JP7214431B2 - 描画方法および描画装置 - Google Patents
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Description
その第1の具体的態様では、前記表面位置の検出結果から求められる前記収束位置が前記追従範囲を超えるとき、前記収束位置は、前記追従範囲内であって検出された前記表面位置とは異なるいずれかの位置に設定される。また、第2の具体的態様では、一の走査方向に沿った前記表面位置の検出結果から、前記突出領域に対応する表面プロファイルと前記後退領域に対応する表面プロファイルとがそれぞれ特定され、前記突出領域に対応する前記表面プロファイルを含み前記後退領域に対応する前記表面プロファイルを含まない前記追従範囲が設定される。
その第1の具体的態様では、前記表面位置の検出結果から求められる前記収束位置が前記追従範囲を超えるとき、前記収束位置は、前記追従範囲内であって検出された前記表面位置とは異なるいずれかの位置に設定される。また、第2の具体的態様では、一の走査方向に沿った前記表面位置の検出結果から、前記突出領域に対応する表面プロファイルと前記後退領域に対応する表面プロファイルとがそれぞれ特定され、前記突出領域に対応する前記表面プロファイルを含み前記後退領域に対応する前記表面プロファイルを含まない前記追従範囲が設定される。
Z5=Z4+(Z4-Z3)
と表すことができる。
10 ステージ
20 ステージ移動機構(走査移動部)
45 オートフォーカス機構(検出部)
90 制御部
95 フォーカス制御部(制御部)
99 記憶部
100 描画装置
441 フォーカシングレンズ
442 フォーカス駆動機構(フォーカス調整部)
B 基材
Bs 基材上面(後退領域)
R デバイス領域
Rs デバイス領域上面(突出領域)
W 基板
Ws 基板上面(基板表面)
Claims (8)
- 相対的に突出した突出領域と前記突出領域よりも後退した後退領域とが表面に配置された基板を水平姿勢に載置したステージと、前記基板の表面に収束光ビームを照射して描画する描画ヘッドとを相対的に移動させて前記基板表面で前記光ビームの入射位置を走査して前記基板に描画する描画方法において、
前記光ビームが入射する前記基板の表面位置を光学的に検出する工程と、
前記表面位置の検出結果に基づき、前記光ビームの収束位置を光軸方向に調整して前記基板の表面に追従させる工程と
を備え、
前記収束位置の調整は、前記突出領域および前記後退領域それぞれにおける前記基板の表面位置の検出結果に基づき設定された追従範囲内に規制され、
前記表面位置の検出結果から求められる前記収束位置が前記追従範囲を超えるとき、前記収束位置は、前記追従範囲内であって検出された前記表面位置とは異なるいずれかの位置に設定される描画方法。 - 相対的に突出した突出領域と前記突出領域よりも後退した後退領域とが表面に配置された基板を水平姿勢に載置したステージと、前記基板の表面に収束光ビームを照射して描画する描画ヘッドとを相対的に移動させて前記基板表面で前記光ビームの入射位置を走査して前記基板に描画する描画方法において、
前記光ビームが入射する前記基板の表面位置を光学的に検出する工程と、
前記表面位置の検出結果に基づき、前記光ビームの収束位置を光軸方向に調整して前記基板の表面に追従させる工程と
を備え、
前記収束位置の調整は、前記突出領域および前記後退領域それぞれにおける前記基板の表面位置の検出結果に基づき設定された追従範囲内に規制され、
一の走査方向に沿った前記表面位置の検出結果から、前記突出領域に対応する表面プロファイルと前記後退領域に対応する表面プロファイルとをそれぞれ特定し、前記突出領域に対応する前記表面プロファイルを含み前記後退領域に対応する前記表面プロファイルを含まない前記追従範囲を設定する描画方法。 - 描画の実行に先立って、一の走査方向に沿って前記表面位置の検出を行い、その結果から前記突出領域と前記後退領域とを特定する請求項1または2に記載の描画方法。
- 前記突出領域に対応する前記表面プロファイルを表す近似曲線を特定し、当該近似曲線を含み前記光軸方向において一定幅の範囲を前記追従範囲とする請求項2に記載の描画方法。
- 前記光ビームの入射位置を所定の主走査方向に沿って前記基板の一方端から他方端へ移動させる主走査移動と、前記光ビームの入射位置を前記主走査方向と直交する副走査方向に所定ピッチだけ移動させる副走査移動とを交互に繰り返して実行し、
前記主走査方向に沿った前記表面プロファイルを特定する請求項2または4に記載の描画方法。 - 前記副走査方向において検出される前記表面位置の変化に応じて前記追従範囲を更新する請求項5に記載の描画方法。
- 相対的に突出した突出領域と前記突出領域よりも後退した後退領域とが表面に配置された基板を水平姿勢に載置可能なステージと、
前記基板の表面に収束光ビームを照射して描画する描画ヘッドと、
前記ステージと前記描画ヘッドとを相対的に移動させて前記基板表面で前記光ビームの入射位置を走査する走査移動部と、
前記光ビームが入射する前記基板の表面位置を光学的に検出する検出部と、
前記検出部の検出結果に基づき、前記光ビームの収束位置を所定の追従範囲内で光軸方向に調整して前記基板の表面に追従させるフォーカス調整部と
を備え、
前記追従範囲は、前記突出領域および前記後退領域それぞれにおける前記基板の表面位置の検出結果に基づき予め設定され、
前記フォーカス調整部は、前記表面位置の検出結果から求められる前記収束位置が前記追従範囲を超えるとき、前記収束位置を、前記追従範囲内であって検出された前記表面位置とは異なるいずれかの位置に設定する描画装置。 - 相対的に突出した突出領域と前記突出領域よりも後退した後退領域とが表面に配置された基板を水平姿勢に載置可能なステージと、
