JP7075349B2 - 表面処理液、及び表面処理方法 - Google Patents

表面処理液、及び表面処理方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7075349B2
JP7075349B2 JP2018556642A JP2018556642A JP7075349B2 JP 7075349 B2 JP7075349 B2 JP 7075349B2 JP 2018556642 A JP2018556642 A JP 2018556642A JP 2018556642 A JP2018556642 A JP 2018556642A JP 7075349 B2 JP7075349 B2 JP 7075349B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
surface treatment
treatment liquid
resin
structural unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018556642A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2018110461A1 (ja
Inventor
尊博 先崎
拓也 野口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Publication of JPWO2018110461A1 publication Critical patent/JPWO2018110461A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7075349B2 publication Critical patent/JP7075349B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/52Amides or imides
    • C08F220/54Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F220/58Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine
    • C08F220/585Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine and containing other heteroatoms, e.g. 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid [AMPS]
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C05FERTILISERS; MANUFACTURE THEREOF
    • C05DINORGANIC FERTILISERS NOT COVERED BY SUBCLASSES C05B, C05C; FERTILISERS PRODUCING CARBON DIOXIDE
    • C05D1/00Fertilisers containing potassium
    • C05D1/005Fertilisers containing potassium post-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/52Amides or imides
    • C08F220/54Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F220/56Acrylamide; Methacrylamide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F226/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F226/06Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/41Compounds containing sulfur bound to oxygen
    • C08K5/42Sulfonic acids; Derivatives thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D125/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D125/18Homopolymers or copolymers of aromatic monomers containing elements other than carbon and hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C09D133/16Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • C09D201/02Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/16Antifouling paints; Underwater paints
    • C09D5/1606Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/65Additives macromolecular
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2210/00Applying material to more than three types of substrate materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2401/00Form of the coating product, e.g. solution, water dispersion, powders or the like
    • B05D2401/20Aqueous dispersion or solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2502/00Acrylic polymers
    • B05D2502/005Acrylic polymers modified
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/52Amides or imides
    • C08F220/54Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F220/60Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing nitrogen in addition to the carbonamido nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/14Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C08J2333/16Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/24Homopolymers or copolymers of amides or imides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

