JP7216111B2 - 順次蒸着された内側導電性ポリマー膜を含む固体電解キャパシタ - Google Patents
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Description
当業者に向けた本発明のベストモードを含む本発明の完全かつ実施可能な開示を、添付の図面を参照する本明細書の残りの部分においてより詳細に示す。
当業者であれば、本議論は例示的な実施形態の記載にすぎず、本発明のより広い態様を限定することを意図するものではなく、より広い態様は例示的な構成において具現化されることを理解する。
湿潤対乾燥キャパシタンス=(乾燥キャパシタンス/湿潤キャパシタンス)×100
によって求められる「湿潤対乾燥キャパシタンスパーセント(wet-to-dry capacitance percentage)」によって定量される。
I.キャパシタ素子:
A.陽極体:
キャパシタ素子は、一般に、焼結多孔質体上に形成された誘電体を含む。多孔質陽極体は、バルブメタル(すなわち酸化することができる金属)又はバルブメタル系化合物、例えば、タンタル、ニオブ、アルミニウム、ハフニウム、チタン、それらの合金、それらの酸化物、それらの窒化物などを含む粉末から形成することができる。粉末は、通常は、タンタル塩(例えば、フッ化タンタル酸カリウム(K2TaF7)、フッ化タンタル酸ナトリウム(Na2TaF7)、五塩化タンタル(TaCl5)など)を還元剤と反応させる還元プロセスから形成される。還元剤は、液体、気体(例えば水素)、又は固体、例えば金属(例えばナトリウム)、金属合金、又は金属塩の形態で提供することができる。例えば一実施形態においては、タンタル塩(例えばTaCl5)を約900℃~約2,000℃、幾つかの実施形態においては約1,000℃~約1,800℃、幾つかの実施形態においては約1,100℃~約1,600℃の温度で加熱して蒸気を形成することができ、それを気体還元剤(例えば水素)の存在下で還元することができる。かかる還元反応の更なる詳細は、MaeshimaらのWO-2014/199480に記載されている。還元後、生成物を冷却、粉砕、及び洗浄して粉末を形成することができる。
決して必須ではないが、随意的なプレコート層を誘電体層の上に配して、概して誘電体と固形電解質との間に配置されるようにすることができる。プレコートには、例えば、下記の一般式:
Mは、ケイ素、チタンなどのような有機金属原子であり;
R1、R2、及びR3は、独立して、アルキル(例えば、メチル、エチル、プロピルなど)、又はヒドロキシアルキル(例えば、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピルなど)であり、R1、R2、及びR3の少なくとも1つはヒドロキシアルキルであり;
nは、0~8、幾つかの実施形態においては1~6、幾つかの実施形態においては2~4(例えば3)の整数であり;そして
Xは、グリシジル、グリシジルオキシ、メルカプト、アミノ、ビニルなどのような有機又は無機官能基である)
を有するもののような有機金属化合物を含ませることができる。
上記に示したように、固体電解質は誘電体層の上に配されて、一般にキャパシタのための陰極として機能する。固体電解質は、キャパシタ素子の露出表面(例えば、誘電体、プレコートなど)の上に被覆されている内側導電性ポリマー膜、並びに内側膜の上に配されている1以上の更なる外側導電性ポリマー層を含む。
内側膜は、原子層堆積(ALD)、分子層堆積(MLD)などによる順次化学蒸着から形成される。かかるプロセスは、通常は、前駆体気体状化合物を重合してキャパシタ上にin situで導電性ポリマー被覆を形成することを含む。前駆体化合物は気体状態で用意することができ、次にin situで重合して導電性ポリマー被覆を堆積させる。前駆体化合物はまた、液体又は固体状態で用意することもでき、その場合には、一般に気化させて気体状化合物にし、次にin situで重合して被覆を堆積させる。しかしながら、キャパシタ素子をまず気体状前駆体化合物に曝露して、それが完全に分解することなく反応して露出表面に結合するようにすることができる。その後、共反応物質(例えば酸化剤)を成長表面に曝露して、そこで堆積した前駆体化合物と反応させることができる。反応が完了したら、残留する蒸気副生成物を(例えば不活性ガスを使用して)除去することができ、次にキャパシタ素子を更なる順次反応サイクルにかけて、目標の膜厚を達成することができる。かかる方法の1つの利点は、半反応が自己制御性であることである。即ち、前駆体化合物が先の共反応物質への曝露の間に形成された部位と反応すると、前駆体反応によって形成された表面部位は共反応物質に対して反応性であるが、前駆体化合物自体に対しては反応性ではないので、表面反応は停止する。これは、定常状態の成長中において、前駆体化合物は、通常は、表面が相当な時間反応種に曝露された場合であっても、それぞれの半反応サイクルの間に多くても1つの単分子層(例えば分子フラグメント)しか堆積しないことを意味する。中でも、これにより誘電体の全表面にわたってコンフォーマルである薄膜被覆の形成が可能になり、これによりキャパシタの種々の特性を向上させることができる。
