JP7091121B2 - 石英ガラス板 - Google Patents
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Description
以下の工程を経て、図1に示した石英ガラス板10を紫外線照射窓用石英ガラス板として製造した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、原材料のシリカ粒子としてLi、Na、K、Caの合計濃度が6質量ppmのものを使用することに変更した。このように製造した石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、原材料のシリカ粒子としてLi、Na、K、Caの合計濃度が8質量ppmのものを使用することに変更した。このように製造した石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、原材料のシリカ粒子としてLi、Na、K、Caの合計濃度が10質量ppmのものを使用することに変更した。このように製造した石英ガラス板(紫外線照射窓用石英ガラス板)に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、原材料のシリカ粒子として天然石英を粉砕して得られた粒子を使用することに変更した。このように製造した石英ガラス板(紫外線照射窓用石英ガラス板)に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得た。この石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー5000kJ/cm2となるように照射した。
実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得た。この石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー10000kJ/cm2となるように照射した。
実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得た。この石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー15000kJ/cm2となるように照射した。
実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得た。この石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー20000kJ/cm2となるように照射した。
実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得た。この石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー25000kJ/cm2となるように照射した。
実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得た。この石英ガラス板10に、波長254nmの紫外光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、原材料のシリカ粒子としてLi、Na、K、Caの合計濃度が10質量ppmのものを使用することに変更した。このように製造した石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー5000kJ/cm2となるように照射した。
比較例2-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得た。この石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー10000kJ/cm2となるように照射した。
比較例2-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得た。この石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー20000kJ/cm2となるように照射した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、シリカスラリーに変わり、市販のセラミックス接着剤を利用することに変更した。このように製造した石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー20000kJ/cm2となるように照射した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、原材料としてシリカ粒子を5g投入することに変更した。このように製造した石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、原材料としてシリカ粒子を3g投入することに変更した。このように製造した石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、石英ガラス部材12(石英ガラス帯板)にかける荷重を1gf/mm2(約0.1N/mm2)に変更した。このように製造した石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
基本的に実施例1-1と同様にして、石英ガラス板10(紫外線照射窓用石英ガラス板)を得たが、実施例1-1から、石英ガラス部材12(石英ガラス帯板)にかける荷重を0.5gf/mm2(約0.05N/mm2)に変更した。このように製造した石英ガラス板10に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
研磨加工した300mm×300mm×厚さ6mmの合成石英ガラス板を、高さ0.5mm、長さ200mmの段差(段差は2箇所)ができるように研削加工した。段差以外は合成石英ガラス板を5mmの厚さに研削、研磨加工した。このようにして、紫外線照射窓用石英ガラス板を得た。この紫外線照射窓用石英ガラス板に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
研磨加工した300mm×300mm×厚さ5mmの合成石英ガラス板上にアクリレート系紫外線硬化樹脂を塗布し、5mm角×200mmの石英ガラス帯板をその上に乗せ(2箇所)、そのまま1時間静置した。その後、はみ出した紫外線硬化樹脂をはがし、波長365nmの紫外線を30秒照射させ、段差付き石英ガラス板を得た。段差付き石英ガラス板の段差を、合成石英ガラス板からの高さが0.5mmになるように研削加工し、紫外線照射窓用石英ガラス板を得た。この紫外線照射窓用石英ガラス板に、波長172nmのエキシマランプ光を照射総エネルギー1000kJ/cm2となるように照射した。
・接着層におけるアルカリ金属イオンとアルカリ土類金属イオンの合計濃度
各実施例、比較例の接着層を取り出し、ICP-AES(高周波誘導結合プラズマ発光分光分析)により測定した。
