JP7068069B2 - 電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
ΔΩ=πα2=π(B/A)2 ・・・(式1)
無磁場試料面121上での半径rの集束プローブは、検出部を構成するファラデーカップ129の位置で拡大倍率MでM倍に拡大されている。同じく検出部を構成する電流計127で測定される電流はファラデーカップ129の穴に入った分である。これはファラデーカップ129の穴径を2Cとすると、無磁場試料位置では半径(C/M)の円形領域に含まれるプローブ電流iであるから輝度Bは式2で求められる。
B = i/ΔS/ΔΩ= i/π(C/M)2/π(B/A)2 ・・・(式2)
ただし実際は無磁場試料面121上での集束プローブの強度分布は一様でないので、ファーカップ129の穴径や拡大倍率によって輝度Bの値が変化する。よってこれは輝度Bの概算値とみなすべきである。しかし本実施例の構成では輝度Bの絶対値は不要であり、この概算値を使って問題はない。
407)引き出し電圧V1の絶対値をVstepだけ増加させる。そして405)のプロセスを繰り返す。
408) ビーム電流が402)で設定したImaxを超えたとき、そのときまで保存していた(In,Bn)のデータを使って図5に示すようなビーム電流-輝度グラフをモニター201に表示する。
(X×(Bn/B0)2+(1-X)×(In/I0)2) ・・・(式3)
算出された値が操作者の求める電子顕微鏡の最適使用条件となる。そして、電子顕微鏡の照射条件を、(Bm,Im)で保存された照射条件に設定する。
なお輝度とビーム電流の最適評価の重み付けは、評価式(式3)を重み係数により変更することにより、操作者自身が設定することができる。
B = I/ΔΩ/ΔS= I/πR2/πβ2 ・・・(式4)
これは幾何学的関係R=Lαとr=Lβからクロスオーバー位置での輝度と等しい。
I/πr2 /πα2・・・(式5)
実施例1と同様に、引き出し電圧V1、電子銃磁界レンズ2の励磁ILN/√V1、静電レンズ8の強さV2/V1をV1に連動させて、クロスオーバー位置Lを不変にすることができる。コンデンサー絞り104の穴径を固定して集束角αを決めれば、電流Iと試料照射角βを測ると式4により輝度がわかる。無磁場試料ホールダ125の先端部には小型のファラデーカップ126が組みこまれており、電流計127をつなげてこのファラデーカップに流れ込む電流Iを測定することができる。
501) モニター201画面上で分解能ビーム電流最適化を選択しプロセスをスタートさせる。
507)引き出し電圧V1の絶対値をVstepだけ増加させる。そして505)のプロセスを繰り返す。
508) ビーム電流が502)で設定したImaxを超えたとき、そのときまでにメモリに保存した(In,Rn)のデータを使ってビーム電流-分解能グラフを表示する。
(X×(R0/Rn)2 +(1-X)×(In/I0)2) (式6)
この条件が操作者の求める走査電子顕微鏡の分解能ビーム電流最適使用条件となる。走査電子顕微鏡の照射条件を(Rm,Im)を得た照射条件に設定する。
509) 分解能ビーム電流最適化プロセスを終了する。
Claims (12)
- 電子顕微鏡であって、
電子光学系と、
前記電子光学系のビーム電流と輝度を制御する制御部と、
前記ビーム電流を検出する検出部と、を備え、
前記制御部は、前記電子顕微鏡の輝度に関係する前記電子光学系のパラメータを変化させ
、前記検出部で検出した前記ビーム電流に基づき輝度を算出し、検出した前記ビーム電流
と算出した前記輝度に基づき輝度ビーム電流最適照射光学条件を決定し、前記電子顕微鏡
の照射光学条件に設定し、
前記電子顕微鏡は透過型電子顕微鏡であり、
前記電子光学系のパラメータは、前記電子光学系の引き出し電圧、電子銃磁界レンズの電
流、静電レンズの強さ、コンデンサー絞りの穴径、コンデンサーレンズの励磁電流の一つ
を含む、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項1記載の電子顕微鏡であって、
前記制御部は、前記パラメータを順次変化させ、前記検出部が前記ビーム電流とプローブ
電流を測定するよう制御し、測定した前記プローブ電流から前記輝度を算出し、検出した
前記ビーム電流と算出した前記輝度を保存し、
保存した前記ビーム電流と前記輝度に基づき、前記輝度ビーム電流最適照射光学条件を決
定する、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項2記載の電子顕微鏡であって、
前記制御部は、検出した前記ビーム電流と算出した前記輝度に基づき前記輝度ビーム電流
最適照射光学条件を決定する際に、予め設定した輝度優先度を用いる、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項3記載の電子顕微鏡であって、
前記制御部は、前記輝度ビーム電流最適照射光学条件を決定する際に、
(X×(Bn/B0)2+(1-X)×(In/I0)2)
を最大にする(Im、Bm)を選定する、
