JP7234677B2 - 多官能プロパルギル化合物及びそれを含む光学用組成物 - Google Patents

Description

本発明は新規な多官能プロパルギル化合物及びそれを含む光学材料用組成物に関する。より詳細には、光学接着剤、プリズム、コーティング剤等の光学材料に好適に使用される新規な多官能プロパルギル化合物及びそれを含む光学材料用組成物に関する。

プラスチック材料は軽量かつ靱性に富み、しかも染色や加工性にも優れることから、各種光学材料、例えば眼鏡レンズ、カメラレンズ、光学接着剤、プリズム、コーティング剤に広く用いられている。光学材料、中でもレンズに特に要求される性能は、物理的性質としては、低比重、高透明性及び低黄色度、高耐熱性、高強度等であり、光学性能としては高屈折率と高アッベ数である。高屈折率はレンズの薄肉化を可能とし、高アッベ数はレンズの色収差を低減する。しかし、一般に屈折率が上昇するほどアッベ数は低くなるため、両者を同時に向上させる検討がなされている。

これらの検討の中で最も代表的な方法は、硫黄を含有する樹脂、例えばスルフィド系樹脂を使用する方法である。スルフィド系樹脂は、エピスルフィド化合物を含む重合性組成物を重合させて得られ、高屈折率及び高アッベ数を両立しうる材料として検討されている。また、ポリチオール化合物も高屈折率材料として知られており、ポリチオール化合物を他の単量体化合物と組み合わせた光学材料も盛んに検討されている。例えば、特許文献１には、ポリチオール化合物とプロパルギルイソ（チオ）シアネート化合物等とを含む光学材料用重合性組成物が開示され、該組成物から屈折率及びアッベ数の光学物性に優れる成形体を得たことが報告されている。また、特許文献２には、両末端に炭素－炭素三重結合を有する化合物が開示されている。
光学部品やデバイスの高機能化等のニーズに対応するためには、光重合性、および/または、様々な光学特性（屈折率、アッベ数、耐熱性、高ガラス転移温度など）を有する多様な単量体化合物が必要不可欠である。

国際公開第２０１４／１５７６６４号 国際公開第２０１６／１２９５６３号

本発明は、光学材料を製造し得る新規な単量体化合物を提供することを目的とする。

本発明者らは、このような状況に鑑み鋭意研究を重ねた結果、以下の本発明により上記課題を解決することができることを見出した。即ち、本発明は以下の通りである。

［１］ 下記式（１）で表される多官能プロパルギル化合物：

（式中、
ｍは、３～３０の整数を示し、
Ｒ_１は、１つまたは複数のスルフィド結合を鎖中に有していてもよいアルキルを示し、前記アルキルは場合により置換されており、
Ｒ_Ａはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、炭素数１～１０のアルキル、置換又は非置換のフェニル、置換又は非置換のナフチル、およびシリルからなる群から選択される。）
［２］ 下記式（２）または（３）で表される［１］に記載の化合物：

（式中、
ｐは１～１０の整数を示し、
ｎ_１は出現するごとにそれぞれ独立して、１～５の整数を示し、
ｎ_２は１～５の整数を示し、
ｎ_３およびｎ_４はそれぞれ独立して、０～５の整数を示し、
Ｒ_２～Ｒ_７は出現するごとにそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１～５のアルキル、－ＳＨ、及び下記式（４）で表される基から選択され、

Ｒ_８は、単結合または炭素数１～２のアルキルを示し、
波線部は結合部を示し、
Ｒ_Ｂ～Ｒ_Ｆはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、炭素数１～１０のアルキル、置換又は非置換のフェニル、置換又は非置換のナフチル、およびシリルからなる群から選択され、
式（２）または（３）で表される化合物中に含まれる炭素―炭素三重結合の総数は３～１０である。）
［３］ Ｒ_Ｂ～Ｒ_Ｆが水素原子である、［２］に記載の化合物。
［４］ 前記式（２）で表され、式（２）で表される化合物中に含まれる炭素―炭素三重結合の総数は３～５である、［２］または［３］に記載の化合物。
［５］ 前記式（３）で表され、式（３）で表される化合物中に含まれる炭素―炭素三重結合の総数は３～５である、［２］または［３］に記載の化合物。
［６］ 下記式（５）で表される繰り返し構造を含む、［１］に記載の化合物。

（式中、
Ｒ_９は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１～５のアルキルを示し、
Ｒ_１０は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１～２のアルキルを示し、
ｎ_５は、３～５０の整数を示す。）
［７］ 下記化合物群から選択される、［１］に記載の化合物：

［７－１］ 硫黄含有率が３０～６０重量％である、［１］～［７］のいずれかに記載の化合物。
［８］ ［１］～［７］［７－１］のいずれかに記載の化合物と、ポリチオール化合物とを含む、光学材料用組成物。
［９］ ［８］に記載の光学材料用組成物と重合触媒とを含む重合硬化性組成物を硬化した光学材料。
［１０］ ガラス転移温度が２０℃以上である、［９］に記載の光学材料。
［１１］ ［１］～［７］［７－１］のいずれかに記載の化合物の製造方法であって、
下記式（１）’で表されるポリチオール化合物と下記式（Ａ）で表されるプロパルギルハロゲン化物とを塩基の存在下で反応させることを含む、製造方法：

（式中、ｍおよびＲ_１は前記式（１）と同義であり、Ｘはハロゲンである）。

本発明によれば、光学材料を製造し得る新規な単量体化合物が提供される。
本発明の化合物は、以下の一以上の効果を有する。
（１）光重合硬化性に優れる。例えばポリチオール化合物と光硬化重合可能である。
（２）高い屈折率を有する光学材料を得ることが可能である。
（３）架橋密度が増加し、ガラス転移点が高い光学材料を得ることが可能である。
（４）高屈折率かつ高アッベ数を有する光学材料を得ることが可能である。

図１Ａおよび図１Ｂはそれぞれ、実施例１で製造した化合物１の^１Ｈ ＮＭＲチャート及び^１３Ｃ ＮＭＲチャートを示す図である。 図２Ａおよび図２Ｂはそれぞれ、比較例１で製造した化合物ｃ１の^１Ｈ ＮＭＲチャート及び^１３Ｃ ＮＭＲチャートを示す図である。 図３Ａおよび図３Ｂはそれぞれ、比較例２で製造した化合物ｃ２の^１Ｈ ＮＭＲチャート及び^１３Ｃ ＮＭＲチャートを示す図である。 図４Ａおよび図４Ｂはそれぞれ、実施例３で製造した化合物２の^１Ｈ ＮＭＲチャート及び^１３Ｃ ＮＭＲチャートを示す図である。 図５Ａおよび図５Ｂはそれぞれ、実施例４で製造した化合物６の^１Ｈ ＮＭＲチャート及び^１３Ｃ ＮＭＲチャートを示す図である。 図６Ａおよび図６Ｂはそれぞれ、実施例５で製造した化合物７の^１Ｈ ＮＭＲチャート及び^１３Ｃ ＮＭＲチャートを示す図である。

以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変更して実施できる。

以下に、本明細書において記載する用語等の意義を説明し、本発明を詳細に説明する。
「アルキル」は、完全に飽和な直鎖、分岐、または環状の炭化水素鎖を指す。本明細書において、「アルキル」は、炭化水素鎖から１個の水素原子を除いた１価の基に加えて、炭化水素鎖から複数（ｘ個）の水素原子を除いた多価（ｘ価）の基を包含する。
例えば、「炭素数１～１０のアルキル」は、最大１０個の炭素原子を有するアルキルであり、例えば、以下に限定されないが、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、イソ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、３－メチルヘキシル、２，２－ジメチルペンチル、２，３－ジメチルペンチル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシルなどが含まれる。
「低級アルキル」は、炭素数１～６のアルキルを指す。
「ハロ」または「ハロゲン」は、フッ素（Ｆ）、塩素（Ｃｌ）、臭素（Ｂｒ）及びヨウ素（Ｉ）を指す。
「シリル」としては、例えば、トリメチルシリル、トリイソプロピルシリル、トリフェニルシリル、フェニルジエチルシリル等を挙げることができる。 「シアノ」は、－ＣＮを指す。
「炭素数１～４のアルキルチオ」は、炭素数１～４のアルキルの末端に硫黄原子（Ｓ）が結合した基である。例えば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ－プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ－ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔ－ブチルチオ、１－メチルプロピルチオが挙げられる。
「炭素数６～２０のアリール」とは、炭素数が６～２０個の芳香族性の炭化水素環式基を指す。例えば、フェニル、１－ナフチル、２－ナフチル、インデニル、アズレニルなどが挙げられる。

本発明の一形態は、下記式（１）で表される多官能プロパルギル化合物（以下「多官能プロパルギル化合物」とも称する）を提供する。

実施形態の多官能プロパルギル化合物は、末端に３つ以上の炭素―炭素三重結合、－Ｃ≡Ｃ－（好ましくはプロパルギル基、－ＣＨ_２－Ｃ≡ＣＨ）を含む重合性基を有する多官能プロパルギル化合物である。多官能プロパルギル化合物は、ポリチオール化合物との反応性に優れ、多官能プロパルギル化合物とポリチオール化合物とを重合させることにより優れた光学特性を有する硬化物を得ることが可能である。特に、多官能プロパルギル化合物は光重合硬化性に優れ、ポリチオール化合物と光硬化重合可能である。本発明の多官能プロパルギル化合物は少なくとも３つの炭素―炭素三重結合を有する多官能性化合物である。３つ以上の炭素―炭素三重結合の各々につき各２個のチオール基が付加し得るため、架橋密度が増加し、ガラス転移点が高い重合体が得られ得る。さらに、本発明の多官能プロパルギル化合物は複数の（少なくとも３つ）スルフィド結合（－Ｓ－）の存在によって高い硫黄含有率および高い屈折率を有し得る。