本発明は、表面処理液と、当該表面処理液を用いる表面処理方法とに関する。
従来より、種々の物品の表面の性質を改質するために、様々な表面処理液が使用されている。表面改質の中でも、物品の表面の親水化又は疎水化についての要求は大きく、親水化用又は疎水化用の薬剤や表面処理液について多数提案されている。
かかる表面処理用の薬剤に関して、例えば、被膜表面に親水性と防汚性とを付与できる表面調整剤として、少なくともアクリルアミドモノマーと、特定の骨格のシロキシ基含有モノ(メタ)アクリレートモノマーとが共重合された、重量平均分子量1500~50000の共重合物が提案されている(特許文献1)。
特許第5437523号公報
しかしながら、特許文献1に記載の表面調整剤を用いて親水化処理を行う場合、表面調整剤のみを含む溶液を用いて被処理体の表面を処理しても、表面調整剤が被処理体の表面に付着しにくく、所望する親水化効果を得にくい。
このため、特許文献1では、表面調整剤の溶液に、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミン樹脂等の樹脂を被膜形成成分として配合した液を、表面処理液として用いている。
そして、特許文献1に記載の表面調整剤と、被膜形成成分とを含む表面処理液を用いる場合、被処理体の表面が樹脂を含む被膜により被覆されてしまう。そうすると、良好な親水化はできても、被処理体が有する有用な表面特性が損なわれてしまう。
本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、被膜形成性の樹脂を含んでいなくても、被処理体の表面の良好な親水化又は疎水化を行うことができる表面処理液と、当該表面処理液を用いる表面処理方法とを提供することを目的とする。
本発明者らは、樹脂(A)と、溶媒(C)とを含む表面処理液において、含窒素複素環基である官能基Iと、官能基I以外の官能基であって、親水性基及び疎水性基から選択される1種以上の基である官能基IIとを有し、前述の官能基Iを有する構成単位(a1)と、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)、及びアニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)からなる群より選択される1以上の構成単位とを含む、樹脂を樹脂(A)として用いることにより上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の第1の態様は、樹脂(A)と、溶媒(C)とを含み、
樹脂(A)が、含窒素複素環基である官能基Iと、官能基I以外の官能基であって、親水性基及び疎水性基から選択される1種以上の基である官能基IIとを有し、
樹脂(A)が、官能基Iを有する構成単位(a1)と、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)、及びアニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)からなる群より選択される1以上の構成単位とを含む、表面処理液である。
本発明の第2の態様は、第1の態様にかかる表面処理液を、被処理体の表面に接触させることを含む、表面処理方法である。
本発明によれば、被膜形成性の樹脂を含んでいなくても、被処理体の表面の良好な親水化又は疎水化を行うことができる表面処理液と、当該表面処理液を用いる表面処理方法とを提供することができる。
≪表面処理液≫
表面処理液は、樹脂(A)と、溶媒(C)とを含む。樹脂(A)は、所定の官能基を有し、且つ、所定の構成単位を含む。
以下、表面処理液に含まれる、必須又は任意の成分について説明する。
<樹脂(A)>
表面処理液は、所望する表面処理効果を得るための成分として樹脂(A)を含む。樹脂(A)は、含窒素複素環基である官能基Iと、官能基I以外の官能基であって、親水性基及び疎水性基から選択される1種以上の基である官能基IIとを有する。
樹脂(A)は、官能基Iを有する構成単位(a1)と、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)、及びアニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)からなる群より選択される1以上の構成単位とを含む。
かかる要件を満たす樹脂(A)を含有する表面処理液を用いることにより、種々の材質からなる被処理体の表面が良好に親水化、又は疎水化される。
上記の樹脂(A)を含む表面処理液を用いることにより、良好な表面処理効果が得られる理由は明らかでないが、樹脂(A)が、含窒素複素環基である官能基Iと、構成単位(a2)中のカチオン性基、及び構成単位(a3)中のアニオン性基の少なくとも一方とを組み合わせて有する場合、官能基Iと、カチオン性基及びアニオン性基の少なくとも一方との相互作用が、樹脂(A)の被処理体の表面への付着又は結合を促進させ、その結果良好な表面処理効果が得られると考えられる。
樹脂(A)の種類は、樹脂(A)が、所定の官能基を有し、且つ溶媒(C)に可溶である限り特に限定されない。樹脂(A)の例としては、(メタ)アクリル樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びシリコーン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂の中では、官能基の導入や、官能基を有する単位の含有比率の調整が容易である事から(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
〔官能基I〕
前述の通り官能基Iは、含窒素複素環基である。
官能基Iは、樹脂(A)の主鎖中に存在しても、側鎖中に存在してもよい。官能基Iは、被処理体の表面との接触が容易であり、良好な表面処理効果を得やすいことから、樹脂(A)の側鎖に存在するのが好ましく、側鎖の末端に存在するのがより好ましい。
含窒素複素環基は、含窒素芳香族複素環基であってもよく、含窒素脂肪族複素環基であってもよい。所望する表面処理効果を得やすいことからは、含窒素複素環基としては、含窒素芳香族複素環基が好ましい。
含窒素複素環基は、単環式の基であっても、多環式の基であってもよい。ここで、多環式の複素環基とは、少なくとも1つの含窒素複素環を含む2以上の単環が、縮合するか、単結合又は連結基を介して結合した基である。
含窒素複素環基が単環式の基である場合、含窒素複素環基における環構成原子数は特に限定されないが、5~10が好ましく、5~7がより好ましく、5又は6が特に好ましい。
多環式の複素環基を構成する単環の数は特に限定されないが、2~5が好ましく、2~4がより好ましく、2又は3が特に好ましい。
多環式の複素環基を構成する単環について、各単環の環構成原子数は特に限定されないが、5~10が好ましく、5~7がより好ましく、5又は6が特に好ましい。
含窒素複素環基は、樹脂(A)中の存在位置に応じて、1価の基であってもよく、2価以上の多価基であってもよい。
前述の通り、含窒素複素環基は、樹脂(A)において側鎖の末端に存在するのが好ましい。このため、含窒素複素環基は、1価の基であるのが好ましい。
含窒素複素環基は、含窒素複素環から、その価数に応じた水素原子を除いた基である。
含窒素複素環基が有する結合手は、炭素原子に結合していてもよいし、窒素原子等の炭素原子以外のヘテロ原子に結合していてもよい。
含窒素複素環基を与える含窒素芳香族複素環としては、例えば、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、テトラジン、ペンタジン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。
含窒素脂肪族複素環としては、ピロリジン、ピラゾリジン、トリアゾリジン、ピロリン、ピラゾリン、イミダゾリン、トリアゾリン、ピペリジン、ピペラジン、トリアジナン、テトラジナン、ペンタジナン、モルホリン、チオモルホリン、ε-カプロラクタム、δ-バレロラクタム、γ-ブチロラクタム、2-イミダゾリジノン、フタルイミド、s-トリアジン-2,4,6-トリオン等が挙げられる。
以上説明した含窒素複素環基の中では、1価の含窒素芳香族複素環基である、ピローリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、テトラジニル基、及びペンタジニル基が好ましく、ピローリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、テトラジニル基、及びペンタジニル基がより好ましく、ピローリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、及びピリダジニル基が特に好ましい。
含窒素複素環基は、無置換であっても、置換基を有していてもよい。被処理体の表面と、含窒素複素環基との相互作用が良好に生じやすいことから、含窒素複素環基は無置換であるのが好ましい。
含窒素複素環基において、置換基は、炭素原子に結合してもよく、窒素原子等のヘテロ原子に結合していてもよい。
含窒素複素環基が有してもよい置換基としては、炭素原子数1~6のアルキル基、炭素原子数1~6のアルコキシ基、炭素原子数2~7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2~7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2~7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1~6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1~6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。
〔官能基II〕
樹脂(A)は、親水性基又は疎水性基である官能基IIを有する。
官能基IIは、樹脂(A)の主鎖中に存在しても、側鎖中に存在してもよい。官能基IIは、良好な表面処理効果を得やすいことから、樹脂(A)の側鎖に存在するのが好ましく、側鎖の末端に存在するのがより好ましい。
官能基IIは、官能基I以外の基である。親水性基を有する樹脂(A)を含む表面処理液を用いると親水化処理でき、疎水性基を有する樹脂(A)を含む処理液を用いると疎水化処理できる。
親水性基又は疎水性基は、従来から、当業者に親水性基又は疎水性基であると認識されている官能基であれば特に限定されず、その中から適宜選択できる。
親水性基は、アニオン性基や、カチオン性基等のイオン性基であることが多い。疎水性基は、非イオン性の有機基であることが多い。しかし、親水性基は、かならずしもイオン性基でなくてもよい。疎水性基は、かならずしも非イオン性の有機基でなくてもよい。
親水性基の具体例としては、ポリオキシアルキレン基(例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、オキシエチレン基とオキシプロピレン基がブロック又はランダム結合したポリオキシアルキレン基等)、アミノ基、4級アンモニウム塩基、カルボキシ基、水酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、及びスルホン酸基等が挙げられる。また、これらの基を含む有機基も親水性基として好ましい。
疎水性基の具体例としては、例えば、フッ素化炭化水素基、シリル基、シロキサン基、炭素原子数6~20のアルキル基、及び炭素原子数10~20の芳香族炭化水素基等が挙げられる。これらの中では、フッ素化炭化水素基、シリル基、及びシロキサン基からなる群より選択される1以上の基が好ましい。
フッ素化炭化水素基としては、式(A2)について後述する基が好ましい。
シリル基の好適な例としては、後述する式(A3)で表され、nが0である基が挙げられる。シリル基の具体例としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、及びトリフェニルシリル基等が挙げられる。