ここで、Bnは前記輝度、Inは前記ビーム電流、xは前記輝度優先度を示す、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項3記載の電子顕微鏡であって、
前記制御部に接続される表示部を有し、
前記制御部は、前記表示部に前記輝度優先度を入力可能な画面を表示する、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項5記載の電子顕微鏡であって、
前記制御部は、保存された前記ビーム電流と前記輝度を前記表示部に表示する、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項5記載の電子顕微鏡であって、
前記制御部は、前記表示部に輝度測定初期条件を入力可能な画面を表示する、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 電子顕微鏡であって、
電子光学系と、
前記電子光学系のビーム電流と輝度を制御する制御部と、
前記ビーム電流を検出する検出部と、
透過像を検出する撮像部を備え、
前記制御部は、前記電子顕微鏡の輝度に関係する前記電子光学系のパラメータを変化させ
、前記検出部で検出した前記ビーム電流に基づき輝度を算出し、検出した前記ビーム電流
と算出した前記輝度に基づき輝度ビーム電流最適照射光学条件を決定し、前記電子顕微鏡
の照射光学条件に設定し、
前記制御部は、前記撮像部で撮像されるフレネル縞の可干渉距離を用いて、前記輝度を算
出する、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 電子顕微鏡であって、
電子光学系と、
前記電子光学系のビーム電流と輝度を制御する制御部と、
前記ビーム電流を検出する検出部と、を備え、
前記制御部は、前記電子顕微鏡の輝度に関係する前記電子光学系のパラメータを変化させ
、前記検出部で検出した前記ビーム電流に基づき輝度を算出し、検出した前記ビーム電流
と算出した前記輝度に基づき輝度ビーム電流最適照射光学条件を決定し、前記電子顕微鏡
の照射光学条件に設定し、
前記電子光学系の電子源は、電界放出電子源、あるいはショットキー放出電子源である、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項9記載の電子顕微鏡であって、
前記制御部は、前記ビーム電流及び前記輝度に基づき、前記電子光学系の電子源のチップ
先端曲率半径rを決定する、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項10記載の電子顕微鏡であって、
前記電子光学系の電子源が前記電界放出電子源の場合、前記電界放出電子源のチップ先端
曲率半径rを、200nm~300 nmとする、
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 走査電子顕微鏡であって、
電子光学系と、
前記電子光学系のビーム電流と分解能を制御する制御部と、
前記ビーム電流を検出するビーム電流検出部と、
2次電子を検出する2次電子検出部と、を備え、
前記制御部は、前記電子光学系のパラメータを変化させ、前記2次電子検出部で検出した
前記2次電子に基づき前記分解能を算出し、検出した前記ビーム電流と算出した前記分解
能に基づき分解能ビーム電流最適使用条件を決定し、前記走査電子顕微鏡の照射光学条件
に設定し、
前記電子光学系のパラメータは、前記電子光学系の引き出し電圧であり、
前記制御部は、前記引き出し電圧を順次変化させ、前記ビーム電流と前記2次電子を測定
するよう制御し、測定した前記2次電子から前記分解能を算出し、検出した前記ビーム電
流と算出した前記分解能を保存し、
保存した前記ビーム電流と前記分解能に基づき、前記分解能ビーム電流最適使用条件を決
定し、
前記制御部は、検出した前記ビーム電流と算出した前記分解能に基づき前記分解能ビーム
電流最適使用条件を決定する際に、予め設定した分解能優先度を用いる、
ことを特徴とする走査電子顕微鏡。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005166614A (ja) | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
JP2005197165A (ja) | 2004-01-09 | 2005-07-21 | Institute Of Physical & Chemical Research | 干渉装置 |
JP2006228748A (ja) | 2006-04-03 | 2006-08-31 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
JP2009117394A (ja) | 2005-09-05 | 2009-05-28 | Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh | 荷電粒子ビーム照射デバイス及び荷電粒子ビーム照射デバイスを動作させるための方法 |
