JP7051321B2 - Photosensitive composition, pattern forming method, cured product, and display device - Google Patents

Photosensitive composition, pattern forming method, cured product, and display device Download PDF

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Description

本発明は、感光性組成物、当該感光性組成物を用いるパターン形成方法、当該感光性組成物を用いて形成される硬化物、並びに当該硬化物を備える表示装置に関する。 The present invention relates to a photosensitive composition, a pattern forming method using the photosensitive composition, a cured product formed by using the photosensitive composition, and a display device including the cured product.

液晶表示装置のような表示装置用のパネルでは、絶縁膜や、スペーサーのような材料が、バックライトのような光源から発せられる光を効率よく透過させる必要がある。このため、絶縁膜やスペーサーのパターンを形成するために、露光により透明な硬化膜を与える感光性組成物が用いられる。このような、感光性組成物を選択的に露光することにより、透明な硬化膜のパターンを形成できる。 In a panel for a display device such as a liquid crystal display device, an insulating film or a material such as a spacer needs to efficiently transmit light emitted from a light source such as a backlight. Therefore, in order to form an insulating film or a spacer pattern, a photosensitive composition that gives a transparent cured film by exposure is used. By selectively exposing such a photosensitive composition, a transparent cured film pattern can be formed.

また、表示装置用のパネルにおいて、ブラックマトリックスやブラックカラムスペーサー等のパターン化された遮光性の膜が形成されることも多い。このような用途において遮光性の膜を形成するために用いられる、遮光剤と、光重合開始剤とを含む感光性組成物も種々提案されている。
遮光性の膜を形成するために用いる感光性組成物では、遮光剤が含まれているため、光重合開始剤がより高感度であることが求められる。 Further, in a panel for a display device, a patterned light-shielding film such as a black matrix or a black column spacer is often formed. Various photosensitive compositions containing a light-shielding agent and a photopolymerization initiator, which are used to form a light-shielding film in such applications, have also been proposed.
Since the photosensitive composition used for forming the light-shielding film contains a light-shielding agent, the photopolymerization initiator is required to have higher sensitivity.

例えば、感度に優れる光重合開始剤を含む感光性組成物としては、９位が置換されたフルオレン環を主骨格として含むオキシムエステル化合物を光重合開始剤として含む感光性組成物が提案されている（特許文献１を参照。）。 For example, as a photosensitive composition containing a photopolymerization initiator having excellent sensitivity, a photosensitive composition containing an oxime ester compound containing a fluorene ring substituted at the 9-position as a main skeleton as a photopolymerization initiator has been proposed. (See Patent Document 1.).

特開２０１６－２１８３５３号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-218353

ところで、画像表示装置用のパネル等を製造する際、感光性組成物を用いて形成されるパターン化された硬化膜に隣接する層にＴＦＴ等の素子が配置される場合がある。この場合、ハーフトーンマスクを介して露光を行い、素子の高さを考慮したうえで高さの異なるパターンを形成することも多い。
しかし、特許文献１に記載の感光性組成物は、感度に優れる一方で、ハーフトーンマスクを介して露光を行う場合に、形成されるパターンにおいて、フルトーン露光部とハーフトーン露光部とに十分に高さの差をつけつつ、ハーフトーン露光部の十分な高さを確保することが、必ずしも容易でない問題がある。 By the way, when manufacturing a panel or the like for an image display device, an element such as a TFT may be arranged on a layer adjacent to a patterned cured film formed by using a photosensitive composition. In this case, exposure is often performed via a halftone mask to form patterns having different heights in consideration of the height of the element.
However, while the photosensitive composition described in Patent Document 1 is excellent in sensitivity, it is sufficient for the full-tone exposed portion and the halftone exposed portion in the pattern formed when the exposure is performed through the halftone mask. There is a problem that it is not always easy to secure a sufficient height of the halftone exposed portion while making a difference in height.

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、透光性と露光に対する感度とが良好であり、露光により十分に硬化した硬化物を形成でき、ハーフトーンマスクを介して露光を行う場合に、形成されるパターンにおいて、フルトーン露光部とハーフトーン露光部とに十分に高さの差をつけつつ、ハーフトーン露光部の十分な高さを確保することができる感光性組成物と、当該感光性組成物を用いるパターン形成方法と、当該感光性組成物の硬化物と、前述の感光性組成物からなる感光性接着剤と、前述の感光性組成物を用いる被接着物の接着方法と、を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, has good translucency and sensitivity to exposure, can form a cured product sufficiently cured by exposure, and is exposed via a halftone mask. In some cases, a photosensitive composition capable of ensuring a sufficient height of the halftone exposed portion while sufficiently providing a height difference between the full tone exposed portion and the halftone exposed portion in the formed pattern. A pattern forming method using the photosensitive composition, a cured product of the photosensitive composition, a photosensitive adhesive composed of the above-mentioned photosensitive composition, and a method of adhering an adhered object using the above-mentioned photosensitive composition. And, the purpose is to provide.

本発明者らは、光重合開始剤（Ａ）を含む感光性組成物において、光重合開始剤（Ａ）として吸光スペクトルにおいて、３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長域においてピークを有し、且つ当該ピークの極大波長がそれぞれ異なるオキシムエステル化合物を２種以上組み合わせて用い、光重合開始剤（Ａ）に、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を含有させないことにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have a peak in the wavelength range of 320 nm or more and less than 400 nm in the absorption spectrum as the photopolymerization initiator (A) in the photosensitive composition containing the photopolymerization initiator (A), and the peaks thereof. By using a combination of two or more oxime ester compounds having different maximum wavelengths, and not including the photopolymerization initiator (A) containing a compound having a gram absorption coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more. , The present invention has been completed by finding that the above problems can be solved.