シロキサン基の好適な例としては、後述する式(A3)で表され、nが1以上である基が挙げられる。
表面処理液の親水化効果が優れる点で、親水性基としては、下記式(A5):
-NH-R・・・(A5)
(式(A5)中、Rは、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基、又は水素原子である。)
で表される基が好ましい。
式(A5)で表される親水性基の具体例としては、アミノ基と、Rとして下記式で表される基を有する基と、が挙げられる。
Figure 0007075349000001
Figure 0007075349000002
Figure 0007075349000003
上記の式(A5)で表される親水性基中のRの具体例のうち、より好ましい基としては、以下の基が挙げられる。
Figure 0007075349000004
上記の式(A5)で表される親水性基中のRの具体例のうち、特に好ましい基としては、以下の基が挙げられる。
Figure 0007075349000005
樹脂(A)が、官能基IIとして疎水性基を有する場合、官能基IIは下式(A6):
CH=CR-(CO-O)-R・・・(A6)
(式(A6)中、Rは水素原子又はメチル基であり、aは0又は1であり、Rは、フッ素化炭化水素基、又は下式(A7):
-SiR-(-O-SiR-)-R・・・(A7)
で表される基であり、R、R、及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1~6の炭化水素基であり、nは0以上の整数である。)
で表される単量体に由来するのが好ましい。
式(A6)中、Rがフッ素化炭化水素基である場合、当該フッ素化炭化水素基の主骨格を構成する炭化水素基は、前述のRの基の主骨格を構成する炭化水素基と同様である。当該フッ素化炭化水素基は、炭化水素基が有する水素原子の全てがフッ素原子で置換された基でもよい。
としてのフッ素化炭化水素基の具体例としては、-CF、-CFCF、-(CFCF、-(CFCF、-(CFCF、-(CFCF、-(CFCF、-(CFCF、-(CFCF、-(CFCF、-CHCF、-CHCFCF、-CH(CFCF、-CH(CFCF、-CH(CFCF、-CH(CFCF、-CH(CFCF、-CH(CFCF、-CH(CFCF、-CHCHCF、-CHCHCFCF、-CHCH(CFCF、-CHCH(CFCF、-CHCH(CFCF、-CHCH(CFCF、-CHCH(CFCF、-CHCH(CFCF、及び-CH(CF等の鎖状フッ素化アルキル基;ペンタフルオロフェニル基、o-トリフルオロメチルフェニル基、m-トリフルオロメチルフェニル基、p-トリフルオロメチルフェニル基等のフッ素化芳香族炭化水素基;オクタフルオロアダマンチル基等のフッ素化脂環式基が挙げられる。
式(A6)中、Rが式(A7)で表される基である場合、R、R、及びRは、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、又はフェニル基であるのが好ましく、R、R、及びRが全てメチル基であるのがより好ましい。
式(A7)中、nの上限は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。nは、0以上35以下の整数であるのが好ましく、0以上10以下の整数であるのがより好ましい。
式(A6)で表される単量体に由来する、疎水性基を有する単位の特に好ましい具体例としては、下記a6-1~a6-22の単位が挙げられる。下記の単位の中では、a6-8、a6-18、a6-19、及びa6-22の単位がより好ましい。
Figure 0007075349000006
また、樹脂(A)が、官能基IIとして親水性基を有する場合、官能基IIは下式(A8):
CH=CR-CO-NH-R・・・(A8)
(式(A8)中、Rは、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基、又は水素原子であり、Rは水素原子又はメチル基である。)
で表される単量体に由来するのが好ましい。
式(A8)中、Rについては、前述した通りである。
式(A8)で表される単量体に由来する、親水性基を有する単位の特に好ましい具体例としては、下記a8-1~a8-5の単位が挙げられる。下記の単位の中では、a8-1~a8-4の単位がより好ましい。
Figure 0007075349000007
なお、式(A8)で表される単量体が、Rとして、水素原子、又はアミノ基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基を有する場合、式(A8)で表される単量体に由来する構成単位は、後述するカチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)に該当する。
式(A8)で表される単量体が、Rとして、スルホン酸基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基を有する場合、式(A8)で表される単量体に由来する構成単位は、後述するアニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)に該当する。
樹脂(A)における、後述する構成単位(a1)以外の単位であって、親水性基又は疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂(A)中30モル%以上が好ましく、40モル%以上がより好ましく、50モル%以上が特に好ましい。
樹脂(A)が、かかる範囲内の比率で、構成単位(a1)以外の単位であって、親水性基又は疎水性基を有する構成単位を含む場合、所望する親水化、又は疎水化の効果を得やすい。
〔構成単位(a1)、構成単位(a2)、構成単位(a3)、及び構成単位(a4)〕
樹脂(A)は、官能基Iを有する構成単位(a1)と、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)、及びアニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)からなる群より選択される1以上の構成単位とを含む。
こられの構成単位は、樹脂(A)の被処理体表面への結合を促進させる構成単位である。
なお、樹脂(A)が、構成単位(a1)、構成単位(a2)、及び構成単位(a3)以外のその他の構成単位(a4)を含んでいてもよい。
樹脂(A)は、官能基Iを必須に有するため、構成単位(a1)を必須に有する。
樹脂(A)が、官能基Iを有する構成単位(a1)と、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)、及びアニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)からなる群より選択される1以上の構成単位とを組み合わせて含む場合、理由は不明であるが、樹脂(A)が、被処理体の表面に良好に吸着、又は結合し、良好な表面処理効果を得やすい。
なお、官能基Iを有する構成単位(a1)において、官能基Iが側鎖に存在し、官能基Iである含窒素複素環基がカチオン化し得る官能基である場合、構成単位(a1)は、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)にも該当する。
この場合、樹脂(A)が、構成単位(a1)と構成単位(a2)とを含むとみなし、樹脂(A)が、構成単位(a1)と別に、構成単位(a2)を有する必要はない。
また、官能基Iを有する構成単位(a1)において、フェノール性水酸基やカルボキシ基等のアニオン性基が含まれる場合がある。この場合、構成単位(a1)は、アニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)にも該当する。
この場合、樹脂(A)が、構成単位(a1)と構成単位(a3)とを含むとみなし、樹脂(A)が、構成単位(a1)と別に、構成単位(a3)を有する必要はない。
(構成単位(a1))
構成単位(a1)は、官能基Iを有する構成単位であれば特に限定されない。樹脂(A)は、2種以上の構成単位(a1)を組み合わせて含んでいてもよい。
樹脂(A)としては、不飽和二重結合を有する単量体の重合体が好ましく、構成単位(a1)としては、下記式(A1)で表される化合物に由来する構成単位が好ましい。
CH=CR-(R-(CO-X)-(R-R・・・(A1)
(式(A1)中、Rは水素原子又はメチル基であり、R、及びRは、それぞれ独立に置換基を有してもよい2価の炭化水素基であり、Rは、前述の官能基Iであり、Xは、-O-又は-NH-であり、x、y、及びzはそれぞれ独立に0又は1である。)
上記式(A1)中、R、及びRはそれぞれ独立に置換基を有してもよい2価の炭化水素基である。2価の炭化水素基の炭素原子数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。樹脂(A)の入手や調製が容易である事から、R、及びRとしての2価の炭化水素基の炭素原子数は、1~20が好ましく、1~12がより好ましく、1~10が特に好ましく、1~6が最も好ましい。
、及びRとしての2価の炭化水素基は、脂肪族基でも、芳香族基でも、脂肪族部分と芳香族部分とを含む炭化水素基であってもよい。2価の炭化水素基が、脂肪族基である場合、当該脂肪族基は、飽和脂肪族基でも不飽和脂肪族基でもよい。また、当該脂肪族基の構造は、直鎖状でも、分岐鎖状でも、環状でも、これらの構造の組み合わせであってもよい。
、及びRの好適な具体例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、n-ブタン-1,4-ジイル基、n-ペンタン-1,5-ジイル基、n-ヘキサン-1,6-ジイル基、n-ヘプタン-1,7-ジイル基、n-オクタン-1,8-ジイル基、n-ノナン-1,9-ジイル基、n-デカン-1,10-ジイル基、o-フェニレン基、m-フェニレン基、p-フェニレン基、ナフタレン-2,6-ジイル基、ナフタレン-2,7-ジイル基、ナフタレン-1,4-ジイル基、ビフェニル-4,4’-ジイル基等が挙げられる。
、及びRとしての2価の炭化水素基が置換基を有する場合、当該置換基としては、水酸基、炭素原子数1~6のアルコキシ基、炭素原子数2~6の脂肪族アシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。
式(A1)で表される化合物の中では、下記式(A1-1):
CH=CR-(CO-X)-(R-R・・・(A1-1)
(式(A1-1)中、R、R、R、X、y、及びzは式(A1)と同様である。)
で表される化合物が好ましく、下記式(A1-2):
CH=CR-(CO-X)-R・・・(A1-2)
(式(A1-2)中、R、R、X、及びyは式(A1)と同様である。)
で表される化合物がより好ましく、下記式(A1-3):
CH=CR-R・・・(A1-3)
(式(A1-3)中、R、及びRは式(A1)と同様である。)
で表される化合物が特に好ましい。
以上説明した構成単位(a1)の好適な具体例としては、下記の構成単位a1-1~a1-9が挙げられる。これらの構成単位の中では、単量体化合物の入手が容易である点や、良好な表面処理効果を得やすいことから、構成単位a1-1、及びa1-6が好ましい。
Figure 0007075349000008
(構成単位(a2))
構成単位(a2)は、カチオン性基を側鎖に有する構成単位である。含窒素複素環基である官能基Iを側鎖に有する構成単位(a1)も、カチオン性基を側鎖に有する構成単位に該当するが、ここでは、構成単位(a2)のうち構成単位(a1)に該当しない構成単位について説明する。
構成単位(a2)は、カチオン性基を側鎖に有する構成単位であれば特に限定されない。樹脂(A)は、2種以上の構成単位(a2)を組み合わせて含んでいてもよい。
カチオン性基は、カチオンと、対アニオンとからなる官能基である必要はなく、カチオン化され得る官能基であれば特に限定されない。カチオン性基に由来するカチオンは、例えば、N、C、B、及びP等を含むカチオンであるのが好ましく、Nを含むカチオンであるのがより好ましい。