上記式（１）中、ｍは、３～３０の整数を示す。ｍは好ましくは３～２０であり、より好ましくは３～１０であり、さらに好ましくは３～８であり、好ましくは３～５である。ｍは式（１）中に存在する炭素―炭素三重結合の総数に対応する。ｍが大きいほど硬化後の架橋密度が増加し、これによりガラス転移点が上昇（耐熱性が向上）し得る。一方、ｍが大きくなりすぎると合成が煩雑化する傾向があり、ｍは上記上限以下であることが好ましい。

上記式（１）中、Ｒ_１は、１つまたは複数のスルフィド結合（－Ｓ－）を鎖中に有していてもよいアルキルを示す。Ｒ_１はｍ価の基であり、例えば「炭素数１～３０のアルキル」は炭素数１～３０のアルカンからｍ個の水素原子を除いた基を指す。Ｒ_１はスルフィド結合（－Ｓ－）を鎖中に有しない場合にはｍ価のアルキルである。Ｒ_１がスルフィド結合（－Ｓ－）を鎖中に有する場合、例えば、ｒ個のスルフィド結合（－Ｓ－）を鎖中に有する場合には、（ｒ＋１）個のアルキルがｒ個のスルフィド結合（－Ｓ－）を介して結合した構造、すなわち－（アルキル）－Ｓ－（アルキル）－・・・・－（アルキル）－Ｓ－（アルキル）－の構造を有する。Ｒ_１におけるアルキルは直鎖状、分岐状、または環状のいずれであってもよいが、好ましくは直鎖状アルキルまたは分岐状アルキルである。ｒは、例えば１～３０の整数であり、または１～２０であり、または１～１０である。Ｒ_１におけるアルキルの炭素数は、例えば１～１００の整数であり、または１～６０であり、または１～３０である。Ｒ_１におけるアルキルの炭素数は、Ｒ_１に含まれる炭素原子の総数を意味する。ポリマータイプ（例えば後述する式（５）で表される繰り返し構造を有する化合物）でない場合、Ｒ_１におけるアルキルの炭素数は、好ましくは１～１０であり、より好ましくは１～５である。
また、Ｒ_１におけるアルキルは場合により置換されていてもよい。該アルキルの置換基としては、例えば－ＳＨであり、Ｒ_１は３～５個の－ＳＨで置換されたアルキルでありうる。

一実施形態において、Ｒ_１がスルフィド結合（－Ｓ－）を鎖中に有する炭素数２～３０のアルキルである。Ｒ_１中にスルフィド結合（－Ｓ－）を含有することにより高屈折率の化合物が得られ得る。好ましい一形態は、Ｒ_１が（ｒ＋１）個の低級アルキル（好ましくは炭素数１～４のアルキル、より好ましくは炭素数１～３のアルキル）がｒ個のスルフィド結合（－Ｓ－）を介して結合した構造を有する。ｒは１～２９（好ましくは１～２０、より好ましくは１～１０、さらに好ましくは１～５）の整数である。Ｒ_１中に多数の硫黄原子（Ｓ）を含むことにより、高屈折率な化合物が得られ得る。

Ｒ_Ａはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、炭素数１～１０のアルキル、置換又は非置換のフェニル、置換又は非置換のナフチル（１－ナフチル、２－ナフチル）、およびシリルからなる群から選択される。式（１）中に存在するｍ個のＲ_Ａは同一でも異なっていてもよい。ただし、ジアステレオマー等の異性体の生成を抑制する点及び光重合をより均一に行う点からはＲ_Ａは同一であることが好ましい。Ｒ_Ａは光重合性の面から、好ましくは水素原子、炭素数１～１０のアルキル、置換又は非置換のフェニル、置換又は非置換のナフチル（１－ナフチル、２－ナフチル）から選択され、より好ましくは水素原子である。Ｒ_Ａが水素原子である場合、重合性基がプロパルギル基となり、ポリチオール化合物との光重合性、硬化物の屈折率が向上し得る。特に好ましくは、式（１）中に存在するｍ個のＲ_Ａがいずれも水素原子である。

一実施形態において、多官能プロパルギル化合物は、下記式（２）または（３）で表される化合物（以下「多官能プロパルギル化合物（２）」または「多官能プロパルギル化合物（３）」とも称する）である。

上記多官能プロパルギル化合物（２）または（３）中に含まれる炭素―炭素三重結合の総数は３～１０であり、好ましくは３～８であり、より好ましくは３～５である。炭素―炭素三重結合の総数が大きいほど硬化後の架橋密度が増加し、これによりガラス転移点が上昇（耐熱性が向上）し得る。一方、炭素―炭素三重結合の総数が大きくなりすぎると合成が煩雑化する傾向があり、合成の面から上記上限以下であることが好ましい。

上記式（２）中、ｐは１～１０の整数を示す。重合のしやすさの面から、ｐは好ましくは１～５の整数である。
上記式（２）中、ｎ_１は出現するごとにそれぞれ独立して、１～５の整数を示す。ｎ_２は、１～５の整数を示す。合成のしやすさの面から、ｎ_１およびｎ_２は出現するごとにそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは１～２の整数である。
上記式（３）中、ｎ_３およびｎ_４はそれぞれ独立して、０～５の整数を示す。合成のしやすさの面から、ｎ_３およびｎ_４はそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは１～２の整数である。

上記式（２）および式（３）中、Ｒ_２～Ｒ_７は出現するごとにそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１～５のアルキル、－ＳＨ、及び下記式（４）で表される基から選択される。式（２）中に存在するｎ_１個のＲ_２、ｎ_２個のＲ_３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。式（３）中に存在するｎ_３個のＲ_４、ｎ_５個のＲ_７はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、式（２）中に存在するｐ個の

もそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｎ_１およびＲ_２は出現するごとにそれぞれ独立して選択される。Ｒ_２～Ｒ_７は、それぞれ独立して、好ましくは、水素原子、炭素数１～１０のアルキル、－ＳＨ、及び下記式（４）で表される基から選択され、より好ましくは水素原子、－ＳＨ及び下記式（４）で表される基から選択され、さらに好ましくは水素原子及び下記式（４）で表される基から選択される。

上記式（４）中、波線部は結合部を示す。Ｒ_８は、単結合または炭素数１～２のアルキル（具体的にはメチレン、エチレン）を示し、屈折率の点で好ましくは単結合またはメチレンである。

上記式（２）～（４）中、Ｒ_Ｂ～Ｒ_Ｆはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、炭素数１～１０のアルキル、置換又は非置換のフェニル、置換又は非置換のナフチル（１－ナフチル、２－ナフチル）、およびシリルからなる群から選択される。Ｒ_Ｂ～Ｒ_Ｆは光重合性の面から、好ましくは水素原子、炭素数１～１０のアルキル、置換又は非置換のフェニル、置換又は非置換のナフチル（１－ナフチル、２－ナフチル）から選択され、より好ましくは水素原子である。Ｒ_Ｂ～Ｒ_Ｆが水素原子である場合、重合性基がプロパルギル基となり、ポリチオール化合物との光重合性、硬化物の屈折率が向上し得る。上記式（２）または式（３）において同一化合物中に存在するＲ_Ｂ～Ｒ_Ｆは同一でも異なっていてもよい。ただし、ジアステレオマー等の異性体の生成を抑制する点及び光重合をより均一に行う点からは同一化合物中に存在するＲ_Ｂ～Ｒ_Ｆは同一であることが好ましい。特に好ましくは、上記式（２）～（４）中のＲ_Ｂ～Ｒ_Ｆがいずれも水素原子である。

上記式（１）～（４）における、Ｒ_Ａ～Ｒ_Ｆにおけるフェニル及びナフチルは、場合により－ＳＲ（式中、Ｒは水素原子または炭化水素基である）、－Ｓ（Ｏ）Ｒ（式中、Ｒは炭化水素基である）、－Ｓ（Ｏ）_２Ｒ（式中、Ｒは炭化水素基である）、炭素数１～４のアルキル、塩素原子（Ｃｌ）、臭素原子（Ｂｒ）、ヨウ素原子（Ｉ）、炭素数１～４のアルキルチオ、及びシアノからなる群からそれぞれ独立して選択される１～７個の置換基で置換されていてもよい。式中のＲにおける炭化水素基は特に制限されないが、例えば、炭素数１～１０のアルキルまたは炭素数６～２０のアリールが挙げられ、好ましくは、屈折率の観点からメチル、フェニル、ナフチルである。
中でも、フェニル及びナフチルの好ましい置換基は、非置換、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。好ましくはＲ_Ａ～Ｒ_Ｆにおけるフェニル及びナフチルは、製造工程の簡略化の点から非置換のフェニル及びナフチルである。

好ましい実施形態において、多官能プロパルギル化合物は、上記式（２）で表され、Ｒ_ＢおよびＲ_Ｃは水素原子であり、Ｒ_２およびＲ_３はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１～５（より好ましくは炭素数１～２）のアルキル、及び上記式（４）で表される基から選択され、Ｒ_２およびＲ_３が上記式（４）で表される基である場合、Ｒ_８は、単結合または炭素数１～２のアルキルであり、Ｒ_Ｆは水素原子であり、ｐは１～３の整数を示し、ｎ_１およびｎ_２はそれぞれ独立して、１～５の整数（より好ましくは１～２の整数）を示し、プロパルギル基の総数は３～８（より好ましくは３～５）である。
当該実施形態において、さらに好ましくは、Ｒ_２およびＲ_３は水素原子及び上記式（４）で表される基から選択される。