R1は、水素、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アリールオキシ、アルキルチオアルキル、アルキルアリール、アリールアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリール、アルキルスルフィニル、アルコキシアルキル、アルキルスルホニル、アリールチオ、アリールスルフィニル、アルコキシカルボニル、アリールスルホニル、アクリル酸、リン酸、ホスホン酸、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、エポキシ、シラン、シロキサン、アルコール、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、アミドスルホネート、エーテルカルボキシレート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、ウレタンなどであり;或いは両方のR1基は一緒になって、3、4、5、6、又は7員の芳香環又は脂環式環を完成するアルキレン又はアルキレン鎖を形成していてもよく、これらの環は、場合によっては1以上の二価の窒素、イオウ、若しくは酸素原子を含んでいてよく;
R2は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アルカノイル、アルキルチオアルキル、アルキルアリール、アリールアルキル、アミノ、エポキシ、シラン、シロキサン、アルコール、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、エーテルカルボキシレート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、ウレタンなどである)
を有するピロール化合物である。1つの特定の実施形態においては、R1及びR2の両方が水素であって、化合物がピロールであってよい。
R5は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アルカノイル、アルキルチオアルキル、アルキルアリール、アリールアルキル、アミノ、エポキシ、シラン、シロキサン、アルコール、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、エーテルカルボキシレート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、ウレタンなどである)
を有するアニリン化合物であってよい。1つの特定の実施形態においては、それぞれのR5は、アルキル基(例えばメチル)又はアルコキシ基(例えばメトキシ)である。
Tは、O又はSであり;
Dは、場合により置換されているC1~C5アルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、n-プロピレン、n-ブチレン、n-ペンチレンなど)であり;
R7は、線状又は分岐のC1~C18アルキル基(例えば、メチル、エチル、n-又はイソ-プロピル、n-、イソ-、sec-、又はtert-ブチル、n-ペンチル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、1-エチルプロピル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロピル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、2-エチルヘキシル、n-ノニル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドデシル、n-トリデシル、n-テトラデシル、n-ヘキサデシル、n-オクタデシルなど);C5~C12シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシルなど);C6~C14アリール基(例えば、フェニル、ナフチルなど);C7~C18アラルキル基(例えば、ベンジル、o-、m-、p-トリル、2,3-、2,4-、2,5-、2,6-、3,4-、3,5-キシリル、メシチルなど)であり;
qは、0~8、幾つかの実施形態においては0~2の整数、一実施形態においては0である)
を有するもののようなチオフェン前駆体化合物を、内側膜において使用することもできる。
例えば、qは0であり、前駆体化合物は3,4-エチレンジオキチオフェンである。更に別の実施形態においては、qは1であってよく、R7は構造:R-Z-X+
(式中、
Rは(CH2)a-O-(CH2)bであり、
aは、0~10、幾つかの実施形態においては0~6、幾つかの実施形態においては1~4(例えば1)であり、
bは、1~18、幾つかの実施形態においては1~10、幾つかの実施形態においては2~6(例えば、2、3、4、又は5)であり;
Zは、SO3 -、C(O)O-、BF4 -、CF3SO3 -、SbF6 -、N(SO2CF3)2 -、C4H3O4 -、ClO4 -などのようなアニオンであり;
Xは、水素、アルカリ金属(例えば、リチウム、ナトリウム、ルビジウム、セシウム、又はカリウム)、アンモニウムなどのカチオンである)
を有していてよい。一実施形態においては、例えば、ZはSO3であってよく、aは1であり、bは3又は4であり、及び/又はXはナトリウム又はカリウムである。