本発明の第１の態様は、光重合開始剤（Ａ）を含む感光性組成物であって、
光重合開始剤（Ａ）が、吸光スペクトルにおいて、３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長域においてピークを有するオキシムエステル化合物を２種以上含み、
光重合開始剤（Ａ）が、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を含まず、
２種以上のオキシムエステル化合物についてのピークの極大波長が、それぞれ異なる、感光性組成物である。 The first aspect of the present invention is a photosensitive composition containing a photopolymerization initiator (A).
The photopolymerization initiator (A) contains two or more oxime ester compounds having a peak in the wavelength range of 320 nm or more and less than 400 nm in the absorption spectrum.
The photopolymerization initiator (A) does not contain a compound exhibiting a gram extinction coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more.
This is a photosensitive composition in which the maximum wavelengths of the peaks of two or more kinds of oxime ester compounds are different from each other.

本発明の第２の態様は、
第１の態様にかかる感光性組成物を用いて塗膜を形成することと、
塗膜に対して、露光することと、
を含む硬化物形成方法である。 The second aspect of the present invention is
Forming a coating film using the photosensitive composition according to the first aspect,
To expose the paint film
It is a cured product forming method including.

本発明の第３の態様は、第１の態様にかかる感光性組成物の硬化物である。 A third aspect of the present invention is a cured product of the photosensitive composition according to the first aspect.

本発明の第４の態様は、第１の態様にかかる感光性組成物からなる感光性接着剤である。 A fourth aspect of the present invention is a photosensitive adhesive comprising the photosensitive composition according to the first aspect.

本発明の第５の態様は、
被接着面を接着する方法であって、
対向する被接着面の一方、又は双方に、第４の態様にかかる感光性接着剤からなる接着剤層を形成することと、
接着剤層を露光により硬化させることと、を含む方法。 A fifth aspect of the present invention is
It is a method of adhering the surface to be adhered.
To form an adhesive layer made of the photosensitive adhesive according to the fourth aspect on one or both of the opposing surfaces to be adhered.
A method comprising curing the adhesive layer by exposure.

本発明によれば、透光性と露光に対する感度とが良好であり、露光により十分に硬化した硬化物を形成でき、ハーフトーンマスクを介して露光を行う場合に、形成されるパターンにおいて、フルトーン露光部とハーフトーン露光部とに十分に高さの差をつけつつ、ハーフトーン露光部の十分な高さを確保することができる感光性組成物と、当該感光性組成物を用いるパターン形成方法と、当該感光性組成物の硬化物と、前述の感光性組成物からなる感光性接着剤と、前述の感光性組成物を用いる被接着物の接着方法と、を提供することができる。 According to the present invention, the translucency and the sensitivity to exposure are good, a cured product sufficiently cured by exposure can be formed, and a full tone is formed in a pattern formed when exposure is performed through a halftone mask. A photosensitive composition capable of ensuring a sufficient height of the halftone exposed portion while sufficiently providing a difference in height between the exposed portion and the halftone exposed portion, and a pattern forming method using the photosensitive composition. And, it is possible to provide a cured product of the photosensitive composition, a photosensitive adhesive composed of the above-mentioned photosensitive composition, and a method of adhering an adhered object using the above-mentioned photosensitive composition.

≪感光性組成物≫
本発明に係る感光性組成物は、光重合開始剤（Ａ）を含む。
光重合開始剤（Ａ）は、吸光スペクトルにおいて、３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長域においてピークを有するオキシムエステル化合物を２種以上含む。
ただし、２種以上のオキシムエステル化合物について、ピークの極大波長がそれぞれ異なる。
このため、上記の感光性組成物に対して露光を行う場合、露光光を十分に利用しやすく、感光性組成物が感度に優れる。 << Photosensitive composition >>
The photosensitive composition according to the present invention contains a photopolymerization initiator (A).
The photopolymerization initiator (A) contains two or more kinds of oxime ester compounds having a peak in the wavelength range of 320 nm or more and less than 400 nm in the absorption spectrum.
However, the maximum wavelength of the peak is different for two or more kinds of oxime ester compounds.
Therefore, when the above-mentioned photosensitive composition is exposed, the exposure light can be sufficiently used, and the photosensitive composition has excellent sensitivity.

２種以上のオキシムエステル化合物についての上記のピークの極大波長のうち、最も長波長側の極大波長をλｍａｘ－ｒとし、最も短波長側の極大波長をλｍａｘ－ｂとする場合に、λｍａｘ－ｒとλｍａｘ－ｂとの差が２０ｎｍ以上であるのが好ましい。上限は例えば７０ｎｍ以下であり、５０ｎｍ以下が好ましい。
また、λｍａｘ－ｒは３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲にあることが好ましく、λｍａｘ－ｂは３２０ｎｍ以上３６０ｎｍ以下の範囲にあることが好ましい。
この場合、感光性組成物の露光に用いられる露光光の波長域が広い場合でも、露光光のエネルギーを効率よく硬化に利用しやすく、光源の種類によらず、良好な感度を実現しやすい。 Of the maximum wavelengths of the above peaks for two or more kinds of oxime ester compounds, λ max-r is the maximum wavelength on the longest wavelength side, and λ max-b is the maximum wavelength on the shortest wavelength side. The difference between max-r and λ max-b is preferably 20 nm or more. The upper limit is, for example, 70 nm or less, preferably 50 nm or less.
Further, λ max-r is preferably in the range of 350 nm or more and 400 nm or less, and λ max-b is preferably in the range of 320 nm or more and 360 nm or less.
In this case, even when the wavelength range of the exposure light used for exposing the photosensitive composition is wide, the energy of the exposure light can be efficiently used for curing, and good sensitivity can be easily realized regardless of the type of the light source.