他の好ましい実施形態において、多官能プロパルギル化合物は、上記式（３）で表され、Ｒ_ＤおよびＲ_Ｅは水素原子であり、Ｒ_４～Ｒ_７はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１～５（より好ましくは炭素数１～２）のアルキル、及び上記式（４）で表される基から選択され、Ｒ_４～Ｒ_７が上記式（４）で表される基である場合、Ｒ_８は、単結合または炭素数１～２のアルキルであり、Ｒ_Ｆは水素原子であり、ｎ_３およびｎ_４はそれぞれ独立して、１～５の整数（より好ましくは１～２の整数）を示し、プロパルギル基の総数は３～８（より好ましくは３～５）である。
当該実施形態において、さらに好ましくは、Ｒ_５およびＲ_６は上記式（４）で表される基から選択され、Ｒ_４およびＲ_５は水素原子及び炭素数１～５（より好ましくは炭素数１～２）のアルキル、から選択される。

好ましい実施形態において、多官能プロパルギル化合物は、下記式（５）で表される繰り返し構造を含むポリマーである。

上記式（５）中、Ｒ_９はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～５のアルキルを示す。Ｒ_９は、好ましくは水素原子または炭素数１～２のアルキルであり、より好ましくは水素原子である。
上記式（５）中、Ｒ_１０はそれぞれ独立して、単結合または炭素数１～２のアルキル（具体的にはメチレン、エチレン）を示す。Ｒ_１０は、好ましくはメチレンである。
上記式（５）中、ｎ_５は３～５０の整数を示す。ｎ_５は好ましくは３～３０であり、より好ましくは５～３０である。あるいは、ｎ_５は例えば５～２０または５～１０である。
上記式（５）で表される繰り返し構造を含む多官能プロパルギル化合物は、重合性官能基数及びモノマーの粘性を調整できる面で好ましい。
上記式（５）で表される繰り返し構造を含む多官能プロパルギル化合物の末端は特に制限されないが、通常は水素原子、炭素数１～４のアルキル、または炭素数１～４のアルキルチオである。
一実施形態において、多官能プロパルギル化合物は、下記式（５ａ）で表される。

上記式（５ａ）中、Ｒ_９、Ｒ_１０、およびｎ_５は、上記式（５）と同義である。上記式（５ａ）中、Ｒ_１１およびＲ_１２はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１～４のアルキル、および炭素数１～４のアルキルチオから選択される。
一実施形態において、多官能プロパルギル化合物は、下記式（５ｂ）で表される。

上記式（５ｂ）中、ｎ_５は、上記式（５）と同義である。

一実施形態において、多官能プロパルギル化合物の硫黄含有率は、高屈折率の面から、３０重量％以上である。好ましくは３０～６０重量％であり、より好ましくは４０～６０重量％である。多官能プロパルギル化合物の硫黄含有率は、多官能プロパルギル化合物に含まれる硫黄原子の重量割合である。

多官能プロパルギル化合物の具体例は例えば以下の通りである。

実施形態の多官能プロパルギル化合物は、光重合性に優れる。
さらに、実施形態の多官能プロパルギル化合物は、高い硫黄含有率および高い屈折率を有しうる。光学材料として使用するためには、単量体である多官能プロパルギル化合物の屈折率は１．５５以上であることが好ましく、１．６０以上であることがより好ましい。屈折率は屈折率計により測定することができる。屈折率は、２０～２５℃、５８９ｎｍ（Ｄ線）で測定した値である。
また、実施形態の多官能プロパルギル化合物は高い架橋密度の重合体を与える単量体として有用である。

実施形態の多官能プロパルギル化合物は、ポリチオール化合物とプロパルギルハロゲン化物（ＨＣ≡ＣＨ_２Ｘ；Ｘはハロゲンである）とを反応させることにより合成することができる。ポリチオール化合物のチオール基（－ＳＨ）がＨＣ≡ＣＨ_２Ｘと反応することにより、ポリチオール化合物のチオール基がプロパルギル基に変換された化合物を得ることができる。

例えば、式（１）の多官能プロパルギル化合物は、下記式（１）’で表されるポリチオール化合物と下記式（Ａ）で表されるプロパルギルハロゲン化物とを塩基の存在下で反応させることを含む、製造方法により製造することができる。

上記式（１）’中、ｍおよびＲ_１は前記式（１）と同義である。
上記式（Ａ）中、Ｘはハロゲンである。
具体的には、以下のスキーム１により合成可能である。

具体的にはポリチオール化合物（１）’（Ｒ_１－（ＳＨ）_ｍ）とプロパルギルブロミドなどのプロパルギルハロゲン化物とを塩基の存在下で反応させることにより多官能プロパルギル化合物を得ることができる。

（方法１）
例えば、塩基として、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの強塩基を用いる方法がある。好ましくは、ポリチオール化合物と強塩基とを有機溶媒中で十分に混合した後にプロパルギルハロゲン化物を添加して反応を進行させる。反応は撹拌しながら行うことが好ましい。これにより多官能プロパルギル化合物が得られる。
反応系におけるポリチオール化合物とプロパルギルハロゲン化物との混合比率は反応が進行し得る限り特に制限されない。例えば、廃棄物及び副生成物の抑制の点で、ポリチオール化合物のチオール基１ユニットに対するプロパルギルハロゲン化物の量が１～１．５当量であることが好ましい。
ポリチオール化合物とプロパルギルハロゲン化物との反応は、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としてはポリチオール化合物とプロパルギルハロゲン化物との反応が進行しうる限り特に制限されないが、反応性及び経済性の点で、アルコール（例えばメタノール、エタノール）、水、アセトンなどの有機溶媒が好ましい。これらは単独でも混合して用いてもよい。
強塩基の添加量は、ポリチオール化合物とプロパルギルハロゲン化物との反応が進行し得る限り特に制限されない。例えば、廃棄物及び副生成物の抑制の点で、ポリチオール化合物のチオール基１ユニットに対する塩基の量が１～１．５当量であることが好ましい。
反応温度は、反応が進行するのであれば特に制限はないが、反応性及び選択性の点で好ましくは０～６０℃で実施する。
反応時間も特に制限されないが、例えば１～２４時間である。なお、反応時間は、反応物の混合（滴下）が完了した時点から反応終了までの時間を指す。

（方法２）
別法として、塩基として、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等を用いる方法がある。好ましくは、ポリチオール化合物と塩基とを有機溶媒中で十分に混合した後に、室温～８０℃でプロパルギルハロゲン化物を添加して反応を進行させる。反応は撹拌しながら行うことが好ましい。これにより多官能プロパルギル化合物が得られる。
反応系におけるポリチオール化合物とプロパルギルハロゲン化物との混合比率は反応が進行し得る限り特に制限されない。例えば、廃棄物及び副生成物の抑制の点で、ポリチオール化合物のチオール基1ユニットに対するプロパルギルハロゲン化物の量が1～２当量であることが好ましい。
ポリチオール化合物とプロパルギルハロゲン化物との反応は、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としてはポリチオール化合物とプロパルギルハロゲン化物との反応が進行しうる限り特に制限されないが、反応性の点で、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトン、ジクロロメタン等の有機溶媒が好ましい。これらは単独でも混合して用いてもよい。
塩基の添加量は、ポリチオール化合物とプロパルギルハロゲン化物との反応が進行し得る限り特に制限されない。例えば、反応性の点で、ポリチオール化合物のチオール基１ユニットに対する塩基の量が１～３当量であることが好ましい。
反応温度は、反応が進行するのであれば特に制限はないが、反応性及び選択性の点で好ましくは室温～８０℃で実施する。
反応時間も特に制限されないが、例えば１～２４時間である。なお、反応時間は、反応物の混合（滴下）が完了した時点から反応終了までの時間を指す。

上記方法１または方法２で得たプロパルギル化合物のアルキン末端に水素原子以外の置換基（Ｒ_Ａ）を導入する場合には、さらに、例えば、パラジウム錯体及び銅錯体を触媒として用いる薗頭カップリング反応を行う（K. Sonogashira, J. Organomet. Chem., 2002, 653, 46-49）。具体的には、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）を触媒としてハロゲン化アリールと反応させるとアルキン末端にアリール基を導入でき（Y. Liang, Y.-X. Xie, J.-H. Li, J. Org. Chem., 2006, 71, 379-381）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）とヨウ化銅を触媒としてハロゲン化アルキルと反応させるとアルキン末端にアルキル基を導入できる（C.-M. Chao, D. Beltrami, P. Y. Toullec, V. Michelet, Chem. Commun., 2009, 45, 6988-6990）。また、硝酸銀を触媒としてN-ブロモスクシンイミドと反応させるとアルキン末端に臭素を導入でき（T. R. Hoye, B. Baire, D. Niu, P. H. Willoughby, B. P. Woods, Nature, 2012, 490, 208-212）、同様に硝酸銀を触媒としてN-クロロスクシンイミドと反応させるとアルキン末端に塩素を導入できる（E. Bednarova, E. Colacino, F. Lamaty, M. Kotora, Adv. Synth. Catal., 2016, 358, 1916-1923）。

反応後、目的とする多官能プロパルギル化合物の単離、精製を行い、反応生成物中に含まれる副生成物や異性体化合物を除去してもよい。単離、精製は常法により行うことができる。例えば、溶媒による抽出、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、減圧蒸留または再結晶など公知の方法によって行うことができる。

例えば、上記多官能プロパルギル化合物（２）または（３）は下記の対応するポリチオール化合物（２）’または（３）’とプロパルギルハロゲン化物（ＨＣ≡ＣＨ_２Ｘ；Ｘはハロゲンである）とを反応させることにより上記スキーム１にしたがって合成することができる。