上述のように、固体電解質中には、内側膜の上に配される1以上の更なる外側層も存在する。例えば、固体電解質に、2~30、幾つかの実施形態においては3~25、幾つかの実施形態においては約4~20の外側層を含ませることができる。使用される層の数にかかわらず、得られる固体電解質(1つ又は複数の内側層及び1つ又は複数の外側層の全部を含む)は、通常は、約1マイクロメートル(μm)~約200μm、幾つかの実施形態においては約2μm~約50μm、幾つかの実施形態においては約3μm~約30μmの合計厚さを有する。
所望の場合には、場合によって固体電解質の上に外部ポリマー被覆を配することができる。外部ポリマー被覆には、上記に記載のような予め重合された導電性ポリマー粒子(例えば、外因性導電性ポリマー粒子の分散液)から形成される1以上の層を含ませることができる。外部被覆は、キャパシタ体のエッジ領域中に更に浸透して、誘電体に対する接着を増加させて、より機械的に堅牢な部品を与えることができ、これにより等価直列抵抗及び漏れ電流を減少させることができる。一般に、キャパシタ素子の内部に含浸させるのではなく、エッジの被覆度を向上させることを意図しているので、外部被覆において使用される粒子は、通常は固体電解質において使用されるものよりも大きな寸法を有する。例えば、固体電解質の任意の分散液において使用される粒子の平均寸法に対する、外部ポリマー被覆において使用される粒子の平均寸法の比は、通常は約1.5~約30、幾つかの実施形態においては約2~約20、幾つかの実施形態においては約5~約15である。例えば、外部被覆の分散液において使用される粒子は、約80~約500ナノメートル、幾つかの実施形態においては約90~約250ナノメートル、幾つかの実施形態においては約100~約200ナノメートルの平均寸法を有していてよい。
本キャパシタはまた、固体電解質及び他の随意的な層(例えば外部ポリマー被覆)の上に配される陰極被覆を使用することもできる。陰極被覆には、樹脂状ポリマーマトリクス内に分散されている多数の導電性金属粒子を含む金属粒子層を含ませることができる。粒子は、通常は層の約50重量%~約99重量%、幾つかの実施形態においては約60重量%~約98重量%、幾つかの実施形態においては約70重量%~約95重量%を構成し、一方で樹脂状ポリマーマトリクスは、通常は層の約1重量%~約50重量%、幾つかの実施形態においては約2重量%~約40重量%、幾つかの実施形態においては約5重量%~約30重量%を構成する。
キャパシタ素子の層が形成されたら、得られたキャパシタに終端を与えることができる。例えば、それにキャパシタ素子の陽極リードが電気的に接続される陽極終端、及びそれにキャパシタの陰極が電気的に接続される陰極終端をキャパシタに含ませることができる。導電性金属(例えば、銅、ニッケル、銀、ニッケル、亜鉛、スズ、パラジウム、鉛、銅、アルミニウム、モリブデン、チタン、鉄、ジルコニウム、マグネシウム、及びこれらの合金)のような任意の導電性材料を用いて終端を形成することができる。特に好適な導電性金属としては、例えば、銅、銅合金(例えば、銅-ジルコニウム、銅-マグネシウム、銅-亜鉛、又は銅-鉄)、ニッケル、及びニッケル合金(例えばニッケル-鉄)が挙げられる。終端の厚さは、一般的にキャパシタの厚さを最小にするように選択される。例えば、終端の厚さは、約0.05~約1ミリメートル、幾つかの態様においては約0.05~約0.5ミリメートル、及び約0.07~約0.2ミリメートルの範囲であってよい。一つの代表的な導電性材料は、Wieland(ドイツ)から入手できる銅-鉄合金の金属プレートである。所望の場合には、終端の表面は、当該技術において公知なように、最終部品を回路基板へ実装することができるのを確実にするために、ニッケル、銀、金、スズなどで電気めっきすることができる。一つの特定の態様においては、終端の両方の表面をそれぞれニッケル及び銀フラッシュでめっきし、一方で、実装面もスズはんだ層でめっきする。
種々の環境中で良好な電気的性能を示す本キャパシタの能力のために、キャパシタ素子をハウジング内に気密封止する必要はない。それでも、幾つかの実施形態においては、キャパシタ素子をハウジング内に気密封止するのが望ましい可能性がある。キャパシタ素子は種々の方法でハウジング内に封止することができる。例えば幾つかの実施形態においては、キャパシタ素子をケース内に収容することができ、次にこれに、硬化させて硬化したハウジングを形成することができる熱硬化性樹脂(例えばエポキシ樹脂)のような樹脂材料を充填することができる。かかる樹脂の例としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂、尿素-ホルムアルデヒド樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。エポキシ樹脂はまた特に好適である。光開始剤、粘度調整剤、懸濁助剤、顔料、応力低減剤、非導電性フィラー、安定剤などのような更に他の添加剤を使用することもできる。例えば、非導電性フィラーとしては、無機酸化物粒子、例えばシリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化マグネシウム、酸化鉄、酸化銅、ゼオライト、シリケート、クレイ(例えばスメクタイトクレイ)など、及び複合材料(例えばアルミナ被覆シリカ粒子)、並びにこれらの混合物を挙げることができる。これとは関係なく、陽極及び陰極終端の少なくとも一部が回路基板上に実装するために露出されるように、樹脂材料でキャパシタ素子を包囲及び封入することができる。このようにして封入した場合には、キャパシタ素子と樹脂材料は一体のキャパシタアセンブリを形成する。例えば、図1に示すように、キャパシタ素子33は、陽極終端62の一部及び陰極終端72の一部が露出されるようにハウジング28内に封入する。