カチオン性基としては、構成単位(a2)を生成させる単量体の入手の容易性や、良好な表面処理効果を得やすいことから、環式、又は非環式のアミノ基や、4級アンモニウム塩基が好ましい。
なお、カチオン性基は、通常、親水性基的に作用することが多いが、必ずしも親水性基的に作用するわけではない。
例えば、イミダゾール、ピリジン、ピリミジン等の水と自由に混和するか、水に室温で可溶である(例えば、水100gに対して1g以上溶解)カチオン性化合物に由来するカチオン性基は、親水性基的に作用する。
他方で、キノリン、トリn-ブチルアミンのように水に室温でほとんど溶解しない(例えば、水100gに対して1g未満しかとけない)カチオン性化合物に由来するカチオン性基は疎水性基的に作用する。
樹脂(A)としては、不飽和二重結合を有する単量体の重合体が好ましく、構成単位(a2)としては、下記式(A2)で表される化合物に由来する構成単位が好ましい。
CH=CR-(CO)-R10・・・(A2)
(式(A2)中、Rは水素原子又はメチル基であり、R10は-Y-R11-R12で表される基、又は炭素原子数1~6の炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基であり、Yは、-O-、又は-NH-であり、R11は置換基を有してもよい2価の有機基であり、R12は炭素原子数1~6の炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基、又は-N131415・Zで表される4級アンモニウム塩基であり、R13、R14、及びR15は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数1~6の炭化水素基であり、Zは対アニオンであり、aは0又は1である。)
上記式(A2)中、R10が-Y-R11-R12で表される基である場合、R11は置換基を有してもよい2価の有機基である。2価の有機基としては特に限定されないが、2価の炭化水素基が好ましい。2価の炭化水素基の炭素原子数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。樹脂(A)の入手や調製が容易である事から、R11が2価の炭化水素基である場合、2価の炭化水素基の炭素原子数は、1~20が好ましく、1~12がより好ましく、1~10が特に好ましく、1~6が最も好ましい。
11としての2価の炭化水素基は、脂肪族基でも、芳香族基でも、脂肪族部分と芳香族部分とを含む炭化水素基であってもよい。2価の炭化水素基が、脂肪族基である場合、当該脂肪族基は、飽和脂肪族基でも不飽和脂肪族基でもよい。また、当該脂肪族基の構造は、直鎖状でも、分岐鎖状でも、環状でも、これらの構造の組み合わせであってもよい。
11の好適な具体例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、n-ブタン-1,4-ジイル基、n-ペンタン-1,5-ジイル基、n-ヘキサン-1,6-ジイル基、n-ヘプタン-1,7-ジイル基、n-オクタン-1,8-ジイル基、n-ノナン-1,9-ジイル基、n-デカン-1,10-ジイル基、o-フェニレン基、m-フェニレン基、p-フェニレン基、ナフタレン-2,6-ジイル基、ナフタレン-2,7-ジイル基、ナフタレン-1,4-ジイル基、ビフェニル-4,4’-ジイル基等が挙げられる。
11としての2価の炭化水素基が置換基を有する場合、当該置換基としては、水酸基、炭素原子数1~6のアルコキシ基、炭素原子数2~6の脂肪族アシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。
10及びR12が炭素原子数1~6の炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基である場合、その好適な具体例としては、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、n-プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、n-ペンチルアミノ基、n-ヘキシルアミノ基、フェニルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ-n-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ-n-ブチルアミノ基、ジ-n-ペンチルアミノ基、ジ-n-ヘキシルアミノ、及びジフェニルアミノ基が挙げられる。
12が-N131415・Zで表される4級アンモニウム塩基である場合、R13、R14、及びR15は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数1~6の炭化水素基であり、Zは対アニオンである。
炭素原子数1~6の炭化水素基の好適な例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、及びフェニル基が挙げられる。
としての対アニオンは、1価のアニオンであれば特に限定されずハロゲン化物イオンが好ましい。ハロゲン化物イオンの好適な例としては、塩化物イオン、臭化物イオン、及びヨウ化物イオンが挙げられる。
以上説明した構成単位(a2)の好適な具体例としては、下記の構成単位a2-1~a2-50が挙げられる。これらの構成単位の中では、単量体化合物の入手が容易である点や、良好な表面処理効果を得やすいことから、構成単位a2-1~a2-4、a2-17、及びa2-18が好ましい。
Figure 0007075349000009
Figure 0007075349000010
(構成単位(a3))
構成単位(a3)は、アニオン性基を側鎖に有する構成単位である。
構成単位(a3)は、アニオン性基を側鎖に有する構成単位であれば特に限定されない。樹脂(A)は、2種以上の構成単位(a3)を組み合わせて含んでいてもよい。
アニオン性基は、アニオンと、対カチオンとからなる官能基である必要はなく、アニオン化され得る官能基であれば特に限定されない。
アニオン性基は、典型的には、ブレンステッド酸性を示す官能基である。ブレンステッド酸性を示す官能基の好適な例としては、カルボキシ基、スルホン酸基、スルフィン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、及びフェノール性水酸基が挙げられる。
これらのブレンステッド酸性基は、対カチオンとともに塩を形成してもよい。対カチオンは、特に限定されず、有機カチオンであっても、金属イオンのような無機カチオンであってもよく、金属イオンが好ましい。金属イオンとしては、アルカリ金属イオンが好ましく、例えば、Li+、Na+、K+、及びSr+が好ましい。
なお、以上説明したアニオン性基は、通常、親水性基的に作用する。
樹脂(A)としては、不飽和二重結合を有する単量体の重合体が好ましく、構成単位(a3)としては、下記式(A3)で表される化合物に由来する構成単位が好ましい。
CH=CR-(CO)-R17・・・(A3)
(式(A3)中、Rは水素原子又はメチル基であり、R17は、水酸基、又は-A-R18-R19で表される基であり、Aは-O-、又は-NH-であり、R18は置換基を有してもよい2価の有機基であり、R19はブレンステッド酸性基であり、bは0又は1であり、ただし、bが0である場合、R17は水酸基でない。)
上記式(A3)中、R17が-A-R18-R19で表される基である場合、R18は置換基を有してもよい2価の有機基である。2価の有機基としては特に限定されないが、2価の炭化水素基が好ましい。2価の炭化水素基の炭素原子数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。樹脂(A)の入手や調製が容易である事から、R18が2価の炭化水素基である場合、2価の炭化水素基の炭素原子数は、1~20が好ましく、1~12がより好ましく、1~10が特に好ましく、1~6が最も好ましい。
18としての2価の炭化水素基は、脂肪族基でも、芳香族基でも、脂肪族部分と芳香族部分とを含む炭化水素基であってもよい。2価の炭化水素基が、脂肪族基である場合、当該脂肪族基は、飽和脂肪族基でも不飽和脂肪族基でもよい。また、当該脂肪族基の構造は、直鎖状でも、分岐鎖状でも、環状でも、これらの構造の組み合わせであってもよい。
18の好適な具体例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、n-ブタン-1,4-ジイル基、n-ペンタン-1,5-ジイル基、n-ヘキサン-1,6-ジイル基、n-ヘプタン-1,7-ジイル基、n-オクタン-1,8-ジイル基、n-ノナン-1,9-ジイル基、n-デカン-1,10-ジイル基、o-フェニレン基、m-フェニレン基、p-フェニレン基、ナフタレン-2,6-ジイル基、ナフタレン-2,7-ジイル基、ナフタレン-1,4-ジイル基、ビフェニル-4,4’-ジイル基等が挙げられる。
18としての2価の炭化水素基が置換基を有する場合、当該置換基としては、水酸基、炭素原子数1~6のアルコキシ基、炭素原子数2~6の脂肪族アシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。
19としてのブレンステッド酸性基としては、カルボキシ基、スルホン酸基、スルフィン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、及びフェノール性水酸基が好ましく、カルボキシ基、スルホン酸基、ホスホン酸基、及びフェノール性水酸基がより好ましい。
19がフェノール性水酸基でない場合、-R18-R19で表されるとしては、以下の基が好ましい。下記構造式において、R19はフェノール性水酸基以外のブレンステッド酸性基である。
Figure 0007075349000011
以上説明した構成単位(a3)の好適な具体例としては、下記の構成単位a3-1~a3-20が挙げられる。これらの構成単位の中では、単量体化合物の入手が容易である点や、良好な表面処理効果を得やすいことから、構成単位a3-1~a3-10、a3-19、及びa3-20が好ましい。
Figure 0007075349000012
(構成単位(a4))
樹脂(A)は、本発明の目的を阻害しない範囲で、上記の通り説明した、構成単位(a1)、構成単位(a2)、及び構成単位(a3)以外の構成単位(a4)を含んでいてもよい。樹脂(A)は、2種以上の構成単位(a4)を組み合わせて含んでいてもよい。
前述の通り、樹脂(A)としては、不飽和二重結合を有する単量体の重合体が好ましい。この場合、構成単位(a4)としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸-n-プロピル、(メタ)アクリル酸-n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸-tert-ブチル、(メタ)アクリル酸-n-ペンチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸フェニル、スチレン、α-メチルスチレン、β-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、及びクロルスチレン等の単量体に由来する構成単位が挙げられる。
また、官能基I、アニオン性基、及びカチオン性基に該当しない親水性基、又は疎水性基と、不飽和二重結合とを有する化合物も、構成単位(a4)を与える単量体化合物として好適である。
樹脂(A)中の全構成単位に対する、構成単位(a1)の量は、2モル%以上であるのが好ましく、3モル%以上がより好ましく、5モル%以上が特に好ましい。
樹脂(A)中の全構成単位に対する、構成単位(a1)の量と、構成単位(a2)の量との合計が70~100モル%であるか2~30モル%であるのが好ましく、80~100モル%であるか5~20モル%であるのがより好ましい。