上記式（２）’または（３）’中、ｐおよびｎ_１～ｎ_４は前記式（２）または（３）と同義である。
上記式（２）’または（３）’中、Ｒ_２～Ｒ_７はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１～５のアルキル、－ＳＨ、及び下記式（４）’で表される基から選択され、式（４）’で表される基を除き前記式（２）または（３）と同義である。式（４）’中のＲ_８の定義は前記式（４）と同義である

例えば、上記多官能プロパルギル化合物１～６、７ａは、下記の対応するポリチオール化合物１’～６’、７ａ’から上記スキーム１により合成することができる。

また、上記式（５）で表される繰り返し構造を有する化合物（例えば上記多官能プロパルギル化合物７）を合成する場合には、例えば、下記のスキームに示すように、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン（ＤＢＵ）のような強塩基を触媒とする２－（２－プロピニルチオメチル）チイランのリビングアニオン重合によっても合成できる。

例えば、M. J. Uddin, T. A. Werfel, B. C. Crews, M. K. Gupta, T. E. Kavanaugh, P. J. Kingsley, K. Boyd, L. J. Marnett, C. L. Duvall, Biomaterials, 2016, 92, 71-80には、プロピレンスルフィドをモノマーとする類似の反応が報告されており、当該反応を参照して及びこれを改変して、所望の式（５）で表される繰り返し構造を有するポリマー化合物を合成することができる。例えば、後述する実施例５に記載の方法により式（５ｂ）で表されるポリマーを合成することができる。

原料となるポリチオール化合物は市販品を使用してもよいが、従来公知の方法で合成して得てもよい。ポリチオール化合物の合成方法は例えば、特開平２－２７０８５９号、特開平６－７２９８９号、特開平７－２５２２０７号、特開２００５－２６３７９１号などに開示されている。当業者であれば当該合成方法を参照して及びこれを改変して所望の３官能以上のポリチオール化合物（上記式（１）’～（３）’で表されるポリチオール化合物、例えば、上記化合物１’～７’）を合成することができる。

例えば、特開２００５－２６３７９１号には、ビシナルジチオールの合成方法として、１以上のチイラン環を有するエピスルフィド化合物とチオカルボンＳ－酸とを塩基の存在下で反応させてチオカルボン酸Ｓ－エステルを得、次いで該チオカルボン酸Ｓ－エステルを塩基の存在下で加水分解してメルカプチドを得、次いで該メルカプチドを酸によりビシナルジチオールに変換する方法が開示されている。同文献の実施例１には、下記スキームによりチオ酢酸（ＡｃＳＨ）から１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン（ＴＭＴＨ）（化合物１’）を得る方法が開示されている。

また、特開平２－２７０８５９号には、ポリチオール化合物の合成方法として、グリセリン誘導体やエピハロヒドリンと２－メルカプトエタノールをアルカリ存在下、冷却又は加熱しながら反応させ、トリオールを得、該トリオールを鉱酸の存在下でチオ尿素と反応させた後に、アルカリによる加水分解をする方法が開示されている。また、同文献の実施例には下記スキームにより４－メルカプトメチル－３，６－ジチア－１，８－オクタンジチオール（ＧＳＴ）（上記化合物２’）を得る方法が開示されている。

また、特開平７－２５２２０７号には、４官能以上のポリチオール化合物の合成方法として、エピクロロヒドリンと２－メルカプトエタノールをアルカリ存在下で反応させてテトラオールを得、該テトラオールを鉱酸の存在下でチオ尿素と反応させた後に、アルカリによる加水分解をする方法；および；エピクロロヒドリンとチオグリセロールとをアルカリ存在下で反応させてトリオールを得、該トリオールに塩化チオニルを反応させた後に、チオ尿素を反応させてイソチウロニウム塩体とした後、抱水ヒドラジンを加えて加水分解を行う方法が開示されている。また、同文献の実施例１には下記スキームにより４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン混合物（ＤＤＴ）（上記化合物４’、３’、５’の異性体混合物）を得る方法が開示されている。

また、特開平６－７２９８９号にはペンタエリスリチオールの製造法として、ペンタエリスリトールテトラハライドを極性溶媒中でトリチオ炭酸塩と反応させ、次いで酸により加水分解する方法が開示されている。また、同文献の実施例１には下記スキームによりペンタエリスリチオール（上記化合物６’）を得る方法が開示されている。

本発明のさらなる一形態は上記式（１）で表される多官能プロパルギル化合物を含む光学材料用組成物に関する。組成物中に含まれる多官能プロパルギル化合物は単独でも、２種類以上を混合して用いてもよい。本形態の光学材料用組成物は前記式（１）で表される多官能プロパルギル化合物と前記式（１）で表される多官能プロパルギル化合物以外の重合可能な化合物（重合性化合物）とを含む。重合性化合物としては、ポリチオール化合物、不飽和二重結合を有する化合物、更にポリチオール化合物を介して重合可能なポリイソシアネート化合物、エピスルフィド化合物、硫黄、テトラチアスピロ化合物が挙げられる。多官能プロパルギル化合物以外の複数の種類の重合性化合物を併用し、その配合比や種類を調整することで、得られる硬化物の、屈折率、ガラス転移温度、柔軟性、接着性、重合収縮、表面硬度などの少なくとも一つの特性を調整することができる。

光学材料用組成物における式（１）で表される多官能プロパルギル化合物の含有量は特に制限されないが、光学材料用組成物の合計（１００質量部）に対して、１０質量部以上とすることが好ましく、３０質量部以上とすることがより好ましく、５０質量部以上とすることが特に好ましい。これにより、高い屈折率および高いガラス転移温度などの少なくとも一つの改良された光学材料が得られる。

一実施形態において、光学材料用組成物は、上記式（１）で表される多官能プロパルギル化合物とポリチオール化合物とを含む。ポリチオール化合物は光重合可能であり、上記式（１）で表される多官能プロパルギル化合物との光硬化重合性に優れることに加え、得られる光学材料（樹脂）の加熱時の色調を改善しうる。
特に、実施形態の多官能性プロパルギル化合物の炭素―炭素三重結合（プロパルギル基）によるチオール－イン反応は、高い架橋密度の重合体を与え、したがって、ガラス転移点及び屈折率が向上した重合体が得られる。

ポリチオール化合物は、分子中に２個以上のチオール基を含む化合物である。ポリチオール化合物は特に制限されず、すべてのポリチオール化合物を包含する。
ポリチオール化合物の好ましい具体例は、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ジメルカプトメチル－１，４－ジチアン、１，３－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン、ペンタエリスリチオール、１，１，３，３－テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、及びトリメチロールプロパントリスメルカプトプロピオネートであり、より好ましくは、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン、ペンタエリスリチオール、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ビス（２－メルカプトメチル）－１，４－ジチアン、４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン、１，３－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、及びペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレートであり、特に好ましい化合物は、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン、ペンタエリスリチオール、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ジメルカプトメチル－１，４－ジチアン、及び４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタンである。
ポリチオール化合物は単独でも、２種類以上を混合して用いてもよい。

実施形態の光学材料用組成物中のポリチオール化合物の配合量は特に制限されない。実施形態の光学材料用組成物におけるポリチオール化合物の含有量は、光学材料用組成物の合計（１００質量部）に対して、例えば１０質量部以上９０質量部以下である。好ましくは、上記式（１）で表される多官能プロパルギル化合物の三重結合（末端のプロパルギル基）数の２倍とポリチオール化合物のＳＨ基の官能基比が例えば９９：１～１：９９、好ましくは９９：１～４０：６０の比率となる量で混合し得る。

本発明の光学材料用組成物は、得られる樹脂の強度を改善するためポリイソシアネート化合物を重合性化合物として含んでも良い。ポリイソシアネート化合物は分子中に２個以上のイソシアネート基を有する化合物である。特に、光学材料用組成物はポリチオール化合物とともにポリイソシアネート化合物を含むことが好ましい。ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基とポリチオール化合物のチオール基とは容易に熱硬化反応して高分子量化し、光学材料の機械的強度が向上しうる。

ポリイソシアネート化合物は特に制限されず、すべてのポリイソシアネート化合物を包含する。

ポリイソシアネート化合物の好ましい具体例は、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ－キシリレンジイソシアネート、ｐ－キシリレンジイソシアネート、ｍ－テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ－テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアナトメチル）ノルボルネン、及び２，５－ジイソシアナトメチル－１，４－ジチアンの中から選ばれる少なくとも１種以上の化合物であり、中でも好ましい化合物は、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、及びｍ－キシリレンジイソシアネートであり、特に好ましい化合物は、イソホロンジイソシアネート、ｍ－キシリレンジイソシアネート、及び１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサンである。

ポリイソシアネート化合物は単独でも、２種類以上を混合して用いてもよい。
光学材料用組成物中に含まれるポリイソシアネート化合物のＮＣＯ基に対するポリチオール化合物中のＳＨ基の割合、即ち［組成物中ポリチオール化合物の合計ＳＨ基数／組成物中ポリイソシアネート化合物のＮＣＯ基数］（ＳＨ基／ＮＣＯ基）は、好ましくは１．０～２．５であり、より好ましくは１．２５～２．２５であり、さらに好ましくは１．５～２．０である。上記割合が１．０を下回ると成型時に黄色く着色する場合があり、２．５を上回ると耐熱性が低下する場合がある。

本発明の光学材料用組成物は、屈折率調整のためエピスルフィド化合物を重合性化合物として含んでも良い。本発明で用いられるエピスルフィド化合物は、特に制限されず、すべてのエピスルフィド化合物を包含する。好ましい化合物は、ビス（β－エピチオプロピル）スルフィド及び、ビス（β－エピチオプロピルジスルフィド）であり、特に、ビス（β－エピチオプロピル）スルフィドが好ましい。

本発明の光学材料用組成物は得られる光学材料（樹脂）の屈折率を向上するため硫黄を重合性化合物として含んでも良い。好ましくは硫黄とエピスルフィド化合物とを併用することが好ましい。かかる場合は、あらかじめエピスルフィド化合物と硫黄を予備的に反応させておくことが好ましい。

