成されうる。マスクアンローディング通路は、第２マスクハンドリング領域４２０から延在してよく、かつ、例えば第２ロードロックチャンバ４０４を経て、減圧システム４００から使用済みマスクデバイス４１２をアンローディングするように構成されうる。

［００１４３］一部の実施形態では、マスクローディング通路は、第１ロードロックチャンバ４０３を経て、第１マスクハンドリング領域４０１内へと延在する。第１の閉鎖可能な開口が、第１マスクハンドリング領域４０１と第１ロードロックチャンバ４０３との間に設けられうる。

［００１４４］一部の実施形態では、マスクアンローディング通路は、第２マスクハンドリング領域４０２から、第２ロードロックチャンバ４０４を経て延在する。第２の閉鎖可能な開口が、第２マスクハンドリング領域４０２と第２ロードロックチャンバ４０４との間に設けられうる。

［００１４５］第１ロードロックチャンバ４０３及び第２ロードロックチャンバ４０４は、マスクハンドリングチャンバ４０５の対向する２つの側に、マスクハンドリングチャンバ４０５に隣接して設けられうる。例えば、図７に概略的に描かれているように、第１ロードロックチャンバ４０３はマスクハンドリングチャンバ４０５の第１の側に配置されてよく、第２ロードロックチャンバ４０４は、マスクハンドリングチャンバ４０５の、第１の側に対向する第２の側に配置されうる。詳細には、第１ロードロックチャンバ４０３及び第２ロードロックチャンバ４０４は、マスクハンドリングチャンバ４０５を通ってマスクキャリアを導くように構成されたマスク軌道の両側に、配置されうる。

［００１４６］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、第１マスクハンドリングアセンブリ４２１は、マスクキャリア４１５に未使用のマスクデバイス４１１を取り付けるように構成されうる。例えば、第１マスクハンドリングアセンブリは図２に示すマスクハンドリングアセンブリ２０に類似しうるため、上記の説明を参照することが可能であり、かかる説明をここでは繰り返さない。

［００１４７］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、第２マスクハンドリングアセンブリ４２２は、マスクキャリア４１５から使用済みマスクデバイス４１２を取り外すように構成されうる。例えば、第２マスクハンドリングアセンブリ４２２は図１に示すマスクハンドリングアセンブリ２０に類似しうるため、上記の説明を参照することが可能であり、かかる説明をここでは繰り返さない。

［００１４８］減圧システムの別々の領域に、マスクデバイスを取り扱うための第１マスクハンドリングアセンブリ４２１及び第２マスクハンドリングアセンブリ４２２を設けることによって、減圧システムの中でのマスク輸送が簡略化され、かつ、マスクの取り扱いが促進されうる。詳細には、使用済みマスクデバイスと未使用のマスクデバイスとを取り扱うのに、マスクハンドリングチャンバの中に、別々の領域が設けられうる。これにより、減圧システム内のマスク輸送の複雑性が低減されうる。

［００１４９］マスク搬送システムを設けることによって、減圧システム内でのマスク輸送の複雑性を更に低減させうる。このマスク搬送システムは、第１マスクハンドリング領域４０１から少なくとも１つの堆積チャンバに向けて、未使用のマスクデバイス４１１を保持するマスクキャリア４１５を導くための、第１マスク軌道４３１を含み、かつ／又は、少なくとも１つの堆積チャンバから第２マスクハンドリング領域４０２まで、使用済みマスクデバイス４１２を保持するマスクキャリア４１５を導くための、第２マスク軌道４３２を含む。

［００１５０］第１マスクハンドリング領域内の未使用のマスクデバイスのため、及び、第２マスクハンドリング領域内の使用済みマスクデバイスのために、別々のマスク軌道を設けることによって、第１マスクハンドリングアセンブリ４２１と第２マスクハンドリングアセンブリ４２２とが、個別に作動しうる。例としては、マスクデバイスは、第１マスク軌道４３１上に配置されたマスクキャリアに取り付けられてよく、例えばそれと同時に又はその後に、更なるマスクデバイスが、第２マスク軌道４３２上に配置された更なるマスクキャリアから取り外されうる。マスクデバイスは、より迅速にかつ柔軟に取り扱われうる。

［００１５１］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスク搬送システムは、第２マスク軌道４３２から第１マスク軌道４３１まで、及び／又はその逆に、マスクハンドリングチャンバ４０５の中でマスクキャリアを平行移動させるように構成された、平行移動機構４５０を更に含みうる。したがって、マスクキャリアは、第２マスクハンドリング領域４０２から第１マスクハンドリング領域４０１へと、直接的に平行移動しうる。第２マスクハンドリング領域において使用済みマスクデバイスがマスクキャリア４１５から取り外されており、第１マスクハンドリング領域４０１において新しいマスクデバイスがマスクキャリアに取り付けられることになっている場合に、空のマスクキャリアを直接移送することは、有用でありうる。したがって、更なるマスクデバイスを搬送するために、空のマスクキャリアが使用されうる。マスクキャリアの搬送経路の長さが短縮され、かつ、減圧システム内でのマスク輸送が促進されうる。

［００１５２］平行移動機構は、マスクハンドリングチャンバ４０５内で、第１マスク軌道４３１と第２マスク軌道４３２との間でマスクキャリアを平行移動させるように構成されている機構であると、理解されうる。例えば、マスクキャリアは、第１と第２のマスク軌道の方向に対して横断的又は直角でありうる方向に、第１マスク軌道４３１と第２マスク軌道４３２との間で直線的に動かされうる。

［００１５３］例えば、平行移動機構４５０は、駆動装置と、第１マスク軌道と第２マスク軌道との間でマスクキャリアを平行移動させるように構成された、キャリアガイドとを、含みうる。マスク軌道は、マスクハンドリングチャンバを通って、実質的に互いに平行に延びうる。平行移動機構は、マスク軌道の方向に対して直角に、マスクキャリアを動かしうる。一部の実施形態では、平行移動機構４５０は、マスク軌道同士の間でマスクキャリアを平行移動させるように構成された、磁気浮上デバイスを含む。

［００１５４］したがって、一部の実施形態では、マスクキャリアのための少なくとも１つのループ搬送経路が設けられうる。すなわち、図８に示しているように、未使用のマスクデバイスは、第１マスクハンドリング領域４０１においてマスクキャリアに取り付けられてよく、マスクキャリアは、少なくとも１つの堆積チャンバ（図８には図示せず）に向けて、第１マスク軌道４３１に沿って搬送されうる。このマスクキャリアは、マスクハンドリングチャンバに戻って第２マスクハンドリング領域４０２内へと、第２マスク軌道４３２に沿って、搬送されてよく、使用済みマスクデバイスが、第２マスクハンドリング領域４０２においてマスクキャリアから取り外されうる。その上で、一部の実施形態では、（空の）マスクキャリアが、平行移動機構４５０によって、第１マスクハンドリング領域内へと、マスクハンドリングチャンバの中で直接的に平行移動させられてよく、第１マスクハンドリング領域において、未使用の更なるマスクデバイスがこのマスクキャリアに取り付けられうる。マスク輸送が簡略化され、キャリア詰まり及びマスクキャリア同士の干渉が低減されうる。

