JP7159694B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
本発明の第1実施形態に係るプラズマ処理装置について説明する。図1は、第1実施形態に係るプラズマ処理装置10を模式的に示す縦断面図である。
次に、上述した第1実施形態に係るプラズマ処理装置10における電圧電極2および接地電極3の具体的な配置構成の一例について説明する。なお、以下では、各構成例の説明の便宜上、電圧電極2および接地電極3の符号に「A」等の符号を付記する。
次に、本発明の第2実施形態に係るプラズマ処理装置について説明する。図5は、第2実施形態に係るプラズマ処理装置101を模式的に示す縦断面図である。
次に、本発明の第3実施形態に係るプラズマ処理装置について説明する。図6は、第3実施形態に係るプラズマ処理装置102を模式的に示す縦断面図である。
次に、本発明の第4実施形態に係るプラズマ処理装置について説明する。図8は、先述した図7に示す構成の変形例であり、カバー7の軸方向途中位置で切断した上面断面図を示す。
コンデンサCLのインピーダンスは、ZL=1/njωCH=1/n・ZH
となる。
nとなる。
コンデンサCHに10×3/4=7.5kV、
コンデンサCLに10×1/4=2.5kVがそれぞれ印加される。
従って、放電開始電圧が7kVとすれば、コンデンサCHにて優先的に放電が行われる。これにより、図8に示すように、電圧電極2側のプラズマ発生領域PR1においてプラズマが優先的に生成される。
次に、その他の変形実施例について説明する。図9は、第1変形例に係るプラズマ処理装置に被処理物W1がセットされた状態における被処理物W1付近を模式的に示す拡大図である。図9に示す構成では、板状の被処理物W1に対して棒状の電圧電極EHおよび棒状の接地電極ELを使用する。
Claims (13)
- 誘電体を有し、電圧が印加される電圧電極と、
誘電体を有し、接地電位と導通される接地電極と、
金属製の被処理物を保持する被処理物ホルダと、
を備え、
前記電圧電極と前記接地電極とのそれぞれが有する誘電体は、前記被処理物と対向し、
前記電圧電極に前記電圧を印加していないとき、前記被処理物は、前記電圧電極および前記接地電極に対して電位が独立した電気的なフローティング状態であり、
前記電圧電極に前記電圧を印加することにより、前記電圧電極と前記被処理物との間と、前記接地電極と前記被処理物との間との少なくとも一方においてプラズマが発生する、
プラズマ処理装置。 - 前記電圧電極と前記接地電極は、互いに対向する、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記電圧電極における前記被処理物と対向する電極面、および前記接地電極における前記被処理物と対向する電極面の少なくとも一方は、前記被処理物の外周面に沿う形状を有する、請求項1または請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記被処理物の外周面に沿う形状は、曲面である、請求項3に記載のプラズマ処理装置。
- 前記電圧電極と前記接地電極が配置される円に沿う方向を周方向とする回転軸周りに前記被処理物ホルダを、前記電圧電極と前記接地電極に対して相対的に回転させる回転機構をさらに備える、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記回転機構は、前記被処理物ホルダを回転させる、請求項5に記載のプラズマ処理装置。
- 少なくとも、前記電圧電極と前記被処理物との間、および前記接地電極と前記被処理物との間、の領域であるプラズマ発生領域を覆うカバーをさらに備え、
前記カバーは、排気機構に接続される、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。 - 軸方向に延びる柱状の前記被処理物における外周面の軸方向一方側一部は、前記電圧電極および前記接地電極と対向し、
前記外周面における前記軸方向一方側一部を除いた部分は、前記電圧電極および前記接地電極と対向せず、
前記排気機構と前記カバーが接続される接続部は、前記電圧電極と前記接地電極よりも軸方向一方側に配置される、請求項7に記載のプラズマ処理装置。 - 前記被処理物が延びる軸方向周りの周方向に、前記電圧電極および前記接地電極と隣接して配置される隣接部材をさらに備える、請求項7または請求項8に記載のプラズマ処理装置。
- 前記隣接部材は、隙間を介して前記被処理物と径方向に対向する、請求項9に記載のプラズマ処理装置。
- 前記電圧電極と前記被処理物とが対向することにより生じる静電容量と、前記接地電極と前記被処理物とが対向することにより生じる静電容量と、は不均等である、請求項1か
ら請求項10のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記電圧電極における前記被処理物と対向する電極面の面積と、前記接地電極における前記被処理物と対向する電極面の面積と、が異なる、請求項11に記載のプラズマ処理装置。
- 電圧が印加される電圧電極と、
接地電位と導通される接地電極と、
被処理物を保持する被処理物ホルダと、
少なくとも、前記電圧電極と前記被処理物との間、および前記接地電極と前記被処理物との間、の領域であるプラズマ発生領域を覆うカバーと、
前記被処理物が延びる軸方向周りの周方向に、前記電圧電極および前記接地電極と隣接して配置される隣接部材と、
を備え、
前記カバーは、排気機構に接続され、
前記電圧電極と前記接地電極とのそれぞれが有する誘電体は、前記被処理物と対向し、
前記電圧電極に前記電圧を印加していないとき、前記被処理物は、前記電圧電極および前記接地電極に対して電位が独立した電気的なフローティング状態であり、
前記電圧電極に前記電圧を印加することにより、前記電圧電極と前記被処理物との間と、前記接地電極と前記被処理物との間との少なくとも一方においてプラズマが発生する、
プラズマ処理装置。
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