本発明は以下の実施態様を含む。
(1)焼結多孔質陽極体、前記陽極体の上に配されている誘電体、及び固体電解質を含む固体電解キャパシタ素子を含むキャパシタであって、前記固体電解質は、前記誘電体の上に配されている順次蒸着によって形成されている内側導電性ポリマー膜、及び前記内側導電性ポリマー膜の上に配されている外側導電性ポリマー層を含む上記キャパシタ。
(2)前記内側膜が約10ナノメートル以上の厚さを有する、(1)に記載のキャパシタ。
(3)前記膜が、約25℃の温度で求めて約100S/cm以上の固有導電率を有する、(1)に記載のキャパシタ。
(4)焼結多孔質陽極体、前記陽極体の上に配されている誘電体、及び固体電解質を含む固体電解キャパシタ素子を含むキャパシタであって、前記固体電解質は、前記誘電体の上に配されている内側導電性ポリマー膜、及び前記内側導電性ポリマー膜の上に配されている外側導電性ポリマー層を含み、前記内側膜は、約10ナノメートル以上の厚さ、及び約25℃の温度で求めて約1,000S/cm以上の固有導電率を有する上記キャパシタ。
(5)前記内側膜が、原子層堆積、分子層堆積、又はそれらの組み合わせによって形成されている、(1)に記載のキャパシタ。
(6)前記内側膜が、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、又はそれらの組み合わせを含む、(1)に記載のキャパシタ。
(7)前記誘電体と前記内側膜との間に配置されるプレコートを更に含む、(1)に記載のキャパシタ。
(8)前記外側層が複数の導電性ポリマー粒子から形成されている、(1)に記載のキャパシタ。
(9)前記導電性ポリマー粒子がポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)又はその誘導体を含む、(8)に記載のキャパシタ。
(10)前記粒子がポリマー対イオンも含む、(9)に記載のキャパシタ。
(11)前記外側層が、in situ溶液相重合によって形成された導電性ポリマーを含む、(1)に記載のキャパシタ。
(12)前記固体電解質の上に配され、予め重合された導電性ポリマー粒子を含む外部ポリマー被覆を更に含む、(1)に記載のキャパシタ。
(13)前記キャパシタ素子が、前記固体電解質の上に配されている金属粒子層を含む陰極被覆を更に含み、前記金属粒子層は、樹脂ポリマーマトリックス内に分散された複数の導電性金属粒子を含む、(1)に記載のキャパシタ。
(14)前記陽極体がタンタルを含み、前記誘電体が五酸化タンタルを含む、(1)に記載のキャパシタ。
(15)前記陽極体と電気的に接続された陽極終端、前記固体電解質と電気的に接続された陰極終端、及び前記キャパシタ素子を封入し、前記陽極終端及び前記陰極終端の実装面を露出した状態にしているハウジングを更に含む、(1)に記載のキャパシタ。
(16)前記固体電解質が約1~約200マイクロメートルの厚さを有する、(1)に記載のキャパシタ。
(17)固体電解キャパシタ素子を形成する方法であって、
焼結多孔質陽極体、及び前記陽極体の上に配されている誘電体を含むキャパシタ素子を反応容器に配置すること;
前記キャパシタ素子を、前記キャパシタ素子を前記キャパシタ素子の表面に結合する気体状前駆体化合物と接触させること、及びその後に前記キャパシタ素子を気体状酸化剤と接触させて前記前駆体化合物を酸化及び/又は重合させることを含む反応サイクルにかけることを含む順次蒸着法によって、前記キャパシタ素子の上に膜を形成すること;及び
前記膜の上に外側導電性ポリマー層を施すこと;
を含む上記方法。
(18)前記前駆体化合物が、ピロール、アニリン、又はチオフェン化合物である、(17)に記載の方法。
(19)前記前駆体化合物が3,4-エチレンジオキシチオフェンである、(17)に記載の方法。
(20)前記酸化剤が約320℃以下の沸点を有する、(17)に記載の方法。
(21)前記酸化剤がMoCl 5 である、(17)に記載の方法。
(22)前記キャパシタ素子を、前記反応サイクル中に約200℃以下の温度に加熱する、(17)に記載の方法。
(23)前記キャパシタ素子を、前記酸化剤と接触させる前に不活性ガスと接触させることを更に含む、(17)に記載の方法。
(24)前記キャパシタ素子を、前記キャパシタ素子を気体状前駆体化合物と接触させ、その後に前記キャパシタ素子を気体状酸化剤と接触させることを含む1以上の更なる反応サイクルにかけることを更に含む、(17)に記載の方法。
(25)前記膜が約10ナノメートル以上の厚さを有する、(17)に記載の方法。
(26)前記膜が、約25℃の温度で求めて約100S/cm以上の固有導電率を有する、(17)に記載の方法。
(27)前記キャパシタ素子が、前記誘電体の上に配されているプレコートを更に含む、(17)に記載の方法。
(28)前記外側層が導電性ポリマー粒子の分散液から形成される、(17)に記載の方法。
(29)前記外側層が溶液相重合によって形成される、(17)に記載の方法。
(30)前記陽極体がタンタルを含み、前記誘電体が五酸化タンタルを含む、(17)に記載の方法。
Claims (30)
