JP7189453B2 - ヘキサフルオロイソプロパノール基を含む珪素化合物、およびその製造方法 - Google Patents
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Description
当該HFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物は、透明性とアルカリ可溶性も併せ持つことも、開示されている。
得られたHFIP基含有珪素化合物(D)を、加水分解し重縮合すれば、上述のHFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)を得ることができる。
第1工程:式(1)で表される含芳香族珪素化合物(本明細書では以下、「芳香族ハロシラン」とも呼ぶ)と、HFAとを、塩化アルミニウム等のルイス酸触媒の存在下で反応させて、式(2)で表される珪素化合物(本明細書では以下、「HFIP基含有芳香族ハロシラン」とも呼ぶ)を得る工程。
第2工程:前記第1工程で得られた式(2)で表される珪素化合物を式(3)で表されるアルコールと反応させて、式(4)で表される珪素化合物を得る工程。
式(2)で表される珪素化合物。
前記Xが塩素原子である、発明1または発明2に記載の珪素化合物。
前記bが0または1である、発明1~3に記載の珪素化合物。
前記R1がメチル基である、発明1~4に記載の珪素化合物。
次の第1工程を含む、式(2)で表される珪素化合物の製造方法。
第1工程:式(1)で表される含芳香族珪素化合物と、ヘキサフルオロアセトンとを、ルイス酸触媒の存在下で反応させて、式(2)で表される珪素化合物を得る工程。
次の第1工程および第2工程を含む、式(4)で表される珪素化合物の製造方法。
第1工程:式(1)で表される含芳香族珪素化合物と、およびヘキサフルオロアセトンとを、ルイス酸触媒の存在下で反応させて、式(2)で表される珪素化合物を得る工程。
第2工程:前記第1工程で得られた式(2)で表される珪素化合物を、式(3)で表されるアルコールと反応させて、式(4)で表される珪素化合物を得る工程。
前記式(2)および前記式(4)中の下記基(2HFIP)が、次の式(2A)~式(2D)で表わされる基の何れかである、発明7に記載の製造方法。
前記Xが塩素原子である、発明7または発明8に記載の製造方法。
前記R2がメチル基またはエチル基である、発明7~9に記載の製造方法。
前記bが0または1である、発明7~10に記載の製造方法。
前記R1がメチル基である、発明7~11に記載の製造方法。
前記第1工程で使用するルイス酸触媒が塩化アルミニウム、塩化鉄(III)および三フッ化ホウ素からなる群より選択される、発明7~12に記載の製造方法。
前記Xが塩素原子であり、R2がメチル基またはエチル基であり、bが0または1であり、かつ、第1工程で使用するルイス酸触媒が塩化アルミニウム、塩化鉄(III)および三フッ化ホウ素からなる群より選択される、発明7~13に記載の珪素化合物の製造方法。
前記第2工程において、さらにハロゲン化水素捕捉剤を添加し反応させる、発明7~14に記載の製造方法。
前記ハロゲン化水素捕捉剤が、オルトエステルまたはナトリウムアルコキシドからなる群より選択されるハロゲン化水素捕捉剤である、発明15に記載の製造方法。
次の第2工程を含む、式(4)で表される珪素化合物の製造方法。
第2工程:次の式(2)で表される珪素化合物を式(3)で表されるアルコールと反応させて、式(4)で表される珪素化合物を得る工程。
前記第2工程において、さらにハロゲン化水素捕捉剤を添加し反応させる、発明17に記載の製造方法。
前記ハロゲン化水素捕捉剤が、オルトエステルまたはナトリウムアルコキシドからなる群より選択されるハロゲン化水素捕捉剤である、発明18に記載の製造方法。
発明7に記載の製造方法により式(4)で表される珪素化合物を得た後、さらに次の第3工程を行う、式(5)で表される繰り返し単位を有するポリシロキサン高分子化合物(A)を製造する方法。
第3工程:該式(4)で表される珪素化合物を加水分解重縮合することで、前記ポリシロキサン高分子化合物(A)を得る工程。
次の第4工程を含む、式(5)で表される繰り返し単位を有するポリシロキサン高分子化合物(A)を製造する方法。
第4工程:次の式(2)で表される珪素化合物を加水分解重縮合することで、前記ポリシロキサン高分子化合物(A)を得る工程。
HFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)を製造する方法として、本明細書では、以下に示す、HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)(新規化合物)を経由する2つの反応経路を提供している(すなわち、「第1工程+第2工程+第3工程」「第1工程+第4工程」である。)両者ともに第1工程が高収率な反応であるというメリットがあるため、HFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)を製造する手段としては、優れたものである。単純に工程数で見たときには、前者は3反応工程であるのに対し、後者は2反応工程であるから、後者の方が有利であると言える。しかし、後者の場合、第2工程で得られるHFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)が保存安定性に優れており取り扱いが容易なことから、「第1工程+第2工程+第3工程」の3工程の方法の方が有利なこともある。どちらを採用するかは、HFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)の製法・用途に応じて、当業者が適宜選択すればよい。