複屈折については、複屈折測定装置EXICOR350AT(Hinds社製)を用いて波長632.8nmにおける複屈折を測定した。石英ガラス板本体(比較例3-1では研削加工により段差を形成した以外の箇所)について、測定装置により測定可能な複数の任意の位置で複屈折を測定し、そのうち最大の複屈折を最大複屈折とした。
接着層の体積と質量(重量)から、接着層の密度を算出した。
石英ガラス部材の接着前に、石英ガラス部材と石英ガラス板本体の厚さをマイクロメーターで測定し、接着後に接着層を含む段差と石英ガラス板本体の合計厚さをマイクロメーターで測定し、前者の値を引き算して接着層の厚さを測定した。
次のような接着強度測定用サンプルを作製した。各実施例、比較例と同様の条件で、10mm角×20mmの石英ガラスを2つ接着させ、波長172nmのエキシマランプ光(実施例2-6は波長254nmの紫外光)を照射後、3点曲げ試験で圧子が接着層上になるように接着強度測定用サンプルを破壊させ、破壊する直前の最大強度を接着強度とした。
13…接着層。
Claims (5)
- 石英ガラス板本体と、
該石英ガラス板本体と接着層を介して接着された石英ガラス部材と
を有する石英ガラス板であって、
前記接着層はシリカからなり、
前記接着層に含まれるアルカリ金属イオンであるLi、Na、Kイオンとアルカリ土類金属イオンであるCaイオンの濃度の合計が10質量ppm以下であり、
前記接着層の密度が、1.0g/cm 3 以上2.0g/cm 3 以下であることを特徴とする石英ガラス板。 - 前記石英ガラス部材と前記接着層を介して接着された前記石英ガラス板本体は、照射総エネルギーが0kJ/cm2を超えて20000kJ/cm2以下の範囲で紫外線を照射したときの複屈折が100nm/cm以下であることを特徴とする請求項1に記載の石英ガラス板。
- 前記接着層の厚さが、100μm以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の石英ガラス板。
- 前記接着層の接着強度が、照射総エネルギーが0kJ/cm2を超えて20000kJ/cm2以下の範囲で紫外線を照射したとき、10kgf/cm2以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の石英ガラス板。
- 前記石英ガラス板は、紫外線照射窓用のものであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の石英ガラス板。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018080176A JP7091121B2 (ja) | 2018-04-18 | 2018-04-18 | 石英ガラス板 |
CN201980026148.3A CN112041283B (zh) | 2018-04-18 | 2019-03-25 | 石英玻璃板 |
US17/046,202 US11927882B2 (en) | 2018-04-18 | 2019-03-25 | Quartz glass plate |
PCT/JP2019/012454 WO2019202921A1 (ja) | 2018-04-18 | 2019-03-25 | 石英ガラス板 |
EP19787576.8A EP3782964A4 (en) | 2018-04-18 | 2019-03-25 | Quartz glass plate |
KR1020207029855A KR102663000B1 (ko) | 2018-04-18 | 2019-03-25 | 석영유리판 |
TW108111599A TWI797302B (zh) | 2018-04-18 | 2019-04-02 | 石英玻璃板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018080176A JP7091121B2 (ja) | 2018-04-18 | 2018-04-18 | 石英ガラス板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019189470A JP2019189470A (ja) | 2019-10-31 |
JP7091121B2 true JP7091121B2 (ja) | 2022-06-27 |
Family
ID=68239590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018080176A Active JP7091121B2 (ja) | 2018-04-18 | 2018-04-18 | 石英ガラス板 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11927882B2 (ja) |
EP (1) | EP3782964A4 (ja) |
JP (1) | JP7091121B2 (ja) |
KR (1) | KR102663000B1 (ja) |
CN (1) | CN112041283B (ja) |
TW (1) | TWI797302B (ja) |
WO (1) | WO2019202921A1 (ja) |
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- 2019-03-25 US US17/046,202 patent/US11927882B2/en active Active
- 2019-03-25 KR KR1020207029855A patent/KR102663000B1/ko active IP Right Grant
- 2019-03-25 CN CN201980026148.3A patent/CN112041283B/zh active Active
- 2019-03-25 WO PCT/JP2019/012454 patent/WO2019202921A1/ja unknown
- 2019-03-25 EP EP19787576.8A patent/EP3782964A4/en active Pending
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TWI797302B (zh) | 2023-04-01 |
EP3782964A1 (en) | 2021-02-24 |
EP3782964A4 (en) | 2021-12-29 |
CN112041283A (zh) | 2020-12-04 |
US11927882B2 (en) | 2024-03-12 |
WO2019202921A1 (ja) | 2019-10-24 |
TW201943667A (zh) | 2019-11-16 |
US20210173299A1 (en) | 2021-06-10 |
CN112041283B (zh) | 2023-02-21 |
KR20210002486A (ko) | 2021-01-08 |
JP2019189470A (ja) | 2019-10-31 |
KR102663000B1 (ko) | 2024-05-03 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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