JP7143016B2 - TAPE APPLICATION METHOD AND TAPE APPLICATION DEVICE - Google Patents

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Description

本発明は、粘着テープを被加工物に貼着するテープ貼着方法、及び該テープ貼着方法に用いることが可能なテープ貼着装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a tape sticking method for sticking an adhesive tape to a workpiece, and a tape sticking apparatus that can be used for the tape sticking method.

IC(Integrated Circuit)等のデバイスが形成された半導体ウェーハ、LED(Light Emitting Diode)等のデバイスが形成された光デバイスウェーハなどの被加工物に対しては、各種の加工装置を用いて様々な加工が施される。被加工物の加工は、加工装置に備えられたチャックテーブルによって被加工物を保持した状態で実施される。 For workpieces such as semiconductor wafers on which devices such as ICs (Integrated Circuits) are formed, and optical device wafers on which devices such as LEDs (Light Emitting Diodes) are formed, various processing apparatuses are used to process them. processing is applied. The machining of the workpiece is performed while the workpiece is held by a chuck table provided in the machining apparatus.

被加工物を加工する際には、デバイスの保護や被加工物の保持・転置などを目的として、被加工物に粘着テープが貼着される。例えば、特許文献1で開示される半導体ウェーハの加工方法には、半導体ウェーハのデバイス形成面に保護部材として機能する粘着テープを貼着する工程や、半導体ウェーハを複数の半導体チップに分割した後、これらの半導体チップにダイアタッチフィルムと称される粘着テープを貼着する工程が含まれている。 2. Description of the Related Art When processing a workpiece, an adhesive tape is attached to the workpiece for the purposes of device protection and holding/transposition of the workpiece. For example, the method for processing a semiconductor wafer disclosed in Patent Document 1 includes a step of adhering an adhesive tape functioning as a protective member to the device forming surface of the semiconductor wafer, dividing the semiconductor wafer into a plurality of semiconductor chips, A process of attaching an adhesive tape called a die attach film to these semiconductor chips is included.

被加工物への粘着テープの貼着は、例えば専用のテープ貼着装置を用いて行われる。特許文献2には、粘着テープと剥離シートとが貼り合わされたテープ体を支持ローラから送り出し、剥離シートから剥離された粘着テープを押圧ローラで被加工物に向かって押圧しつつ剥離シートを巻き取りローラによって巻き取って回収することにより、被加工物に粘着テープを貼着するテープ貼着装置が開示されている。 Adhesion of the adhesive tape to the workpiece is performed using, for example, a dedicated tape application device. In Patent Document 2, a tape body in which an adhesive tape and a release sheet are bonded together is sent out from a support roller, and the release sheet is wound while pressing the adhesive tape separated from the release sheet toward a workpiece with a pressure roller. A tape sticking device has been disclosed that sticks an adhesive tape to a workpiece by winding and recovering it with a roller.

特開2005-19525号公報JP 2005-19525 A 特開2015-220365号公報JP 2015-220365 A

上記のようなテープ貼着装置では、粘着テープを被加工物に貼着する際の皺の発生や気泡の混入を防ぐため、粘着テープを張った状態で支持ローラから押圧ローラに向かって送り出す。このとき、何らかの原因で粘着テープの送り出し速度が押圧ローラの回転速度よりも遅くなると、粘着テープは引き延ばされ、張力が付加された状態で被加工物に貼着される。 In the tape applying apparatus as described above, in order to prevent the occurrence of wrinkles and the inclusion of air bubbles when the adhesive tape is applied to the workpiece, the adhesive tape is fed from the support roller to the pressing roller while being stretched. At this time, if the delivery speed of the adhesive tape becomes slower than the rotation speed of the pressure roller for some reason, the adhesive tape is stretched and stuck to the workpiece while being tensioned.

引き延ばされた状態の粘着テープに貼着された被加工物に対して切削加工などを施すと、被加工物にチッピングと呼ばれる欠けやクラックなどの加工不良が生じやすくなることが知られている。そのため、粘着テープは極力張力が生じない状態で被加工物に貼着することが望まれる。しかしながら、粘着テープの送り出し速度と押圧ローラの回転速度とを完全に一致させることは困難な場合が多い。 It is known that when a workpiece attached to an adhesive tape in a stretched state is subjected to a cutting process, etc., processing defects such as chips and cracks called chipping tend to occur in the workpiece. there is Therefore, it is desired that the adhesive tape be attached to the workpiece in a state in which tension is not generated as much as possible. However, in many cases, it is difficult to completely match the delivery speed of the adhesive tape with the rotational speed of the pressure roller.

例えば、支持ローラの回転速度と押圧ローラの回転速度とを同一に設定しても、支持ローラに巻き付けられた粘着テープの残量が変化すると粘着テープが送り出される速度も変化するため、粘着テープの送り出し速度と押圧ローラの回転速度とが厳密に一致する状態を保つことは困難になる。このように、従来のテープ貼着装置では粘着テープの貼着を行う際に粘着テープが引き延ばされて張力が生じる現象が問題となっていた。 For example, even if the rotation speed of the support roller and the rotation speed of the pressure roller are set to be the same, if the remaining amount of the adhesive tape wound around the support roller changes, the speed at which the adhesive tape is delivered will also change. It becomes difficult to keep the delivery speed and the rotation speed of the pressure roller in exact agreement. As described above, the conventional tape sticking apparatus has a problem in that the adhesive tape is stretched and tension is generated when sticking the adhesive tape.

本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、被加工物に貼着される粘着テープの引き延ばしを抑制することが可能なテープ貼着方法、及び該テープ貼着方法に用いることが可能なテープ貼着装置を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of such problems, and can be used for a tape sticking method capable of suppressing stretching of an adhesive tape stuck to a workpiece, and the tape sticking method. An object of the present invention is to provide a tape sticking device.

本発明の一態様によれば、粘粘着層と基材とからなり該粘着層が剥離シートの表面側に貼着された円形の粘着テープを、該剥離シートから剥離して板状の被加工物に貼着するテープ貼着方法であって、該剥離シートの裏面側を支持して、該剥離シートの表面側に貼着された該粘着テープを露出させる粘着テープ準備ステップと、該粘着テープ準備ステップを実施した後、該粘着テープを静止させた状態で、幅及び外周の長さが該粘着テープの直径より大きく、外周面で該粘着テープの該基材側を吸着する機能を備える貼り替えローラを該基材と接するように転がし、該粘着テープを該剥離シートから剥離しながら該貼り替えローラの外周面に吸着させて巻き取る粘着テープ巻き取りステップと、該粘着テープ巻き取りステップを実施した後、該貼り替えローラをチャックテーブルによって保持された該被加工物上で転がし、該貼り替えローラの外周面に吸着され該粘着層が露出した該粘着テープを該被加工物に押圧して貼着する貼着ステップと、を備えるテープ貼着方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, a circular adhesive tape consisting of an adhesive layer and a base material and having the adhesive layer attached to the surface side of a release sheet is peeled off from the release sheet to form a plate-shaped work piece. A method of attaching a tape to an object, comprising: an adhesive tape preparation step of supporting the back side of the release sheet to expose the adhesive tape attached to the front side of the release sheet; and the adhesive tape. After performing the preparation step, the adhesive tape is kept stationary, and the adhesive tape has a width and a peripheral length larger than the diameter of the adhesive tape, and has a function of adsorbing the substrate side of the adhesive tape on the peripheral surface. An adhesive tape winding step of rolling a replacement roller so as to be in contact with the base material, and winding the adhesive tape while peeling it off from the release sheet while adsorbing it to the outer peripheral surface of the replacement roller; and the adhesive tape winding step. After that, the replacement roller is rolled on the workpiece held by the chuck table, and the adhesive tape with the adhesive layer exposed by being attracted to the outer peripheral surface of the replacement roller is pressed against the workpiece. A tape application method is provided comprising: an application step of applying a tape.