該両経路(「第1工程+第2工程+第3工程」と「第1工程+第4工程」の両方の経路)を採用すること、具体的には、HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)とHFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)を任意の割合で混合し、加水分解重縮合することで、HFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)を製造することも、経済性や用途に応じて当業者が適宜選択すればよい。
本発明のHFIP基含有芳香族ハロシランは一般式(2)で表され、HFIP基および珪素原子が芳香環に直接結合した構造を有する。
次に第1工程について説明する。第1工程は、式(1)で表される芳香族ハロシラン、およびHFAを、ルイス酸触媒の存在下で反応させて、式(2)で表されるHFIP基含有芳香族ハロシランを得る工程である。
各記号についての好ましい例については、前述の「2.HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)」の項で述べたものを、再び挙げることができる。
原料として用いられる芳香族ハロシラン(1)は一般式(1)で表され、ヘキサフルオロアセロンと反応するフェニル基、およびハロゲン原子が珪素原子に直接結合した構造を有する。
本反応に用いるルイス酸触媒は特に限定はなく、例えば塩化アルミニウム、塩化鉄(III)、塩化亜鉛、塩化スズ(II)、四塩化チタン、臭化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、フッ化アンチモン、ゼオライト類、複合酸化物等が挙げられる。その中でも塩化アルミニウム、塩化鉄(III)、三フッ化ホウ素が好ましく、さらに本反応での反応性が高いことから、塩化アルミニウムがもっとも好ましい。ルイス酸触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、芳香族ハロシラン(1)1モルに対して、0.01モル以上、1.0モル以下が好ましい。
本反応では原料の芳香族ハロシラン(1)が液体の場合は、特に有機溶媒を使用せずに反応を行うことができるが、原料の芳香族ハロシラン(1)が固体の場合や芳香族ハロシラン(1)の反応性が高い場合は、有機溶媒を用いても良い。有機溶剤としては、芳香族ハロシラン(1)が溶解し、ルイス酸触媒、HFAと反応しない溶媒であれば特に制限はなく、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、アセトニトリル、ニトロメタン、クロロベンゼン類、ニトロベンゼン等を用いることができる。これらの溶媒を単独で、または混合して用いてもよい。
第1工程は元来、無水反応であって、用いるHFAも無水のHFA(常温で気体)が好ましい。ゆえに各種試薬につき、当業者が通常入手できる無水品を用いることが好ましい。含水量に制限があるわけではないが、仮に水が系内に含まれている場合には、その分、塩化アルミニウム等の触媒が水と反応して失活するので、触媒の消費量が多くなる。ゆえに水の量に上限はないものの、各種試薬の液体量を100gとしたとき、水の量は1g以下であることが通常であり、0.1g以下が特に好ましい。使用するHFAの量は、芳香環に導入するHFIP基の数にもよるが、原料の芳香族ハロシラン(1)中に含まれるフェニル基1モルに対して、1モル当量以上、6モル当量以下が好ましい。また、フェニル基中にHFIP基を3個以上導入しようとする場合、過剰のHFAや多量の触媒、長い反応時間を必要とするため、使用するHFAの量は原料の芳香族ハロシラン(1)中に含まれるフェニル基1モルに対して、2.5モル当量以下にし、フェニル基へのHFIP基導入数を2個以下に抑えることがより好ましく、原料の芳香族ハロシラン(1)中に含まれるフェニル基1モルに対して、1.5モル当量以下にし、フェニル基へのHFIP基導入数を1個に抑えることがさらに好ましい。
本発明のHFIP基含有芳香族ハロシラン(2)を合成する際は、HFAの沸点が-28℃であるので、HFAを反応系内に留めるために、冷却装置または密封反応器を使用することが好ましく、特に密封反応器を使用することが好ましい。密封反応器(オートクレーブ)を使用して反応を行う場合は、最初に芳香族ハロシランとルイス酸触媒を反応器内に入れ、次いで、反応器内の圧力が0.5MPaを越えないようにHFAガスを導入することが好ましい。
次に第2工程について説明する。第2工程は、前記第1工程で得られたHFIP基含有芳香族ハロシラン(2)を式(3)で表されるアルコールと反応させて、式(4)で表されるHFIP基含有芳香族アルコキシシランを得る工程である。