- 焼結多孔質陽極体、前記陽極体の上に配されている誘電体、及び固体電解質を含む固体電解キャパシタ素子を含むキャパシタの製造方法であって、前記誘電体の上に配されている順次蒸着によって形成されている内側導電性ポリマー膜、及び前記内側導電性ポリマー膜の上に配されている外側導電性ポリマー層を含む前記固体電解質を形成することを含み、前記外側導電性ポリマー層が、in situ溶液相重合によって形成された導電性ポリマーを含む上記方法。
- 前記内側膜が約10ナノメートル以上の厚さを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記膜が、約25℃の温度で求めて約100S/cm以上の固有導電率を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記内側導電性ポリマー膜は、約10ナノメートル以上の厚さ、及び約25℃の温度で求めて約1,000S/cm以上の固有導電率を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記内側膜が、原子層堆積、分子層堆積、又はそれらの組み合わせによって形成されている、請求項1に記載の方法。
- 前記内側膜が、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、又はそれらの組み合わせを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記キャパシタが、前記誘電体と前記内側膜との間に配置されるプレコートを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記外側層が複数の導電性ポリマー粒子から形成されている、請求項1に記載の方法。
- 前記導電性ポリマー粒子がポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)又はその誘導体を含む、請求項8に記載の方法。
- 前記粒子がポリマー対イオンも含む、請求項9に記載の方法。
- 前記外側層が、予め重合された導電性ポリマー粒子から形成された導電性ポリマーを含む1以上の更なる外側層を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記キャパシタが、前記固体電解質の上に配され、予め重合された導電性ポリマー粒子を含む外部ポリマー被覆を更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記キャパシタ素子が、前記固体電解質の上に配されている金属粒子層を含む陰極被覆を更に含み、前記金属粒子層は、樹脂ポリマーマトリックス内に分散された複数の導電性金属粒子を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記陽極体がタンタルを含み、前記誘電体が五酸化タンタルを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記キャパシタが、前記陽極体と電気的に接続された陽極終端、前記固体電解質と電気的に接続された陰極終端、及び前記キャパシタ素子を封入し、前記陽極終端及び前記陰極終端の実装面を露出した状態にしているハウジングを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記固体電解質が約1~約200マイクロメートルの厚さを有する、請求項1に記載の方法。
- 固体電解キャパシタ素子を形成する方法であって、
焼結多孔質陽極体、及び前記陽極体の上に配されている誘電体を含むキャパシタ素子を反応容器内に配置すること;
前記キャパシタ素子を、前記キャパシタ素子を前記キャパシタ素子の表面に結合する気体状前駆体化合物と接触させること、及びその後に前記キャパシタ素子を気体状酸化剤と接触させて前記前駆体化合物を酸化及び/又は重合させることを含む反応サイクルにかけることを含む順次蒸着法によって、前記キャパシタ素子の上に膜を形成すること;及び
前記膜の上に外側導電性ポリマー層を施すこと;
を含む上記方法。 - 前記前駆体化合物が、ピロール、アニリン、又はチオフェン化合物である、請求項17に記載の方法。
- 前記前駆体化合物が3,4-エチレンジオキシチオフェンである、請求項17に記載の方法。
- 前記酸化剤が約320℃以下の沸点を有する、請求項17に記載の方法。
- 前記酸化剤がMoCl5である、請求項17に記載の方法。
- 前記キャパシタ素子を、前記反応サイクル中に約200℃以下の温度に加熱する、請求項17に記載の方法。
- 前記キャパシタ素子を、前記酸化剤と接触させる前に不活性ガスと接触させることを更に含む、請求項17に記載の方法。
- 前記キャパシタ素子を、前記キャパシタ素子を気体状前駆体化合物と接触させ、その後に前記キャパシタ素子を気体状酸化剤と接触させることを含む1以上の更なる反応サイクルにかけることを更に含む、請求項17に記載の方法。
- 前記膜が約10ナノメートル以上の厚さを有する、請求項17に記載の方法。
- 前記膜が、約25℃の温度で求めて約100S/cm以上の固有導電率を有する、請求項17に記載の方法。
- 前記キャパシタ素子が、前記誘電体の上に配されているプレコートを更に含む、請求項17に記載の方法。
- 前記外側層が導電性ポリマー粒子の分散液から形成される、請求項17に記載の方法。