樹脂(A)中の全構成単位に対する、構成単位(a1)の量と、前記構成単位(a2)の量との合計が70~100モル%である場合に、構成単位(a3)の量は、0~30モル%であるのが好ましく、0~20モル%であるのがより好ましい。
樹脂(A)中の全構成単位に対する、構成単位(a1)の量と、前記構成単位(a2)の量との合計が2~30モル%である場合に、構成単位(a3)の量は、70~98モル%であるのが好ましく、80~95モル%であるのがより好ましい。
樹脂(A)の質量平均分子量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。樹脂(A)の質量平均分子量は、表面処理液における溶解性や、所望する表面処理効果を得やすい点から、50,000~3,000,000が好ましく、50,000~2,000,000がより好ましい。
なお、樹脂(A)の質量平均分子量は、GPCにより測定されるポリスチレン換算の分子量である。
表面処理液における樹脂(A)の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。表面処理液における樹脂(A)の含有量は、被処理体の表面への樹脂(A)の過度の付着を防ぎつつ、所望する表面処理効果を得やすいことから、0.1~10質量%が好ましく、0.2~7質量%がより好ましく、0.5~5質量%が特に好ましい。
<強酸(B)>
表面処理液は、強酸(B)を含んでいてもよい。強酸(B)のpKaは1以下である。なお、pKaは水中での値である。
強酸(B)は、樹脂(A)の被処理体の表面への付着又は結合を促進させる。
強酸(B)の種類は、pKaが1以下である限り特に限定されない。強酸(B)としては、pKaが1以下である酸を2種以上組み合わせて用いることができる。
強酸(B)の好適な例としては、フッ素化脂肪族カルボン酸(例えばトリフルオロ酢酸等)、フルオロスルホン酸、炭素原子数1~30のアルカンスルホン酸(例えばメタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸等)、アリールスルホン酸(例えばベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等)、炭素原子数1~30のフルオロアルカンスルホン酸(例えばトリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸及びトリデカフルオロヘキサンスルホン酸)、ビススルホニルイミド化合物、2つのスルホニル基がフルオロアルキレン基で連結された環状スルホニルイミド化合物、及びN-アシルフルオロアルカンスルホン酸アミド等が挙げられる。
これらの強酸(B)が、フルオロアルキル基、又はフルオロアルキレン基を含む場合、これらの基は、部分的にフッ素化されたフルオロアルキル基、又はフルオロアルキレン基であってもよく、完全にフッ素化されたパーフルオロアルキル基、又はパーフルオロアルキレン基であってもよい。
これらの強酸(B)の中では、フルオロスルホン酸、炭素原子数1~30のアルカンスルホン酸、炭素原子数1~30のフルオロアルカンスルホン酸、ビス(フルオロアルキルスルホニル)イミド酸、2つのスルホニル基がフルオロアルキレン基で連結された環状スルホンイミド酸、及びN-アシルフルオロアルカンスルホン酸アミドが好ましく、炭素原子数1~30のフルオロアルカンスルホン酸、ビススルホニルイミド化合物、2つのスルホニル基がフルオロアルキレン基で連結された環状スルホニルイミド化合物、及びN-アシルフルオロアルカンスルホン酸アミドが好ましい。
炭素原子数1~30のフルオロアルカンスルホン酸としては、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、及びノナフルオロブタンスルホン酸等が好ましい。
ビススルホニルイミド化合物としては、下式(B1)で表される化合物が好ましい。
Figure 0007075349000013
式(B1)中、X及びXは、それぞれ独立に、少なくとも1つの電子吸引性基で置換された炭化水素基を表す。炭化水素基は、式(B1)で表される化合物の強酸性が損なわれない範囲で、電子吸引性基以外の種々の基で置換されていてもよい。X及びXの炭素原子数は、1~20が好ましく、1~10がより好ましく、1~7が特に好ましい。
電子吸引性基で置換された炭化水素基としては、フッ素化アルキル基、ニトロ基を有するアリール基が好ましい。フッ素化アルキル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でも、環状でもよい。フッ素化アルキル基は、完全にフッ素化されたパーフルオロアルキル基であるのが好ましい。ニトロ基を有するアリール基としては、o-ニトロフェニル基、m-ニトロフェニル基、及びp-ニトロフェニル基が好ましく、p-ニトロフェニル基がより好ましい。
式(B1)で表される化合物の好適な具体例としては、下式の化合物が挙げられる。
Figure 0007075349000014
2つのスルホニル基がフルオロアルキレン基で連結された環状スルホニルイミド化合物としては、下式(B2)で表される化合物が好ましい。
Figure 0007075349000015
式(B2)中、Xは、少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状又は分岐状のアルキレン基を表す。Xの炭素原子数は、2~6が好ましく、3~5がより好ましく、3が特に好ましい。
式(B2)で表される化合物の好適な具体例としては、下式の化合物が挙げられる。
Figure 0007075349000016
N-アシルフルオロアルカンスルホン酸アミドとしては、下式(B3)で表される化合物が好ましい。
Figure 0007075349000017
式(B3)中、Xは、少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。Xの炭素原子数は、1~10が好ましく、1~7がより好ましく、1~3が特に好ましい。
は、炭化水素基である。炭化水素基について、前述のRの基の主骨格を構成する炭化水素基と同様である。
式(B3)で表される化合物の好適な具体例としては、下式の化合物が挙げられる。
Figure 0007075349000018
表面処理液中の強酸(B)の含有量は、表面処理を良好に行うことが出来る限り特に限定されない。表面処理液中の強酸(B)の含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、0.1~20質量部が好ましく、0.1~10質量部がより好ましく、0.1~5質量部が特に好ましい。
<溶媒(C)>
溶媒(C)は、樹脂(A)と、強酸(B)とが可溶である溶媒であれば特に限定されない。表面処理液中に、樹脂(A)と、強酸(B)とが、所定量溶解していれば、表面処理液は、溶解していない状態の樹脂(A)や強酸(B)を含んでいてもよい。樹脂(A)及び強酸(B)は、表面処理液に完全に溶解しているのが好ましい。
表面処理液が、不溶物を含む場合、表面処理時に、被処理体の表面に不溶物が付着する場合がある。この場合、表面処理された被処理体の表面を、後述するような方法でリンスすることにより、被処理体の表面に付着する不溶物を除去することができる。
溶媒(C)は、水であっても、有機溶媒であっても、有機溶媒の水溶液であってもよい。溶媒(C)が水を含むのが好ましく、溶媒(C)が水であるのがより好ましい。
溶媒(C)中の水の含有量は、90質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましく、70質量%以下が特に好ましい。
溶媒(C)として使用される有機溶媒の具体例としては、
メタノール、エタノール、n-プロパノール、n-ブタノール、イソブタノール等のアルカンノール類;
ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;
ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ビス(2-ヒドロキシエチル)スルホン、テトラメチレンスルホン等のスルホン類;
N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド等のアミド類;
N-メチル-2-ピロリドン、N-エチル-2-ピロリドン、N-プロピル-2-ピロリドン、N-ヒドロキシメチル-2-ピロリドン、N-ヒドロキシエチル-2-ピロリドン等のラクタム類;
1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジエチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジイソプロピル-2-イミダゾリジノン等のイミダゾリジノン類;
ジメチルグリコール、ジメチルジグリコール、ジメチルトリグリコール、メチルエチルジグリコール、ジエチルグリコール、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル等のジアルキルグリコールエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等のケトン類;
2-ヒドロキシプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸-n-プロピル、酢酸-i-プロピル、酢酸-n-ブチル、酢酸-i-ブチル、ぎ酸-n-ペンチル、酢酸-i-ペンチル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸-n-プロピル、酪酸-i-プロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸-n-プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;
β-プロピロラクトン、γ-ブチロラクトン、δ-ペンチロラクトン等のラクトン類;
n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、n-ノナン、メチルオクタン、n-デカン、n-ウンデカン、n-ドデカン、2,2,4,6,6-ペンタメチルヘプタン、2,2,4,4,6,8,8-ヘプタメチルノナン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の直鎖状、分岐鎖状、又は環状の脂肪族炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、1,3,5-トリメチルベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素類;
p-メンタン、ジフェニルメンタン、リモネン、テルピネン、ボルナン、ノルボルナン、ピナン等のテルペン類;等が挙げられる。
<その他の成分>
表面処理液は、本発明の目的を阻害しない範囲で、樹脂(A)、強酸(B)、及び溶媒(C)以外の種々の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、例えば、着色剤、界面活性剤、消泡剤、粘度調整剤等が挙げられる。
<表面処理液の調製方法>
表面処理液を調製する方法は特に限定されない。表面処理液は、典型的には、それぞれ所定量の樹脂(A)と、溶媒(C)と、必要に応じて、強酸(B)やその他の成分を、均一に混合することにより調製される。
以上説明した処理液は、例えば、細胞培養器具や、細胞等の生体試料を含む液体を流通させるマイクロ流路デバイスの等の細胞接着防止用の表面処理、種々の物品への防汚性や防曇性の付与等の目的での表面処理等に好適に使用される。
≪表面処理方法≫
以上説明した表面処理液を用いる表面処理方法は、通常、被処理体の表面への表面処理液の塗布を含む。表面処理液の塗布方法は特に限定されない。塗布方法の具体例としては、スピンコート法、スプレー法、ローラーコート法、浸漬法等が挙げられる。被処理体が基板である場合、表面処理液を均一に塗布することで、基板表面を均一に親水化又は疎水化できることから、塗布方法としてスピンコート法が好ましい。