原料として用いられるHFIP基含有芳香族ハロシラン(2)は第1工程で得られたものを使用するのが好ましい。HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)は、精密蒸留等を行ない分離した各種異性体のほか、第1工程で得られた異性体を分離することなく、そのまま用いることもできる。
アルコール(3)は目的とするHFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)によって、選択される。具体的には、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、2-フルオロエタノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、3-フルオロプロパノール、3,3-ジフルオロプロパノール、3,3,3-トリフルオロプロパノール、2,2,3,3-テトラフルオロプロパノール、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロパノール、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール等が使用でき、特にメタノールまたはエタノールが好ましい。アルコール(3)を反応させる際に、水分が混入していると、HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)の加水分解反応や縮合反応が進行してしまい、目的のHFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)の収率が低下することから、含有する水分量の少ないアルコールを用いることが好ましい。具体的には5wt%以下が好ましく、1wt%以下がさらに好ましい。
本発明のHFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)を合成する際の反応方法は、特に限定されることはないが、典型的な例としてはHFIP基含有芳香族ハロシラン(2)にアルコール(3)を滴下して反応させる方法、またはアルコール(3)にHFIP基含有芳香族ハロシラン(2)を滴下して反応させる方法がある。
次に第3工程について説明する。第3工程は前記第2工程で得られたHFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)を加水分解重縮合することで、式(5)で表される繰り返し単位を有する、HFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)を得る工程である。
前記クロロシランとしては、具体的には、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、ジプロピルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、ビス(3,3,3-トリフルオロプロピル)ジクロロシラン、メチル(3,3,3-トリフルオロプロピル)ジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、プロピルトリクロロシラン、イソプロピルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、トリフルオロメチルトリクロロシラン、ペンタフルオロエチルトリクロロシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリクロロシラン、テトラクロロシラン、前記第1工程で得られたHFIP基含有芳香族ハロシラン(2)を例示することができる。
前記アルコキシシランとしては、具体的には、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ビス(3,3,3-トリフルオロプロピル)ジメトキシシラン、メチル(3,3,3-トリフルオロプロピル)ジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、イソプロピルトリプロポキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、プロピルトリイソプロポキシシラン、イソプロピルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、ペンタフルオロエチルトリメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシランを例示することができる。
本明細書において、シリケートオリゴマーとは、テトラアルコキシシランを加水分解重縮合させることで得られるオリゴマーである。市販品としては、シリケート40(平均5量体、多摩化学工業株式会社製)、エチルシリケート40(平均5量体、コルコート株式会社製)、シリケート45(平均7量体、多摩化学工業株式会社製)、Mシリケート51(平均4量体、多摩化学工業株式会社製)、メチルシリケート51(平均4量体、コルコート株式会社製)、メチルシリケート53A(平均7量体、コルコート株式会社製)、エチルシリケート48(平均10量体、コルコート株式会社)、EMS-485(エチルシリケートとメチルシリケートの混合品、コルコート株式会社製)等を挙げることができる。