また、光重合開始剤（Ａ）は、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を含まない。光重合開始剤は、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において５以上のグラム吸光係数を示す化合物を含まないのが好ましく、１以上のグラム吸光係数を示す化合物を含まないのがより好ましい。
光重合開始剤（Ａ）が、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を含む場合、感光性組成物の透光性が低い傾向がある。
このため、感光性組成物としての感度が低下したり、ハーフトーン露光によって所望する高さを有するパターンを形成しにくかったりする場合がある。
しかし、上記の感光性組成物は、光重合開始剤（Ａ）として、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を含まないため透光性に優れる。その結果、露光光を十分に利用しやすく、ハーフトーン露光によって所望する高さを有するパターンを形成しやすい。 Further, the photopolymerization initiator (A) does not contain a compound exhibiting a gram absorption coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more. The photopolymerization initiator preferably does not contain a compound having a gram extinction coefficient of 5 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more, and more preferably does not contain a compound having a gram extinction coefficient of 1 or more.
When the photopolymerization initiator (A) contains a compound exhibiting a gram extinction coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more, the light transmittance of the photosensitive composition tends to be low.
Therefore, the sensitivity of the photosensitive composition may be lowered, or it may be difficult to form a pattern having a desired height by halftone exposure.
However, the above-mentioned photosensitive composition is excellent in translucency because it does not contain a compound exhibiting a gram extinction coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more as the photopolymerization initiator (A). As a result, it is easy to fully utilize the exposure light, and it is easy to form a pattern having a desired height by halftone exposure.

また、感光性組成物を感光性接着剤として使用する場合、感光性接着剤が厚めに塗布される場合が多い。しかし、光重合開始剤（Ａ）を含む感光性組成物からなる感光性接着剤は、上記の通り、透光性に優れるため、厚めに塗布されても感光性接着剤が良好に硬化する。 Further, when the photosensitive composition is used as a photosensitive adhesive, the photosensitive adhesive is often applied thickly. However, as described above, the photosensitive adhesive composed of the photosensitive composition containing the photopolymerization initiator (A) has excellent translucency, so that the photosensitive adhesive cures well even if it is applied thickly.

また、上記の感光性組成物を用いて、ハーフトーン露光によってパターンを形成する場合、形成されるパターンにおいて、フルトーン露光部とハーフトーン露光部とに十分に高さの差をつけやすい。 Further, when a pattern is formed by halftone exposure using the above-mentioned photosensitive composition, it is easy to sufficiently make a difference in height between the fulltone exposed portion and the halftone exposed portion in the formed pattern.

上記の通り、光重合開始剤（Ａ）は、２種以上の光重合開始剤を組み合わせて含む。ただし、前述の通り、光重合開始剤（Ａ）は、２種以上のオキシムエステル化合物を必須に含む。光重合開始剤（Ａ）に含まれる各光重合開始剤の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。
光重合開始剤（Ａ）の質量に対する各光重合開始剤の含有量の比率は、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、１０質量％以上がさらに好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。
また、光重合開始剤（Ａ）の質量に対する各光重合開始剤の含有量の比率は、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下がさらに好ましく、８０質量％以下が特に好ましい。
また、光重合開始剤（Ａ）の質量に対する、λｍａｘ－ｒを有するオキシムエステル化合物の含有量の比率は、１質量％以上９９質量％以下が好ましく、５質量％以上９５質量％以下がより好ましく、１０質量％以上９０質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以上８０質量％以下が特に好ましい。
光重合開始剤（Ａ）の質量に対する、λｍａｘ－ｂを有するオキシムエステル化合物の含有量の比率は、１質量％以上９９質量％以下が好ましく、５質量％以上９５質量％以下がより好ましく、１０質量％以上９０質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以上８５質量％以下が特に好ましい。
光重合開始剤（Ａ）の質量に対する、λｍａｘ－ｒ及びλｍａｘ－ｂに該当しない極大波長を３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の範囲に有する他のオキシムエステル開始剤の含有量の比率は、０質量％以上９８質量％以下が好ましく、０質量％以上９０質量％以下がより好ましく、０質量％以上８０質量％以下がさらに好ましく、０質量％以上６５質量％以下が特に好ましい。
光重合開始剤（Ａ）が、第１のオキシムエステル化合物と、第２のオキシムエステル化合物とからなる場合、第１のオキシムエステル化合物の質量Ｍ１と、第２のオキシムエステル化合物の質量Ｍ２との比率Ｍ１／Ｍ２は、１／９以上９／１以下が好ましく、２／８以上８／２以下がより好ましく、３／７以上７／３以下が特に好ましい。 As described above, the photopolymerization initiator (A) contains two or more kinds of photopolymerization initiators in combination. However, as described above, the photopolymerization initiator (A) indispensably contains two or more kinds of oxime ester compounds. The content of each photopolymerization initiator contained in the photopolymerization initiator (A) is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention.
The ratio of the content of each photopolymerization initiator to the mass of the photopolymerization initiator (A) is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, further preferably 10% by mass or more, and 20% by mass or more. Especially preferable.
The ratio of the content of each photopolymerization initiator to the mass of the photopolymerization initiator (A) is preferably 99% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, further preferably 90% by mass or less, and even more preferably 80% by mass. The following are particularly preferred.
The ratio of the content of the oxime ester compound having λ max-r to the mass of the photopolymerization initiator (A) is preferably 1% by mass or more and 99% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more and 95% by mass or less. It is preferable, 10% by mass or more and 90% by mass or less is more preferable, and 15% by mass or more and 80% by mass or less is particularly preferable.
The ratio of the content of the oxime ester compound having λ max-b to the mass of the photopolymerization initiator (A) is preferably 1% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 95% by mass or less. It is more preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 85% by mass or less.
The ratio of the content of other oxime ester initiators having a maximum wavelength corresponding to λ max-r and λ max-b in the range of 320 nm or more and less than 400 nm with respect to the mass of the photopolymerization initiator (A) is 0% by mass. 98% by mass or more is preferable, 0% by mass or more and 90% by mass or less is more preferable, 0% by mass or more and 80% by mass or less is further preferable, and 0% by mass or more and 65% by mass or less is particularly preferable.
When the photopolymerization initiator (A) is composed of a first oxime ester compound and a second oxime ester compound, the mass M1 of the first oxime ester compound and the mass M2 of the second oxime ester compound The ratio M1 / M2 is preferably 1/9 or more and 9/1 or less, more preferably 2/8 or more and 8/2 or less, and particularly preferably 3/7 or more and 7/3 or less.