また、本発明の一態様において、該貼着ステップでは、該チャックテーブルで支持された環状フレームに該粘着テープの外周部を貼着し、該環状フレームによって該被加工物が囲繞されて支持されるフレームユニットを形成してもよい。 In one aspect of the present invention, in the attaching step, the outer peripheral portion of the adhesive tape is attached to an annular frame supported by the chuck table, and the workpiece is surrounded and supported by the annular frame. frame unit may be formed.

また、本発明の一態様において、該被加工物は、表面に格子状に形成されたストリートに沿って複数のデバイスチップに分割され、表面に保護テープが貼着されたデバイスウェーハであって、該粘着テープにはダイアタッチフィルムが貼着されており、該貼着ステップでは、該デバイスウェーハの裏面に該ダイアタッチフィルムを介して該粘着テープを貼着してもよい。 Further, in one aspect of the present invention, the workpiece is a device wafer divided into a plurality of device chips along grid-shaped streets formed on the surface and having a protective tape attached to the surface, A die attach film is attached to the adhesive tape, and in the attaching step, the adhesive tape may be attached to the back surface of the device wafer via the die attach film.

また、本発明の一態様によれば、粘着層と基材とからなり該粘着層が剥離シートの表面側に貼着された円形の粘着テープを、該剥離シートから剥離して板状の被加工物に貼着するテープ貼着装置であって、該粘着テープが貼着された剥離シートを巻回して構成された原反ロールから該剥離シートを繰り出す繰り出しユニットと、繰り出しユニットによって繰り出された該剥離シートの裏面側を支持する剥離シート支持部と、該被加工物を保持するチャックテーブルと、幅及び外周の長さが該粘着テープの直径より大きく、外周面で該粘着テープの該基材側を吸着する機能を有する貼り替えローラを備え、該貼り替えローラを該剥離シート支持部上で静止した状態の該粘着テープと接するように転がして該粘着テープを巻き取り、該貼り替えローラを該チャックテーブルに保持された該被加工物上で転がして該粘着テープを該被加工物に貼着する貼り替えユニットと、を備えるテープ貼着装置が提供される。 Further, according to one aspect of the present invention, a circular adhesive tape comprising an adhesive layer and a base material and having the adhesive layer attached to the surface side of a release sheet is peeled off from the release sheet to form a plate-like cover. A tape adhering device for adhering to a workpiece, comprising : a feeding unit for feeding the release sheet from a raw fabric roll configured by winding the release sheet to which the adhesive tape is adhered; a release sheet supporting portion for supporting the back side of the release sheet; a chuck table for holding the workpiece ; A replacement roller having a function of adsorbing the base material side is provided, and the replacement roller is rolled so as to come into contact with the adhesive tape in a stationary state on the release sheet support portion, winding the adhesive tape, and attaching the adhesive tape. A tape applying device is provided that includes a reapplying unit that applies the adhesive tape to the workpiece by rolling a replacement roller over the workpiece held on the chuck table.

本発明の一態様に係るテープ貼着方法は、貼り替えローラを粘着テープと接するように転がして粘着テープを巻き取り、この貼り換えローラをさらに被加工物上で転がして粘着テープを被加工物に貼着する。これにより、粘着テープを剥離シートから剥離して被加工物に貼着する過程において粘着テープの引き延ばしを防止できる。 According to one aspect of the present invention, there is provided a method of applying a tape, in which a replacement roller is rolled so as to be in contact with an adhesive tape to wind the adhesive tape, and the replacement roller is further rolled on a workpiece to apply the adhesive tape to the workpiece. affixed to As a result, the adhesive tape can be prevented from being stretched in the process of peeling the adhesive tape from the release sheet and adhering it to the workpiece.

デバイスウェーハの構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of a device wafer. 保護テープが貼着された状態のデバイスウェーハを示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a device wafer to which a protective tape is adhered; 粘着テープの構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of an adhesive tape. 粘着テープ準備ステップにおけるテープ貼着装置を模式的に示す一部断面正面図である。FIG. 4 is a partially cross-sectional front view schematically showing a tape sticking device in an adhesive tape preparation step; 図5(A)及び図5(B)は、粘着テープ巻き取りステップにおけるテープ貼着装置を模式的に示す一部断面正面図である。5A and 5B are partial cross-sectional front views schematically showing the tape sticking device in the adhesive tape winding step. 図6(A)及び図6(B)は、貼着ステップにおけるテープ貼着装置を模式的に示す一部断面正面図である。6A and 6B are partial cross-sectional front views schematically showing the tape sticking device in the sticking step. デバイスウェーハから保護テープが剥離される様子を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing how the protective tape is peeled off from the device wafer; フレームユニットの構成例を示す斜視図である。3 is a perspective view showing a configuration example of a frame unit; FIG. デバイスウェーハに保護テープが貼着される様子を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a mode that a protective tape is affixed to a device wafer. 基板の裏面が研削される様子を示す正面図である。FIG. 4 is a front view showing how the back surface of the substrate is ground; デバイスウェーハが複数のデバイスチップに分割された状態を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a state in which a device wafer is divided into a plurality of device chips; フレームユニットの構成例を示す斜視図である。3 is a perspective view showing a configuration example of a frame unit; FIG. レーザー加工装置によってダイアタッチフィルムが分割される様子を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing how the die attach film is divided by a laser processing device;

以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。まず、本実施形態に係るテープ貼着方法によって粘着テープが貼着され、各種の加工が施される板状の被加工物の例について説明する。図1は、被加工物の一例であるデバイスウェーハ11の構成例を示す斜視図である。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, an example of a plate-shaped work piece to which an adhesive tape is stuck by the tape sticking method according to the present embodiment and which is subjected to various processing will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a device wafer 11, which is an example of a workpiece.

デバイスウェーハ11は、表面13a及び裏面13bを備えシリコン等の材料でなる円盤状の基板13を備える。基板13は格子状に配列された複数のストリート(分割予定ライン)15によって複数の領域に区画されており、この複数の領域の表面13a側にはそれぞれIC(Integrated Circuit)等で構成されるデバイス17が形成されている。ストリート15に沿って基板13を分割することにより、デバイス17をそれぞれ含む複数のデバイスチップが得られる。 The device wafer 11 includes a disk-shaped substrate 13 having a front surface 13a and a back surface 13b and made of a material such as silicon. The substrate 13 is partitioned into a plurality of areas by a plurality of streets (planned division lines) 15 arranged in a grid pattern, and devices configured with ICs (Integrated Circuits) and the like are provided on the surface 13a side of the plurality of areas, respectively. 17 is formed. By dividing the substrate 13 along the streets 15, a plurality of device chips each containing a device 17 are obtained.

なお、本実施形態ではシリコン等の材料でなる円盤状の基板13を用いるが、基板13の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば、シリコン以外の半導体、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる基板13を用いることもできる。同様に、デバイス17の種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はない。 In this embodiment, the disk-shaped substrate 13 made of a material such as silicon is used, but the material, shape, structure, size, etc. of the substrate 13 are not limited. For example, the substrate 13 made of materials other than silicon, such as semiconductors, ceramics, resins, and metals, can also be used. Similarly, there are no restrictions on the type, quantity, shape, structure, size, arrangement, etc. of the device 17 .

デバイスウェーハ11を加工する際は、まず、デバイス17の保護等を目的としてデバイスウェーハ11に保護テープが貼着される。図2は、保護テープ19が貼着された状態のデバイスウェーハ11を示す斜視図である。図2に示すように、基板13の表面13a側に複数のデバイス17を覆うように円形の保護テープ19が貼着される。保護テープ19は、例えば樹脂等の材料でなる柔軟なフィルムによって構成される。 When processing the device wafer 11 , first, a protective tape is attached to the device wafer 11 for the purpose of protecting the devices 17 and the like. FIG. 2 is a perspective view showing the device wafer 11 with the protective tape 19 attached. As shown in FIG. 2, a circular protective tape 19 is adhered to the surface 13a side of the substrate 13 so as to cover the plurality of devices 17. As shown in FIG. The protective tape 19 is composed of a flexible film made of a material such as resin.