本加水分解重縮合反応は、アルコキシシランの加水分解および縮合反応における一般的な方法で行うことができる。具体例を挙げると、まず、HFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)を室温(特に加熱または冷却しない雰囲気温度を言い、通常、約15℃以上約30℃以下である。以下同じ。)にて反応容器内に所定量採取した後、HFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)を加水分解するための水と、重縮合反応を進行させるための触媒、所望により反応溶媒を反応器内に加えて反応溶液とする。このときの反応資材の投入順序はこれに限定されず、任意の順序で投入して反応溶液とすることができる。また、他の加水分解性シランを併用する場合には、HFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)と同様に反応器内に加えればよい。次いで、この反応溶液を撹拌しながら、所定時間、所定温度で加水分解および縮合反応を進行させることで、本発明のHFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)を得ることができる。加水分解縮合に必要な時間は、触媒の種類にもよるが通常、3時間以上24時間以下、反応温度は室温以上180℃以下である。加熱を行なう場合は、反応系中の未反応原料、水、反応溶媒および/または触媒が、反応系外へ留去されることを防ぐため、反応容器を閉鎖系にするか、コンデンサー等の還流装置を取り付けて反応系を還流させることが好ましい。反応後は、HFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)のハンドリングの観点から、反応系内に残存する水、生成するアルコール、および触媒を除去するのが好ましい。前記水、アルコール、触媒の除去は、抽出作業で行ってもよいし、トルエン等の反応に悪影響を与えない溶媒を反応系内に加え、ディーンスターク管で共沸除去してもよい。
重縮合反応を進行させるための触媒に特に制限はないが、酸触媒、塩基触媒が好ましく用いられる。酸触媒の具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、カンファースルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トシル酸、ギ酸、多価カルボン酸あるいはその無水物等が挙げられる。塩基触媒の具体例としては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。触媒の使用量としては、原料であるアルコキシシランおよびクロロシランに含有される加水分解性基(アルコキシ基および塩素原子基)の全モル数に対して、1.0×10-5倍以上1.0×10-1倍以下であることが好ましい。
前記加水分解および縮合反応では、必ずしも反応溶媒を用いる必要はなく、原料化合物、水、触媒を混合し、加水分解縮合することができる。一方、反応溶媒を用いる場合、その種類は特に限定されるものではない。中でも、原料化合物、水、触媒に対する溶解性の観点から、極性溶媒が好ましく、さらに好ましくはアルコール系溶媒である。具体的には、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール等が挙げられる。前記反応溶媒を用いる場合の使用量としては、前記加水分解縮合反応が均一系で進行させるに必要な任意量を使用することができる。
次に第4工程について説明する。第4工程は前記第1工程によって得られたHFIP基含有芳香族ハロシラン(2)を加水分解重縮合することで、式(5)で表される繰り返し単位を有するHFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)を得る工程である。
前記クロロシランとしては、具体的には、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、ジプロピルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、ビス(3,3,3-トリフルオロプロピル)ジクロロシラン、メチル(3,3,3-トリフルオロプロピル)ジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、プロピルトリクロロシラン、イソプロピルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、トリフルオロメチルトリクロロシラン、ペンタフルオロエチルトリクロロシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリクロロシラン、テトラクロロシランを例示することができる。
前記アルコキシシランとしては、具体的には、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ビス(3,3,3-トリフルオロプロピル)ジメトキシシラン、メチル(3,3,3-トリフルオロプロピル)ジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、イソプロピルトリプロポキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、プロピルトリイソプロポキシシラン、イソプロピルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、ペンタフルオロエチルトリメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、前記第2工程で得られたHFIP基含有芳香族アルコキシシラン(4)を例示することができる。