JP2009541966A (ja) | 2006-06-30 | 2009-11-26 | 株式会社島津製作所 | 電子ビーム制御方法、電子ビーム発生装置、それを用いたデバイス、および、エミッタ |
US20140097352A1 (en) | 2012-10-04 | 2014-04-10 | Mamoru Nakasuji | Charged practicles beam apparatus and charged particles beam apparatus design method |
JP2015167125A (ja) | 2014-02-14 | 2015-09-24 | 日本電子株式会社 | 電子銃、三次元積層造形装置及び電子銃制御方法 |
WO2016110996A1 (ja) | 2015-01-09 | 2016-07-14 | 技術研究組合次世代3D積層造形技術総合開発機構 | 電子銃、電子銃の制御方法および制御プログラム並びに3次元造形装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5691363A (en) * | 1979-12-26 | 1981-07-24 | Toshiba Corp | Use of electron gun and electron beam device |
US4424448A (en) * | 1979-12-26 | 1984-01-03 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Electron beam apparatus |
-
2018
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005166614A (ja) | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子顕微鏡 |
JP2005197165A (ja) | 2004-01-09 | 2005-07-21 | Institute Of Physical & Chemical Research | 干渉装置 |
JP2009117394A (ja) | 2005-09-05 | 2009-05-28 | Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh | 荷電粒子ビーム照射デバイス及び荷電粒子ビーム照射デバイスを動作させるための方法 |
JP2006228748A (ja) | 2006-04-03 | 2006-08-31 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
JP2009541966A (ja) | 2006-06-30 | 2009-11-26 | 株式会社島津製作所 | 電子ビーム制御方法、電子ビーム発生装置、それを用いたデバイス、および、エミッタ |
US20100127170A1 (en) | 2006-06-30 | 2010-05-27 | Shimadzu Corporation | Electron beam control method, electron beam generating apparatus, apparatus using the same, and emitter |
US20140097352A1 (en) | 2012-10-04 | 2014-04-10 | Mamoru Nakasuji | Charged practicles beam apparatus and charged particles beam apparatus design method |
JP2015167125A (ja) | 2014-02-14 | 2015-09-24 | 日本電子株式会社 | 電子銃、三次元積層造形装置及び電子銃制御方法 |
US20150270088A1 (en) | 2014-02-14 | 2015-09-24 | Jeol Ltd. | Electron Gun, Method of Controlling Same, and Electron Beam Additive Manufacturing Machine |
WO2016110996A1 (ja) | 2015-01-09 | 2016-07-14 | 技術研究組合次世代3D積層造形技術総合開発機構 | 電子銃、電子銃の制御方法および制御プログラム並びに3次元造形装置 |
US20170154750A1 (en) | 2015-01-09 | 2017-06-01 | Technology Research Association For Future Additive Manufacturing | Electron gun, control method and control program thereof, and three-dimensional shaping apparatus |
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