被処理体の表面処理液が塗布される面の材質は特に限定されず、有機材料であっても、無機材料であってもよい。
有機材料としては、PET樹脂、PBT樹脂等のポリエステル樹脂、各種ナイロン、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレン及びポリプリピレン等のポリオレフィン、ポリスチレン、(メタ)アクリル樹脂等、種々の樹脂材料が挙げられる。
また、種々のレジスト材料に含まれる感光性の樹脂成分や、アルカリ可溶性の樹脂成分も有機材料として好ましい。
無機材料としては、ガラス、シリコンや、銅、アルミニウム、鉄、タングステン等の種々の金属が挙げられる。金属は、合金であってもよい。
被処理体の形状は特に限定されない。被処理体は平坦な基板であってもよく、例えば、球状や、柱状等の立体形状であってもよい。また、被処理体の表面は、平滑であっても、規則的又は不規則な凹凸を有していてもよい。
表面処理液を、被処理体の表面に塗布した後は、必要に応じて塗布膜を加熱して溶媒(C)の少なくとも一部を除去してもよい。
被処理体上の表面処理液が塗布された箇所は必要に応じてリンスされてもよい。前述の通り、所定の官能基を有する樹脂(A)を含む表面処理液を被処理体の表面に塗布すると、被処理体の表面に樹脂(A)が良好に付着又は結合する。
しかし、被処理体の表面には、当該表面に付着又は結合していない樹脂(A)もある程度の量存在している。したがって、樹脂(A)の、被処理体の表面特性に与える影響を低減させるために、リンスにより、被処理体の表面に付着又は結合していない(A)樹脂を洗い流してもよい。
表面処理液が溶媒(C)として水を含む場合、水によりリンスを行うのが好ましい。また、表面処理液が溶媒(C)として有機溶媒を含む場合、有機溶媒によりリンスを行うのも好ましい。有機溶媒によりリンスを行う場合、表面処理液に含まれる有機溶媒と同種の有機溶媒を用いるのが好ましい。
表面処理液の塗布後、又はリンス後に、被処理体の表面を必要に応じて乾燥させることにより、良好に親水化又は疎水化された物品が得られる。
なお、親水性基を有する樹脂(A)を含む表面処理液で被処理体が表面処理されている場合、表面処理後に被処理体の表面を乾燥させなくても、被処理体の表面が良好に親水化される。
このため、親水性基を有する樹脂(A)を含む表面処理液で被処理体が表面処理されている場合、表面処理液で濡れた被処理体の表面を、さらに表面処理液以外の第2の水性の処理液で処理することができる。
この場合、被処理体の表面が、第2の水性の処理液で良好に濡れ、第2の水性の処理液により表面処理効果が良好に発現する。
第2の水性の処理液は、水を含む処理液であれば特に限定されない。
好ましい水性の処理液としては、例えば、樹脂(X)と、強酸(Y)と、含水溶媒(Z)とを含む処理液が挙げられる。
樹脂(X)としては、水酸基、シアノ基、及びカルボキシ基からなる群より選択される1以上の基である官能基αと、前記官能基α以外の親水性基である官能基βとを有する樹脂が使用される。
ただし、前記官能基βが水酸基、シアノ基、及びカルボキシ基から選択される1以上の基を含む場合、樹脂(X)は前記官能基αを有していなくてもよい。
かかる、第2の水性の処理液を用いることにより、さらに被処理体の表面を親水化することができる。
強酸(X)としては、前述の強酸(B)と同様の酸が使用される。
含水溶媒(Z)としては、水、又は水溶性有機溶剤の水溶液を用いることができる。水溶性有機溶剤としては、溶剤(C)として挙げた有機溶剤のうち水溶性の溶剤を用いることができる。
樹脂(X)が有する官能基αは、下式(X1):
CH=CRx1-(Rx2-CO-Rx3・・・(X1)
(式(X1)中、Rx1は水素原子又はメチル基であり、Rx2は2価の炭化水素基であり、aは0又は1であり、Rx3は、-OH、-O-Rx4、又は-NH-Rx4であり、Rx4は、水酸基、シアノ基、及びカルボキシ基からなる群より選択される1以上の官能基で置換された炭化水素基である。)
で表される単量体に由来する基であるのが好ましい。
上記式(X1)中、Rx2は2価の炭化水素基である。2価の炭化水素基の炭素原子数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。樹脂(X)の入手や調製が容易である事から、Rx2としての2価の炭化水素基の炭素原子数は、1~20が好ましく、1~12がより好ましく、1~10が特に好ましく、1~6が最も好ましい。
x2としての2価の炭化水素基は、脂肪族基でも、芳香族基でも、脂肪族部分と芳香族部分とを含む炭化水素基であってもよい。2価の炭化水素基が、脂肪族基である場合、当該脂肪族基は、飽和脂肪族基でも不飽和脂肪族基でもよい。また、当該脂肪族基の構造は、直鎖状でも、分岐鎖状でも、環状でも、これらの構造の組み合わせであってもよい。
x2の好適な具体例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、n-ブタン-1,4-ジイル基、n-ペンタン-1,5-ジイル基、n-ヘキサン-1,6-ジイル基、n-ヘプタン-1,7-ジイル基、n-オクタン-1,8-ジイル基、n-ノナン-1,9-ジイル基、n-デカン-1,10-ジイル基、o-フェニレン基、m-フェニレン基、p-フェニレン基、ナフタレン-2,6-ジイル基、ナフタレン-2,7-ジイル基、ナフタレン-1,4-ジイル基、ビフェニル-4,4’-ジイル基等が挙げられる。
x3は、-OH、-O-Rx4、又は-NH-Rx4であり、Rx4は、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基からなる群より選択される1以上の官能基で置換された炭化水素基である。
x4の基の主骨格を構成する炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の脂肪族基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
直鎖状、分岐鎖状、又は環状の脂肪族基の炭素原子数は1~20が好ましく、1~12がより好ましい。
直鎖状、又は分岐鎖状の脂肪族基の好適な例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられる。
環状の脂肪族基の好適な例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等のシクロアルキル基や、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、及びテトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから1個の水素原子を除いた基や、これらのポリシクロアルカンのC1-C4アルキル置換体から1個の水素原子を除いた基が挙げられる。
芳香族炭化水素基の好適な例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントレニル基、及びビフェニリル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、メチル基、エチル基等のC1-C4アルキル基で置換されていてもよい。
式(X1)で表される単量体に由来する単位の特に好ましい具体例としては、下記x1-1~x1-9の単位が挙げられる。下記x1-1~x1-9の単位の中では、x1-1~x1-4の単位がより好ましい。
Figure 0007075349000019
樹脂(X)が有する、親水性基である官能基βとしては前述の式(A5)で表される基が好ましく、当該官能基βを含む単位を与える単量体化合物としては、前述の式(A8)で表される化合物が好ましい。
以上説明した樹脂(X)と、強酸(Y)と、含水溶媒(Z)とを所望の比率で混合することにより第2の水性の処理液が調製される。
強酸(Y)の使用量は、樹脂(X)100質量部に対して、0.1~20質量部が好ましく、0.1~10質量部がより好ましく、0.1~5質量部が特に好ましく、1~3質量部が最も好ましい。
強酸(Y)としては、特に限定されないが、トリフルオロメタンスルホン酸等が好適に使用できる。
樹脂(X)としては、これらに限定されないが、以下のResin-1~Resin-11が好適な具体例として挙げられる。なお、下記式において括弧の右下の数値は、各樹脂に含まれる構成単位の含有量(モル%)である。
Figure 0007075349000020
含水溶媒(Z)としては、これらに限定されない。含水溶媒(Z)として、例えば、純水や、プロピレングリコールモノメチルエーテルの水溶液を使用できる。含水溶媒(Z)の使用量は特に限定されないが、樹脂(X)100質量部に対して、3000~70000質量部程度使用してよい。
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されない。
〔実施例1~16、及び比較例1~3〕
各実施例及び比較例において、表1に記載の比率で、以下に説明する構成単位を含有する樹脂を、樹脂(A)として用いた。
構成単位N1~N3は、含窒素複素環基である官能基Iを有する構成単位(a1)である。なお、構成単位N2及びN3は、含窒素複素環基をカチオン性基として含み、構成単位N2はフェノール性水酸基をアニオン性基として含む。
構成単位C1~C3は、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)である。
構成単位D1~D4は、アニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)である。
構成単位E1~E4は、構成単位(a1)、構成単位(a2)、及び構成単位(a3)以外のその他の構成単位(a4)である。
Figure 0007075349000021
Figure 0007075349000022
Figure 0007075349000023
Figure 0007075349000024
(表面処理液の調製)
表1及び表2に記載される種類及びモル比率の構成単位からなる樹脂(A)を、濃度1質量%となるように純水に溶解させて、各実施例及び比較例の表面処理液を得た。
(表面処理効果の評価)
以上の方法により得られた、実施例1~16、及び比較例1~3の表面処理液を用いて、以下の方法にしたがってPETフィルムの表面処理を行った。
具体的には、PETフィルム(T100、三菱ポリエステル社製)を、表面処理液に1分浸漬した後、純水でPETフィルム表面をリンスし、さらに窒素を吹き付けてPETフィルム表面を乾燥させて、表面処理されたPETフィルムを得た。
表面処理後のPETフィルム表面の水の接触角の測定は、Dropmaster700(協和界面科学株式会社製)を用い表面処理されたPETフィルムの表面に純水液滴(2.0μL)を滴下して、滴下10秒後における接触角として測定した。水の接触角の測定結果を表1及び表2に記す。
なお未処理のPETフィルムの水の接触角は72°である。
Figure 0007075349000025
Figure 0007075349000026
実施例によれば、含窒素複素環基である官能基Iと、前記官能基I以外の官能基であって、親水性基及び疎水性基から選択される1種以上の基である官能基IIとを有し、官能基Iを有する構成単位(a1)と、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)、及びアニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)からなる群より選択される1以上の構成単位を含む、樹脂(A)を含む表面処理液であれば、PETフィルムの表面が良好に親水化又は疎水化されることが分かる。
他方、比較例によれば、樹脂(A)が、含窒素複素環基である官能基Iを有さなかったり、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)、及びアニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)を含まなかったりする場合、所望する表面処理効果を得にくいことが分かる。