［００１５５］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、第１マスク軌道４３１は、マスクハンドリングチャンバ４０５を通って、第２マスク軌道４３２に実質的に平行に延在する。図７及び図８に概略的に描かれているように、第１マスクハンドリング領域４０１は第１マスク軌道４３１の外側に配置されてよく、第２マスクハンドリング領域４０２は第２マスク軌道４３２の外側に配置されうる。詳細には、第１マスクハンドリング装置及び第２マスクハンドリング装置が、マスクハンドリングチャンバ４０５の対向する２つの部分に設けられてよく、それにより、第１マスクハンドリング装置が第１マスク軌道４３１に沿って搬送されるマスクデバイスを取り扱うこと、及び、第２マスクハンドリング装置が第２マスク軌道４３２に沿って搬送されるマスクデバイスを取り扱うことが、可能になる。例えば、第１マスク軌道４３１は、取り付け位置を含みうる。マスクキャリアは図８に示すこの取り付け位置で停止し、マスクキャリアが取り付け位置に留まっている間に、マスクデバイスがマスクキャリアに取り付けられる。第２マスク軌道４３２は、取り外し位置を含みうる。マスクキャリアは図８に示すこの取り外し位置で停止し、マスクキャリアが取り外し位置に留まっている間に、マスクデバイスがマスクキャリアから取り外される。

［００１５６］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、減圧システム４００は、減圧システム内の基板搬送経路に沿って基板を搬送するように更に構成された、基板搬送システムを更に含みうる。詳細には、基板搬送経路は、マスクハンドリングチャンバ４０５を通って、又はマスクハンドリングアセンブリを通り過ぎて、延在しうる。基板は、例えば、マスクハンドリングチャンバの第１の側に配置されている第１堆積チャンバから、マスクハンドリングチャンバの第２の側に配置されている第２堆積チャンバまで、マスクハンドリングチャンバ４０５を通って、基板搬送経路に沿って搬送されうる。

［００１５７］マスクハンドリングチャンバ４０５は、主要搬送方向（例えば、図９の上下方向）に延在する、減圧システム４００の主要搬送経路Ｚ内に設けられうる。基板キャリアを搬送するための基板軌道、及び、マスクキャリアを搬送するためのマスク軌道は、減圧システム４００の主要搬送方向に、マスクハンドリングチャンバ４０５を通って延びうる。例えば、２つ以上の堆積チャンバがマスクの主要搬送経路Ｚの別々の側に配置されている場合、基板は、材料スタックでコーティングされるように、一回又は複数回、マスクハンドリングチャンバ４０５を通って搬送されうる。

［００１５８］マスクハンドリングチャンバ４０５を減圧システムの主要搬送経路Ｚ内に挿入することによって、マスクハンドリングチャンバが、２つ以上の堆積チャンバ、具体的には３つ以上の堆積チャンバ、より具体的には４つ以上の堆積チャンバにおいて使用されるマスクデバイスを取り扱うために、使用されうる。一部の実施形態では、マスクハンドリングチャンバからマスクデバイスが供給される、少なくとも２つの堆積チャンバが、マスクハンドリングチャンバの別々の側に配置される。代替的又は追加的には、マスクハンドリングチャンバからマスクデバイスが供給される、少なくとも２つの堆積チャンバが、マスクハンドリングチャンバの同じ側に配置される。後者の場合、正しい堆積チャンバ内にマスクデバイスをルーティングするために、ルーティングモジュールが設けられうる。マスク輸送のこの概念について、図９を参照しつつ、下記でより詳細に説明する。

［００１５９］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、減圧システムの主要搬送経路Ｚは、第１マスク軌道４３１、第２マスク軌道４３２、第１基板軌道４３３、及び第２基板軌道４３４を含む、４つ以上の軌道を含む。更なる軌道も設けられうる。軌道は、減圧システムの主要搬送方向に、互いに平行に延在しうる。第１基板軌道４３３及び第２基板軌道４３４は、外側軌道として設けられてよく、第１マスク軌道４３１及び第２マスク軌道４３２は、基板軌道同士の間に配置されている内側軌道として設けられうる。他の配置でもよい。

［００１６０］一部の実施形態では、主要搬送経路Ｚの前記４つ以上の軌道は、例えば実質的に互いに平行に、マスクハンドリングチャンバ４０５を通って延在しうる。４つの軌道の断面図が、図７に概略的に描かれている。第１マスクハンドリングアセンブリ４２１は、マスク取り付け位置において、第１マスク軌道４３１上のマスクキャリアによって保持されているマスクデバイスを取り扱うように、構成されうる。第２のマスクハンドリングアセンブリ４２２は、マスク取り外し位置において、第２のマスク軌道４３２上のマスクキャリアによって保持されているマスクデバイスを取り扱うように、構成されうる。

［００１６１］図７では、基板キャリア４１６が、マスクキャリア４１５と第２マスクハンドリングアセンブリ４２２との間の、第２基板軌道４３４上に配置されている。基板キャリア４１６が図示されている位置から離れるように動いてから、第２マスクハンドリングアセンブリ４２２が、マスクキャリアからマスクデバイスを取り外し、かつ、第２基板軌道４３４を越えてマスクデバイスを動かしうる。同様に、第１マスクハンドリングアセンブリ４２１は、第１基板軌道４３３を越えて、マスクデバイスを取り外し、かつ／又は動かすように、構成されうる。

［００１６２］減圧システム４００の第１マスクハンドリング領域４１０における、未使用のマスクデバイスの取り扱いは、図２に示す減圧システム１００内でのマスクの取り扱いと同様又は同一であってよく、そのため、上記の説明を参照することが可能であり、かかる説明をここでは繰り返さない。

［００１６３］同様に、減圧システム４００の第１マスクハンドリング領域４１０における、使用済みマスクデバイスの取り扱いは、図１に示す減圧システム１００、又は図３に示す減圧システム２００の中でのマスクの取り扱いと同様又は同一であってよく、そのため、上記の説明を参照することが可能であり、かかる説明をここでは繰り返さない。

［００１６４］図９は、本書に記載の実施形態による、減圧システム５００の上面図である。減圧システム５００のマスクハンドリングチャンバ４０５は、図７に示す減圧システム４００のマスクハンドリングチャンバと同様又は同一であってよく、そのため、上記の説明を参照することが可能であり、かかる説明をここでは繰り返さない。