以下、感光性組成物に含まれる各成分について説明する。 Hereinafter, each component contained in the photosensitive composition will be described.

＜光重合開始剤（Ａ）＞
前述の通り、光重合開始剤（Ａ）は、吸光スペクトルにおいて、３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長域においてピークを有するオキシムエステル化合物を２種以上含む。
また、光重合開始剤（Ａ）は、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を含まない。 <Photopolymerization initiator (A)>
As described above, the photopolymerization initiator (A) contains two or more kinds of oxime ester compounds having a peak in the wavelength range of 320 nm or more and less than 400 nm in the absorption spectrum.
Further, the photopolymerization initiator (A) does not contain a compound exhibiting a gram absorption coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more.

光重合開始剤（Ａ）は、オキシムエステル化合物以外のその他の光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤（Ａ）におけるオキシムエステル化合物の量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらに好ましく、９０質量％以上がさらにより好ましく、９５質量％以上が特に好ましく、１００質量％が最も好ましい。
光重合開始剤（Ａ）が、オキシムエステル化合物以外のその他の光重合開始剤を含む場合、光重合開始剤（Ａ）は、その他光重合開始剤を２種以上組み合わせて含んでいてもよい。 The photopolymerization initiator (A) may contain other photopolymerization initiators other than the oxime ester compound. The amount of the oxime ester compound in the photopolymerization initiator (A) is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more, and 95% by mass. The above is particularly preferable, and 100% by mass is most preferable.
When the photopolymerization initiator (A) contains other photopolymerization initiators other than the oxime ester compound, the photopolymerization initiator (A) may contain two or more kinds of other photopolymerization initiators in combination.

オキシムエステル化合物以外のその他の光重合開始剤は、周知の光重合開始剤であって、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を用いることができる。 As the photopolymerization initiator other than the oxime ester compound, a well-known photopolymerization initiator, which has a gram extinction coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more, can be used.

オキシムエステル化合物以外の周知の光重合開始剤の具体例としては、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ビス（４－ジメチルアミノフェニル）ケトン、２－メチル－１－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４－ベンゾイル－４’－メチルジメチルスルフィド、４－ジメチルアミノ安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４－ジメチルアミノ－２－エチルヘキシル安息香酸、４－ジメチルアミノ－２－イソアミル安息香酸、ベンジル－β－メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２－クロロチオキサンテン、２，４－ジエチルチオキサンテン、２－メチルチオキサンテン、２－イソプロピルチオキサンテン、２－エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロペルオキシド、２－メルカプトベンゾイミダール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、４，４’－ビスジメチルアミノベンゾフェノン（すなわち、ミヒラーズケトン）、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン（すなわち、エチルミヒラーズケトン）、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、３，３－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン－ｎ－ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルジクロロアセトフェノン、α，α－ジクロロ－４－フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、２－メチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル－４－ジメチルアミノベンゾエート、９－フェニルアクリジン、１，７－ビス－（９－アクリジニル）ヘプタン、１，５－ビス－（９－アクリジニル）ペンタン、１，３－ビス－（９－アクリジニル）プロパン、ｐ－メトキシトリアジン、２，４，６－トリス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－メチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（フラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－エトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－ｎ－ブトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン等が挙げられる。
その他の光重合開始剤は、４００ｎｍ以上の波長域でのグラム吸光係数を測定したうえで、これらの化合物群から選択することができる。 Specific examples of well-known photopolymerization initiators other than oxime ester compounds include 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-one, and 1- [4- (2-hydroxy). Ethoxy) Phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) ) -2-Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- [4 -(Methylthio) Phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyl Diphenylphosphine oxide, 4-benzoyl-4'-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoate, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino -2-ethylhexyl benzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamyl benzoic acid, benzyl-β-methoxyethyl acetal, benzyl dimethyl ketal, methyl o-benzoyl benzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2 , 4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethyl Anthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoylperoxide, cumenehydroperoxide, 2-mercaptobenzoimidal, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2- (o-Chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4 , 5-Diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diff Enylimidazole dimer, 2,4,5-triarylimidazole dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4'-bisdimethylaminobenzophenone (ie, Michler's ketone), 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone (ie, Michler's ketone) Ethylmihillers ketone), 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoinmethyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin. Isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p- tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α, α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosverone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9 -Phenylacridin, 1,7-bis- (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis- (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis- (9-acridinyl) propane, p-methoxytriazine, 2, 4,6-Tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) etherinyl]- 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4) -Diethylamino-2-methylphenyl) ether] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ether] -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine , 2- (4-n-Butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2 , 4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine , 2,4-Bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) styrylphenyl -S-Triazine and the like can be mentioned.
Other photopolymerization initiators can be selected from these compound groups after measuring the gram absorption coefficient in the wavelength range of 400 nm or more.

光重合開始剤（Ａ）における複数のオキシムエステル化合物の組み合わせは、光重合開始剤（Ａ）についての前述の条件を満たす限り特に限定されない。
好ましいオキシムエステル化合物の組み合わせとしては、後述する式（ａ１）で表されるオキシムエステル化合物（Ａ１）と、後述する式（ａ２）で表されるオキシムエステル化合物（Ａ２）との組み合わせが挙げられる。
光重合開始剤（Ａ）は、１種又は２種以上のオキシムエステル化合物（Ａ１）と、１種又は２種以上のオキシムエステル化合物（Ａ２）とを含んでいてもよい。
以下、オキシムエステル化合物（Ａ１）と、オキシムエステル化合物（Ａ２）とについて説明する。 The combination of the plurality of oxime ester compounds in the photopolymerization initiator (A) is not particularly limited as long as the above-mentioned conditions for the photopolymerization initiator (A) are satisfied.
Preferred combinations of the oxime ester compounds include a combination of the oxime ester compound (A1) represented by the formula (a1) described later and the oxime ester compound (A2) represented by the formula (a2) described later.
The photopolymerization initiator (A) may contain one or more kinds of oxime ester compounds (A1) and one or more kinds of oxime ester compounds (A2).
Hereinafter, the oxime ester compound (A1) and the oxime ester compound (A2) will be described.