硫黄の形状はいかなる形状でもよい。具体的には、硫黄は、微粉硫黄、コロイド硫黄、沈降硫黄、結晶硫黄、昇華硫黄等であるが、好ましくは、粒子の細かい微粉硫黄である。入手方法は特に限定されず、市販品を使用できる。

本発明の光学材料用組成物は、テトラチアスピロ化合物を含んでもよい。テトラチアスピロ化合物は、テトラチアスピロ環（テトラチアスピロ［４．４］ノナン）を有する二官能性モノマーであり、例えば、末端に二重結合（アリル基）または三重結合（プロパルギル基）を有する化合物が挙げられる。テトラチアスピロ化合物の具体例は、例えば、国際公開第WO 2017／183549号のパンフレット、特願2017-119930号明細書に記載されている。

上記式（１）の多官能プロパルギル化合物は３つ以上の炭素―炭素三重結合（好ましくはプロパルギル基）を含む重合性基を有するため、重合反応により硬化し、光学材料（樹脂）が得られる。重合反応としては、光重合反応や熱重合反応などが挙げられる。周辺部材への熱的影響を考慮することなく重合可能である光重合反応（光重合性組成物）の方が好ましい。熱重合と光重合（光線照射による硬化）とを組み合わせてもよい。

例えば、多官能プロパルギル化合物の末端の炭素―炭素三重結合（好ましくはプロパルギル基）とポリチオール化合物のチオール基との付加反応（チオール－イン反応）により硬化反応が進行する。

上記のように、チオール－イン反応では、末端の炭素―炭素三重結合（プロパルギル基）１つに対して２つのチオール基（ＳＨ）が反応し得るのに対し、チオール－エン反応では、末端の二重結合１つに対して１つのチオール基（ＳＨ）が反応し得る。したがって、チオール－イン反応により得られる硬化物は、不飽和二重結合を含む重合性基（例えば、アリル基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基など）とのチオール基との間のチオール－エン反応により得られる硬化物に比べて、架橋密度がより高くなる。実施形態の多官能プロパルギル化合物は、少なくとも３つの炭素―炭素三重結合を有しており、高架橋密度および高ガラス転移点を有する重合体を形成しうる。

本発明の光学材料用組成物を重合反応させて光学材料を得るに際して、重合反応を促進するため重合触媒を添加することが好ましい。すなわち、本発明の組成物は前記光学材料用組成物と重合触媒とを含む重合硬化性組成物でありうる。上記式（１）の多官能プロパルギル化合物は容易に光重合可能である。したがって、本発明の一実施形態では、光学材料用組成物と重合触媒とを含む重合硬化性組成物を、紫外線または可視光の照射により硬化させることを特徴とする硬化物の製造方法が提供される。

光重合反応の場合、本発明の組成物（光学材料用組成物または重合硬化性組成物）を、光線（活性エネルギー線）の照射により硬化させることにより、硬化物としての光学材料（樹脂）が製造される。光線としては組成物の効果が可能であれば特に制限されないが、通常、紫外線、可視光線、放射線、電子線であり、好ましく紫外線または可視光、より好ましくは重合速度が速いことから紫外線である。光線の照射強度は特に制限されないが、通常１０～１０００００ｍＷ／ｃｍ^２である。照射時間は特に制限されないが、通常１分～数時間、例えば１～６０分である。照射温度は特に制限されず、室温付近で重合可能である。

重合触媒としては、特に制限はなく、反応物の種類、重合条件等に合わせて、適宜選択すればよい。光重合の場合、光（好ましくは活性エネルギー線）の照射によりラジカルを発生する化合物（光分解型ラジカル重合開始剤）が好ましく、具体例としては、ベンゾイン誘導体、ベンジル誘導体、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体、アシルフォスフィンオキサイド誘導体が挙げられる。その中でも市販品として、ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン（チバ・スペシャルティケミカルズの商品名イルガキュア（登録商標）１８４）、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン（イルガキュア（登録商標）２９５９）、２，４，６－トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイド（チバ・スペシャルティケミカルズの商品名イルガキュア（登録商標）ＴＰＯ）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド（チバ・スペシャルティケミカルズの商品名イルガキュア（登録商標）８１９）などが好ましく使用される。

あるいは、光重合反応に用いる重合触媒として、酸化剤と還元剤との共存でラジカル（遊離基）を発生する化合物（レドックス系重合開始剤）を使用することも好ましい。具体例としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩；過酸化水素、ｔ－ブチルパーオキシド、メチルエチルケトンパーオキシド等の過酸化物等から選択される酸化物と、Ｌ－アスコルビン酸、亜硫酸水素ナトリウム等から選択される還元性化合物とを組み合わせた系が挙げられる。
あるいは、光重合反応に用いる重合触媒として、可視光などの光の照射によりラジカルを発生する光レドックス触媒も好ましく使用される。具体例としては、ルテニウム（ＩＩ）ポリピリジル錯体（例えば、Ｒｕ（ｂｐｚ）_３－（ＰＦ_６）_２触媒など）、イリジウム（ＩＩＩ）フェニルピリジル錯体などの遷移金属錯体が挙げられる。

熱重合反応の場合、本発明の組成物（光学材料用組成物または重合硬化性組成物）を、加熱によって重合（硬化）させることで硬化物としての光学材料（樹脂）が製造される。
熱重合反応に用いる重合触媒として、加熱によりラジカルを発生する化合物（熱分解型ラジカル重合開始剤）が好ましい。具体例としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムなどの過硫酸塩；過酸化水素；ｔ－ブチルハイドロパーオキサイドなどの有機過酸化物；２，２’－アゾビス（２－アミジノプロパン）二塩酸塩、２，２’－アゾビス［２－２－（イミダゾリン－２－イル）プロパン］二塩酸塩、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオニトリル）などのアゾ化合物が挙げられる。

重合触媒は一種を単独でまたは複数種を混合して使用することができる。
重合触媒の添加量は、組成物の成分、混合比及び重合硬化方法によって変化するため一概には決められないが、通常は光学材料用組成物の合計１００質量％に対して、０．０００１質量％～１０質量％、好ましくは、０．００１質量％～５質量％である。添加量が１０質量％より多いと急速に重合する場合がある。添加量が０．０００１質量％より少ないと光学材料用組成物が十分に硬化せず耐熱性が不良となる場合がある。したがって、本発明の好ましい一形態において、光学材料の製造方法は重合触媒を前記光学材料用組成物総量に対して０．０００１～１０質量％添加し、重合硬化させる工程を含む。

本発明の組成物の加熱による重合（硬化）は通常、以下のようにして行われる。即ち、硬化時間は通常１～１００時間であり、硬化温度は通常－１０℃～１４０℃である。重合は所定の重合温度で所定時間保持する工程、０．１℃～１００℃／ｈの昇温を行う工程、０．１℃～１００℃／ｈの降温を行う工程によって、またはこれらの工程を組み合わせて行う。なお、硬化時間とは昇温過程等を含めた重合硬化時間をいい、所定の重合(硬化)温度で保持する工程に加えて、所定の重合(硬化)温度へと昇温・冷却工程を含む。

重合硬化工程（光重合及び熱重合）は特に限定されないが、金属、セラミック、ガラス、樹脂製等の金型を用いた硬化工程であることが好適である。具体的には、組成物の各成分（光学材料組成物の各成分、重合触媒等）を混合する。これらは、全て同一容器内で同時に撹拌下に混合しても、各原料を段階的に添加混合しても、数成分を別々に混合後さらに同一容器内で再混合しても良い。また、各原料及び副原料はいかなる順序で混合してもかまわない。混合にあたり、設定温度、これに要する時間等は基本的には各成分が十分に混合される条件であれば良い。このようにして得られた光学材料用組成物または重合硬化性組成物はモールド等の型に注型し、加熱や紫外線などの光線の照射によって重合硬化反応が進められた後、型から外される。このようにして、本発明の光学材料用組成物または重合硬化性組成物を硬化した光学材料が得られる。重合反応（硬化工程）は、空気中、または、窒素等の不活性ガス雰囲気下、減圧下または加圧下のいずれの雰囲気下でも行うことができる。

硬化終了後、得られた光学材料を５０～１５０℃の温度で１０分～５時間程度アニール処理を行うことは、本発明の光学材料の歪を除くために好ましい処理である。さらに得られた光学材料に対して、必要に応じてハードコート、反射防止、等の表面処理を行ってもよい。

本発明の光学材料を製造する際、光学材料用組成物に紫外線吸収剤、酸化防止剤、密着性改善剤、離型剤等の添加剤を加え、得られる光学材料の実用性をより向上せしめることはもちろん可能である。

本発明の組成物（光学材料用組成物・重合硬化性組成物）は、上述のようにして高い屈折率、高い架橋密度、高いガラス転移温度などの少なくとも一つに優れた成形体を与えることができる。このように、上記組成物を硬化して得られる成形体（硬化物）もまた、本発明の１つである。
一実施形態の成形体（硬化物）は、ガラス転移温度が２０℃又は室温以上（より好ましくは７０℃以上）である。このような成形体は、広範な用途に使用できる。
一実施形態の成形体（硬化物）は、高屈折率材料である。具体的には屈折率が、１．６０以上であることが好ましく、１．６５以上であることがより好ましく、１．６９以上であることが一層好ましく、１．７０以上であることがさらに好ましい。屈折率は屈折率計により測定することができる。屈折率は、２０～２５℃、５８９ｎｍ（Ｄ線）で測定した値である。
一実施形態の成形体（硬化物）は、アッベ数（ν_ｄ）が３２以上（より好ましくは３３以上、さらに好ましくは３５以上）である。アッベ数は、後述する実施例に記載の方法により測定される。