その後、デバイスウェーハ11は基板13の裏面13b側が露出するように、保護テープ19を介して研削装置のチャックテーブルで保持され、露出した基板13の裏面13b側が研削砥石で研削される。これにより、デバイスウェーハ11は所望の厚さに薄化される。 After that, the device wafer 11 is held by a chuck table of a grinding machine via a protective tape 19 so that the back surface 13b side of the substrate 13 is exposed, and the exposed back surface 13b side of the substrate 13 is ground by a grinding wheel. Thereby, the device wafer 11 is thinned to a desired thickness.

そして、研削された基板13の裏面13b側に円形の粘着テープが貼着されるとともに、該粘着テープの外周部に環状フレームが貼着される。これにより、デバイスウェーハ11に粘着テープを介して環状フレームが装着され、デバイスウェーハ11は環状フレームに囲繞された状態で支持される。 A circular adhesive tape is adhered to the back surface 13b side of the ground substrate 13, and an annular frame is adhered to the outer peripheral portion of the adhesive tape. As a result, the annular frame is attached to the device wafer 11 via the adhesive tape, and the device wafer 11 is supported while being surrounded by the annular frame.

図3は、デバイスウェーハ11及び環状フレームに貼着される粘着テープ21の構成例を示す斜視図である。粘着テープ21は、樹脂等でなり柔軟性のある円形の基材23と、基材23の一方の面に接して設けられ、基材23と概ね同径の円形の粘着層25とを備える。また、粘着テープ21の粘着層25側は、PET(Polyethylene terephthalate)等の樹脂でなる剥離シート27の表面27a側に貼着されている。粘着テープ21が貼着された剥離シート27を巻回することにより、円筒状の原反ロール29が得られる。 FIG. 3 is a perspective view showing a configuration example of the adhesive tape 21 attached to the device wafer 11 and the annular frame. The adhesive tape 21 includes a flexible circular substrate 23 made of resin or the like, and a circular adhesive layer 25 provided in contact with one surface of the substrate 23 and having approximately the same diameter as the substrate 23 . The adhesive layer 25 side of the adhesive tape 21 is adhered to the surface 27a side of a release sheet 27 made of resin such as PET (Polyethylene terephthalate). A cylindrical original fabric roll 29 is obtained by winding the release sheet 27 to which the adhesive tape 21 is attached.

被加工物に粘着テープ21を貼着する際は、粘着テープ21を剥離シート27から剥離した後、粘着テープ21の粘着層25側を被加工物に貼着する。以下、本実施形態に係るテープ貼着方法を用いてデバイスウェーハ11及び環状フレームに粘着テープ21を貼着する形態について説明する。粘着テープ21の貼着はテープ貼着装置を用いて行う。 When attaching the adhesive tape 21 to the workpiece, the adhesive layer 25 side of the adhesive tape 21 is attached to the workpiece after peeling the adhesive tape 21 from the release sheet 27 . A form of sticking the adhesive tape 21 to the device wafer 11 and the annular frame using the tape sticking method according to the present embodiment will be described below. The sticking of the adhesive tape 21 is performed using a tape sticking device.

<粘着テープ準備ステップ>
まず、剥離シート27の表面側27a側に貼着された粘着テープ21を露出させる粘着テープ準備ステップを実施する。図4は、粘着テープ準備ステップにおけるテープ貼着装置2を模式的に示す一部断面正面図である。
<Adhesive tape preparation step>
First, an adhesive tape preparation step for exposing the adhesive tape 21 attached to the surface side 27a of the release sheet 27 is performed. FIG. 4 is a partially cross-sectional front view schematically showing the tape sticking device 2 in the adhesive tape preparation step.

テープ貼着装置2は、粘着テープ21が貼着された剥離シート27を繰り出す繰り出しユニット4と、繰り出しユニット4によって繰り出された剥離シート27を巻き取って回収する回収ユニット6とを備える。繰り出しユニット4には、粘着テープ21が貼着された剥離シート27を巻回して構成した原反ロール29(図3参照)が備えられており、この原反ロール29から剥離シート27が繰り出される。 The tape sticking device 2 includes a delivery unit 4 for delivering a release sheet 27 to which an adhesive tape 21 is stuck, and a recovery unit 6 for winding and recovering the release sheet 27 delivered by the delivery unit 4. - 特許庁The delivery unit 4 is equipped with a raw roll 29 (see FIG. 3) formed by winding a release sheet 27 to which an adhesive tape 21 is stuck, and the release sheet 27 is delivered from the raw roll 29. .

繰り出しユニット4は、例えばモータ等の回転駆動源に連結されたローラに、粘着テープ21が貼着された剥離シート27を巻回して構成した原反ロール29を装着することによって構成できる。また、回収ユニット6は、例えばモータ等の回転駆動源に連結され、外周面に剥離シート27が巻き付けられるローラによって構成できる。 The delivery unit 4 can be configured by mounting a raw roll 29 formed by winding a release sheet 27 with an adhesive tape 21 attached to a roller connected to a rotational drive source such as a motor. Also, the recovery unit 6 can be configured by a roller connected to a rotational drive source such as a motor, and having a release sheet 27 wound around its outer peripheral surface.

また、テープ貼着装置2は、繰り出しユニット4によって繰り出された剥離シート27を支持する剥離シート支持部8を備える。剥離シート支持部8は、その上面8a及び下面8bが概ね水平になるように配置され、上面8a及び下面8bは曲面で構成された側面8cを介して互いに接続されている。繰り出しユニット4から繰り出された剥離シート27は、上面8a、側面8c、下面8bに沿って移動し、回収ユニット6に巻き取られて回収される。 The tape sticking device 2 also includes a release sheet supporting portion 8 that supports the release sheet 27 delivered by the delivery unit 4 . The release sheet supporting portion 8 is arranged such that its upper surface 8a and lower surface 8b are substantially horizontal, and the upper surface 8a and lower surface 8b are connected to each other through a curved side surface 8c. The release sheet 27 fed out from the feeding unit 4 moves along the top surface 8a, the side surface 8c, and the bottom surface 8b, is wound up by the collection unit 6, and is collected.

支持ユニット8の上側には、外周面で粘着テープ21の基材23側を吸着する機能を備える円筒状の貼り替えローラ10が設けられている。貼り換えローラ10はその幅及び外周の長さが粘着テープ21の直径よりも大きく、貼り替えローラ10の外周面が粘着テープ21の基材23側の全面と接触可能となるように構成されている。 On the upper side of the support unit 8, a cylindrical replacement roller 10 having a function of sucking the base material 23 side of the adhesive tape 21 with its outer peripheral surface is provided. The replacement roller 10 has a width and an outer peripheral length larger than the diameter of the adhesive tape 21, and is configured so that the outer peripheral surface of the replacement roller 10 can come into contact with the entire surface of the adhesive tape 21 on the substrate 23 side. there is

貼り換えローラ10は、例えば円筒状の基台12の外周面にシリコーン等でなる吸着層14を形成することによって構成できる。但し、貼り換えローラ10の構成は粘着テープ21を吸着可能であれば制限はない。例えば、粘着テープ21を負圧などによって吸引保持するローラであってもよいし、静電気の力を利用して粘着テープ21を保持するローラであってもよい。 The replacement roller 10 can be constructed by forming an adsorption layer 14 made of silicone or the like on the outer peripheral surface of a cylindrical base 12, for example. However, the configuration of the replacement roller 10 is not limited as long as it can adsorb the adhesive tape 21 . For example, it may be a roller that attracts and holds the adhesive tape 21 with a negative pressure or the like, or a roller that holds the adhesive tape 21 using static electricity.

貼り換えローラ10は移動機構(不図示)と接続されており、この移動機構は貼り換えローラ10の移動を制御する機能を備える。後述の粘着テープ巻き取りステップ及び貼着ステップでは、この移動機構によって貼り換えローラ10を所望の位置に移動させる。移動機構と貼り換えローラ10とにより、粘着テープ21の貼り換えを行う貼り替えユニットが構成される。 The change roller 10 is connected to a moving mechanism (not shown), and this movement mechanism has a function of controlling the movement of the change roller 10 . In the adhesive tape winding step and sticking step, which will be described later, this moving mechanism moves the replacement roller 10 to a desired position. A re-sticking unit for re-sticking the adhesive tape 21 is configured by the moving mechanism and the re-sticking roller 10 .