〔オキシムエステル化合物（Ａ１）〕
オキシムエステル化合物（Ａ１）は、下記式（ａ１）：

Figure 0007051321000001
（式（ａ１）中、Ｒ１は、１価の有機基であり、Ｒ２は、置換基を有してもよい炭化水素基、又は置換基を有してもよいヘテロシクリル基であり、Ｒ３は、１価の有機基であり、Ｒ４は、１価の有機基であり、Ｒ５、及びＲ６はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいベンゼン環、又は置換基を有してもよいナフタレン環であり、ｍ１、ｍ２、及びｍ３はそれぞれ０又は１である。）
で表され、下記（１）～（３）：
（１）Ｒ１が－ＯＲ７で表される基を含み、Ｒ７がハロゲノアルキル基である。
（２）ｍ２が１であり、Ｒ４が－ＯＲ７で表される基を含み、Ｒ７がハロゲノアルキル基である。
（３）Ｒ３が置換基を有してもよい分岐鎖状アルキル基である。
のうちの少なくとも１つの条件を満たす化合物である。 [Oxime ester compound (A1)]
The oxime ester compound (A1) has the following formula (a1):
Figure 0007051321000001
 (In the formula (a1), R 1 is a monovalent organic group, R 2 is a hydrocarbon group which may have a substituent, or R 2 is a heterocyclyl group which may have a substituent. 3 is a monovalent organic group, R 4 is a monovalent organic group, and R 5 and R 6 each independently have a benzene ring or a substituent which may have a substituent. It is a naphthalene ring which may be used, and m1, m2, and m3 are 0 or 1, respectively.)
It is represented by (1) to (3) below:
(1) R 1 contains a group represented by −OR 7 , and R 7 is a halogenoalkyl group.
(2) m2 is 1, R4 contains a group represented by −OR7 , and R7 is a halogenoalkyl group.
(3) R 3 is a branched chain alkyl group which may have a substituent.
It is a compound satisfying at least one of the above conditions.

式（ａ１）中、Ｒ５、及びＲ６は置換基を有してもよいベンゼン環、又は置換基を有してもよいナフタレン環である。
式（ａ１）中に示されるＲ３に結合する窒素原子を含む環と、ベンゼン環、又はナフタレン環とは、ベンゼン環、又はナフタレン環中の任意の炭素－炭素結合を共有することにより縮合する。
このため、式（ａ１）中の、Ｒ３に結合する窒素原子を含む環は、窒素原子と、Ｒ５に由来する２つの炭素原子と、Ｒ６に由来する２つの炭素原子とを環構成原子とする５員環である。
つまり、式（ａ１）で表される化合物は、Ｒ５、及びＲ６と、上記の５員環とからなる、３環式から５環式の縮合環を中心骨格として有する。 In the formula (a1), R 5 and R 6 are a benzene ring which may have a substituent or a naphthalene ring which may have a substituent.
The ring containing a nitrogen atom bonded to R3 represented in the formula ( a1) and the benzene ring or the naphthalene ring are condensed by sharing an arbitrary carbon-carbon bond in the benzene ring or the naphthalene ring. ..
Therefore, in the formula (a1), the ring containing the nitrogen atom bonded to R 3 is composed of a nitrogen atom, two carbon atoms derived from R 5 , and two carbon atoms derived from R 6 . It is a 5-membered ring as an atom.
That is, the compound represented by the formula (a1) has a tricyclic to 5-ring fused ring composed of R 5 and R 6 and the above-mentioned 5-membered ring as a central skeleton.

Ｒ５、及び／又はＲ６がナフタレン環である場合、Ｒ３に結合する窒素原子を含む上記の５員環と、ナフタレン環との縮合の形態他は特に限定されない。
Ｒ５、及びＲ６の少なくとも一方がナフタレン環である場合、Ｒ５、及びＲ６と、Ｒ３に結合する窒素原子を含む上記の５員環とからなる縮合環は、以下のいずれであってもよい。

Figure 0007051321000002
When R 5 and / or R 6 is a naphthalene ring, the form of condensation between the above-mentioned 5-membered ring containing a nitrogen atom bonded to R 3 and the naphthalene ring is not particularly limited.
When at least one of R 5 and R 6 is a naphthalene ring, the fused ring consisting of R 5 and R 6 and the above-mentioned 5-membered ring containing a nitrogen atom bonded to R 3 is any of the following. May be.
Figure 0007051321000002

Ｒ５、及びＲ６としてのベンゼン環、又はナフタレン環が置換基を有する場合、当該置換基の種類及び数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。
置換基の好適な例としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ハロゲン原子、及びシアノ基等が挙げられる。
Ｒ５、及びＲ６としてのベンゼン環、又はナフタレン環が置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されず、１以上４以下が好ましい。置換基が複数である場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 When the benzene ring or naphthalene ring as R 5 and R 6 has a substituent, the type and number of the substituent are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired.
Preferable examples of the substituent are an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, an alkoxy group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 or more and 7 or less carbon atoms, and 2 or more carbon atoms. It has an alkoxycarbonyl group of 7 or less, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 or more and 7 or less carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group of 1 or more and 6 or less carbon atoms, and an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms. Examples thereof include a dialkylamino group, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a halogen atom, a cyano group and the like.
When the benzene ring or naphthalene ring as R 5 and R 6 has a substituent, the number of the substituents is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is preferably 1 or more and 4 or less. When there are a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

Ｒ５が置換基を有する場合、Ｒ５が有する置換基と、Ｒ１、又はＲ３とが結合して環を形成してもよい。
また、Ｒ６が置換基を有する場合、Ｒ６が有する置換基と、Ｒ３とが結合して環を形成してもよい。 When R 5 has a substituent, the substituent of R 5 may be bonded to R 1 or R 3 to form a ring.
When R 6 has a substituent, the substituent of R 6 and R 3 may be bonded to form a ring.

