JP7141793B2 - 真空蒸着装置用の蒸着源及び真空蒸着方法 - Google Patents
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- 真空チャンバ内に配置され、付着範囲を制限するマスクプレートを通して被蒸着物に対して蒸着するための真空蒸着装置用の蒸着源であって、
固体の蒸着物質を収容する収容箱とこの蒸着物質を加熱する加熱手段とを備え、被蒸着物に対向する収容箱の面に、気化した蒸着物質を噴射する噴射ノズルが突設されているものにおいて、
蒸着物質が、加熱手段により加熱されると、液相を経て気相に転移するもので構成され、
収容箱の面に、内部に冷媒の循環通路が形成されたパネル部と、このパネル部を収容箱の面に平行にかつそこから所定の高さ位置に支持する支持脚とを有する遮熱板を備え、遮熱板に、噴射ノズルが挿通する透孔を開設されると共に、噴射ノズルの先端部がパネル部から突出するようにその長さが設定され、
収容箱の面と遮熱板との間に配置されて、噴射ノズルにより気化した蒸着物質を噴射する間、蒸着物質の液化温度以上で且つ気化温度以下の所定温度に噴射ノズルを温調する温調手段を備え、この温調手段とパネル部との間に配置されて熱線を反射するリフレクター板を更に備えることを特徴とする真空蒸着装置用の蒸着源。 - 請求項1記載の真空蒸着装置用の蒸着源であって、前記噴射ノズルが前記収容箱の面に対して直交する方向に起立した姿勢で突設されると共に、この噴射ノズルの複数本が間隔を存して一方向に列設されているものにおいて、
列設方向中央領域に位置する2本の噴射ノズル間のピッチを基準ピッチとし、少なくとも列設方向両端領域に夫々位置する2本の噴射ノズル間のピッチを基準ピッチより短く設定したことを特徴とする真空蒸着装置用の蒸着源。 - 真空チャンバ内に配置され、付着範囲を制限するマスクプレートを通して被蒸着物に対して蒸着するための真空蒸着方法であって、
真空チャンバ内に配置された収容箱に固体の蒸着物質を収容した後、真空雰囲気中で蒸着物質を加熱することで、被蒸着物に対向する収容箱の面に突設された噴射ノズルから、気化した蒸着物質を噴射して被蒸着物表面に蒸着するものにおいて、
蒸着物質を、加熱時に液相を経て気相に転移するもので構成し、収容箱の面に、内部に冷媒の循環通路が形成されたパネル部とこのパネル部を収容箱の面に平行にかつそこから所定の高さ位置に支持する支持脚とを有する遮熱板を設けてこの遮熱板に噴射ノズルが挿通する透孔を開設し、
パネル部から突出する噴射ノズルの先端から、気化した蒸着物質を噴射する間、収容箱の面と遮熱板との間に配置される温調手段によって蒸着物質の液化温度以上で且つ気化温度以下の所定温度に噴射ノズルを温調すると共に、温調手段とパネル部との間にリフレクター板を配置して熱線を反射すると共に循環通路に冷媒を循環させてパネル部を冷却する工程を含むことを特徴とする真空蒸着方法。
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