さらに、テープ貼着装置2は粘着テープ21が貼着される被加工物を保持するチャックテーブル16を備える。チャックテーブル16は上面視で円形に形成され、チャックテーブル16の上面の一部は被加工物を保持する円形の第1の保持面16aを構成する。また、第1の保持面16aの周囲には、第1の保持面16aよりも下側に位置し、被加工物を支持する環状フレームが保持される円環状の第2の保持面16bが構成される。 Further, the tape sticking device 2 is provided with a chuck table 16 that holds a workpiece to which the adhesive tape 21 is stuck. The chuck table 16 is formed in a circular shape when viewed from above, and a part of the upper surface of the chuck table 16 constitutes a circular first holding surface 16a for holding the workpiece. Further, around the first holding surface 16a, an annular second holding surface 16b is formed, which is located below the first holding surface 16a and holds an annular frame for supporting the workpiece. be done.

図4には、保護テープ19が貼着されたデバイスウェーハ11が保護テープ19を介して第1の保持面16aで保持され、デバイスウェーハ11に装着される環状フレーム31が第2の保持面16bで保持された状態を示す。デバイスウェーハ11は、保護テープ19が貼着されていない面が上側に露出するように保持されている。なお、第2の保持面16bは、デバイスウェーハ11の上面と環状フレーム31の上面とが概ね同じ高さになるように形成される。 In FIG. 4, the device wafer 11 to which the protective tape 19 is adhered is held by the first holding surface 16a via the protective tape 19, and the annular frame 31 mounted on the device wafer 11 is held by the second holding surface 16b. indicates the state held by . The device wafer 11 is held so that the surface to which the protective tape 19 is not adhered is exposed upward. The second holding surface 16b is formed so that the upper surface of the device wafer 11 and the upper surface of the annular frame 31 are approximately the same height.

粘着テープ準備ステップでは、剥離シート27の裏面27b側を剥離シート支持部8によって支持した状態で、繰り出しユニット4から剥離シート27を繰り出す。これにより、剥離シート27の表面27a側に貼着された粘着テープ21が露出して剥離シート支持部8の上面8a上に配置される。なお、粘着テープ21は基材23側が上方に露出するように配置される。 In the adhesive tape preparation step, the release sheet 27 is delivered from the delivery unit 4 while the back surface 27 b side of the release sheet 27 is supported by the release sheet supporting portion 8 . As a result, the adhesive tape 21 attached to the surface 27 a of the release sheet 27 is exposed and placed on the upper surface 8 a of the release sheet supporting portion 8 . The adhesive tape 21 is arranged so that the substrate 23 side is exposed upward.

<粘着テープ巻き取りステップ>
次に、貼り替えローラ10を粘着テープ21の基材23と接するように転がし、粘着テープ21を剥離シート27から剥離しながら貼り替えローラ10の外周面に吸着させて巻き取る粘着テープ巻き取りステップを実施する。図5(A)及び図5(B)は、粘着テープ巻き取りステップにおけるテープ貼着装置2を模式的に示す一部断面正面図である。
<Adhesive tape winding step>
Next, an adhesive tape winding step in which the replacement roller 10 is rolled so as to be in contact with the base material 23 of the adhesive tape 21, and the adhesive tape 21 is peeled off from the release sheet 27 and adhered to the outer peripheral surface of the replacement roller 10 and wound. to implement. 5A and 5B are partial cross-sectional front views schematically showing the tape sticking device 2 in the adhesive tape winding step.

粘着テープ巻き取りステップではまず、粘着テープ21を剥離シート支持部8上に静止させた状態で貼り換えローラ10を下方に移動させ、図5(A)に示すように吸着層14を粘着テープ21の基材23の端部に当接させる。その後、吸着層14と基材23とが接する状態を維持しながら、貼り換えローラ10を基材23上で側面8c側に向かって転がす。 In the adhesive tape winding step, first, while the adhesive tape 21 is stationary on the release sheet supporting portion 8, the replacement roller 10 is moved downward, and the adsorption layer 14 is moved to the adhesive tape 21 as shown in FIG. 5(A). is brought into contact with the end portion of the base material 23 . After that, while maintaining the state in which the adsorption layer 14 and the base material 23 are in contact with each other, the replacement roller 10 is rolled over the base material 23 toward the side surface 8c.

なお、貼り替えローラ10の外周面(吸着層14の表面)の基材23に対する吸着力は、粘着層25の剥離シート27に対する粘着力よりも強い。そのため、貼り換えローラ10を転がすと基材23が貼り換えローラ10の外周面に吸着され、図5(B)に示すように粘着テープ21が剥離シート27から剥離されて貼り換えローラ10の外周面に巻き取られる。 The adhesive force of the outer peripheral surface of the replacement roller 10 (the surface of the adsorption layer 14 ) to the base material 23 is stronger than the adhesive force of the adhesive layer 25 to the release sheet 27 . Therefore, when the replacement roller 10 is rolled, the substrate 23 is attracted to the outer peripheral surface of the replacement roller 10, and the adhesive tape 21 is peeled off from the release sheet 27 as shown in FIG. wrapped around the surface.

このように、粘着テープ巻き取りステップでは貼り換えローラ10を粘着テープ21に沿って転がすことにより粘着テープ21を剥離シート27から剥離する。この場合、貼り換えローラ10は粘着テープ21上を移動した分だけ回転して粘着テープ21を巻き取るため、粘着テープ21を引き延ばすことなく剥離できる。なお、粘着テープ巻き取りステップにおける貼り換えローラ10の移動は、貼り換えローラ10と接続された移動機構(不図示)によって制御される。 As described above, in the adhesive tape winding step, the adhesive tape 21 is peeled off from the release sheet 27 by rolling the replacement roller 10 along the adhesive tape 21 . In this case, since the replacement roller 10 rotates by the amount of movement on the adhesive tape 21 and winds up the adhesive tape 21, the adhesive tape 21 can be peeled off without being stretched. The movement of the replacement roller 10 in the adhesive tape winding step is controlled by a moving mechanism (not shown) connected to the replacement roller 10 .

<貼着ステップ>
次に、貼り替えローラ10をチャックテーブル16によって保持された被加工物と接するように転がし、貼り替えローラ10の外周面に吸着された粘着テープ21を被加工物に押圧して貼着する貼着ステップを実施する。図6(A)及び図6(B)は、貼着ステップにおけるテープ貼着装置2を模式的に示す一部断面正面図である。
<Adhesion step>
Next, the replacement roller 10 is rolled so as to come into contact with the workpiece held by the chuck table 16, and the adhesive tape 21 attracted to the outer peripheral surface of the replacement roller 10 is pressed against the workpiece to be attached. Carry out the arrival step. 6A and 6B are partial cross-sectional front views schematically showing the tape sticking device 2 in the sticking step.

貼着ステップでは、貼り換えローラ10に吸着された粘着テープ21を被加工物に貼着する。ここでは特に、粘着テープ21をチャックテーブル16で支持されたデバイスウェーハ11及び環状フレーム31に貼着する場合について説明する。貼着ステップにおいて、デバイスウェーハ11はチャックテーブル16の第1の保持面16aで支持され、環状フレーム31はデバイスウェーハ11を囲繞するようにチャックテーブル16の第2の保持面16bで保持されている。 In the adhering step, the adhesive tape 21 attracted to the replacement roller 10 is adhered to the workpiece. In particular, the case of attaching the adhesive tape 21 to the device wafer 11 and the annular frame 31 supported by the chuck table 16 will be described. In the bonding step, the device wafer 11 is supported by the first holding surface 16a of the chuck table 16, and the annular frame 31 is held by the second holding surface 16b of the chuck table 16 so as to surround the device wafer 11. .