シリケートオリゴマーとしては、前述の市販品を挙げることができる。
本加水分解重縮合反応は、クロロシランの加水分解および縮合反応における一般的な方法で行うことができる。具体例を挙げると、まず、HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)を室温(特に加熱または冷却しない雰囲気温度を言い、通常、約15℃以上約30℃以下である。以下同じ。)にて反応容器内に所定量採取した後、所望により重縮合反応を進行させるための触媒、反応溶媒を反応器内に加えたのち、HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)を加水分解するための水を加えて反応溶液とする。このときの反応資材の投入順序はこれに限定されず、任意の順序で投入して反応溶液とすることができる。また、他の加水分解性シランを併用する場合には、HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)と同様に反応器内に加えればよい。次いで、この反応溶液を撹拌しながら、所定時間、所定温度で加水分解および縮合反応を進行させることで、本発明のHFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)を得ることができる。加水分解縮合に必要な時間は、触媒の種類にもよるが通常、3時間以上24時間以下、反応温度は室温以上180℃以下である。加熱を行なう場合は、反応系中の未反応原料、水、反応溶媒および/または触媒が、反応系外へ留去されることを防ぐため、反応容器を閉鎖系にするか、コンデンサー等の還流装置を取り付けて反応系を還流させることが好ましい。反応後は、HFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物(A)のハンドリングの観点から、反応系内に残存する水および触媒を除去するのが好ましい。前記水、触媒の除去は、抽出作業で行ってもよいし、トルエン等の反応に悪影響を与えない溶媒を反応系内に加え、ディーンスターク管で共沸除去してもよい。
共鳴周波数400MHzの核磁気共鳴装置(日本電子株式会社製、JNM-ECA400)を使用し、1H-NMR、19F-NMRの測定を行った。
GC測定は島津製作所(株)製、商品名Shimadzu GC-2010を用い、カラムはキャピラリーカラム DB1(60mm×0.25mmφ×1μm)を用いて測定を行なった。
重合物の分子量はゲル浸透クロマトグラフ(東ソー株式会社製、HLC-8320GPC)を使用してGPCを測定し、ポリスチレン換算により、重量平均分子量(Mw)を算出した。
得られた3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリクロロシリルベンゼンの1H-NMRおよび19F-NMRの測定結果を以下に示す。
1H-NMR(溶媒CDCl3,TMS):δ 8.17(s,1H),7.96-7.89(m,2H),7.64-7.60(dd,J=7.8Hz,1H),3.42(s,1H)
19F-NMR(溶媒CDCl3,CCl3F):δ -75.44(s,12F)
得られた3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリメトキシシリルベンゼンの1H-NMR、19F-NMR測定結果を以下に示す。
1H-NMR(溶媒CDCl3,TMS):δ7.98(s,1H), 7.82-7.71(m,2H),7.52-7.45(dd,J=7.8Hz,1H),3.61(s,9H)
19F-NMR(溶媒CDCl3,CCl3F):δ-75.33(s,12F)
1H-NMR(溶媒CDCl3,TMS):δ8.00(s,1H), 7.79-7.76(m,2H),7.47(t,J=7.8Hz,1H),3.87(q,J=6.9Hz,6H),3.61(s,1H),1.23(t,J=7.2Hz,9H)
19F-NMR(溶媒CDCl3,CCl3F):δ-75.99(s,6F)
温度計、メカニカルスターラー、ジムロート還流管を備え付け、乾燥窒素雰囲気下に置換した容量300mLの4つ口フラスコに、実施例1に示す手法に従って合成した3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリクロロシリルベンゼンと4-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリクロロシリルベンゼンの混合物(GCarea比 1-3置換体:1-4置換体=96:4)188.80gを仕込み、フラスコ内容物を攪拌しながら60℃に加熱した。その後窒素バブリングさせながら、滴下ポンプを用いて無水エタノール、89.80g(1950mmol)を1mL/minの速さで滴下し、塩化水素除去を行いながらアルコキシ化反応を行った。