Ｒ５が有する置換基と、Ｒ１とが結合して形成される環は、炭化水素環であってもよく、複素環であってもよい。当該複素環に含まれるヘテロ原子は、特に限定されない。好ましいヘテロ原子としては、Ｎ、Ｏ、Ｓ等が挙げられる。
Ｒ５、及び／又はＲ６が有する置換基と、Ｒ３とが結合して形成される環は、Ｒ３と結合する窒素原子以外に、その他のヘテロ原子を含んでいてもよい。当該複素環に含まれるヘテロ原子は、特に限定されない。好ましいヘテロ原子としては、Ｎ、Ｏ、Ｓ等が挙げられる。 The ring formed by bonding the substituent of R 5 and R 1 may be a hydrocarbon ring or a heterocycle. The heteroatom contained in the heterocycle is not particularly limited. Preferred heteroatoms include N, O, S and the like.
The ring formed by the bond between the substituents of R 5 and / or R 6 and R 3 may contain other heteroatoms in addition to the nitrogen atom bonded to R 3 . The heteroatom contained in the heterocycle is not particularly limited. Preferred heteroatoms include N, O, S and the like.

Ｒ５が有する置換基、又はＲ６が有する置換基と、Ｒ３とが結合して環を形成する場合、式（ａ１）で表される化合物としては、下記式（ａ１－１－ａ）～（ａ１－１－ｈ）：

Figure 0007051321000003
（式（ａ１－１－ａ）～（ａ１－１－ｈ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、ｍ１、ｍ２、及びｍ３は式（ａ１）と同様であり、Ｒ８は、アルキル基である。）
で表される化合物が好ましい。 When the substituent of R 5 or the substituent of R 6 and R 3 are bonded to form a ring, the compound represented by the formula (a1) is represented by the following formula (a1-1-a). ~ (A1-1-h):
Figure 0007051321000003
 (In formulas (a1-1-a) to (a1-1-h), R 1 , R 2 , R 4 , m1, m2, and m3 are the same as in formula (a1), and R 8 is an alkyl group. Is.)
The compound represented by is preferable.

Ｒ８としてのアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。Ｒ７としてのアルキル基の炭素原子数は特に限定されず、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましい。 The alkyl group as R 8 may be linear or branched. The number of carbon atoms of the alkyl group as R 7 is not particularly limited, and is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 10 or less.

Ｒ５が有する置換基と、Ｒ１とが結合して環を形成する場合、式（ａ１）において、ｍ１が０であるのが好ましい。この場合、式（ａ１）で表される化合物は、下記式（ａ１－１－ｉ）～（ａ１－１－ｌ）：

Figure 0007051321000004
（式（ａ１－１－ｉ）～（ａ１－１－ｌ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ２、及びｍ３は式（ａ１）と同様であり、Ｒ８は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基である。）
で表される化合物が好ましい。Ｒ８としてのアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。 When the substituent of R 5 and R 1 are bonded to form a ring, it is preferable that m1 is 0 in the formula (a1). In this case, the compound represented by the formula (a1) is represented by the following formulas (a1-1-i) to (a1-1-l):
Figure 0007051321000004
 (In the formulas (a1-1-i) to (a1-1-1l), R 2 , R 3 , R 4 , m2, and m3 are the same as those in the formula (a1), and R 8 has 1 carbon atom. It is an alkyl group of 20 or more and 20 or less.)
The compound represented by is preferable. The alkyl group as R 8 may be linear or branched.

以上説明したＲ５及びＲ６の好ましい組み合わせを考慮したうえで、式（ａ１）で表される化合物としては、下記式（ａ１－Ｉ）～（ａ１－ＩＶ）：

Figure 0007051321000005
（式（ａ１－Ｉ）～（ａ１－ＩＶ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｍ１、ｍ２、及びｍ３は式（ａ１）と同様である。）
で表される化合物が好ましく、式（ａ１－ＩＩ）、又は式（ａ１－ＩＩＩ）で表される化合物がより好ましく、式（ａ１－ＩＩＩ）で表される化合物が特に好ましい。 In consideration of the preferable combination of R5 and R6 described above, the compounds represented by the formula (a1) include the following formulas (a1-I) to (a1-IV):
Figure 0007051321000005
 (In the formulas (a1-I) to (a1-IV), R1 , R2 , R3 , R4 , m1, m2, and m3 are the same as those in the formula (a1).)
The compound represented by the formula (a1-II) is preferable, the compound represented by the formula (a1-III) is more preferable, and the compound represented by the formula (a1-III) is particularly preferable.

上記式（ａ１－Ｉ）～（ａ１－ＩＶ）で表される化合物としては、下記式（ａ１－Ｉ－ａ）～（ａ１－ＩＶ－ａ）で表される化合物が好ましく、式（ａ１－ＩＩ－ａ）、又は式（ａ１－ＩＩＩ－ａ）で表される化合物がより好ましく、式（ａ１－ＩＩＩ－ａ）で表される化合物が特に好ましい。

Figure 0007051321000006
As the compounds represented by the above formulas (a1-I) to (a1-IV), the compounds represented by the following formulas (a1-I-a) to (a1-IV-a) are preferable, and the compounds represented by the following formulas (a1-IV-a) are preferable. The compound represented by II-a) or the formula (a1-III-a) is more preferable, and the compound represented by the formula (a1-III-a) is particularly preferable.
Figure 0007051321000006

上記式（ａ１－Ｉ－ａ）～（ａ１－ＩＶ－ａ）で表される化合物としては、下記式（ａ１－Ｉ－ｂ）～（ａ１－ＩＶ－ｂ）で表される化合物が好ましく、式（ａ１－ＩＩ－ｂ）、又は式（ａ１－ＩＩＩ－ｂ）で表される化合物がより好ましく、式（ａ１－ＩＩＩ－ｂ）で表される化合物が特に好ましい。

Figure 0007051321000007
As the compound represented by the above formulas (a1-I-a) to (a1-IV-a), the compounds represented by the following formulas (a1-I-b) to (a1-IV-b) are preferable. The compound represented by the formula (a1-II-b) or the formula (a1-III-b) is more preferable, and the compound represented by the formula (a1-III-b) is particularly preferable.
Figure 0007051321000007

Ｒ１として好適な１価の有機基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン－１－イル基、及びピペラジン－１－イル基等が挙げられる。 Examples of a monovalent organic group suitable as R 1 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a benzoyloxy which may have a substituent. A group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a substituent. It has a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include a heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group and the like.