［００１６５］減圧システム５００は、マスクハンドリングチャンバ４０５と、少なくとも１つの堆積チャンバ４０６と、第２堆積チャンバ４０７とを含む。少なくとも１つの堆積チャンバ４０６及び第２堆積チャンバ４０７は、マスクハンドリングチャンバ４０５の同じ側（例えば図９の下側）に配置されうる。一部の実施形態では、更なる堆積チャンバが、マスクハンドリングチャンバ４０５の別の側（例えば図９の上側）に配置されうる。

［００１６６］第１基板軌道及び第２基板軌道は、基板キャリアによって保持された基板が堆積チャンバのうちの任意のものの間で適宜搬送されうるように、マスクハンドリングチャンバ４０５を通って延在しうる。

［００１６７］他の実施形態（図１１の実施形態など）では、基板軌道はマスクハンドリングチャンバ４０５を通って延在しないことがある。例えば、図１１の実施形態では、マスクハンドリングチャンバ４０５は、減圧システムの主要搬送経路Ｚの一方の側部に配置されうる。マスクキャリア４１５は、主要搬送経路Ｚから回転モジュールを経てマスクハンドリングチャンバ４０５内へと、ルーティングされうる。

［００１６８］図１１のマスクハンドリングチャンバ４０５は、図４に示すマスクハンドリングチャンバに実質的に対応しうる。しかし、第１と第２のマスクハンドリングアセンブリに隣接して、基板軌道が配置されないことがある。システムの主要搬送経路Ｚに沿って延在する主要マスク軌道から離間している位置でマスクを取り扱うことによって、主要搬送経路Ｚに沿ったマスクと基板の輸送が促進されうる。例えば、マスクデバイスをマスクキャリアに組み付け、かつマスクキャリアから外すための側方マスク軌道が設けられうる。

［００１６９］図１１の例示的な実施形態では、マスクハンドリングチャンバ４０５内に、減圧システムの主要搬送経路Ｚの主要マスク軌道に対して横断方向に、具体的には直角に延在しうる、２つの側方マスク軌道が設けられうる。未使用のマスク４１１を取り扱うための第１マスクハンドリング領域４０１は、第１マスク軌道に隣接して配置されてよく、使用済みマスクデバイス４１２を取り扱うための第２マスクハンドリング領域４０２は、第２マスク軌道に隣接して配置されうる。一部の実施形態では、マスクハンドリングチャンバは、マスクキャリア４１５を回転させるように構成された回転チャンバに直接的に隣接して、配置されうる。一部の実施形態では、更なる堆積チャンバ６０２が、ルーティングチャンバの反対側に配置されうる。

［００１７０］一部の実施形態では、未使用のマスク４１１を取り扱うための第１マスクハンドリング領域４０１が回転チャンバの第１の側に配置され、使用済みマスクデバイス４１２を取り扱うための第２マスクハンドリング領域４０２が回転チャンバの第２の側（例えば第１の側の反対側）に配置されうることに、留意されたい。例えば、第１マスクハンドリング領域及び第２マスクハンドリング領域は、主要搬送経路Ｚの２つの対向する側部に配置されうる。第１マスクハンドリングアセンブリは第１マスクハンドリング領域内に配置されてよく、第２マスクハンドリングアセンブリは、第１マスクハンドリング領域から一定距離だけ離れた第２マスクハンドリング領域内に配置されうる。第１側方マスク軌道は、例えば第１主要マスク軌道に対して直角に、第１堆積領域内へと延在してよく、第２側方マスク軌道は、例えば第２主要マスク軌道に対して直角に、第２堆積領域内へと延在しうる。

［００１７１］詳細には、マスクハンドリングチャンバ（又は「マスクハンドリングモジュール」）は、その一体型の部分として、回転チャンバを備えうる。換言すると、本書に記載の実施形態により、第１マスクハンドリング領域４０１、第２マスクハンドリング領域４０２、及び、それらの間に配置された任意の減圧移行チャンバ（例えば、回転チャンバ又はルーティングチャンバ）が、マスクハンドリングチャンバ（又は「マスクハンドリングモジュール」）を構成しうる。例えば、マスクハンドリングチャンバは、互いに隣り合って配置されたいくつかのサブチャンバを備えうる。一部の実施形態では、減圧システムの主要搬送経路Ｚは、マスクハンドリングモジュールの１つのサブチャンバを少なくとも通って延在しうる。

［００１７２］例えば図１１に例示的に示しているような一部の実施形態では、更なる堆積チャンバ６０１が、減圧システムの主要搬送経路Ｚの、マスクハンドリングチャンバ４０５の反対側に配置されうる。更に、ルーティングモジュールが、更なる堆積チャンバ６０１とマスクハンドリングチャンバ４０５との間に配置されうる。

［００１７３］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、減圧システム５００は、マスクハンドリングチャンバ４０５と、少なくとも１つの堆積チャンバ４０６と、第２堆積チャンバ４０７との間に配置されている、ルーティングチャンバ４０８を更に含みうる（例えば図９参照）。ルーティングチャンバ４０８は、マスクハンドリングチャンバ４０５と少なくとも１つの堆積チャンバとの間で、かつ、マスクハンドリングチャンバ４０５と第２堆積チャンバ４０７との間で、未使用のマスクデバイス４１１及び使用済みマスクデバイス４１２をルーティングするように構成された、ルーティングデバイス４０９（例えば回転デバイス）を含みうる。例えば、マスクキャリア及び基板キャリアが、主要搬送経路Ｚと堆積チャンバとの間の交差部において、実質的に垂直な回転軸の周囲で回転することになるように、少なくとも１つの堆積チャンバ４０６及び第２堆積チャンバ４０７の配向は、減圧システムの主要搬送経路Ｚに対して垂直になりうる。マスクキャリア及び／又は基板キャリアは、ルーティングチャンバ４０８内で回転しうる。

［００１７４］一部の実施形態では、更なる堆積チャンバ、移行チャンバ、及び／又はルーティングチャンバが、マスクハンドリングチャンバ４０５の別の側（例えば図９の上側）に設けられうる。マスクハンドリングチャンバ４０５は、未使用のマスクデバイスを前記堆積チャンバの各々に供給するよう、かつ、前記堆積チャンバの各々からの使用済みマスクデバイスを取り扱うように、構成されうる。減圧システム内のマスク輸送の複雑性が低減され、かつ、マスク交換が促進されうる。