全量滴下後30分攪拌した後、減圧ポンプを用いて過剰量のエタノールを留去した。この反応物のガスクロマトグラフィー測定を行うことにより、未反応のクロロシラン化合物の量を算出した。続いて、先の反応物に対して、未反応のクロロシランのクロロ基のmol数に対して、1.2当量の20質量%ナトリウムエトキシドエタノール溶液3.39g(10.0mmol)を添加し、30分反応させた。減圧ポンプを用いて過剰なエタノールを留去したのち、単蒸留を行なうことで、3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリエトキシシリルベンゼンと4-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリエトキシシリルベンゼンの混合物159.58g(GCarea%:1-3置換体と1-4置換体の合計=95.26%(1-3置換体=91.58%、1-4置換体=3.68%))を得た。フェニルトリクロロシランを基準とした収率(実施例1と実施例6の通算収率)は75%であった。また、得られた粗体を精密蒸留することで、無色透明液体として3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリエトキシシリルベンゼン(GC純度98%)を得た。
温度計、メカニカルスターラー、ジムロート還流管を備え付け、乾燥窒素雰囲気下に置換した容量300mLの4つ口フラスコに、実施例1に示す手法に従って合成した3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリクロロシリルベンゼンと4-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリクロロシリルベンゼンの混合物(GCarea比 1-3置換体:1-4置換体=96:4)188.80gを仕込み、フラスコ内容物を攪拌しながら60℃に加熱した。その後窒素バブリングさせながら、滴下ポンプを用いて無水エタノール、89.80g(1950mmol)を1mL/minの速さで滴下し、塩化水素除去を行いながらアルコキシ化反応を行った。全量滴下後30分攪拌した後、減圧ポンプを用いて過剰量のエタノールを留去した。この反応物のガスクロマトグラフィー測定を行うことにより、未反応のクロロシラン化合物の量を算出した。続いて、先の反応物に対して、未反応のクロロシランのクロロ基のmol数に対して、ハロゲン化水素捕捉剤として1.2当量のオルトギ酸トリエチル1.48g(10.0mmol)を添加し、30分反応させた。減圧ポンプを用いて過剰なエタノール、オルトギ酸トリエチル、およびオルトギ酸トリエチルを用いた反応による生成物を留去したのち、単蒸留を行なうことで、3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリエトキシシリルベンゼンと4-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリエトキシシリルベンゼンの混合物159.98g(GCarea%:1-3置換体と1-4置換体の合計=95.50%(1-3置換体=92.93%、1-4置換体=3.99%))を得た。フェニルトリクロロシランを基準とした収率(実施例1と実施例6の通算収率)は83%であった。また、得られた粗体を精密蒸留することで、無色透明液体として3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリエトキシシリルベンゼン(GC純度98%)を得た。
得られた3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-ジエトキシメチルシリルベンゼンの1H-NMR、19F-NMR測定結果を以下に示す。
1H-NMR(溶媒CDCl3,TMS):δ7.96(s,1H), 7.76-7.73(m,2H),7.47(t,J=7.8Hz,1H),3.86-3.75(m,6H),3.49(s,1H),1.23(t,J=7.2Hz,6H),0.37(s,3H)
19F-NMR(溶媒CDCl3,CCl3F):δ-75.96(s, 6F)
温度計、メカニカルスターラー、ジムロート還流管を備え付け、乾燥窒素雰囲気下に置換した容量300mLの4つ口フラスコに、実施例2に示す手法に従って合成した2-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-ジクロロメチルシリルベンゼン、3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-ジクロロメチルシリルベンゼン、および4-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-ジクロロメチルシリルベンゼンの混合物(GCarea比 1-2置換体:1-3置換体:1-4置換体=1:92:7)301.25gを仕込み、フラスコ内容物を攪拌しながら40℃に加熱した。その後窒素バブリングさせながら、滴下ポンプを用いて無水エタノール、100.60g(2180mmol)を1.5mL/minの速さで滴下し、塩化水素除去を行いながらアルコキシ化反応を行った。全量滴下後30分攪拌した後、減圧ポンプを用いて過剰量のエタノールを留去した。