まず、貼り換えローラ10を移動させ、図6(A)に示すように貼り換えローラ10に巻き取られた粘着テープ21を環状フレーム31に当接させる。その後、粘着層23がデバイスウェーハ11及び環状フレーム31と接触するように、貼り換えローラ10をデバイスウェーハ11及び環状フレーム31に沿って転がす。 First, the transfer roller 10 is moved, and the adhesive tape 21 wound around the transfer roller 10 is brought into contact with the annular frame 31 as shown in FIG. 6(A). After that, the replacement roller 10 is rolled along the device wafer 11 and the annular frame 31 so that the adhesive layer 23 contacts the device wafer 11 and the annular frame 31 .

なお、粘着層25のデバイスウェーハ11及び環状フレーム31に対する粘着力は、貼り替えローラ10の外周面(吸着層14の表面)の基材23に対する吸着力よりも強い。そのため、貼り換えローラ10を転がすと、基材23が貼り換えローラ10の外周面から剥離されるとともに、粘着層25がデバイスウェーハ11の基板13の裏面13b側(図1参照)及び環状フレーム31に押圧され、貼着される。具体的には、粘着テープ21の外周部が環状フレーム31に貼着され、粘着テープ21の外周部の内側の領域にデバイスウェーハ11が貼着される。 The adhesive force of the adhesive layer 25 to the device wafer 11 and the annular frame 31 is stronger than the adsorption force of the outer peripheral surface of the replacement roller 10 (the surface of the adsorption layer 14 ) to the substrate 23 . Therefore, when the replacement roller 10 is rolled, the base material 23 is peeled off from the outer peripheral surface of the replacement roller 10, and the adhesive layer 25 is removed from the back surface 13b side of the substrate 13 of the device wafer 11 (see FIG. 1) and the annular frame 31. is pressed against and adhered to. Specifically, the outer peripheral portion of the adhesive tape 21 is attached to the annular frame 31 , and the device wafer 11 is attached to the area inside the outer peripheral portion of the adhesive tape 21 .

このように、貼着ステップでは貼り換えローラ10をデバイスウェーハ11及び環状フレーム31に沿って転がすことによって粘着テープ21を貼着する。この場合、貼り換えローラ10はデバイスウェーハ11及び環状フレーム31上を移動した分だけ回転して粘着テープ21を貼着するため、粘着テープ21を引き延ばすことなくデバイスウェーハ11に貼着することができる。なお、貼着ステップにおける貼り換えローラ10の移動は、貼り換えローラ10と接続された移動機構(不図示)によって制御される。 As described above, in the attaching step, the adhesive tape 21 is attached by rolling the replacement roller 10 along the device wafer 11 and the annular frame 31 . In this case, the replacement roller 10 rotates by the amount of movement on the device wafer 11 and the annular frame 31 to adhere the adhesive tape 21. Therefore, the adhesive tape 21 can be adhered to the device wafer 11 without being stretched. . The movement of the replacement roller 10 in the adhering step is controlled by a moving mechanism (not shown) connected to the replacement roller 10 .

デバイスウェーハ11及び環状フレーム31に粘着テープ21を貼着することにより、デバイスウェーハ11が環状フレーム31によって支持されたフレームユニットが得られる。そして、デバイスウェーハ11及び環状フレーム31に粘着テープ21を貼着した後は、デバイスウェーハ11から保護テープ19を剥離する。 A frame unit in which the device wafer 11 is supported by the annular frame 31 is obtained by attaching the adhesive tape 21 to the device wafer 11 and the annular frame 31 . After attaching the adhesive tape 21 to the device wafer 11 and the annular frame 31 , the protective tape 19 is peeled off from the device wafer 11 .

図7は、デバイスウェーハ11から保護テープ19が剥離される様子を示す断面図である。まず、粘着テープ21が貼着されたデバイスウェーハ11及び環状フレーム31を支持テーブル18で支持し保護テープ19を上方に露出させる。その後、保護テープ19の端部を把持してデバイスウェーハ11から離れる方向に移動させることにより、保護テープ19がデバイスウェーハ11から分離される。 FIG. 7 is a cross-sectional view showing how the protective tape 19 is peeled off from the device wafer 11. As shown in FIG. First, the device wafer 11 and the annular frame 31 to which the adhesive tape 21 is adhered are supported by the support table 18, and the protective tape 19 is exposed upward. After that, the protective tape 19 is separated from the device wafer 11 by gripping the edge of the protective tape 19 and moving it away from the device wafer 11 .

図8は、保護テープ19を剥離した後のフレームユニット33の構成例を示す斜視図である。図8に示すように、デバイスウェーハ11は基板13の表面13a側が上方に露出した状態で、粘着テープ21を介して環状フレーム31に支持される。デバイスウェーハ11を加工する際は、フレームユニット33が加工装置に備えられたチャックテーブルによって保持される。 FIG. 8 is a perspective view showing a configuration example of the frame unit 33 after peeling off the protective tape 19. As shown in FIG. As shown in FIG. 8, the device wafer 11 is supported by the annular frame 31 via the adhesive tape 21 with the surface 13a side of the substrate 13 exposed upward. When processing the device wafer 11, the frame unit 33 is held by a chuck table provided in the processing apparatus.

粘着テープ21をデバイスウェーハ11に貼着する過程で粘着テープ21が引き延ばされると、張力が付加された状態の粘着テープ21がデバイスウェーハ11に貼着される。この状態のデバイスウェーハ11に切削加工などを施すと、デバイスウェーハ11にチッピングと呼ばれる欠けやクラックなどの加工不良が発生しやすくなる。 When the adhesive tape 21 is stretched in the process of attaching the adhesive tape 21 to the device wafer 11 , the adhesive tape 21 is attached to the device wafer 11 under tension. If the device wafer 11 in this state is subjected to a cutting process or the like, the device wafer 11 is likely to suffer processing defects such as chips and cracks called chipping.

本実施形態に係るテープ貼着方法では、上記の通り貼り替えローラ10を粘着テープ21に沿って転がして粘着テープ21を巻き取り、この貼り換えローラ10をさらに被加工物に沿って転がして粘着テープ21を被加工物に貼着することにより、粘着テープ21を剥離シート27から剥離して被加工物に貼着する過程における粘着テープ21の引き延ばしを防止する。そのため、デバイスウェーハ11の加工時における加工不良の発生を抑制できる。 In the tape applying method according to the present embodiment, as described above, the replacement roller 10 is rolled along the adhesive tape 21 to wind the adhesive tape 21, and the replacement roller 10 is further rolled along the workpiece to adhere the adhesive tape 21. By attaching the tape 21 to the workpiece, the adhesive tape 21 is prevented from being stretched in the process of peeling the adhesive tape 21 from the release sheet 27 and attaching it to the workpiece. Therefore, the occurrence of processing defects during processing of the device wafer 11 can be suppressed.

なお、本実施形態に係るテープ貼着方法は、DBG(Dicing Before Grinding)プロセスによってデバイスウェーハ11を分割する際に特に有益である。DBGプロセスは、まずデバイス17が形成された基板13の表面13a側をハーフカットし、その後に基板13の裏面13bを研削することによってデバイスウェーハ11をデバイスチップに分割する手法である。 Note that the tape attaching method according to the present embodiment is particularly useful when dividing the device wafer 11 by a DBG (Dicing Before Grinding) process. The DBG process is a method of dividing the device wafer 11 into device chips by first half-cutting the front surface 13a side of the substrate 13 on which the devices 17 are formed, and then grinding the back surface 13b of the substrate 13 .

DBGプロセスでは、デバイスウェーハ11をデバイスチップに分割した後、デバイスチップにダイアタッチフィルムが貼着される。そして、最終的にデバイスチップ間のダイアタッチフィルムを切断することにより、個々のデバイスチップが分離される。 In the DBG process, after dividing the device wafer 11 into device chips, a die attach film is attached to the device chips. Finally, the individual device chips are separated by cutting the die attach film between the device chips.