前記基板の表面に収束光ビームを照射して描画する描画ヘッドと、
前記ステージと前記描画ヘッドとを相対的に移動させて前記基板表面で前記光ビームの入射位置を走査する走査移動部と、
前記光ビームが入射する前記基板の表面位置を光学的に検出する検出部と、
前記検出部の検出結果に基づき、前記光ビームの収束位置を所定の追従範囲内で光軸方向に調整して前記基板の表面に追従させるフォーカス調整部と
を備え、
前記追従範囲は、前記突出領域および前記後退領域それぞれにおける前記基板の表面位置の検出結果に基づき予め設定され、
前記フォーカス調整部は、一の走査方向に沿った前記表面位置の検出結果から、前記突出領域に対応する表面プロファイルと前記後退領域に対応する表面プロファイルとをそれぞれ特定し、前記突出領域に対応する前記表面プロファイルを含み前記後退領域に対応する前記表面プロファイルを含まない前記追従範囲を設定する描画装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018198429A JP7214431B2 (ja) | 2018-10-22 | 2018-10-22 | 描画方法および描画装置 |
PCT/JP2019/039234 WO2020085037A1 (ja) | 2018-10-22 | 2019-10-04 | 描画方法および描画装置 |
TW108137506A TWI711895B (zh) | 2018-10-22 | 2019-10-17 | 描繪方法及描繪裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018198429A JP7214431B2 (ja) | 2018-10-22 | 2018-10-22 | 描画方法および描画装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020067501A JP2020067501A (ja) | 2020-04-30 |
JP7214431B2 true JP7214431B2 (ja) | 2023-01-30 |
Family
ID=70331148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018198429A Active JP7214431B2 (ja) | 2018-10-22 | 2018-10-22 | 描画方法および描画装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7214431B2 (ja) |
TW (1) | TWI711895B (ja) |
WO (1) | WO2020085037A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022129897A (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-06 | 株式会社Screenホールディングス | 描画装置、描画方法およびプログラム |
CN114152631B (zh) * | 2021-11-29 | 2024-07-19 | 上海华力微电子有限公司 | 一种晶圆缺陷扫描方法及*** |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002100552A (ja) | 2000-09-21 | 2002-04-05 | Nikon Corp | 走査露光装置及びこの装置に用いる面位置検出方法 |
JP2006234960A (ja) | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光方法および露光装置 |
JP2009244407A (ja) | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 露光装置、及び露光方法 |
WO2015136782A1 (ja) | 2014-03-11 | 2015-09-17 | 株式会社Screenホールディングス | 描画方法および描画装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10294257A (ja) * | 1997-04-17 | 1998-11-04 | Nikon Corp | 基板の面位置制御方法及び制御装置、並びに露光方法及び露光装置 |
-
2018
- 2018-10-22 JP JP2018198429A patent/JP7214431B2/ja active Active
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002100552A (ja) | 2000-09-21 | 2002-04-05 | Nikon Corp | 走査露光装置及びこの装置に用いる面位置検出方法 |
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WO2015136782A1 (ja) | 2014-03-11 | 2015-09-17 | 株式会社Screenホールディングス | 描画方法および描画装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020085037A1 (ja) | 2020-04-30 |
TW202026769A (zh) | 2020-07-16 |
JP2020067501A (ja) | 2020-04-30 |
TWI711895B (zh) | 2020-12-01 |
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