この反応物のガスクロマトグラフィー測定を行うことにより、未反応のクロロシラン化合物の量を算出した。続いて、先の反応物に対して、未反応のクロロシランのクロロ基のmol数に対して、ハロゲン化水素捕捉剤として、1.2当量のオルトギ酸トリエチル、6.30g(42.5mmol)を添加し、30分反応させた。減圧ポンプを用いて過剰なエタノールを留去したのち、単蒸留を行なうことで、2-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-ジエトキシメチルシリルベンゼン、3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-ジエトキシメチルシリルベンゼン、および4-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-ジエトキシメチルシリルベンゼンの混合物314.44g(GCarea%:1-2置換体と1-3置換体と1-4置換体の合計=84.60%(1-2置換体=0.20%、1-3置換体=78.17%、1-4置換体=6.23%))を得た。ジクロロメチルフェニルシランを基準とした収率(実施例2と実施例7の通算収率)は84%であった。また、得られた粗体を精密蒸留することで、無色透明液体として3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-ジエトキシメチルシリルベンゼンGC純度98%)を得た。
100mLのオートクレーブに、トリメトキシフェニルシラン5.95g(30.0mmol)、塩化アルミニウム0.40g(3.0mmol)を加えた。次いで、窒素置換を実施したのち、室温にてHFA4.98g(30mmol)加え、その後3時間攪拌を継続した。しかしながらケイ素-アルコキシ結合部位にHFAが挿入した化合物が主として生成し、目的のアルコキシシランはまったく生成しなかった。
100mLのオートクレーブに、トリエトキシフェニルシラン7.21g(30.0mmol)、塩化アルミニウム0.40g(3.0mmol)を加えた。次いで、窒素置換を実施したのち、室温にてHFA4.98g(30mmol)加え、その後3時間攪拌を継続した。しかしながらケイ素-アルコキシ結合部位にHFAが挿入した化合物が主として生成し、目的のアルコキシシランはまったく生成しなかった。
50mLのフラスコに、実施例4で合成した3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリメトキシシリルベンゼンの精密蒸留品7.29g(20mmol)、水、1.08g(60mmol)、酢酸、0.06g(1mmol)を加え、100℃で24時間攪拌させた。反応終了後、この反応物にトルエンを加え、ディーンスタークを用いて還流(バス温度150℃)させることにより、水、生成するエタノール、酢酸を留去した。続いてロータリーエバポレータ、ポンプを用いてトルエンを留去することにより、(12)の繰り返し単位を有するHFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物5.96gを白色固体として得た。GPCを測定した結果、Mw=1970であった。
50mLのフラスコに、実施例6で合成した3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリエトキシシリルベンゼンの精密蒸留品8.1g(20mmol)、水、1.08g(60mmol)、酢酸、0.06g(1mmol)を加え、100℃で24時間攪拌させた。反応終了後、この反応物にトルエンを加え、ディーンスタークを用いて還流(バス温度150℃)させることにより、水、生成するエタノール、酢酸を留去した。続いてロータリーエバポレータ、ポンプを用いてトルエンを留去することにより、(12)の繰り返し単位を有するHFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物6.15gを白色固体として得た。GPCを測定した結果、Mw=1650であった。
50mLのフラスコに、実施例6で合成した3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリエトキシシリルベンゼンの精密蒸留品4.06g(10mmol)、フェニルトリエトキシシラン2.40g(10mmol)水、1.08g(60mmol)、酢酸、0.06g(1mmol)を加え、100℃で24時間攪拌させた。反応終了後、この反応物にトルエンを加え、ディーンスタークを用いて還流(バス温度150℃)させることにより、水、生成するエタノール、酢酸を留去した。続いてロータリーエバポレータ、ポンプを用いてトルエンを留去することにより、(13)の繰り返し単位を有するHFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物3.92gを白色固体として得た。GPCを測定した結果、Mw=2100であった。
