JP7130783B2 - 光をアブレーションすることによって洗浄を改善したイオン源 - Google Patents
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Description
(i)複数の反射器を、適切な曲率で平行移動ステージに取り付けることができる;
(ii)単一の反射器の全面および背面は、異なる波長を2つの異なる表面に反射させるために利用され得る;
(iii)「U」(図3参照)の値は、エッチングされる各表面について、上述の図3を参照して説明したようにレーザ光学系列内のより早く光学系を調整することによって調整することができる。または、
(iv)各表面におけるエネルギー密度が尚洗浄されるべき表面をエッチングするのに十分である場合には、レーザ焦点をエッチングされる2つの表面間の中間位置に設定する。
Claims (15)
- 試料材料のイオンを生成するための質量分析計のためのイオン源であって:
前記試料材料をイオン化するためのイオン化光を出力するように配置されたイオン化光源であって、前記イオン化光が紫外(UV)光を含む、イオン化光源;
前記イオン化された試料材料を引き付けるための電極表面を提示し、その上に汚染物質が蓄積することができる電極;
前記電極表面から前記電極の材料をアブレーションするためのアブレーション光ビームまたはパルス(複数可)を出力するように配置されたアブレーション光源であって、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)は、前記イオン化光を含まず、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)が可視光を含む、アブレーション光源;
前記アブレーション光を前記電極表面に反射させるためであり、アブレーションのプロセスによって、前記電極表面の一部が、当該部分に蓄積されるときに、前記汚染物質とともに前記電極から除去可能である反射器
を備える、イオン源。 - 前記イオン化光の光周波数が第1の閾値周波数以上であり、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)の光周波数が第2の閾値周波数以下であり、前記第1の閾値周波数が前記第2の閾値周波数を超える、請求項1に記載のイオン源。
- 前記イオン化光を発生させるための光源と、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)を発生させるための光源とが、同一の光源である、請求項1または2に記載のイオン源。
- 前記イオン化光を発生させるための光源が、高調波発生を行うように構成された非線形光学媒体を備え、前記イオン化光が、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)を含む前記光の高調波である、請求項1~3のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記アブレーション光源が、1Jcm-2 ~5Jcm-2 の範囲のレーザパルスエネルギー密度を有するレーザパルスを生成するように構成されたレーザを含む、請求項1~4のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記アブレーション光源が、0.5kHz~2.0kHzの繰り返し率でレーザパルスを生成するように構成されたレーザを含む、請求項1~5のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記アブレーション光源が、50μJ~200μJ超の範囲のパルスエネルギーを有するレーザパルスを生成するように構成されたレーザを含む、請求項1~6のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記アブレーション光源が、20μm~200μmの範囲のレーザ焦点スポット直径を提供するように構成されたレーザを含む、請求項1~7のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記レーザは、ガウシアンレーザビーム強度プロファイルを有する前記レーザからの入力レーザビームまたはパルス(複数可)を、実質的に正方形のレーザビーム強度プロファイルを有する出力レーザビームまたはパルス(複数可)に変換するように構成されたビームプロファイリング装置と光連通する、請求項5~8のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記レーザは、実質的に円形のビーム断面形状を有する前記レーザからの入力レーザビームまたはパルス(複数可)を、実質的に正方形の断面形状を有する出力レーザビームまたはパルス(複数可)に変換するように構成されたビームプロファイリング装置と光連通する、請求項5~9のいずれか一項に記載のイオン源。
- 各々がそれぞれの前記電極表面を提示する複数の個別の前記電極を備える、請求項1~10のいずれか一項に記載のイオン源。
- 試料材料のイオンを生成するための質量分析計のイオン源を洗浄するための方法であって、前記イオン源が、前記試料材料をイオン化するためのイオン化光を出力するように配置されたイオン化光源であって、前記イオン化光が紫外(UV)光を含む、イオン化光源と、前記イオン化された試料材料を引き付けるための電極表面を提示し、その上に汚染物質が蓄積可能である電極と、を備え、前記方法が;
電極表面から電極の材料をアブレーションするためのアブレーション光ビームまたはパルス(複数可)を生成し、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)は、上記イオン化光を含まず、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)が可視光を含む、
ステップ;
反射器によって、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)を前記電極表面上に反射させ、それとともに、アブレーションのプロセスによって、電極表面の一部を、当該部分に蓄積されたときに、前記汚染物質とともに電極から除去するステップ
を含む方法。 - 前記イオン化光の光周波数が第1の閾値周波数以上であり、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)の光周波数が第2の閾値周波数以下であり、前記第1の閾値周波数が前記第2の閾値周波数を超える、請求項12に記載の方法。
- 前記イオン化光および前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)の両方を生成するために前記イオン化光源を使用することを含む、請求項12~13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記イオン化光を生成するための前記光源を非線形光学媒体で提供し、それとともに、前記イオン化光が、前記アブレーション光ビームまたはパルス(複数可)を含む前記光の高調波であるように高調波発生を行うステップを含む、請求項12~14のいずれか一項に記載の方法。
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