- 前記外側層が溶液相重合によって形成される、請求項17に記載の方法。
- 前記陽極体がタンタルを含み、前記誘電体が五酸化タンタルを含む、請求項17に記載の方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7459900B2 (ja) | 2017-03-30 | 2024-04-02 | 株式会社レゾナック | プリプレグの製造方法、プリプレグ、積層板、プリント配線板及び半導体パッケージ |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020112954A1 (en) | 2018-11-29 | 2020-06-04 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a sequential vapor-deposited dielectric film |
DE112020004416T5 (de) * | 2019-09-18 | 2022-06-15 | KYOCERA AVX Components Corporation | Festelektrolytkondensator zur Verwendung bei hohen Spannungen |
US20210107810A1 (en) * | 2019-10-14 | 2021-04-15 | Quinton Wyatt | Electrically conductive polymer thin-films |
CN111607199B (zh) * | 2020-05-26 | 2022-11-22 | 陕西科技大学 | 一种基于原位掺杂改性的聚噻吩衍生物导电薄膜及其制备方法和应用 |
US12002631B2 (en) | 2021-10-20 | 2024-06-04 | KYOCERA AVX Components Corporation | Electrodeposited dielectric for a solid electrolytic capacitor |
CN114267541B (zh) * | 2021-12-21 | 2022-09-30 | 西安交通大学 | 一种固态钽电解电容器及其ald制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006032530A (ja) | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Japan Carlit Co Ltd:The | 固体電解コンデンサの製造方法 |
JP2011181611A (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 固体電解コンデンサおよび固体電解コンデンサの製造方法 |
US20180075976A1 (en) | 2016-09-15 | 2018-03-15 | Avx Corporation | Solid Electrolytic Capacitor with Improved Leakage Current |
Family Cites Families (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9700566D0 (en) | 1997-01-13 | 1997-03-05 | Avx Ltd | Binder removal |
JPH10284351A (ja) * | 1997-04-09 | 1998-10-23 | Nichicon Corp | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
US6168639B1 (en) * | 1997-10-09 | 2001-01-02 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Solid electrolyte capacitor, and process and apparatus for producing same |
US6483694B1 (en) | 1999-06-22 | 2002-11-19 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Electrode for electrolytic capacitor, electrolytic capacitor, and manufacturing method therefor |
US6473293B2 (en) | 2000-10-12 | 2002-10-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Capacitor unit, method for producing the same, and solid electrolytic capacitor |
KR100400252B1 (ko) | 2001-06-29 | 2003-10-01 | 주식회사 하이닉스반도체 | 탄탈륨 옥사이드 캐퍼시터의 형성 방법 |
UA77459C2 (en) | 2001-11-03 | 2006-12-15 | Thin-film capacitor and a method for producing the capacitor | |