成形体は、例えば、光学材料（部材）、機械部品材料、電気・電子部品材料、自動車部品材料、土木建築材料、成形材料等の他、塗料や接着剤の材料等の各種用途に有用である。中でも、光学材料、例えば、眼鏡レンズ、（デジタル）カメラ用撮像レンズ、光ビーム集光レンズ、光拡散用レンズ等のレンズ、ＬＥＤ用封止材、光学用接着剤、光伝送用接合材料、プリズム、フィルター、回折格子、ウォッチガラス、表示装置用のカバーガラス等の透明ガラスやカバーガラス等の光学用途；ＬＣＤや有機ＥＬやＰＤＰ等の表示素子用基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、ディスプレイバックライト、導光板、ディスプレイ保護膜、反射防止フィルム、防曇フィルム等のコーティング剤（コーティング膜）などの表示デバイス用途等が好適である。上記光学材料としては、特に、光学用接着剤、プリズム、コーティング剤であることが好適である。

以下、実施例を示して本発明について更に具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変更して実施することができる。 本明細書において、「室温」または「ｒｔ」は通常約１０℃から約３５℃を示す。％は特記しない限り重量パーセントを示す。

＜評価＞
１．屈折率の評価
化合物及び光学材料（硬化物）の屈折率は、屈折率計（島津製作所製ＫＰＲ－２０００）にて測定した。単量体化合物の屈折率は、２１℃、５８９ｎｍ（Ｄ線）で測定した値である。なお、単量体化合物はいずれも液体またはシロップ状であり、液体状態で屈折率を測定した。硬化物の屈折率は、２５℃、５８９ｎｍ（Ｄ線）で測定した値である。

２．化合物の同定
４００ＭＨｚ核磁気共鳴分光装置（^１Ｈ及び^１３Ｃ ＮＭＲ）（ＪＥＯＬ社製 ＥＣＳ－４００ＳＳ）。

３．５％重量減少温度の測定
５％重量減少温度は示差熱熱重量同時測定装置（日立ハイテクサイエンス社製ＴＧ／ＤＴＡ６２００）を用いて測定した。具体的には、サンプルを、窒素雰囲気下で常温より１０℃／分で昇温し、重量が初期重量に比べて５％の重量減少した温度を求めた。５%重量減少温度が大きいほど耐熱性が高いことを示す。

４．ガラス転移温度の測定
実施例６、比較例４のガラス転移温度は、セイコーインスツル製ＤＭＳ６１００を用いた動的粘弾性測定（ＤＭＡ）により測定した。具体的には、サンプルを３０℃より２℃／分で昇温しつつ１Ｈｚの振動を与え、得られたｔａｎδの曲線のピークトップをガラス転移温度とした。
比較例３のガラス転移温度は、示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ）により測定した（日立ハイテクサイエンス社製ＤＳＣ６２００）。具体的には、サンプルを、窒素雰囲気下で－８０℃または－６０℃より５℃／分で昇温し、ベースラインが下がる場所の変曲点での接線の交点をガラス転移温度とした。

５．アッベ数の評価
光学材料（硬化物）のアッベ数（ν_ｄ）は、屈折率計（アタゴ製ＤＲ－Ｍ４）にてＦ線（４８６ｎｍ）の屈折率（ｎ_Ｆ）、ｄ線（５８８ｎｍ）の屈折率（ｎ_ｄ）、およびＣ線（６５６ｎｍ）の屈折率（ｎ_Ｃ）を測定し、ν_ｄ＝（ｎ_ｄ－１）／（ｎ_Ｆ－ｎ_Ｃ）の式より算出した。

６．Ｓ－プロパルギルポリマーの分子量測定
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー社製 ＨＬＣ－８２２０）を用いて、後述するＳ－プロパルギルポリマー（化合物７）の数平均分子量（Ｍ_ｎ）および分子量分布（Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎ）を決定した。
具体的には、化合物７を０．０１Ｍ ＬｉＢｒ含有ＤＭＦに溶解し、ＧＰＣを用いて測定を行い、重合体の数平均分子量（Ｍ_ｎ）および分子量分布（Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎ）を決定した。各重合体のＭ_ｗ、Ｍ_ｎ、及びＭ_ｗ／Ｍ_ｎは、標準ポリスチレンによる検量線を基に算出した。
装置：東ソー社製 ＨＬＣ－８２２０
カラム：東ソー社製 ＴＳＫｇｅｌ ３本 （Ｓｕｐｅｒ ＡＷ４０００， Ｓｕｐｅｒ ＡＷ３０００， Ｓｕｐｅｒ ＡＷ２５００）およびＴＳＫガードカラム（Ｓｕｐｅｒ ＡＷ－Ｈ）を直列接続
移動相溶媒：０．０１Ｍ ＬｉＢｒ含有ＤＭＦ
流速：０．５ｍＬ／分
温度：４０℃
サンプル濃度：０．０７％
サンプル注入量：５０μＬ
検出器：ＲＩ

＜多官能プロパルギル化合物の製造＞
＜実施例１＞
１，２，６，７－テトラキス（プロパルギルチオ）－４－チアヘプタン（化合物１）の合成（方法１）

５０ｍＬナスフラスコ中の１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン（１．２３ｇ，５ｍｍｏｌ）にメタノール（５ｍＬ）を加えて撹拌を開始し、そこへメタノール（１０ｍＬ）に溶解した純度８５％の水酸化カリウム（１．３９ｇ，２１ｍｍｏｌ）の溶液を室温で１０分かけて滴下した。更に室温で１０分撹拌した後に氷浴で０℃に冷却し、そこへメタノール（５ｍＬ）に溶解したプロパルギルブロミド（２．５０ｇ，２１ｍｍｏｌ）の溶液を１０分かけて滴下した。更に０℃で２時間攪拌した後にエバポレーターで溶媒留去した。残渣にエーテル（３０ｍＬ）を加えて純水（１０ｍＬ×４）と飽和食塩水（１０ｍＬ）とで洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。エバポレーターで溶媒留去後に残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／クロロホルム＝３：２）で精製し、淡橙色油状物の１，２，６，７－テトラキス（プロパルギルチオ）－４－チアヘプタン（化合物１）を収率９０％（１．７９ｇ）で得た。この四官能性Ｓ－プロパルギルモノマーである１，２，６，７－テトラキス（プロパルギルチオ）－４－チアヘプタン（化合物１）の屈折率は１．６１３（５８９ｎｍ，２１℃）であった。また、得られた化合物１の構造を^１Ｈ及び^１３Ｃ ＮＭＲ分析にて同定した（図１）。なお、化合物１の硫黄含有率は４０．２重量％である。

＜実施例２＞
１，２，６，７－テトラキス（プロパルギルチオ）－４－チアヘプタン（化合物１）の合成（方法２）

５０ｍＬナスフラスコ中の１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン（１．２３ｇ，５ｍｍｏｌ）に乾燥アセトニトリル（２０ｍＬ）と炭酸カリウム（５．５３ｇ，４０ｍｍｏｌ）を加えて撹拌を開始し、そこへプロパルギルブロミド（３．５７ｇ，３０ｍｍｏｌ）を添加し、次いで油浴４５℃で１２時間撹拌した。エバポレーターで溶媒留去後の残渣に酢酸エチル（２０ｍＬ）を加えて純水（２０ｍＬ×３）と飽和食塩水（１０ｍＬ）とで洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。エバポレーターで溶媒留去後に残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／クロロホルム＝３：２）で精製し、淡橙色油状物の１，２，６，７－テトラキス（プロパルギルチオ）－４－チアヘプタン（化合物１）を収率９４％（１．８６ｇ）で得た。得られた１，２，６，７－テトラキス（プロパルギルチオ）－４－チアヘプタン（化合物１）の屈折率と^１Ｈ及び^１３Ｃ ＮＭＲは、実施例１で合成した化合物１と同じであった。

＜比較例１＞
ビス(プロパルギル)スルフィド（化合物ｃ１）の合成

２０ｍＬナスフラスコ中の硫化ナトリウム九水和物（２．４０ｇ，１０ｍｍｏｌ）に純水（２ｍＬ）を加えて均一な溶液とし、そこへｔ－ブチルメチルエーテル（２ｍＬ）に溶解したプロパルギルブロミド（２．３８ｇ，２０ｍｍｏｌ）の溶液を加えて室温で４時間撹拌した。この反応液をｔ－ブチルメチルエーテル（１０ｍＬ×２）で抽出し、合わせた有機相を２０％チオ硫酸ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）と純水（１０ｍＬ×２）と飽和食塩水（１０ｍＬ）とで洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。エバポレーターで溶媒留去後に残渣を減圧蒸留（圧力：１．６ｋＰａ、温度：５３～５４℃）で精製し、微黄色透明液体のビス（プロパルギル）スルフィド（化合物ｃ１）を収率８９％（９８０ｍｇ）で得た。この二官能性Ｓ－プロパルギルモノマー（化合物ｃ１）の屈折率は１．５１４（５８９ｎｍ，２１℃）であった。また、得られた化合物ｃ１の構造を^１Ｈ及び^１３Ｃ ＮＭＲ分析にて同定した（図２）。なお、化合物ｃ１の硫黄含有率は２９．１重量％である。