［００１７５］一部の実施形態では、基板に材料をマスク堆積するための少なくとも１つの堆積チャンバ内に、蒸発源５０１が設けられうる。しかし、本開示は、蒸発源を有する減圧システムに限定されない。例えば、化学気相堆積（ＣＶＤ）システム、物理的気相堆積（ＰＶＤ）システム（例えば、スパッタシステム）、及び／又は蒸発システムが、堆積チャンバ内で、例えばディスプレイ応用向けに、基板（例えば薄型ガラス基板）をコーティングするために開発されている。典型的な減圧システム内で、基板は基板キャリアによって保持されてよく、基板キャリアは、基板搬送システムによって、減圧チャンバを通って搬送されうる。基板キャリアは、基板の主要面の少なくとも一部がコーティングデバイス（例えばスパッタデバイス又は蒸発デバイス）に向けて露出されるように、基板搬送システムによって動かされうる。基板が、所定のスピードで基板を通り過ぎうる蒸発源５０１に正対して位置付けされている間に、基板の主要面は薄いコーティング層でコーティングされうる。あるいは基板が、所定のスピードでコーティングデバイスを通り過ぎるように搬送されうる。

［００１７６］基板は、ウエハ、サファイアなどの透明結晶体のスライス、ガラス基板、又はセラミックプレートといった、非フレキシブル基板でありうる。しかし、本開示はこれに限定されず、「基板」という語は、ウェブ又は箔（例えば金属箔又はプラスチック箔）などのフレキシブル基板も包含しうる。

［００１７７］一部の実施形態では、基板は大面積基板でありうる。大面積基板は、０．５ｍ^２以上の表面領域を有しうる。具体的には、大面積基板は、ディスプレイ製造に使用され、かつ、ガラス基板又はプラスチック基板でありうる。例えば、本書に記載の基板は、典型的にはＬＣＤ（液晶ディスプレイ）、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などに使用される基板を包含するものとする。例えば、大面積基板は、面積が１ｍ^２以上の主要面を有しうる。一部の実施形態では、大面積基板は、約０．６７ｍ^２の基板（０．７３×０．９２ｍ）に対応するＧＥＮ４．５、約１．４ｍ^２の基板（１．１×１．３ｍ）に対応するＧＥＮ５、又は、より大きなものでありうる。大面積基板は、更に、約４．２９ｍ^２の基板（１．９５ｍ×２．２ｍ）に対応するＧＥＮ７．５、約５．７ｍ^２の基板（２．２ｍ×２．５ｍ）に対応するＧＥＮ８．５、又は、約８．７ｍ^２の基板（２．８５ｍ×３．０５ｍ）に対応するＧＥＮ１０であってもよい。ＧＥＮ１１及びＧＥＮ１２並びにそれらに相当する基板面積などの、更なる次世代も、同様に実装されうる。一部の実行形態では、数ｃｍ^２（例えば、２ｃｍ×４ｃｍ）に至るまでの表面積、及び／又は、様々な個別形状を有する、より小さなサイズの基板のアレイが、単一の基板支持体上に位置付けられうる。マスクデバイスは、一部の実施形態では、堆積中に基板との完全な重複をもたらすために、基板よりも大きくなりうる。

［００１７８］一部の実行形態では、基板の主要面に対して直角方向の基板の厚さは、１ｍｍ以下（例えば、０．１ｍｍから１ｍｍ）、具体的には０．３ｍｍから０．６ｍｍ（例えば、０．５ｍｍ）でありうる。より薄い基板でもよい。

［００１７９］図１０は、本書に記載の一部の実施形態による、基板に材料をマスク堆積するための減圧装置６００の概略上面図である。減圧システム６００は、マスクハンドリングチャンバ１０５、少なくとも１つの堆積チャンバ４０６、及び、マスクハンドリングチャンバ１０５と少なくとも１つの堆積チャンバ４０６との間で、非水平配向でマスクデバイス１０を搬送するように構成されたマスク搬送システムを、含む。本書において、「マスクハンドリングチャンバ（ｍａｓｋ ｈａｎｄｌｉｎｇ ｃｈａｍｂｅｒ）」という用語は、マスクデバイスが取り扱われる減圧システムの特定の区域を表してよく、かつ、いくつかのサブチャンバを含みうる。

［００１８０］図１０に概略的に描かれているように、本書に記載の実施形態のうちのいずれかによるマスクハンドリングアセンブリ２０が、マスクハンドリングチャンバ１０５内に配置される。マスクハンドリングアセンブリ２０は、未使用のマスクデバイスを取り扱うよう、かつ、使用済みマスクデバイスを取り扱うように、構成されうる。マスクデバイスを取り扱うことは、マスクハンドリングチャンバにマスクデバイスを入れること、マスクデバイスを回転させること、マスクデバイスを平行移動させること、マスクキャリアにマスクデバイスを取り付けること、マスクデバイスからマスクキャリアを取り外すこと、及び／又は、減圧チャンバの外にマスクデバイスを出すことのうちの、少なくとも一又は複数を含みうる。

［００１８１］減圧システム６００は、少なくとも１つのロードロックチャンバ１０１を更に含みうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、ロードロックチャンバ１０１とマスクハンドリングチャンバ１０５との間でマスクデバイスを動かすように、構成されうる。一部の実施形態では、マスクストッカデバイス又はマスクカセットなどの少なくとも１つのマスクマガジンが、ロードロックチャンバ１０１内に設けられうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクデバイスを、マスクストッカから出すよう、かつ、マスクハンドリングチャンバからマスクストッカ内へと動かすように、構成されうる。

［００１８２］一部の実施形態では、２つ以上のロードロックチャンバ（例えば、未使用のマスクデバイス用の第１マスクマガジンを有する第１ロードロックチャンバと、使用済みマスクデバイス用の第２マスクマガジンを有する第２ロードロックチャンバ）が設けられうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、第１ロードロックチャンバと第２ロードロックチャンバの両方に出し入れするよう、マスクデバイスを動かすように構成されうる。

［００１８３］減圧システム６００は、図２に描かれている減圧システム２００に類似しうるため、上記の説明を参照することが可能であり、かかる説明をここでは繰り返さない。

［００１８４］主要搬送方向に沿って、減圧システム６００を通ってマスクキャリア１５を導くためのマスク軌道３１は、マスクハンドリングアセンブリ２０を通り過ぎて延在しうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクハンドリングアセンブリ２０のマスク保持部２１から、マスク軌道３１上のマスク取り付け位置に位置付けられているマスクキャリア１５へと、マスクデバイス１０が受け渡されうるように、位置付けられうる。更に、マスクデバイス１０は、マスクキャリア１５からマスクハンドリングアセンブリのマスク保持部２１へと、受け渡されうる。