CN1643179B (zh) | 2002-01-17 | 2010-05-26 | 松德沃技术公司 | Ald装置和方法 |
JP4770106B2 (ja) | 2003-06-12 | 2011-09-14 | 東レ株式会社 | イオン性基導入用樹脂組成物およびそれを用いたダイレクトメタノール型燃料電池 |
JP2005064352A (ja) | 2003-08-19 | 2005-03-10 | Sanyo Electric Co Ltd | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
ES2329898T3 (es) * | 2003-10-17 | 2009-12-02 | H.C. Starck Gmbh | Condensadores electroliticos con capa externa de polimero. |
JP4360277B2 (ja) * | 2004-06-04 | 2009-11-11 | パナソニック株式会社 | 電解コンデンサ及びその製造方法 |
KR100800921B1 (ko) | 2004-06-30 | 2008-02-04 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 전기 화학 캐패시터 |
US8451582B2 (en) | 2004-07-23 | 2013-05-28 | Sundew Technologies, Llc | Capacitors with high energy storage density and low ESR |
US7350281B2 (en) | 2004-07-26 | 2008-04-01 | Hamilton Sundstrand Corporation | Method of protecting a capacitor |
CN1737072B (zh) | 2004-08-18 | 2011-06-08 | 播磨化成株式会社 | 导电粘合剂及使用该导电粘合剂制造物件的方法 |
JP4519679B2 (ja) | 2005-02-21 | 2010-08-04 | Necトーキン株式会社 | 導電性高分子組成物およびそれを用いた固体電解コンデンサ |
US7618680B2 (en) | 2005-05-31 | 2009-11-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Oxidative chemical vapor deposition of electrically conductive and electrochromic polymers |
DE102005043829A1 (de) | 2005-09-13 | 2007-04-05 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren mit hoher Nennspannung |
US7491246B2 (en) | 2006-03-31 | 2009-02-17 | Medtronic, Inc. | Capacitor electrodes produced with atomic layer deposition for use in implantable medical devices |
WO2007123752A2 (en) | 2006-03-31 | 2007-11-01 | Aculon, Inc. | Solid electrolytic capacitors |
JP2008182098A (ja) | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
US8920971B2 (en) * | 2007-11-27 | 2014-12-30 | Maria Strömme | Composite materials including an intrinsically conducting polymer, and methods and devices |
JP5484995B2 (ja) * | 2009-04-28 | 2014-05-07 | 三洋電機株式会社 | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
US8603195B2 (en) * | 2009-08-24 | 2013-12-10 | Applied Materials, Inc. | 3D approach on battery and supercapitor fabrication by initiation chemical vapor deposition techniques |
US8125768B2 (en) * | 2009-10-23 | 2012-02-28 | Avx Corporation | External coating for a solid electrolytic capacitor |
JP5410251B2 (ja) * | 2009-11-26 | 2014-02-05 | Necトーキン株式会社 | 導電性高分子懸濁液およびその製造方法、導電性高分子材料、電解コンデンサ、ならびに固体電解コンデンサおよびその製造方法 |