Ｒ１がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ１がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ１がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ１がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R 1 is an alkyl group, the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. Further, when R 1 is an alkyl group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of the case where R 1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, Examples thereof include an n-decyl group and an isodecyl group. Further, when R 1 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, a methoxypropyl group and the like.

Ｒ１がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ１がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ１がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ－オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ１がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R 1 is an alkoxy group, the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. When R 1 is an alkoxy group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of the case where R 1 is an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, a tert-butyloxy group and n. -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group , Trt-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group and the like. Further, when R 1 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propyloxyethoxyethoxy group, methoxypropyloxy group and the like.

Ｒ１がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上６以下がより好ましい。Ｒ１がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒ１がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R 1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or cycloalkoxy group is preferably 3 or more and 10 or less, and more preferably 3 or more and 6 or less. Specific examples of the case where R 1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and the like. Specific examples of the case where R 1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, a cyclooctyloxy group and the like.

Ｒ１が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、２以上２１以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ１が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ－ブタノイル基、２－メチルプロパノイル基、ｎ－ペンタノイル基、２，２－ジメチルプロパノイル基、ｎ－ヘキサノイル基、ｎ－ヘプタノイル基、ｎ－オクタノイル基、ｎ－ノナノイル基、ｎ－デカノイル基、ｎ－ウンデカノイル基、ｎ－ドデカノイル基、ｎ－トリデカノイル基、ｎ－テトラデカノイル基、ｎ－ペンタデカノイル基、及びｎ－ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒ１が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ－ブタノイルオキシ基、２－メチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ペンタノイルオキシ基、２，２－ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ヘキサノイルオキシ基、ｎ－ヘプタノイルオキシ基、ｎ－オクタノイルオキシ基、ｎ－ノナノイルオキシ基、ｎ－デカノイルオキシ基、ｎ－ウンデカノイルオキシ基、ｎ－ドデカノイルオキシ基、ｎ－トリデカノイルオキシ基、ｎ－テトラデカノイルオキシ基、ｎ－ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ－ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R 1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 or more and 21 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less. Specific examples of the case where R 1 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, an n-butanoyl group, a 2-methylpropanol group, an n-pentanoyl group, a 2,2-dimethylpropanoyl group and n. -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadeca Examples thereof include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples of the case where R 1 is a saturated aliphatic acyloxy group include an acetyloxy group, a propanoyloxy group, an n-butanoyloxy group, a 2-methylpropanoyloxy group, an n-pentanoyloxy group, and 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like can be mentioned.

Ｒ１がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２以上２０以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ１がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ－ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニル基、ｎ－ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシカルボニル基、ｎ－ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ－ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ－オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－オクチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシカルボニル基、ｎ－ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ－デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R 1 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2 or more and 20 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less. Specific examples of the case where R 1 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propyloxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, an n-butyloxycarbonyl group, an isobutyloxycarbonyl group, and sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, and Examples thereof include an isodecyloxycarbonyl group.

Ｒ１がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、７以上２０以下が好ましく、７以上１０以下がより好ましい。また、Ｒ１がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、１１以上２０以下が好ましく、１１以上１４以下がより好ましい。Ｒ１がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、及び４－フェニルブチル基が挙げられる。Ｒ１がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α－ナフチルメチル基、β－ナフチルメチル基、２－（α－ナフチル）エチル基、及び２－（β－ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒ１が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒ１は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R 1 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 or more and 20 or less, and more preferably 7 or more and 10 or less. When R 1 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably 11 or more and 20 or less, and more preferably 11 or more and 14 or less. Specific examples of the case where R 1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples of the case where R 1 is a naphthylalkyl group include α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β-naphthyl) ethyl group. .. When R 1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R1 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

Ｒ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。Ｒ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, or the single rings are fused together, or the monocycle and the benzene ring are condensed. It is a heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a fused ring, the number of rings is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrol, oxazole, isooxazole, thiazole, thiazylazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, and indol. Examples thereof include isoindole, indridin, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxalin and the like. When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Ｒ１がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Ｒ１がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R 1 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R1 is a heterocyclyl group.

Ｒ１が１又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２１以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒ１と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ｎ－ペンチルアミノ基、ｎ－ヘキシルアミノ基、ｎ－ヘプチルアミノ基、ｎ－オクチルアミノ基、ｎ－ノニルアミノ基、ｎ－デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ－ブタノイルアミノ基、ｎ－ペンタノイルアミノ基、ｎ－ヘキサノイルアミノ基、ｎ－ヘプタノイルアミノ基、ｎ－オクタノイルアミノ基、ｎ－デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α－ナフトイルアミノ基、及びβ－ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R 1 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and the like. Saturated aliphatic acyl group having 2 or more and 21 or less carbon atoms, phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, and 7 or more and 20 carbon atoms which may have a substituent. The following phenylalkyl group, naphthyl group which may have a substituent, naphthoyl group which may have a substituent, naphthylalkyl group which may have a substituent and has 11 or more and 20 or less carbon atoms, and heterocyclyl. The group etc. can be mentioned. Specific examples of these suitable organic groups are the same as for R1 . Specific examples of the amino group substituted with the organic group 1 or 2 include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group and n-. Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naftylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples thereof include a decanoyylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, a β-naphthoylamino group and the like.