Claims (15)

  1. 樹脂(A)と、溶媒(C)とを含み、
    前記樹脂(A)が、含窒素複素環基である官能基Iと、前記官能基I以外の官能基であって、親水性基及び疎水性基から選択される1種以上の基である官能基IIとを有し、
    前記樹脂(A)が、前記官能基Iを有する構成単位(a1)と、カチオン性基を側鎖に有する構成単位(a2)、及びアニオン性基を側鎖に有する構成単位(a3)からなる群より選択される1以上の構成単位とを含
    前記含窒素複素環基が、ピロール基、オキサゾール基、イソオキサゾール基、オキサジアゾール基、チアゾール基、イソチアゾール基、チアジアゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、トリアゾール基、ピラジン基、ピリミジン基、ピリダジン基、トリアジン基、テトラジン基、ペンタジン基、インドール基、イソインドール基、インドリジン基、ベンゾイミダゾール基、ベンゾトリアゾール基、ベンゾオキサゾール基、ベンゾチアゾール基、カルバゾール基、プリン基、キノリン基、イソキノリン基、キナゾリン基、フタラジン基、シンノリン基、キノキサリン基、ピロリジン基、ピラゾリジン基、トリアゾリジン基、ピロリン基、ピラゾリン基、イミダゾリン基、トリアゾリン基、ピペリジン基、ピペラジン基、トリアジナン基、テトラジナン基、ペンタジナン基、モルホリン基、チオモルホリン基、ε-カプロラクタム基、δ-バレロラクタム基、γ-ブチロラクタム基、2-イミダゾリジノン基、フタルイミド基、及びs-トリアジン-2,4,6-トリオン基からなる群より選択される少なくとも1つの基であり、
    前記親水性基が、ポリオキシアルキレン基、アミノ基、4級アンモニウム塩基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、及びスルホン酸基よりなる群から選択される少なくとも1つの基を含む有機基であり、
    前記疎水性基が、シリル基及びシロキサン基からなる群より選択される少なくとも1つの基であり、
    前記溶媒(C)が水を含む、被処理体の表面を親水化又は疎水性化するための表面処理液。
  2. 前記被処理体の表面の材質が有機材料である、請求項1に記載の表面処理液。
  3. 前記被処理体の表面の材質が無機材料である、請求項1に記載の表面処理液。
  4. ただし、下記(ア)からなる表面処理液、下記(イ)からなる表面処理液、及び下記(ウ)からなる表面処理液を除く、請求項1~3のいずれか1項に記載の表面処理液。
    (ア)支持体上にハロゲン化銀乳剤を主体とする写真感光層と、その上に物理現像核を含む層とからなる銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版における該物理現像核層を含む層用の塗液であって、下記式Aで表される結合剤を含有する塗液。
    Figure 0007075349000027
    [式中、R 1 、R 2 及びR 3 は水素又は低級アルキル基を、Aは含窒素複素環基を、Bは水酸基又は下記式を、
    Figure 0007075349000028
    (R 4 、R 5 は水素、置換基を有していてもよい低級アルキル基を表す)
    Yは下記式Bで示されるパーフルオロアルキル基を表し、
    Figure 0007075349000029
    (n1は1~10の整数を表す)
    1 及びX 2 は2価の連結基であり、有していなくてもよい。lは1~20モル%、nは0.1~10モル%、mは(100-l-n)モル%を表わす]
    (イ)ビニルイミダゾールとアクリルアミドと2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸との共重合体の水溶液。
    (ウ)着色剤(A)と、主鎖を形成する原子に連結基を介して芳香環を有する疎水性構造単位(a)とイオン性基を有する親水性構造単位(b)と脂肪族アミン又は単環芳香族アミンに由来する構造単位(c)とを含むポリマー(B)と、を含む水系着色剤分散物。
  5. ただし、下記(エ)からなる表面処理液、下記(オ)からなる表面処理液、及び下記(カ)からなる表面処理液を除く、請求項1~4のいずれか1項に記載の表面処理液。
    (エ)織物を処理するのに有用な組成物であって、当該組成物は銀イオンとコポリマーとの複合体を含み;当該コポリマーは(a)少なくとも1つの窒素原子を有する不飽和もしくは芳香族の複素環式基から選択される置換基を有するエチレン性不飽和化合物であるモノマーXの重合単位を60~95重量%;および(b)カルボン酸、有機硫酸、スルホン酸、ホスホン酸、およびエチレンオキシドの重合単位を含むエステルから選択されるエチレン性不飽和化合物であるモノマーYの重合単位を5~40重量%含む、織物を処理するのに有用な組成物。
    (オ)殺有害生物剤と、a) 少なくとも20重量%のビニルイミダゾールおよび/または四級化ビニルイミダゾール、b) 酸性コモノマー、ならびにc) C 1-22 アルキル(メタ)アクリレート、モノC 1-22 アルキル末端ポリ(エチレングリコール)(メタ)アクリレート、脂肪族C 1-32 カルボン酸のビニルエステル、またはビニルC 1-4 アルキルエーテルを含む疎水性コモノマーを重合形態で含むコポリマーとを含んでなる農薬組成物。
    (カ)熱安定性シリコーン材料及び化粧用として許容可能なキャリアを含むヘアケア組成物。
  6. ただし、下記(キ)からなる表面処理液、下記(ク)からなる表面処理液、及び下記(ケ)からなる表面処理液を除く、請求項1~5のいずれか1項に記載の表面処理液。
    (キ)基材を光誘発劣化から保護するための交互積層自己集合によって付着された複数の層の少なくとも一部の層を前記基材上に形成するための、高分子電解質内に分散された有機光吸収性化合物、有機光安定化化合物、又はその組み合わせを含む、組成物。
    (ク)A.(a)紫外線吸収能力を有する共重合性ビニル系単量体成分が1~20重量部と、(b)ラジカル捕捉能力を有する共重合性ビニル系単量体成分が1~20重量部と、(c)含フッ素共重合性ビニル系単量体成分が1~15重量部と、(d)カルボキシル基を有する共重合性ビニル単量体成分が3~15重量部と、(e)水酸基を有する共重合性ビニル系単量体成分が5~30重量部および(f)前記した(a)~(e)以外の共重合性ビニル系単量体を共重合した(メタ)アクリル系重合物成分を0~89重量部から共重合させた(メタ)アクリル系重合物100重量部に対し、B.アミノ樹脂成分が10~100重量部含有されることを特徴とする電着塗料用水溶性樹脂組成物。
    (ケ)アルコキシシリル基を含有するα,β-エチレン性不飽和モノマー(a)0.01~1重量%、ポリオルガノシロキサンを含有するα,β-エチレン性不飽和モノマー(b)0.5~30重量%、ラジカル重合性紫外線吸収剤(c)0.01~5重量%、ラジカル重合性光安定剤(d)0.01~5重量%、カルボキシル基含有α,β-エチレン性不飽和モノマー(e)0.1~30重量%、及び上記(a)~(e)以外のα,β-エチレン性不飽和モノマー(f)29~99.37重量%(但し(a)~(f)の合計は100重量%である。)を、ラジカル重合可能な重合性官能基を有する界面活性剤の存在下、ラジカル重合開始剤を用いて、粒子径100nm以下になるように有機溶媒中で共重合させて得られる樹脂(p)であって、モノマー(a)~(f)からなるとした場合の樹脂(p’)のFOX式により計算で求められるガラス転移点Tg値が20~80℃であり、樹脂(p)を含む反応マスを、中和、水添加により相転換して得られる、水性樹脂分散液。
  7. 前記樹脂(A)が、さらに、前記構成単位(a1)、前記構成単位(a2)、及び前記構成単位(a3)以外のその他の構成単位(a4)を含んでいてもよく、
    前記樹脂(A)中の全構成単位に対する、前記構成単位(a1)の量が、2モル%以上であり、
    前記樹脂(A)中の全構成単位に対する、前記構成単位(a1)の量と、前記構成単位(a2)の量との合計が70~100モル%であるか2~30モル%であり、
    前記樹脂(A)中の全構成単位に対する、前記構成単位(a1)の量と、前記構成単位(a2)の量との合計が70~100モル%である場合に、前記構成単位(a3)の量が0~30モル%であり、
    前記樹脂(A)中の全構成単位に対する、前記構成単位(a1)の量と、前記構成単位(a2)の量との合計が2~30モル%である場合に、前記構成単位(a3)の量が70~98モル%である、請求項1~6のいずれか1項に記載の表面処理液。
  8. 前記親水性基が、下記式(A5):
    -NH-R・・・(A5)
    (式(A5)中、Rは、アミノ基、及び、スルホン酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基、又は水素原子である。)
    で表される基である、請求項1~7のいずれか1項に記載の表面処理液。
  9. 前記官能基IIが疎水性基を含み、
    前記疎水性基が、下式(A7):
    -SiR-(-O-SiR-)-R・・・(A7)
    で表される基であり、R、R、及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1~6の炭化水素基であり、nは0以上の整数である。)
    で表される単量体に由来する、請求項1~7のいずれか1項に記載の表面処理液。
  10. 前記官能基IIが、親水性基を含み、
    前記親水性基が下式(A8):
    CH=CR-CO-NH-R・・・(A8)
    (式(A8)中、Rは、アミノ基、及び、スルホン酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基、又は水素原子であり、Rは水素原子又はメチル基である。)
    で表される単量体に由来する、請求項1~のいずれか1項に記載の表面処理液。
  11. 前記構成単位(a2)が、下記式(A2):
    CH=CR-(CO)-R10・・・(A2)
    (式(A2)中、Rは水素原子又はメチル基であり、R10は-Y-R11-R12で表される基、又はアミノ基であり、Yは、-O-、又は-NH-であり、R11は置換基を有してもよい2価の有機基であり、R12は炭素原子数1~6の炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基、又は-N131415・Zで表される4級アンモニウム塩基であり、R13、R14、及びR15は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数1~6の炭化水素基であり、Zは対アニオンであり、aは0又は1である。)
    で表される化合物に由来する構成単位である、請求項1~10のいずれか1項に記載の表面処理液。
  12. 前記構成単位(a3)が、下記式(A3):
    CH=CR-(CO)-R17・・・(A3)
    (式(A3)中、Rは水素原子又はメチル基であり、R17、-A-R18-R19で表される基であり、Aは-O-、又は-NH-であり、R18は置換基を有してもよい2価の有機基であり、R19はブレンステッド酸性基(ただし、カルボキシ基及びフェノール性水酸基を除く。)であり、bは0又は1であり、ただし、bが0である場合、R17は水酸基でない。)
    で表される化合物に由来する構成単位である、請求項1~11のいずれか1項に記載の表面処理液。
  13. さらに、pKaが1以下である強酸(B)を含む、請求項1~12のいずれか1項に記載の表面処理液。
  14. 請求項1~13のいずれか1項に記載の表面処理液を、被処理体の表面に接触させることを含む、表面処理方法。
  15. 請求項1に記載される前記表面処理液を、被処理体の表面に接触させることと、
    前記表面処理液で濡れた前記被処理体の表面を、さらに、前記表面処理液以外の第2の水性の処理液で処理することを含む、表面処理方法。
JP2018556642A 2016-12-14 2017-12-08 表面処理液、及び表面処理方法 Active JP7075349B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016242723 2016-12-14
JP2016242723 2016-12-14
PCT/JP2017/044238 WO2018110461A1 (ja) 2016-12-14 2017-12-08 表面処理液、及び表面処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2018110461A1 JPWO2018110461A1 (ja) 2019-11-14
JP7075349B2 true JP7075349B2 (ja) 2022-05-25