＜比較例２＞
１，２－ビス(プロパルギルチオ)プロパン（化合物ｃ２）の合成

５０ｍＬナスフラスコ中の１，２－プロパンヂチオール（１．０８ｇ，１０ｍｍｏｌ）にメタノール（５ｍＬ）を加えて撹拌を開始し、そこへメタノール（１０ｍＬ）に溶解した純度８５％の水酸化カリウム（１．３９ｇ，２１ｍｍｏｌ）の溶液を室温で１０分かけて滴下した。更に室温で１０分撹拌した後に氷浴で０℃に冷却し、そこへメタノール（５ｍＬ）に溶解したプロパルギルブロミド（２．５０ｇ，２１ｍｍｏｌ）の溶液を１０分かけて滴下した。更に０℃で１時間攪拌した後にエバポレーターで溶媒留去した。残渣にエーテル（２０ｍＬ）を加えて純水（１０ｍＬ×３）と飽和食塩水（１０ｍＬ）とで洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。エバポレーターで溶媒留去後に残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１５：１）で精製し、淡黄色油状物の１，２－ビス(プロパルギルチオ)プロパン（化合物ｃ２）を収率８１％（１．４９ｇ）で得た。この二官能性Ｓ－プロパルギルモノマーである１，２－ビス(プロパルギルチオ)プロパン（化合物ｃ２）の屈折率は１．５５０（５８９ｎｍ，２１℃）であった。また、得られた化合物ｃ２の構造を^１Ｈ及び^１３Ｃ ＮＭＲ分析にて同定した（図３）。なお、化合物ｃ２の硫黄含有率は３４．８重量％である。

＜実施例３＞
１，８－ビス(プロパルギルチオ) －４－(プロパルギルチオ)メチル－３，６－ジチアオクタン（化合物２）の合成

５０ｍＬナスフラスコ中の４－メルカプトメチル－３，６－ジチア－１，８－オクタンジチオール（１．３０ｇ，５ｍｍｏｌ）にメタノール（５ｍＬ）を加えて撹拌を開始し、そこへメタノール（８ｍＬ）に溶解した水酸化ナトリウム（６３２ｍｇ，１５．８ｍｍｏｌ）の溶液を室温で１０分かけて滴下した。更に室温で１０分撹拌した後に氷浴で０℃に冷却し、そこへメタノール（４ｍＬ）に溶解したプロパルギルブロミド（１．８８ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）の溶液を２０分かけて滴下した。更に０℃で２時間攪拌した後にエバポレーターで溶媒留去した。残渣にエーテル（３０ｍＬ）を加えて純水（１０ｍＬ×４）と飽和食塩水（１０ｍＬ）とで洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。エバポレーターで溶媒留去後に残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）で精製し、淡黄色油状物の１，８－ビス(プロパルギルチオ)－４－(プロパルギルチオ)メチル－３，６－ジチアオクタン（化合物２）を収率９１％（１．７０ｇ）で得た。この三官能性Ｓ－プロパルギルモノマーである化合物２の屈折率は１．６６２（５８９ｎｍ，２１℃）であった。また、得られた化合物２の構造を^１Ｈ及び^１３Ｃ ＮＭＲ分析にて同定した（図４）。なお、化合物２の硫黄含有率は４２．８重量％である。

＜実施例４＞
テトラキス(プロパルギルチオメチル)メタン（化合物６）の合成

５０ｍＬナスフラスコ中のテトラキス(メルカプトメチル)メタン（１．００ｇ，５ｍｍｏｌ）にメタノール（５ｍＬ）を加えて撹拌を開始し、そこへメタノール（１０ｍＬ）に溶解した水酸化ナトリウム（８４０ｍｇ，２１ｍｍｏｌ）の溶液を室温で１０分かけて滴下した。更に室温で１０分撹拌した後に氷浴で０℃に冷却し、そこへメタノール（５ｍＬ）に溶解したプロパルギルブロミド（２．５０ｇ，２１ｍｍｏｌ）の溶液を２０分かけて滴下した。更に０℃で２時間攪拌した後にエバポレーターで溶媒留去した。残渣にエーテル（３０ｍＬ）を加えて純水（１０ｍＬ×４）と飽和食塩水（１０ｍＬ）とで洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。エバポレーターで溶媒留去後に残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／クロロホルム＝３：２）で精製し、淡黄色油状物のテトラキス(プロパルギルチオメチル)メタン（化合物６）を収率７８％（１．３７ｇ）で得た。この四官能性Ｓ－プロパルギルモノマーである化合物６の屈折率は１．６０３（５８９ｎｍ，２１℃）であった。また、得られた化合物６の構造を^１Ｈ及び^１３Ｃ ＮＭＲ分析にて同定した（図５）。なお、化合物６の硫黄含有率は３６．４重量％である。

＜実施例５＞
ポリ（２－（プロパルギルチオメチル）チイラン）（化合物７）の合成

窒素雰囲気下、１０ｍＬナスフラスコ中の１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）（７６ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）に乾燥テトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）を加えて撹拌を開始し、氷浴で０℃に冷却した。そこへプロパンチオール（３８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加えて０℃で１０分間撹拌後、乾燥テトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）に溶解した２－（プロパルギルチオメチル）チイラン（７２１ｍｇ，５ｍｍｏｌ）を加え、０℃で２時間撹拌した。この反応液にヨードプロパン（８５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加え、氷浴を外して室温で６時間撹拌した。反応液をメタノール（５０ｍＬ）で再沈殿後に生じた析出物を更にメタノール(２０ｍＬ×２）で洗浄し、４０℃で４８時間真空乾燥して褐色シロップ状のポリ（２－（プロパルギルチオメチル）チイラン）（化合物７）を収率９０％（７０５ｍｇ）で得た。この反応性高分子（多官能性Ｓ－プロパルギルポリマー）である化合物７の屈折率は１．６３６（５８９ｎｍ，２１℃）であった。また、得られた化合物７の構造を^１Ｈ及び^１３Ｃ ＮＭＲ分析にて同定した（図６）。化合物７のＧＰＣ分析により、数平均分子量（Ｍ_ｎ）は３，８５０、分子量分布（Ｍ_ｎ／Ｍ_ｗ）は１．９４であり、このＭ_ｎの値より重合度（ｋ）は２６と算出された。この重合度における化合物７の硫黄含有率は４３．９重量％である。

＜光学材料の製造＞
上記で合成した多官能プロパルギル化合物（化合物１、ｃ１、ｃ２、化合物２、化合物６、化合物７）とポリチオール化合物（化合物ｔ１）とを触媒（ｉ１）の存在下で光重合させることにより、光学材料を製造した。

＜実施例６＞
四官能性Ｓ－プロパルギルモノマー（化合物１）とポリチオールの光硬化反応
上記実施例１で合成したＳ－プロパルギルモノマー（化合物１）とポリチオール化合物（下記化合物ｔ１）とを触媒（i１）の存在下で光重合させることにより、硬化物（Ｐｏｌｙ－１）を製造した。具体的には以下の方法により製造した。

実施例１で得られた化合物１（７９．７ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）とポリチオールとしての１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン（化合物ｔ１）（９８．６ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）を混合し、光学材料用組成物を得た。そこへ、イルガキュア１８４（触媒（ｉ１））（１．６ｍｇ，８μｍｏｌ）を加えて溶解し、均一な淡橙色の混合液（重合硬化性組成物）を得た。この混合液を２５０μｍ厚のスペーサーを介して２枚の石英ガラス板で挟み、メタルハライドランプ（４０ｍＷ／ｃｍ^２）を室温で３０分間照射したところ硬化反応が進行し、淡橙色透明で硬質なフィルム（Ｐｏｌｙ－１）を得た。このＰｏｌｙ－１の屈折率は１．７０６８（５８９ｎｍ，２５℃）であった。また、Ｐｏｌｙ－１のＩＲ測定により炭素－炭素三重結合の吸収の消失を確認した。

＜比較例３＞
二官能性Ｓ－プロパルギルモノマー（ｃ１）とポリチオールの光硬化反応
上記比較例１で合成したＳ－プロパルギルモノマー（化合物ｃ１）とポリチオール化合物（下記化合物ｔ１）とを触媒（ｉ１）の存在下で光重合させることにより、硬化物（Ｐｏｌｙ－２）を製造した。具体的には以下の方法により製造した。

比較例１で得られた化合物ｃ１（４４．１ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）とポリチオールとしての１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン（化合物ｔ１）（９８．６ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）を混合し、光学材料用組成物を得た。そこへイルガキュア１８４（触媒（ｉ１））（１．６ｍｇ，８μｍｏｌ）を加えて溶解し、均一な淡橙色の混合液（重合硬化性組成物）を得た。この混合液を２５０μｍ厚のスペーサーを介して２枚の石英ガラス板で挟み、メタルハライドランプ（４０ｍＷ／ｃｍ^２）を室温で３０分間照射したところ硬化反応が進行し、淡橙色透明で硬質なフィルム（Ｐｏｌｙ－２）を得た。このＰｏｌｙ－２の屈折率は１．６５３（５８９ｎｍ，２５℃，アタゴＤＲ－Ｍ４）であった。また、Ｐｏｌｙ－２のＩＲ測定により炭素－炭素三重結合の吸収の消失を確認した。

＜比較例４＞
二官能性Ｓ－プロパルギルモノマー（ｃ２）とポリチオールの光硬化反応
上記比較例２で合成したＳ－プロパルギルモノマー（化合物ｃ２）とポリチオール化合物（下記化合物ｔ１）とを触媒（ｉ１）の存在下で光重合させることにより、硬化物（Ｐｏｌｙ－３）を製造した。具体的には以下の方法により製造した。

比較例２で得られた化合物ｃ２（７３．７ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）とポリチオールとしての１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン（化合物ｔ１）（９８．６ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）を混合し、光学材料用組成物を得た。そこへイルガキュア１８４（触媒（ｉ１））（１．６ｍｇ，８μｍｏｌ）を加えて溶解し、均一な淡橙色の混合液（重合硬化性組成物）を得た。この混合液を２５０μｍ厚のスペーサーを介して２枚の石英ガラス板で挟み、メタルハライドランプ（４０ｍＷ／ｃｍ^２）を室温で３０分間照射したところ硬化反応が進行し、淡橙色透明で硬質なフィルム（Ｐｏｌｙ－３）を得た。このＰｏｌｙ－３の屈折率は１．６８１（５８９ｎｍ，２５℃，アタゴＤＲ－Ｍ４）であった。また、Ｐｏｌｙ－３のＩＲ測定により炭素－炭素三重結合の吸収の消失を確認した。