［００１８５］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスクハンドリングアセンブリ２０は、ロードロックチャンバ１０１からマスクハンドリングチャンバ１０５内へとマスクデバイス１０を動かすよう、かつ、マスクデバイスが非水平配向にある間に、減圧条件下でマスクキャリア１５にマスクデバイスを取り付けるように、構成される。更に、マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクデバイスが非水平配向にある間に、減圧条件下でマスクキャリア１５からマスクデバイスを取り外すよう、かつ、マスクハンドリングチャンバ１０５からロードロックチャンバ１０１内、又は更なるロードロックチャンバ内へとマスクデバイスを動かすように、構成される。

［００１８６］マスクデバイス１０が取り付けられているマスクキャリア１５は、堆積チャンバに向けて（例えば、少なくとも１つの堆積チャンバ４０６に向けて、又は第２堆積チャンバ４０７に向けて）、減圧システム６００の主要搬送経路Ｚに沿ったマスク軌道３１に沿って搬送されうる。一部の実施形態では、移行チャンバ又はルーティングチャンバ４０８などの、少なくとも１つの更なる減圧チャンバが、マスクハンドリングチャンバ１０５と堆積チャンバとの間に配置されうる。ルーティングチャンバ４０８内で、マスクキャリアは堆積チャンバに向けて回転しうる。堆積チャンバ内で、マスクデバイス１０は、基板へのマスク堆積に使用されうる。その後、マスクキャリアは、堆積チャンバからマスクハンドリングチャンバ１０５内へと戻るように（例えば、主要搬送経路Ｚに沿ったマスク軌道３１に沿って）搬送されうる。

［００１８７］マスクキャリアが、マスクハンドリングアセンブリ２０の隣のマスク取り外し位置に到着すると、マスクデバイスは、マスクハンドリングアセンブリ２０によってマスクキャリアから取り外され、減圧システムからアンローディングされうる。

［００１８８］一部の実施形態では、基板軌道３２が、マスク軌道３１に平行に、例えばマスク軌道３１とマスクハンドリングアセンブリ２０との間に延在しうる。この場合、マスク保持部２１にマスクデバイス１０を誘引するために、マスクハンドリングアセンブリ２０のマスク保持部は基板軌道３２を越えて可動でありうる。

［００１８９］未使用と使用済みの両方のマスクデバイスを取り扱う単一のマスクハンドリングアセンブリを提供することによって、空間要件が緩和され、コストが削減されうる。

［００１９０］一部の実施形態では、減圧システム６００の主要搬送経路Ｚは、４つの軌道、すなわち、基板軌道でありうる２つの外側軌道及びマスク軌道でありうる２つの内部軌道（又はその逆の外側軌道及び内側軌道）を含みうる。マスクハンドリングアセンブリ２０は、マスクデバイスを所定の数の堆積チャンバ（例えば、図１０の４つの堆積チャンバ）に供給するよう、構成されうる。マスクキャリアの搬送距離を短縮するために、マスクハンドリングチャンバ１０５は、少なくとも２つの堆積チャンバの中間の区域に、主要搬送経路Ｚに隣接して配置されうる。したがって、マスクキャリアは、マスクハンドリングチャンバから、主要搬送経路Ｚの両方向（例えば、図１０の上と下）に動かされうる。

［００１９１］基板キャリアは、マスク軌道上で搬送されるマスクキャリアとは関係なく、基板軌道に沿って搬送されうる。一部の実施形態では、基板キャリアは、基板軌道３２に沿って一方向だけに（例えば、堆積チャンバ６０３から少なくとも１つの堆積チャンバ４０６に向かって）搬送される。詳細には、コーティングされる基板が、主要搬送経路Ｚの第１の側で減圧システム６００に進入してよく、コーティングされた基板が、主要搬送経路Ｚの反対の側で減圧システム６００からアンローディングされうる。空の基板キャリアの戻り軌道として、第２基板軌道が使用されることもある。他の実施形態では、基板キャリアは、基板軌道３２上で、両方向に適宜搬送されうる。

［００１９２］一部の実施形態では、少なくとも１つのルーティングチャンバは、少なくとも１つのマスクキャリアと少なくとも１つの基板キャリアとを同時にルーティングするように構成されうる。一部の実施形態では、少なくとも１つのルーティングチャンバは、２つのマスクキャリアと２つの基板キャリアとを同時にルーティングするように構成されうる。したがって、新たなマスクデバイスが堆積チャンバのうちの１つに提供される場合、この新たなマスクデバイスは、コーティングされるべき基板と一緒に回転してよく、回転後に、新たなマスクデバイスとコーティングされるべき基板とは、同時に又は続けて、少なくとも１つのルーティングチャンバから堆積チャンバ内へと搬送されうる。マスク交換が促進され、かつ、処理時間が短縮されうる。

［００１９３］マスクハンドリングアセンブリ２０は、本書に記載の実施形態のいずれかによるロボットデバイス、具体的にはロボットアームを含みうる。このロボットデバイスは、減圧システムの主要搬送経路Ｚに沿って延在しうるマスク軌道から、１ｍ以下、具体的には１．５ｍ以下の距離だけ離れて、配置されうる。一部の実施形態では、基板が、主要搬送経路Ｚの前端部又は後端部において減圧システム内にローディングされ、かつ減圧システムからアンローディングされうるのに対して、マスクデバイスは主要搬送経路Ｚの中央部で減圧システム内にローディングされ、かつ／又は、減圧システムからアンローディングされうるように、マスクハンドリングアセンブリが主要搬送経路Ｚの側部に設けられうる。

［００１９４］本開示の更なる態様により、減圧システムを通ってマスクデバイスを搬送するためのマスクキャリアについて説明するが、この態様では、マスクキャリアは、マスクキャリアの２つのマスク保持面のいずれの面でも、マスクデバイスを運びうる。かかるマスクキャリアはより柔軟な様態で使用されうる。なぜなら、マスクデバイスがそのいずれの面にも取り付けられてよく、マスク取り付けの前にキャリアを旋回又は回転させる必要がないからである。

［００１９５］本書に記載の実施形態によるマスクキャリアは、第１マスク保持面、及び、第１マスク保持面の反対側の第２マスク保持面を有するキャリア本体と、非水平配向で第１マスク保持面にマスクデバイスを保持するよう、かつ、非水平配向で第２マスク保持面にマスクデバイスを保持するように構成された、マスク保持機構と、マスク軌道に沿って導かれるよう構成されたガイド部とを、含みうる。

［００１９６］例えば、このマスクキャリアは、キャリア本体の下側部分に、マスク軌道に沿って導かれる第１ガイド部を含み、かつ／又は、キャリア本体の上側部分に、磁気浮上システムによって運ばれる第２ガイド部を含みうる。

［００１９７］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスク保持機構は、第１マスク保持面に設けられた第１接続デバイスと、第２マスク保持面に設けられた第２接続デバイスとを、含みうる。第１接続デバイス及び／又は第２接続デバイスは、マスクデバイスを対応するマスク保持面に取り付けるように構成された、複数のねじ、ボルト、クランプ、及びピンのうちの少なくとも１つを含みうる。例えば、複数のねじ又はクランプをそれぞれ介して、第１マスクデバイスは第１マスク保持面に取り付けられ、第２マスクデバイスは第２マスク保持面に取り付けられうる。