Family

ID=62558648

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018556642A Active JP7075349B2 (ja) 2016-12-14 2017-12-08 表面処理液、及び表面処理方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20190329292A1 (ja)
EP (1) EP3553147B1 (ja)
JP (1) JP7075349B2 (ja)
TW (1) TWI773709B (ja)
WO (1) WO2018110461A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11041086B2 (en) * 2018-07-10 2021-06-22 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Hydrophilic treatment method and surface treatment liquid
WO2021131479A1 (ja) * 2019-12-24 2021-07-01 東京応化工業株式会社 表面処理液、及び親水化処理方法
WO2022044679A1 (ja) * 2020-08-27 2022-03-03 東京応化工業株式会社 表面処理液、及び親水化処理方法
JP7474340B2 (ja) 2020-08-27 2024-04-24 東京応化工業株式会社 表面処理液、及び表面処理方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001123107A (ja) 1999-10-25 2001-05-08 Honny Chem Ind Co Ltd 電着塗料用水溶性樹脂組成物およびこれを用いて構成した電着塗料ならびにこれにより形成された電着塗膜
JP2002080831A (ja) 2000-09-08 2002-03-22 Lion Corp 親水滑水性表面処理剤
JP2002146155A (ja) 2000-11-16 2002-05-22 Daicel Chem Ind Ltd 水性樹脂分散液及びそれを含む水性塗料
JP2003012726A (ja) 2001-06-27 2003-01-15 Ishihara Chem Co Ltd 紫外線吸収性樹脂及びそれを用いた被膜形成用樹脂組成物及び被膜剥離方法。
JP2004115718A (ja) 2002-09-27 2004-04-15 Nippon Shokubai Co Ltd 近赤外線吸収性樹脂組成物
JP2010209507A (ja) 2009-03-11 2010-09-24 Rohm & Haas Co 低いpHで織物を処理するための方法
JP2011042735A (ja) 2009-08-20 2011-03-03 Fujifilm Corp 水系着色剤分散物及びその製造方法、インク組成物、インクセット、画像形成方法、並びに分散剤
CN101987878A (zh) 2009-08-03 2011-03-23 财团法人工业技术研究院 两性离子高分子薄膜及燃料电池
JP2011511842A (ja) 2008-02-11 2011-04-14 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 熱による毛髪の処理時における毛髪の損傷を低減する方法
WO2012014761A1 (ja) 2010-07-24 2012-02-02 株式会社日本触媒 親水化処理剤
JP2014511852A (ja) 2011-04-08 2014-05-19 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 殺有害生物剤およびビニルイミダゾールターポリマーを含む組成物
JP2016522106A (ja) 2013-05-31 2016-07-28 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光吸収性化合物又は光安定化化合物を含む高分子電解質を交互積層自己集合させる方法及び物品

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5437523B2 (ja) 1973-01-16 1979-11-15
JP2907572B2 (ja) * 1991-03-26 1999-06-21 三菱製紙株式会社 平版印刷版
CA2502421A1 (en) * 2002-10-15 2004-04-29 Asahi Glass Company, Limited Water-and-oil repellant composition
EP2167550B1 (en) * 2007-06-06 2012-05-23 3M Innovative Properties Company Fluorinated compositions and surface treatments made therefrom
US20100273016A1 (en) * 2007-10-12 2010-10-28 Kao Corporation Surface treatment agent for paper
EP2501850B1 (en) * 2009-11-20 2015-03-04 Daikin Industries, Ltd. Fluoropolymers and treatment agent
JP5789090B2 (ja) * 2010-07-30 2015-10-07 日華化学株式会社 撥水撥油剤組成物、機能性繊維製品及び機能性繊維製品の製造方法
CN103492522A (zh) * 2011-04-27 2014-01-01 旭硝子株式会社 拒水拒油剂组合物、其制造方法及物品
JP6100893B2 (ja) * 2013-05-27 2017-03-22 Jsr株式会社 無機材料で構成される表面用の表面処理剤、表面が改質された器具および装置、該器具および装置の製造方法
JP6260579B2 (ja) * 2015-05-01 2018-01-17 信越化学工業株式会社 フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001123107A (ja) 1999-10-25 2001-05-08 Honny Chem Ind Co Ltd 電着塗料用水溶性樹脂組成物およびこれを用いて構成した電着塗料ならびにこれにより形成された電着塗膜
JP2002080831A (ja) 2000-09-08 2002-03-22 Lion Corp 親水滑水性表面処理剤
JP2002146155A (ja) 2000-11-16 2002-05-22 Daicel Chem Ind Ltd 水性樹脂分散液及びそれを含む水性塗料
JP2003012726A (ja) 2001-06-27 2003-01-15 Ishihara Chem Co Ltd 紫外線吸収性樹脂及びそれを用いた被膜形成用樹脂組成物及び被膜剥離方法。
JP2004115718A (ja) 2002-09-27 2004-04-15 Nippon Shokubai Co Ltd 近赤外線吸収性樹脂組成物
JP2011511842A (ja) 2008-02-11 2011-04-14 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 熱による毛髪の処理時における毛髪の損傷を低減する方法
JP2010209507A (ja) 2009-03-11 2010-09-24 Rohm & Haas Co 低いpHで織物を処理するための方法
CN101987878A (zh) 2009-08-03 2011-03-23 财团法人工业技术研究院 两性离子高分子薄膜及燃料电池
JP2011042735A (ja) 2009-08-20 2011-03-03 Fujifilm Corp 水系着色剤分散物及びその製造方法、インク組成物、インクセット、画像形成方法、並びに分散剤
WO2012014761A1 (ja) 2010-07-24 2012-02-02 株式会社日本触媒 親水化処理剤
JP2014511852A (ja) 2011-04-08 2014-05-19 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 殺有害生物剤およびビニルイミダゾールターポリマーを含む組成物
JP2016522106A (ja) 2013-05-31 2016-07-28 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光吸収性化合物又は光安定化化合物を含む高分子電解質を交互積層自己集合させる方法及び物品

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
SUN Jian et al,Improved chlorine resistance of polyamide thin-film composite membranes with a terpolymer coating,Separation and Purification Technology,2016年,157,112-119,ISSN:1383-5866

Also Published As

Publication number Publication date
EP3553147A4 (en) 2019-12-25
TW201835206A (zh) 2018-10-01
EP3553147B1 (en) 2022-05-11
EP3553147A1 (en) 2019-10-16
JPWO2018110461A1 (ja) 2019-11-14
WO2018110461A1 (ja) 2018-06-21
US20190329292A1 (en) 2019-10-31
TWI773709B (zh) 2022-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7075349B2 (ja) 表面処理液、及び表面処理方法
TW201115278A (en) Coating compositions for use with an overcoated photoresist
JPWO2002086624A1 (ja) リソグラフィー用反射防止膜形成組成物
JP7087265B2 (ja) 導電性組成物、導電体及びレジストパターンの形成方法
WO2006049046A1 (ja) シクロデキストリン化合物を含有するリソグラフィー用下層膜形成組成物
TWI310484B (en) Composition containing acrylic polymer for forming gap-filling material for lithography
CN114829537B (zh) 表面处理液及亲水化处理方法
TW200526692A (en) Method of forming laminated resist
EP3147334B1 (en) Surface treatment liquid
JP6761713B2 (ja) 表面処理液
KR102391565B1 (ko) 표면 처리 방법, 및 표면 처리액
JP6954738B2 (ja) 親水化処理方法、及び表面処理液のセット
JP7043222B2 (ja) 表面処理液、及び表面処理方法
CN108017970A (zh) 含有氟化热酸产生剂的面漆组合物
TWI362566B (en) Composition for antireflection coating and pattern forming method
JP4051538B2 (ja) リソグラフィー用反射防止膜形成組成物
US8748081B2 (en) Organic anti reflective layer composition
TW201825582A (zh) 形成下層抗反射膜之組成物
JP7233358B2 (ja) 表面処理液、及び表面処理方法
JP6853030B2 (ja) 表面処理液、及び親水化処理方法
JP6936449B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物
TW200903172A (en) Resin for formation of upper antireflective film, composition for formation of upper antireflective film, and resist pattern formation method
US20220269173A1 (en) Surface treatment liquid and hydrophilizing treatment method
US20230272143A1 (en) Surface treatment liquid and hydrophilizing treatment method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200910

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211012

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211210

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220419

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220513

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7075349

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150