本実施形態に係るテープ貼着方法によってダイアタッチフィルムの貼着を行うと、ダイアタッチフィルムが応力によって収縮してデバイスチップの配置が変動することを防止できるため、後の工程でダイアタッチフィルムの切断を容易に実施可能となる。以下、本実施形態に係るテープ貼着方法をDBGプロセスに適用した例について説明する。 When the die attach film is attached by the tape attaching method according to the present embodiment, it is possible to prevent the die attach film from shrinking due to stress and to prevent the arrangement of the device chips from changing. Cutting can be easily performed. An example in which the tape adhering method according to the present embodiment is applied to the DBG process will be described below.

図9は、デバイスウェーハ11に保護テープ19が貼着される様子を示す斜視図である。まず、ストリート15(図1参照)に沿って基板13の表面13aに直線状の溝13cを形成する。例えば溝13cの形成は、デバイスウェーハ11を保持するチャックテーブルと、切削ブレードが装着されるスピンドルとを備えた切削装置を用いて実施できる。チャックテーブルによってデバイスウェーハ11を保持した状態で、切削ブレードを回転させて基板13に切り込ませることにより、溝13cが形成される。 FIG. 9 is a perspective view showing how the protective tape 19 is attached to the device wafer 11. As shown in FIG. First, linear grooves 13c are formed in the surface 13a of the substrate 13 along the streets 15 (see FIG. 1). For example, the formation of the groove 13c can be performed using a cutting device having a chuck table holding the device wafer 11 and a spindle to which a cutting blade is attached. The groove 13c is formed by rotating the cutting blade to cut into the substrate 13 while holding the device wafer 11 by the chuck table.

溝13cの深さは、基板13の厚さ未満であり、且つ、基板13の仕上がり厚さを超える値に設定される。基板13の仕上がり厚さは、デバイスウェーハ11を最終的にデバイスチップに加工した際の、該デバイスチップの厚さに対応する。 The depth of the groove 13 c is set to a value that is less than the thickness of the substrate 13 and exceeds the finished thickness of the substrate 13 . The finished thickness of the substrate 13 corresponds to the thickness of the device chip when the device wafer 11 is finally processed into the device chip.

溝13cをストリート15に沿って形成することにより、溝13cが格子状に形成され、デバイス17が溝13cによって区画される。その後、デバイス17を保護する保護テープ19を基板13の表面13a側に貼着する。 By forming the grooves 13c along the streets 15, the grooves 13c are formed in a grid pattern, and the devices 17 are partitioned by the grooves 13c. After that, a protective tape 19 for protecting the device 17 is adhered to the front surface 13a side of the substrate 13 .

次に、基板13の裏面13bを研削し、溝13cを裏面13b側に表出させて基板13を分割する。図10は、研削装置によって基板13の裏面13bが研削される様子を示す正面図である。 Next, the back surface 13b of the substrate 13 is ground, and the substrate 13 is divided by exposing the grooves 13c to the back surface 13b side. FIG. 10 is a front view showing how the back surface 13b of the substrate 13 is ground by the grinding device.

基板13の研削は、例えば図10に示す研削装置30を用いて行われる。研削装置30は、デバイスウェーハ11を吸引保持するためのチャックテーブル32を備えている。チャックテーブル32はモータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、鉛直方向に平行な回転軸の周りに回転する。また、チャックテーブル32の下方には移動機構(不図示)が設けられており、この移動機構はチャックテーブル32を水平方向に移動させる機能を有する。 Grinding of the substrate 13 is performed using, for example, a grinding apparatus 30 shown in FIG. The grinding device 30 has a chuck table 32 for holding the device wafer 11 by suction. The chuck table 32 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis parallel to the vertical direction. A moving mechanism (not shown) is provided below the chuck table 32, and this moving mechanism has a function of moving the chuck table 32 in the horizontal direction.

チャックテーブル32の上面によってデバイスウェーハ11を吸引保持する保持面32aが構成される。保持面32aは、チャックテーブル32の内部に形成された吸気路(不図示)等を介して吸引源(不図示)に接続されている。吸引源の負圧を保持面32aに作用させることで、デバイスウェーハ11は保護テープ19を介してチャックテーブル32に保持される。なお、このチャックテーブル32の代わりに、機械的な方法や電気的な方法等によってウェーハ11を保持するチャックテーブルを用いてもよい。 The upper surface of the chuck table 32 constitutes a holding surface 32a for holding the device wafer 11 by suction. The holding surface 32 a is connected to a suction source (not shown) through an intake path (not shown) formed inside the chuck table 32 . The device wafer 11 is held on the chuck table 32 via the protective tape 19 by applying the negative pressure of the suction source to the holding surface 32a. Instead of this chuck table 32, a chuck table that holds the wafer 11 by a mechanical method, an electrical method, or the like may be used.

チャックテーブル32の上方には研削ユニット34が配置されている。研削ユニット34は、昇降機構(不図示)によって支持されたスピンドルハウジング(不図示)を備えている。スピンドルハウジングにはスピンドル36が収容されており、スピンドル36の下端部には円盤状のマウント38が固定されている。 A grinding unit 34 is arranged above the chuck table 32 . Grinding unit 34 includes a spindle housing (not shown) supported by a lifting mechanism (not shown). A spindle 36 is accommodated in the spindle housing, and a disk-shaped mount 38 is fixed to the lower end of the spindle 36 .

マウント38の下面には、マウント38と概ね同径の研削ホイール40が装着されている。研削ホイール40は、ステンレス、アルミニウム等の金属材料で形成されたホイール基台42を備えている。ホイール基台42の下面には、複数の研削砥石44が配列されている。 A grinding wheel 40 having approximately the same diameter as the mount 38 is attached to the underside of the mount 38 . The grinding wheel 40 has a wheel base 42 made of a metal material such as stainless steel or aluminum. A plurality of grinding wheels 44 are arranged on the lower surface of the wheel base 42 .

スピンドル36の上端側(基端側)にはモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、研削ホイール40はこの回転駆動源から発生する力によって鉛直方向に平行な回転軸の周りに回転する。研削ユニット34の内部又は近傍には、純水等の研削液をウェーハ11等に対して供給するためのノズル(不図示)が設けられている。 A rotary drive source (not shown) such as a motor is connected to the upper end side (base end side) of the spindle 36, and the grinding wheel 40 is rotated around a rotation axis parallel to the vertical direction by the force generated by this rotary drive source. rotate to A nozzle (not shown) for supplying a grinding liquid such as pure water to the wafer 11 or the like is provided inside or near the grinding unit 34 .

デバイスウェーハ11を研削する際は、まず、デバイスウェーハ11を研削装置30のチャックテーブル32によって吸引保持する。具体的には、チャックテーブル32の保持面32aに保護テープ19を介してデバイスウェーハ11を保持し、吸引源の負圧を作用させる。これにより、デバイスウェーハ11は基板13の裏面13b側が上方に露出した状態で保持される。 When grinding the device wafer 11 , first, the device wafer 11 is suction-held by the chuck table 32 of the grinding device 30 . Specifically, the device wafer 11 is held on the holding surface 32a of the chuck table 32 via the protective tape 19, and the negative pressure of the suction source is applied. As a result, the device wafer 11 is held with the back surface 13b side of the substrate 13 exposed upward.

次に、チャックテーブル32を研削ユニット34の下方に移動させる。そして、チャックテーブル32と研削ホイール40とをそれぞれ回転させて、研削液を基板13の裏面13b側に供給しながらスピンドル36を下降させる。なお、スピンドル36の位置及び下降速度は、研削砥石44の下面が適切な力で基板13の裏面13b側に押し当てられるように調整される。これにより、裏面13b側を研削して基板13を薄化できる。 Next, the chuck table 32 is moved below the grinding unit 34 . Then, the chuck table 32 and the grinding wheel 40 are rotated to supply the grinding liquid to the rear surface 13b of the substrate 13 while the spindle 36 is lowered. The position and lowering speed of the spindle 36 are adjusted so that the lower surface of the grinding wheel 44 is pressed against the back surface 13b side of the substrate 13 with an appropriate force. Thereby, the substrate 13 can be thinned by grinding the back surface 13b side.