［００１９８］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスク保持機構は、第１マスク保持面に向けてマスクデバイスを誘引するよう、かつ／又は、第２マスク保持面に向けてマスクデバイスを誘引するように構成された、複数の磁石を含みうる。例えば、マスクキャリアの片面につき１つの磁気チャックが設けられうる。一部の実施形態では、マスクキャリアのキャリア本体は、キャリア本体に固定されうる、又は、キャリア本体と一体化されうる、一又は複数の電磁石及び／又は永久磁石を含みうる。

［００１９９］詳細には、マスクキャリアのキャリア本体は、反転可能な極性を有する一又は複数の永久磁石を含みうる。例えば、一又は複数の永久磁石の極性は、電気パルスによって反転しうる。一又は複数の永久磁石の極性を第１方向に反転させることによって、マスクデバイスがマスクキャリアに取り付けられてよく、かつ／又は、一又は複数の永久磁石の極性を第２方向に反転させることによって、マスクデバイスがマスクキャリアから取り外されうる。

［００２００］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態では、マスクキャリアは、第１マスク保持面と第２マスク保持面との間に延在する垂直な対称面について実質的に対称に形成される。対称なマスクキャリアが、いずれの面でもマスクデバイスを搬送するために使用されうる。例えば、マスクキャリアは、第２マスクハンドリングアセンブリ４２２によって第１マスク保持面から使用済みマスクデバイスが取り外された後に、平行移動機構４５０によって第１マスクハンドリング領域に平行移動してよく、未使用のマスクデバイスが、第１マスクハンドリングアセンブリ４２１によってマスクキャリアの第２マスク保持面に取り付けられうる。したがって、マスクキャリアの適応性が増大し、かつ、減圧システム内でのマスクキャリアの搬送距離が短縮されうる。

［００２０１］本書に記載の別の態様により、減圧システム内でマスクデバイスを取り扱う方法について説明する。

［００２０２］図１２は、マスクの取り扱いの例示的な方法を示しているフロー図である。ボックス９１０において、未使用のマスクデバイスが、マスクハンドリングチャンバの第１マスクハンドリング領域内に提供される。例えば、未使用のマスクデバイス４１１が、マスクローディング通路を経て、マスクハンドリングチャンバ４０５の第１マスクハンドリング領域４０１内にローディングされる。未使用のマスクデバイス４１１は、オプションで、第１マスクハンドリング領域４０１内でマスクキャリア４１５に取り付けられうる。取り付けられる前に、未使用のマスクデバイス４１１は、オプションで、非水平配向に回転してよく、この未使用のマスクデバイスは、非水平配向でマスクキャリア４１５に取り付けられうる。

［００２０３］ボックス９２０において、未使用のマスクデバイスは、第１マスクハンドリング領域から減圧システムの少なくとも１つの堆積チャンバ４０６に、具体的には、この未使用のマスクデバイスが非水平配向でマスクキャリアによって保持されている間に、搬送される。例えば図９では、未使用のマスクデバイス４１１は、マスクキャリア４１５によって保持されている間に、第１マスクハンドリング領域４０１から少なくとも１つの堆積チャンバ４０６に向けて、第１マスク軌道４３１に沿って搬送されうる。一部の実施形態では、未使用のマスクデバイス４１１は、少なくとも１つの移行チャンバ及び／又はルーティングチャンバ４０８を通って搬送されうる。

［００２０４］ボックス９３０において、未使用のマスクデバイス４１１は、少なくとも１つの堆積チャンバ４０６内での基板へのマスク堆積に使用されて、使用済みマスクデバイスになりうる。例えば、未使用のマスクデバイス４１１は、少なくとも１つの堆積チャンバ４０６内の所定の位置に配置されてよく、基板が未使用のマスクデバイス４１１の背後に位置付けられうる。材料パターンが基板の表面に蒸着されうる。堆積中に、蒸着された材料が、マスクデバイスの表側面に凝縮物を形成しうる。したがって、複数の基板へのマスク堆積の後、使用済みマスクデバイス４１２を洗浄することは有利でありうる。

［００２０５］ボックス９４０において、使用済みマスクデバイス４１２は、少なくとも１つの堆積チャンバ４６０からマスクハンドリングチャンバ４０５の第２マスクハンドリング領域４０２に、具体的には、使用済みマスクデバイスが非水平配向でマスクキャリアによって保持されている間に、搬送されうる。例えば図１０では、使用済みマスクデバイス４１２は、マスクキャリア４１５によって保持されている間に、少なくとも１つの堆積チャンバ２０６から第２マスクハンドリング領域４０２に、第２マスク軌道４３２に沿って搬送されうる。一部の実施形態では、使用済みマスクデバイス４１２は、少なくとも１つのルーティングチャンバ及び／又は少なくとも１つの移行チャンバを通って搬送されうる。

［００２０６］ボックス９５０において、使用済みマスクデバイス４１２は、第２マスクハンドリングアセンブリ４２２により、第２マスクハンドリング領域４０２において取り扱われる。例えば、使用済みマスクデバイス４１２は、マスクキャリア４１５から取り外され、マスクマガジン内に保管され、かつ／又は、例えば、第２ロードロックチャンバ４０４を経て使用済みマスクデバイスを減圧システムの外に出すことによって、減圧システムからアンローディングされる。

［００２０７］一部の実施形態では、ボックス９１０における、未使用のマスクデバイス４１１を提供することは、未使用のマスクデバイスを、例えば第１ロードロックチャンバ４０３を経て、第１マスクハンドリング領域４０１内に延在するマスクローディング通路に沿って、減圧システム内にローディングすることを含みうる。例えば、マスクデバイスは、第１ロードロックチャンバ４０３内に配置されているマスクマガジンから、第１マスクハンドリングアセンブリ４２１によって取り出される。第１マスクハンドリングアセンブリ４２１は次いで、マスクハンドリングチャンバにマスクデバイスを入れうる。

［００２０８］代替的又は追加的には、ボックス９５０における、第２マスクハンドリング領域４０２において使用済みマスクデバイスを取り扱うことは、使用済みマスクデバイスを、マスクアンローディング通路に沿って、減圧システムからアンローディングすることを含みうる。マスクアンローディング通路は、マスクローディング通路から離間していることがある。例えば、マスクアンローディング通路とマスクローディング通路は、マスクハンドリングチャンバの両側に設けられうる。例えば、マスクハンドリングアセンブリは、マスクハンドリングチャンバから、第２ロードロックチャンバ４０４内に配置されている、使用済みマスク用の第２マスクマガジン内へと、マスクデバイスを動かしうる。