上記で得た硬化物（光学材料）の５％重量減少温度、ガラス転移温度、屈折率を測定し、結果を表１に示す。

式（１）で表される多官能プロパルギル化合物（化合物１）は紫外線により光重合可能であることが確認された。 実施例６の硬化物（Ｐｏｌｙ－１）は、比較例３の硬化物（Ｐｏｌｙ－２）と比較して屈折率が大きく向上し、比較例４の硬化物（Ｐｏｌｙ－３）と比較しても向上した。実施例６、比較例３および比較例４の光硬化反応で得られた硬化物（Ｐｏｌｙ－１、Ｐｏｌｙ－２およびＰｏｌｙ－３）はいずれも炭素－炭素単結合および炭素－硫黄単結合で構成される脂肪族スルフィド構造が主成分なので、５％重量減少温度は同等であった。また、実施例６の硬化物（Ｐｏｌｙ－１）は、比較例３および比較例４の硬化物（Ｐｏｌｙ－２およびＰｏｌｙ－３）と比較して高いガラス転移温度を有していた（Ｐｏｌｙ－３は二つのガラス転移温度を有した）。

＜実施例７＞
三官能性Ｓ－プロパルギルモノマー（化合物２）とポリチオールの光硬化反応
上記実施例３で合成したＳ－プロパルギルモノマー（化合物２）とポリチオール化合物（下記化合物ｔ１）とを触媒（i１）の存在下で光重合させることにより、硬化物（Ｐｏｌｙ－４）を製造した。具体的には以下の方法により製造した。

実施例３で得られた化合物２（７４．９ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）とポリチオールとしての１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン（化合物ｔ１）（７４．０ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を混合し、光学材料用組成物を得た。そこへ、イルガキュア１８４（触媒（ｉ１））（１．２ｍｇ，６μｍｏｌ）を加えて溶解し、均一な微黄色の混合液（重合硬化性組成物）を得た。この混合液を２５０μｍ厚のスペーサーを介して２枚の石英ガラス板で挟み、メタルハライドランプ（４０ｍＷ／ｃｍ２）を室温で３０分間照射したところ硬化反応が進行し、淡橙色透明で硬質なフィルム（Ｐｏｌｙ－４）を得た。このＰｏｌｙ－４の屈折率は１．７０４１（５８９ｎｍ，２５℃）であった。また、Ｐｏｌｙ－４のＩＲ測定により炭素－炭素三重結合の吸収の消失を確認した。

＜実施例８）
四官能性Ｓ－プロパルギルモノマー（化合物６）とポリチオールの光硬化反応
上記実施例４で合成したＳ－プロパルギルモノマー（化合物６）とポリチオール化合物（下記化合物ｔ１）とを触媒（i１）の存在下で光重合させることにより、硬化物（Ｐｏｌｙ－５）を製造した。具体的には以下の方法により製造した。

実施例４で得られた化合物６（７０．５ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）とポリチオールとしての１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン（化合物ｔ１）（９８．６ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）を混合し、光学材料用組成物を得た。そこへ、イルガキュア１８４（触媒（ｉ１））（１．６ｍｇ，８μｍｏｌ）を加えて溶解し、均一な淡黄色の混合液（重合硬化性組成物）を得た。この混合液を２５０μｍ厚のスペーサーを介して２枚の石英ガラス板で挟み、メタルハライドランプ（４０ｍＷ／ｃｍ２）を室温で３０分間照射したところ硬化反応が進行し、淡橙色透明で硬質なフィルム（Ｐｏｌｙ－５）を得た。このＰｏｌｙ－５の屈折率は１．７００２（５８９ｎｍ，２５℃）であった。また、Ｐｏｌｙ－５のＩＲ測定により炭素－炭素三重結合の吸収の消失を確認した。

＜実施例９＞
多官能性Ｓ－プロパルギルポリマー（化合物７）とポリチオールの光硬化反応
上記実施例５で合成したＳ－プロパルギルポリマー（化合物７）とポリチオール化合物（下記化合物ｔ１）とを触媒（i２）の存在下で光多官能性Ｓ－プロパルギルポリマー重合させることにより、硬化物（Ｐｏｌｙ－６）を製造した。具体的には以下の方法により製造した。

実施例５で得られた化合物７（７４．４ｍｇ，プロパルギル基：０．５ｍｅｑ／７４．４ｍｇ）とポリチオールとしての１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン（化合物ｔ１）（６１．６ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を混合し、光学材料用組成物を得た。そこへ、イルガキュア１１７３（触媒（ｉ２））（１．６ｍｇ，１０μｍｏｌ）を加えて溶解し、均一な淡橙色の混合液（重合硬化性組成物）を得た。この混合液を２５０μｍ厚のスペーサーを介して２枚の石英ガラス板で挟み、メタルハライドランプ（４０ｍＷ／ｃｍ２）を室温で３０分間照射したところ硬化反応が進行し、淡橙色透明で硬質なフィルム（Ｐｏｌｙ－６）を得た。このＰｏｌｙ－６の屈折率は１．６９８６（５８９ｎｍ，２５℃）であった。また、Ｐｏｌｙ－６のＩＲ測定により炭素－炭素三重結合の吸収の消失を確認した。

上記で得た硬化物（光学材料）の５％重量減少温度、屈折率、アッベ数を測定し、結果を表２に示す。

実施例７－９で得られた硬化物（Ｐｏｌｙ－４、Ｐｏｌｙ－５、Ｐｏｌｙ－６）は、表１の実施例６で得られた硬化物（Ｐｏｌｙ１－３）と同様に炭素－炭素単結合および炭素－硫黄単結合で構成される脂肪族スルフィド構造が主成分なので、５％重量減少温度は同等であった。
実施例７－９で得られた硬化物（Ｐｏｌｙ－４、Ｐｏｌｙ－５、Ｐｏｌｙ－６）の屈折率は、実施例６で得られた（Ｐｏｌｙ－１）と同様に１．７００付近の高い値を示した。三官能以上の多官能性Ｓ－プロパルギル化合物は、高屈折率を有する光学材料を製造し得る単量体（および反応性高分子）として有用であることが確認された。
また、実施例７－９で得られた硬化物（Ｐｏｌｙ－４、Ｐｏｌｙ－５、Ｐｏｌｙ－６）はアッベ数も３５－３６付近の高い値を示した。一般的なポリスチレンやポリカーボネートは屈折率が１．５９のときアッベ数が３０付近であり、これらの一般的な光学材料用樹脂と比較して、本発明の多官能プロパルギル化合物を硬化してなる硬化物（Ｐｏｌｙ－４、Ｐｏｌｙ－５、Ｐｏｌｙ－６）はアッベ数が非常に優れている（高アッベ数）と言える。

上記結果から、本発明の多官能プロパルギル化合物は、二官能プロパルギル化合物と比較して、優れた耐熱性を維持しつつ、屈折率を顕著に向上し得ることが確認される。また、本発明の多官能プロパルギル化合物は、高屈折率（例えば）および高アッベ数を両立し得る硬化物（光学材料）を提供し得ることが確認された。本発明の多官能プロパルギル化合物は優れた光学性能（高屈折率および／または高アッベ数）、ならびに／または優れた耐熱性（高いガラス転移温度）を有する光学材料を製造し得る単量体として有用である。

本発明の多官能プロパルギル化合物は、光重合可能であり、光学材料を製造するための単量体として有用である。

Claims (8)

1. 下記式（２）または（３）で表される多官能プロパルギル化合物：
   

   

   （式中、
   ｐは１～１０の整数を示し、
   ｎ_１は出現するごとにそれぞれ独立して、１～５の整数を示し、
   ｎ_２は１～５の整数を示し、
   ｎ_３およびｎ_４はそれぞれ独立して、０～５の整数を示し、
   Ｒ_２～Ｒ_７は出現するごとにそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１～５のアルキル、－ＳＨ、及び下記式（４）で表される基から選択され、
   

   

   Ｒ_８は、単結合または炭素数１～２のアルキルを示し、
   波線部は結合部を示し、
   Ｒ_Ｂ～Ｒ_Ｆはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、炭素数１～１０のアルキル、置換又は非置換のフェニル、置換又は非置換のナフチル、およびシリルからなる群から選択され、
   式（２）または（３）で表される化合物中に含まれる炭素―炭素三重結合の総数は３～１０である。）
2. Ｒ_Ｂ～Ｒ_Ｆが水素原子である、請求項１に記載の化合物。
3. 前記式（２）で表され、式（２）で表される化合物中に含まれる炭素―炭素三重結合の総数は３～５である、請求項１または２に記載の化合物。
4. 前記式（３）で表され、式（３）で表される化合物中に含まれる炭素―炭素三重結合の総数は３～５である、請求項１または２に記載の化合物。
5. 下記式（５）で表される繰り返し構造を含む、多官能プロパルギル化合物。
   

   

   （式中、
   Ｒ_９はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～５のアルキルを示し、
   Ｒ_１０はそれぞれ独立して、単結合または炭素数１～２のアルキルを示し、
   ｎ_５は３～５０の整数を示す。）
6. 下記化合物群から選択される、化合物：
   

   

   
7. 請求項１～６のいずれか１項に記載の化合物と、ポリチオール化合物とを含む、光学材料用組成物。
8. 請求項７に記載の光学材料用組成物と重合触媒とを含む重合硬化性組成物を硬化した光学材料。

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