基板13が薄化され、溝13cが基板13の裏面13b側に表出すると、デバイスウェーハ11は複数のデバイスチップ35に分割される。そして、基板13が仕上がり厚さまで薄化されると研削加工は完了する。このとき、デバイスウェーハ11に貼着された保護テープ19によって複数のデバイスチップ35の配置は維持される。図11は、研削加工が完了し、デバイスウェーハ11が複数のデバイスチップ35に分割された状態を示す斜視図である。 When the substrate 13 is thinned and the grooves 13 c are exposed on the back surface 13 b side of the substrate 13 , the device wafer 11 is divided into a plurality of device chips 35 . The grinding process is completed when the substrate 13 is thinned to the finished thickness. At this time, the arrangement of the plurality of device chips 35 is maintained by the protective tape 19 adhered to the device wafer 11 . FIG. 11 is a perspective view showing a state in which the device wafer 11 is divided into a plurality of device chips 35 after the grinding process is completed.

なお、本実施形態では1組の研削ユニット34を用いて基板13を研削したが、2組以上の研削ユニットを用いて基板13を研削しても良い。この場合には、例えば、径が大きい砥粒で構成された研削砥石を用いて粗い研削を行い、径が小さい砥粒で構成された研削砥石を用いて仕上げの研削を行うことで、研削に要する時間を大幅に長くすることなく裏面13bの平坦性を高められる。 In this embodiment, the substrate 13 is ground using one set of grinding units 34, but the substrate 13 may be ground using two or more sets of grinding units. In this case, for example, rough grinding is performed using a grinding wheel composed of abrasive grains with a large diameter, and finish grinding is performed using a grinding wheel composed of abrasive grains with a small diameter. The flatness of the back surface 13b can be improved without significantly lengthening the time required.

次に、図4から図6に示すテープ貼着方法に従ってデバイスウェーハ11及び環状フレーム31に粘着テープ21を貼着する。ただし、ここでは粘着層25側にデバイスウェーハ11以上の径を有する上面視で円形のダイアタッチフィルムが貼着された粘着テープ21を用いる。粘着テープ21を剥離シート27から剥離して、複数のデバイスチップ35がダイアタッチフィルムと接するように粘着テープ21を貼着する。 Next, the adhesive tape 21 is attached to the device wafer 11 and the annular frame 31 according to the tape attaching method shown in FIGS. However, here, the adhesive tape 21 to which a die attach film having a diameter larger than that of the device wafer 11 and circular in top view is adhered to the adhesive layer 25 side is used. The adhesive tape 21 is peeled off from the release sheet 27, and the adhesive tape 21 is adhered so that the plurality of device chips 35 are in contact with the die attach film.

その後、デバイスウェーハ11から保護テープ19を剥離すると(図7参照)、図12に示すように複数のデバイスチップ35がダイアタッチフィルム37及び粘着テープ21を介して環状フレーム31に支持されたフレームユニット39が得られる。 Thereafter, when the protective tape 19 is peeled off from the device wafer 11 (see FIG. 7), a frame unit in which a plurality of device chips 35 are supported by the annular frame 31 via the die attach film 37 and the adhesive tape 21 as shown in FIG. 39 is obtained.

次に、デバイスチップ35の間から露出したダイアタッチフィルム37を切断し、ダイアタッチフィルム37を分割する。ダイアタッチフィルム37の分割は、例えばレーザー加工装置を用いて実施できる。図13は、レーザー加工装置50によってダイアタッチフィルム37が分割される様子を示す断面図である。 Next, the die attach film 37 exposed between the device chips 35 is cut to divide the die attach film 37 . The division of the die attach film 37 can be performed using, for example, a laser processing device. FIG. 13 is a cross-sectional view showing how the die attach film 37 is divided by the laser processing device 50. As shown in FIG.

レーザー加工装置50は、デバイスウェーハ11を吸引保持するチャックテーブル52と、ダイアタッチフィルム37に対して吸収性を有する波長のレーザービームをデバイスウェーハ11に照射する集光器54とを備える。なお、レーザービームの強度は、該レーザービームの照射によってダイアタッチフィルム37が切断されるように設定される。 The laser processing apparatus 50 includes a chuck table 52 that sucks and holds the device wafer 11 , and a condenser 54 that irradiates the device wafer 11 with a laser beam having a wavelength that absorbs the die attach film 37 . The intensity of the laser beam is set so that the die attach film 37 is cut by the irradiation of the laser beam.

デバイスウェーハ11は、デバイスチップ35が上方に露出した状態で、粘着テープ21を介してチャックテーブル52で吸引保持される。なお、チャックテーブル52の上面によってデバイスチップ35を保持する保持面52aが構成される。そして、チャックテーブル52の上方に配置された集光器54からダイアタッチフィルム37にレーザービームを照射することにより、ダイアタッチフィルム37を切断する。 The device wafer 11 is suction-held by the chuck table 52 via the adhesive tape 21 with the device chips 35 exposed upward. The upper surface of the chuck table 52 constitutes a holding surface 52a for holding the device chip 35. As shown in FIG. Then, the die attach film 37 is cut by irradiating the die attach film 37 with a laser beam from a condenser 54 arranged above the chuck table 52 .

具体的には、図13に示すように、デバイスチップ35の間から露出したダイアタッチフィルム37に対してレーザービームを照射する。そして、レーザービームがデバイスチップ35の間に直線状に照射されるように、チャックテーブル52を保持面52aと平行な方向に移動させる。これにより、ダイアタッチフィルム37が切断され、ダイアタッチフィルム37が付着した複数のデバイスチップ35が得られる。 Specifically, as shown in FIG. 13, the die attach film 37 exposed between the device chips 35 is irradiated with a laser beam. Then, the chuck table 52 is moved in a direction parallel to the holding surface 52 a so that the laser beam is linearly irradiated between the device chips 35 . As a result, the die attach film 37 is cut to obtain a plurality of device chips 35 to which the die attach film 37 is attached.

上記のDBGプロセスでは、デバイスウェーハ11にダイアタッチフィルム37を貼着する際にダイアタッチフィルム37が引き延ばされていると、ダイアタッチフィルム37に応力が生じ、保護テープ19を剥離したときにダイアタッチフィルム37が収縮してデバイスチップ35の配置が変動する。この場合、保護テープ19の剥離前には直線状に配置されていたデバイスチップ35の間の隙間が歪んでしまい、その歪んだ隙間に合わせてレーザービームを照射する必要があるため、ダイアタッチフィルム37を正確な位置で切断することが困難になる。 In the above DBG process, if the die attach film 37 is stretched when the die attach film 37 is attached to the device wafer 11, stress is generated in the die attach film 37, and when the protective tape 19 is peeled off, The die attach film 37 shrinks and the arrangement of the device chip 35 changes. In this case, the gaps between the device chips 35, which were linearly arranged before the protective tape 19 was peeled off, are distorted. It becomes difficult to cut 37 at a precise position.

一方、本実施形態に係るテープ貼着方法を用いると、張力が抑制されたダイアタッチフィルム37にデバイスチップ35が貼着されるため、保護テープ19を剥離してもダイアタッチフィルム37の収縮が生じにくい。そのため、デバイスチップ35の配置が維持され、ダイアタッチフィルム37の切断を正確に行うことが可能となる。 On the other hand, when the tape attaching method according to the present embodiment is used, the device chip 35 is attached to the die attach film 37 whose tension is suppressed. unlikely to occur. Therefore, the arrangement of the device chip 35 is maintained, and the die attach film 37 can be cut accurately.

なお、上記では特にデバイスウェーハ11及び環状フレーム31に粘着テープを貼着する例について説明したが、本実施形態に係るテープ貼着方法は他の粘着テープの貼着に適用することもできる。 In the above description, an example of attaching an adhesive tape to the device wafer 11 and the annular frame 31 has been described, but the tape attaching method according to the present embodiment can also be applied to attaching other adhesive tapes.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, and the like according to the above-described embodiments can be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.