［００２０９］本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる一部の実施形態により、未使用のマスクデバイス４１１は、ボックス９２０において未使用のマスクデバイス４１１が搬送される前に、第１ハンドリングアセンブリ４２１によって、マスクキャリア４１５のマスク保持面に取り付けられうる。代替的又は追加的には、使用済みマスクデバイス４１２は、第２マスクハンドリング領域内への搬送後に、第２マスクハンドリング領域４０２において、第２マスクハンドリングアセンブリ４２２によって、マスクキャリア４１５のマスク保持面から取り外されうる。

［００２１０］使用済みマスクデバイス４１２がマスクキャリアから取り外された後に、オプションのボックス９６０において、マスクキャリア４１５は、第２マスクハンドリング領域４０２から第１マスクハンドリング領域４０１へと移送されうる。例えば、第１マスクハンドリング領域と第２マスクハンドリング領域との間で、具体的には、マスク軌道の方向に対して実質的に直角な移送方向に、マスクキャリアを直接的に搬送するために、平行移動機構４５０がマスクハンドリングチャンバ４０５内に設けられうる。

［００２１１］オプションのボックス９７０において、未使用の更なるマスクデバイスが、第１マスクハンドリング領域において、マスクキャリア４１５の、マスク保持面の反対側の第２マスク保持面に取り付けられうる。詳細には、マスクキャリア４１５が第２マスクハンドリング領域から第１マスクハンドリング領域に移送された後、第１マスクハンドリングアセンブリ４２１が第２マスク保持面に更なるマスクデバイスを取り付けうるように、マスクキャリアの第２マスク保持面が、第１マスクハンドリングアセンブリ４２１に向けられうる。本書に記載の実施形態による、いずれの面でもマスクデバイスを運ぶように構成されたマスクキャリアが、使用されうる。マスク搬送が促進されうる。

［００２１２］以上の記述は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲から逸脱することなく、本開示の他の実施形態及び更なる実施形態が考案されてよく、本開示の範囲は以下の特許請求の範囲によって決定される。

Claims (24)