JP5575505B2 (ja) | 2010-02-26 | 2014-08-20 | 三洋電機株式会社 | 固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ |
JP5884068B2 (ja) * | 2010-03-24 | 2016-03-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 固体電解コンデンサの製造方法 |
US8451588B2 (en) | 2011-03-11 | 2013-05-28 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a conductive coating formed from a colloidal dispersion |
CN102509637A (zh) | 2011-11-22 | 2012-06-20 | 中国铝业股份有限公司 | 一种混合型固态超级电容器 |
WO2013181215A1 (en) | 2012-05-30 | 2013-12-05 | Massachusetts Institute Of Technology | Devices comprising graphene and a conductive polymer and related systems and methods |
CN102768902A (zh) | 2012-08-02 | 2012-11-07 | 电子科技大学 | 一种制造有机电解质电解电容器的方法 |
WO2014050071A1 (ja) * | 2012-09-26 | 2014-04-03 | 三洋電機株式会社 | 固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ |
CN104813422B (zh) | 2012-12-07 | 2018-07-06 | 松下知识产权经营株式会社 | 固体电解电容器的制造方法 |
US20160104580A1 (en) | 2013-06-13 | 2016-04-14 | Ishihara Chemical Co., Ltd. | Ta powder, production method therefor, and ta granulated powder |
US9589733B2 (en) * | 2013-12-17 | 2017-03-07 | Avx Corporation | Stable solid electrolytic capacitor containing a nanocomposite |
CN105960691A (zh) | 2014-02-07 | 2016-09-21 | 株式会社村田制作所 | 电容器 |
KR20150141075A (ko) * | 2014-06-09 | 2015-12-17 | 에이브이엑스 코포레이션 | 다층 접착 코팅을 포함하는 고체 전해 커패시터 |
US10861652B2 (en) | 2015-05-06 | 2020-12-08 | Kemet Electronics Corporation | Capacitor with volumetrically efficient hermetic packaging |
US10186382B2 (en) * | 2016-01-18 | 2019-01-22 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with improved leakage current |
WO2020112954A1 (en) | 2018-11-29 | 2020-06-04 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a sequential vapor-deposited dielectric film |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006032530A (ja) | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Japan Carlit Co Ltd:The | 固体電解コンデンサの製造方法 |
JP2011181611A (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 固体電解コンデンサおよび固体電解コンデンサの製造方法 |
US20180075976A1 (en) | 2016-09-15 | 2018-03-15 | Avx Corporation | Solid Electrolytic Capacitor with Improved Leakage Current |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7459900B2 (ja) | 2017-03-30 | 2024-04-02 | 株式会社レゾナック | プリプレグの製造方法、プリプレグ、積層板、プリント配線板及び半導体パッケージ |
Also Published As
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