11 デバイスウェーハ
13 基板
13a 表面
13b 裏面
15 ストリート
17 デバイス
19 保護テープ
21 粘着テープ
23 基材
25 粘着層
27 剥離シート
27a 表面
27b 裏面
29 原反ロール
31 環状フレーム
33 フレームユニット
35 デバイスチップ
37 ダイアタッチフィルム
39 フレームユニット
2 テープ貼着装置
4 繰り出しユニット
6 回収ユニット
8 剥離シート支持部
8a 上面
8b 下面
8c 側面
10 貼り替えローラ
12 基台
14 吸着層
16 チャックテーブル
16a 第1の保持面
16b 第2の保持面
18 支持テーブル
30 研削装置
32 チャックテーブル
32a 保持面
34 研削ユニット
36 スピンドル
38 マウント
40 研削ホイール
42 ホイール基台
44 研削砥石
50 レーザー加工装置
52 チャックテーブル
52a 保持面
54 集光器
REFERENCE SIGNS LIST 11 device wafer 13 substrate 13a front surface 13b rear surface 15 street 17 device 19 protective tape 21 adhesive tape 23 base material 25 adhesive layer 27 release sheet 27a front surface 27b rear surface 29 original roll 31 annular frame 33 frame unit 35 device chip 37 die attach film 39 Frame unit 2 Tape sticking device 4 Feeding unit 6 Collection unit 8 Release sheet support 8a Upper surface 8b Lower surface 8c Side surface 10 Replacement roller 12 Base 14 Adsorption layer 16 Chuck table 16a First holding surface 16b Second holding surface 18 Support table 30 Grinding device 32 Chuck table 32a Holding surface 34 Grinding unit 36 Spindle 38 Mount 40 Grinding wheel 42 Wheel base 44 Grinding wheel 50 Laser processing device 52 Chuck table 52a Holding surface 54 Light collector

Claims (4)

粘着層と基材とからなり該粘着層が剥離シートの表面側に貼着された円形の粘着テープを、該剥離シートから剥離して板状の被加工物に貼着するテープ貼着方法であって、
該剥離シートの裏面側を支持して、該剥離シートの表面側に貼着された該粘着テープを露出させる粘着テープ準備ステップと、
該粘着テープ準備ステップを実施した後、該粘着テープを静止させた状態で、幅及び外周の長さが該粘着テープの直径より大きく、外周面で該粘着テープの該基材側を吸着する機能を備える貼り替えローラを該基材と接するように転がし、該粘着テープを該剥離シートから剥離しながら該貼り替えローラの外周面に吸着させて巻き取る粘着テープ巻き取りステップと、
該粘着テープ巻き取りステップを実施した後、該貼り替えローラをチャックテーブルによって保持された該被加工物上で転がし、該貼り替えローラの外周面に吸着され該粘着層が露出した該粘着テープを該被加工物に押圧して貼着する貼着ステップと、を備えることを特徴とするテープ貼着方法。
A tape sticking method in which a circular adhesive tape consisting of an adhesive layer and a base material and having the adhesive layer stuck to the surface side of a release sheet is peeled off from the release sheet and stuck to a plate-like workpiece. There is
an adhesive tape preparation step of supporting the back side of the release sheet and exposing the adhesive tape attached to the front side of the release sheet;
After performing the adhesive tape preparation step, the adhesive tape is stationary, the width and the outer circumference are larger than the diameter of the adhesive tape, and the outer circumference has a function of sucking the substrate side of the adhesive tape. An adhesive tape winding step of rolling a replacement roller provided with the
After performing the adhesive tape winding step, the replacement roller is rolled on the workpiece held by the chuck table, and the adhesive tape with the adhesive layer exposed by being attracted to the outer peripheral surface of the replacement roller is removed. and an affixing step of pressing and affixing the tape to the workpiece.
該貼着ステップでは、該チャックテーブルで支持された環状フレームに該粘着テープの外周部を貼着し、該環状フレームによって該被加工物が囲繞されて支持されるフレームユニットを形成することを特徴とする請求項1記載のテープ貼着方法。 In the adhering step, the outer peripheral portion of the adhesive tape is adhered to an annular frame supported by the chuck table to form a frame unit in which the workpiece is surrounded and supported by the annular frame. 2. The tape sticking method according to claim 1. 該被加工物は、表面に格子状に形成されたストリートに沿って複数のデバイスチップに分割され、表面に保護テープが貼着されたデバイスウェーハであって、
該粘着テープにはダイアタッチフィルムが貼着されており、
該貼着ステップでは、該デバイスウェーハの裏面に該ダイアタッチフィルムを介して該粘着テープを貼着することを特徴とする請求項1又は2記載のテープ貼着方法。
The workpiece is a device wafer divided into a plurality of device chips along grid-like streets formed on the surface and having a protective tape attached to the surface,
A die attach film is attached to the adhesive tape,
3. The tape adhering method according to claim 1, wherein in said adhering step, said adhesive tape is adhered to the back surface of said device wafer via said die attach film.
粘着層と基材とからなり該粘着層が剥離シートの表面側に貼着された円形の粘着テープを、該剥離シートから剥離して板状の被加工物に貼着するテープ貼着装置であって、
該粘着テープが貼着された剥離シートを巻回して構成された原反ロールから該剥離シートを繰り出す繰り出しユニットと、
繰り出しユニットによって繰り出された該剥離シートの裏面側を支持する剥離シート支持部と、
該被加工物を保持するチャックテーブルと、
幅及び外周の長さが該粘着テープの直径より大きく、外周面で該粘着テープの該基材側を吸着する機能を有する貼り替えローラを備え、該貼り替えローラを該剥離シート支持部上で静止した状態の該粘着テープと接するように転がして該粘着テープを巻き取り、該貼り替えローラを該チャックテーブルに保持された該被加工物上で転がして該粘着テープを該被加工物に貼着する貼り替えユニットと、を備えることを特徴とするテープ貼着装置。
A tape sticking device for peeling a circular adhesive tape consisting of an adhesive layer and a base material and having the adhesive layer stuck to the surface side of a release sheet, peeling the tape from the release sheet and sticking it to a plate-like workpiece. There is
a feeding unit for feeding the release sheet from a raw fabric roll configured by winding the release sheet to which the adhesive tape is stuck;
a release sheet supporting portion that supports the back side of the release sheet fed out by the feeding unit;
a chuck table that holds the workpiece;
A replacement roller having a width and a peripheral length larger than the diameter of the adhesive tape and having a function of adsorbing the substrate side of the adhesive tape on the peripheral surface thereof is provided, and the replacement roller is placed on the release sheet supporting portion. The adhesive tape is rolled so as to be in contact with the stationary adhesive tape to wind the adhesive tape, and the adhesive tape is attached to the workpiece by rolling the replacement roller on the workpiece held on the chuck table. and a re-applying unit for adhering the tape.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006339607A (en) 2005-06-06 2006-12-14 Lintec Corp Transfer device and its method, separating device and its method, sticking device and its method
JP2010073955A (en) 2008-09-19 2010-04-02 Lintec Corp Device and method for sticking sheet
JP2011129807A (en) 2009-12-21 2011-06-30 Disco Abrasive Syst Ltd Tape sticking device
JP2016111055A (en) 2014-12-02 2016-06-20 大宮工業株式会社 Sticking device
JP2017059581A (en) 2015-09-14 2017-03-23 リンテック株式会社 Sheet sticking device and sheet sticking method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006339607A (en) 2005-06-06 2006-12-14 Lintec Corp Transfer device and its method, separating device and its method, sticking device and its method
JP2010073955A (en) 2008-09-19 2010-04-02 Lintec Corp Device and method for sticking sheet
JP2011129807A (en) 2009-12-21 2011-06-30 Disco Abrasive Syst Ltd Tape sticking device
JP2016111055A (en) 2014-12-02 2016-06-20 大宮工業株式会社 Sticking device
JP2017059581A (en) 2015-09-14 2017-03-23 リンテック株式会社 Sheet sticking device and sheet sticking method

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