1. 減圧システム内でマスクデバイスを取り扱う方法であって、
   前記減圧システム（１００）内に前記マスクデバイス（１０）をローディングすること（Ｙ１）と、
   第２配向（Ｈ）から非水平配向（Ｖ）に前記マスクデバイス（１０）を回転させること（Ｙ２）とであって、前記マスクデバイス（１０）を回転することは、マスクハンドリングアセンブリのマスク保持部（２１）を前記非水平配向と異なる前記第２配向（Ｈ）と前記非水平配向（Ｖ）との間で回転させることを含む回転させること（Ｙ２）、
   前記減圧システム（１００）内でマスクキャリア（１５）に前記マスクデバイス（１０）を取り付けること（Ｙ３）と、
   前記減圧システム（１００）内の搬送経路に沿って、前記非水平配向で、前記マスクキャリア（１５）及び前記マスクデバイス（１０）を搬送することとを含む、方法。
2. 減圧システム内でマスクデバイスを取り扱う方法であって、
   前記減圧システム（１００）内の搬送経路に沿って、非水平配向（Ｖ）で前記マスクデバイス（１０）を保持するマスクキャリア（１５）を搬送することと、
   前記減圧システム（１００）内で前記マスクキャリア（１５）から前記マスクデバイス（１０）を取り外すこと（Ｘ１）と、
   前記非水平配向（Ｖ）から第２配向（Ｈ）に前記マスクデバイス（１０）を回転させること（Ｘ２）であって、前記マスクデバイス（１０）を回転することは、マスクハンドリングアセンブリのマスク保持部（２１）を前記非水平配向（Ｖ）と前記非水平配向と異なる前記第２配向（Ｈ）との間で回転させることを含む回転させること（Ｘ２）と、
   前記減圧システム（１００）から前記マスクデバイス（１０）をアンローディングすること（Ｘ３）とを含む、方法。
3. 前記減圧システム（１００）内で前記マスクキャリア（１５）から前記マスクデバイス（１０）を取り外すこと（Ｘ１）と、
   前記減圧システム（１００）から前記マスクデバイス（１０）をアンローディングすること（Ｘ３）とを更に含む、請求項１に記載のマスクデバイスを取り扱う方法。
4. 前記非水平配向（Ｖ）が実質的に垂直な配向であることと、前記第２配向（Ｈ）が実質的に水平な配向であること、の少なくとも一方が当てはまる、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
5. 前記減圧システム内に前記マスクデバイス（１０）をローディングすること（Ｙ１）が、ロードロックチャンバ（１０１）からマスクハンドリングチャンバ（１０５）内へと、閉鎖可能な開口（１０２）を通して前記マスクデバイス（１０）を動かすことを含むことと、
   前記減圧システム（１００）から前記マスクデバイス（１０）をアンローディングすること（Ｘ３）が、前記マスクハンドリングチャンバ（１０５）から前記ロードロックチャンバ（１０１）内へと、前記閉鎖可能な開口（１０２）を通して前記マスクデバイス（１０）を動かすことを含むこと、の少なくとも一方が当てはまる、
   請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
6. 前記マスクデバイス（１０）が、複数のマスクデバイス（１２）を保管するよう構成されており、かつ、前記ロードロックチャンバ（１０１）内に配置されている、マスクマガジン（２０１）に出入りするように、前記マスクハンドリングチャンバ（１０５）の側壁（１０３）内の前記閉鎖可能な開口（１０２）を通って平行移動する、請求項５に記載の方法。
7. 前記マスクデバイス（１０）が、磁力によって前記マスクキャリア（１５）に保持される、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
8. 前記マスクキャリア（１５）が、前記非水平配向（Ｖ）で前記マスクキャリア（１５）に前記マスクデバイス（１０）を保持するように構成された、一又は複数の永久磁石を備える、請求項７に記載の方法。
9. 前記マスクキャリア（１５）に前記マスクデバイス（１０）を取り付けること（Ｙ３）と、前記マスクキャリア（１５）から前記マスクデバイス（１０）を取り外すこと（Ｘ１）の少なくとも一方が、前記マスクキャリア（１５）の少なくとも１つの永久磁石の極性を反転させることを含む、請求項８に記載の方法。
10. マスクハンドリングアセンブリ（２０）によって、前記マスクデバイス（１０）の、取り付け、取り外し、移動、平行移動、及び回転のうちの少なくとも１つが実施される、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
11. 磁力により前記マスクデバイスを保持するように構成されているロボットアームによって、前記マスクデバイス（１０）の、取り付け、取り外し、移動、平行移動、及び回転のうちの少なくとも１つが実施される、請求項１０に記載の方法。
12. 前記マスクハンドリングアセンブリ（２０）が前記マスクデバイス（１０）の取り外しと取り付けの少なくとも一方のための位置にある時に、前記マスクハンドリングアセンブリ（２０）は、前記マスクキャリア（１５）に電流と電気信号の少なくとも一方を供給する、請求項１０又は１１に記載の方法。
13. 減圧システム（１００）内でマスクデバイスを取り扱うためのマスクハンドリングアセンブリ（２０）であって、
    前記マスクデバイス（１０）を保持するように構成されたマスク保持部（２１）と、
    前記マスク保持部（２１）を動かすように構成された第１アクチュエータと、
    非水平配向（Ｖ）と前記非水平配向とは異なる第２配向（Ｈ）との間で、前記マスク保持部（２１）を回転移動させるように構成された、第２アクチュエータと、
    前記マスク保持部（２１）とマスクキャリア（１５）との間で、前記非水平配向（Ｖ）で前記マスクデバイス（１０）を移送するように構成された、受け渡し機構とを備える、マスクハンドリングアセンブリ（２０）。
14. 前記受け渡し機構が、前記マスクキャリア（１５）への前記マスクデバイス（１０）の取り付けと、前記マスクキャリア（１５）からの前記マスクデバイス（１０）の取り外しの少なくとも一方を開始するように構成される、請求項１３に記載のマスクハンドリングアセンブリ。
15. 前記受け渡し機構が、前記マスクキャリア（１５）に設けられた少なくとも１つの永久磁石の極性を反転させることによって、前記マスクキャリア（１５）への前記マスクデバイス（１０）の取り付けと、前記マスクキャリア（１５）からの前記マスクデバイス（１０）の取り外しの少なくとも一方を開始するように構成される、請求項１４に記載のマスクハンドリングアセンブリ。
16. 基板に材料を堆積させるための減圧システム（１００、３００）であって、
    マスクハンドリングチャンバ（１０５）と、
    ロードロックチャンバ（１０１）と、
    前記マスクハンドリングチャンバ（１０５）と前記ロードロックチャンバ（１０１）との間に設けられた、閉鎖可能な開口（１０２）と、
    請求項１３から１５のいずれか一項に記載のマスクハンドリングアセンブリ（２０）であって、前記マスクハンドリングアセンブリ（２０）の前記第１アクチュエータが、前記閉鎖可能な開口（１０２）を通して、前記マスクハンドリングチャンバ（１０５）と前記ロードロックチャンバ（１０１）との間で前記マスク保持部（２１）を動かすように構成される、マスクハンドリングアセンブリ（２０）とを備える、減圧システム（１００、３００）。
17. 基板に材料を堆積させるための減圧システム（４００）であって、
    マスクハンドリングチャンバ（４０５）、少なくとも１つの堆積チャンバ（４０６）、及び、前記マスクハンドリングチャンバ（４０５）と前記少なくとも１つの堆積チャンバ（４０６）との間で、非水平配向（Ｖ）で未使用のマスクデバイス（４１１）と使用済みマスクデバイス（４１２）とを搬送するように構成された、マスク搬送システムを備え、
    前記マスクハンドリングチャンバ（４０５）が、
    請求項１３から１５のいずれか一項に記載のマスクハンドリングアセンブリであって、前記未使用のマスクデバイス（４１１）と前記使用済みマスクデバイス（４１２）の少なくとも一方を取り扱うように構成されている、マスクハンドリングアセンブリを備える、
    減圧システム（４００）。
18. 前記マスク搬送システムが、
    前記マスクハンドリングチャンバ（４０５）から前記少なくとも１つの堆積チャンバ（４０６）に向けて、前記未使用のマスクデバイス（４１１）を保持しているマスクキャリアを導くための、第１マスク軌道（４３１）と、
    前記少なくとも１つの堆積チャンバ（４０６）から前記マスクハンドリングチャンバ（４０５）に、前記使用済みマスクデバイス（４１２）を保持している前記マスクキャリアを導くための、第２マスク軌道（４３２）の、少なくとも一方を備える、
    請求項１７に記載の減圧システム。
19. 前記マスク搬送システムが、前記マスクハンドリングチャンバ（４０５）の中で、前記第２マスク軌道（４３２）と前記第１マスク軌道（４３１）との間で、前記マスクキャリア（４１５）を平行移動させるように構成された、平行移動機構（４５０）を更に備える、請求項１８に記載の減圧システム。
20. 前記減圧システム内の基板搬送経路に沿って基板を搬送するように構成された、基板搬送システムを更に備える、請求項１７から１９のいずれか一項に記載の減圧システム。
21. 前記基板搬送経路が前記マスクハンドリングチャンバ（４０５）を通って又は通り過ぎて延在している、請求項２０に記載の減圧システム。
22. 第２堆積チャンバ（４０７）と、
    前記マスクハンドリングチャンバ（４０５）と、前記少なくとも１つの堆積チャンバ（４０６）と、前記第２堆積チャンバ（４０７）との間に位置付けられたルーティングチャンバ（４０８）であって、
    前記マスクハンドリングチャンバと前記少なくとも１つの堆積チャンバとの間、及び、前記マスクハンドリングチャンバと前記第２堆積チャンバ（４０７）との間で、前記マスクデバイスをルーティングするように構成されたルーティングデバイス（４０９）を備える、ルーティングチャンバ（４０８）とを更に備える、
    請求項１７から２１のいずれか一項に記載の減圧システム。
23. 減圧システム内でマスクデバイスを取り扱う方法であって、
    マスクハンドリングチャンバの第１マスクハンドリング領域（４０１）内に、未使用のマスクデバイス（４１１）を提供することと、
    前記未使用のマスクデバイス（４１１）を非水平配向に回転させることであって、前記マスクデバイスを回転することは、マスクハンドリングアセンブリのマスク保持部（２１）を前記非水平配向と異なる前記第２配向（Ｈ）と前記非水平配向（Ｖ）との間で回転させることを含む回転させることと、
    前記第１マスクハンドリング領域から前記減圧システムの少なくとも１つの堆積チャンバ（４０６）に、前記未使用のマスクデバイスを搬送することと、
    前記未使用のマスクデバイスを、前記少なくとも１つの堆積チャンバ内での基板へのマスク堆積に使用して、使用済みマスクデバイス（４１２）にすることと、
    前記堆積チャンバから前記マスクハンドリングチャンバの第２マスクハンドリング領域（４０２）に、前記使用済みマスクデバイス（４１２）を搬送することとを含む、方法。
24. 前記未使用のマスクデバイスと前記使用済みマスクデバイスの少なくとも一方が、搬送中に前記非水平配向（Ｖ）でマスクキャリアによって保持される、請求項２３に記載のマスクデバイスを取り扱う方法。

Images