50mLのフラスコに、実施例7で合成した3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-ジエトキシメチルシリルベンゼンの精密蒸留品7.5g(20mmol)、水0.72g(40mmol)、酢酸0.06g(1mmol)を加え、100℃で24時間攪拌させた。反応終了後、この反応物にトルエンを加え、ディーンスタークを用いて還流(バス温度150℃)させることにより、水、生成するエタノール、酢酸を留去した。続いてロータリーエバポレータ、ポンプを用いてトルエンを留去することにより、(14)の繰り返し単位を有するHFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物5.94gを無色透明液体として得た。GPCを測定した結果、Mw=1323であった。
50mLのフラスコに、実施例1で合成した3-(2-ヒドロキシ-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル)-トリクロロシリルベンゼンの精密蒸留品7.6g(20mmol)、に対し、氷浴しながら水、1.08g(60mmol)、を滴下した後、室温で1時間攪拌させた。反応終了後、ポンプを用いて残存する水、塩化水素を留去することにより、(12)の繰り返し単位を有するHFIP基含有ポリシロキサン高分子化合物5.13gを白色固体として得た。GPCを測定した結果、Mw=5151であった。
Claims (21)
- 前記Xが塩素原子である、請求項1または請求項2に記載の珪素化合物。
- 前記bが0または1である、請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載の珪素化合物。
- 前記R1がメチル基である、請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載の珪素化合物。
- 次の第1工程を含む、式(2)で表される珪素化合物の製造方法。
第1工程:式(1)で表される含芳香族珪素化合物と、ヘキサフルオロアセトンとを、ルイス酸触媒の存在下で反応させて、式(2)で表される珪素化合物を得る工程。
- 次の第1工程および第2工程を含む、式(4)で表される珪素化合物の製造方法。
第1工程:式(1)で表される含芳香族珪素化合物と、およびヘキサフルオロアセトンとを、ルイス酸触媒の存在下で反応させて、式(2)で表される珪素化合物を得る工程。
第2工程:前記第1工程で得られた式(2)で表される珪素化合物を式(3)で表されるアルコールと反応させて、式(4)で表される珪素化合物を得る工程。
- 前記Xが塩素原子である、請求項7または請求項8に記載の製造方法。
- 前記R2がメチル基またはエチル基である、請求項7乃至請求項9のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記bが0または1である、請求項7乃至請求項10のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記R1がメチル基である、請求項7乃至請求項11のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記第1工程で使用するルイス酸触媒が塩化アルミニウム、塩化鉄(III)および三フッ化ホウ素からなる群より選択される、請求項7乃至請求項12のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記Xが塩素原子であり、R2がメチル基またはエチル基であり、bが0または1であり、かつ、第1工程で使用するルイス酸触媒が塩化アルミニウム、塩化鉄(III)および三フッ化ホウ素からなる群より選択される、請求項7乃至13のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記第2工程において、さらにハロゲン化水素捕捉剤を添加し反応させる、請求項7乃至14のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記ハロゲン化水素捕捉剤が、オルトエステルまたはナトリウムアルコキシドからなる群より選択されるハロゲン化水素捕捉剤である、請求項15に記載の製造方法。
- 次の第2工程を含む、式(4)で表される珪素化合物の製造方法。
第2工程:次の式(2)で表される珪素化合物を式(3)で表されるアルコールと反応させて、式(4)で表される珪素化合物を得る工程。
- 前記第2工程において、さらにハロゲン化水素捕捉剤を添加し反応させる、請求項17に記載の製造方法。
- 前記ハロゲン化水素捕捉剤が、オルトエステルまたはナトリウムアルコキシドからなる群より選択されるハロゲン化水素捕捉剤である、請求項18に記載の製造方法。
- 請求項7に記載の製造方法により式(4)で表される珪素化合物を得た後、さらに次の第3工程を行う、式(5)で表される繰り返し単位を有するポリシロキサン高分子化合物(A)を製造する方法。
第3工程:該式(4)で表される珪素化合物を加水分解重縮合することで、前記ポリシロキサン高分子化合物(A)を得る工程。
- 次の第4工程を含む、式(5)で表される繰り返し単位を有するポリシロキサン高分子化合物(A)を製造する方法。
第4工程:次の式(2)で表される珪素化合物を加水分解重縮合することで、前記ポリシロキサン高分子化合物(A)を得る工程。
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Citations (2)
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