Ｒ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されず、１以上４以下が好ましい。Ｒ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 further have a substituent, the substituents include an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, and an alkoxy group having 1 or more and 6 or less carbon atoms. Saturated aliphatic acyl group with 2 to 7 carbon atoms, alkoxycarbonyl group with 2 to 7 carbon atoms, saturated aliphatic acyloxy group with 2 to 7 carbon atoms, alkyl group with 1 to 6 carbon atoms Examples thereof include a monoalkylamino group having, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a halogen, a nitro group, a cyano group and the like. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is preferably 1 or more and 4 or less. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R 1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

また、Ｒ１としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Ｒ１に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。 Further, as R 1 , a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are also preferable. The substituents that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have are the same as the substituents that the phenyl group contained in R 1 may have.

１価の有機基の中でも、Ｒ１としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上８以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１以上４以下のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、２－メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、５以上１０以下が好ましく、５以上８以下がより好ましく、５又は６が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、２－（４－クロロフェニルチオ）エチル基が好ましい。 Among the monovalent organic groups, R 1 may have an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkylalkyl group, or a substituent on the aromatic ring. A good phenylthioalkyl group is preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is the most preferable. preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 or more and 10 or less, more preferably 5 or more and 8 or less, and particularly preferably 5 or 6. The number of carbon atoms of the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 1 or more and 8 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, and particularly preferably 2. Among the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferable. The number of carbon atoms of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring is preferably 1 or more and 8 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, and particularly preferably 2. Among the phenylthioalkyl groups that may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.

前述の通り、式（ａ１）で表される化合物は、下記（１）～（３）：
（１）Ｒ１が－ＯＲ７で表される基を含み、Ｒ７がハロゲノアルキル基である。
（２）ｍ２が１であり、Ｒ４が－ＯＲ７で表される基を含み、Ｒ７がハロゲノアルキル基である。
（３）Ｒ３が置換基を有してもよい分岐鎖状アルキル基である。
のうちの少なくとも１つの条件を満たす必要がある。
このため、Ｒ１は、－ＯＲ７で表される置換基で置換されているのが好ましい。Ｒ７はハロゲノアルキル基である。Ｒ１が、－ＯＲ７で表される基で置換されている場合、Ｒ１に含まれる、－ＯＲ７で表される基の数は特に限定されない。Ｒ１が、－ＯＲ７で表される基で置換されている場合、Ｒ１に含まれる、－ＯＲ７で表される基の数は、１又は２が好ましく、１がより好ましい。
また、式（ａ１）で表される化合物が有する－ＯＲ７で表される基の数も、１又は２が好ましく、１がより好ましい。 As described above, the compounds represented by the formula (a1) are the following (1) to (3) :.
(1) R 1 contains a group represented by −OR 7 , and R 7 is a halogenoalkyl group.
(2) m2 is 1, R4 contains a group represented by −OR7 , and R7 is a halogenoalkyl group.
(3) R 3 is a branched chain alkyl group which may have a substituent.
At least one of these conditions must be met.
Therefore, it is preferable that R 1 is substituted with a substituent represented by −OR 7 . R 7 is a halogenoalkyl group. When R 1 is substituted with a group represented by −OR 7 , the number of groups represented by −OR 7 contained in R1 is not particularly limited. When R 1 is substituted with a group represented by —OR 7 , the number of groups represented by —OR 7 contained in R 1 is preferably 1 or 2, more preferably 1.
Further, the number of groups represented by —OR 7 contained in the compound represented by the formula (a1) is preferably 1 or 2, and more preferably 1.

ハロゲノアルキル基に含まれるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。ハロゲノアルキル基は、１種類のハロゲン原子を含んでいてもよく、２種以上のハロゲン原子を組み合わせて含んでいてもよい。
ハロゲノアルキル基が有するハロゲン原子の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。ハロゲノアルキル基が有するハロゲン原子の数は、１以上が好ましく、２以上がより好ましく、３以上が特に好ましい。ハロゲノアルキル基が有するハロゲン原子の数の上限は、式（ａ１）で表される化合物の、感光性組成物中の他の成分との相溶性が良好である点で、７以下が好ましく、６以下がより好ましく、５以下が特に好ましい。
また、式（ａ１）で表される化合物に含まれるハロゲン原子の数も、１以上が好ましく、２以上がより好ましく、３以上が特に好ましく、７以下が好ましく、６以下がより好ましく、５以下が特に好ましい。 Examples of the halogen atom contained in the halogenoalkyl group include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. The halogenoalkyl group may contain one kind of halogen atom or may contain two or more kinds of halogen atoms in combination.
The number of halogen atoms contained in the halogenoalkyl group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The number of halogen atoms contained in the halogenoalkyl group is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and particularly preferably 3 or more. The upper limit of the number of halogen atoms contained in the halogenoalkyl group is preferably 7 or less, preferably 6 or less, in that the compound represented by the formula (a1) has good compatibility with other components in the photosensitive composition. The following is more preferable, and 5 or less is particularly preferable.
Further, the number of halogen atoms contained in the compound represented by the formula (a1) is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, particularly preferably 3 or more, preferably 7 or less, more preferably 6 or less, and 5 or less. Is particularly preferable.

ハロゲノアルキル基の炭素原子数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。ハロゲノアルキル基の炭素原子数は、１以上が好ましく、２以上がより好ましく、３以上が特に好ましい。ハロゲノアルキル基の炭素原子数の上限は、１０以下が好ましく、７以下がより好ましく、５以下が特に好ましい。
ハロゲノアルキル基としては、フッ素化アルキル基が特に好ましい。ハロゲノアルキル基の好ましい具体例としては、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、及び２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロペンチル基等が挙げられる。これらの中では、式（ａ１）で表される化合物の製造が容易であること等から、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル基が好ましい。 The number of carbon atoms of the halogenoalkyl group is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. The number of carbon atoms of the halogenoalkyl group is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and particularly preferably 3 or more. The upper limit of the number of carbon atoms of the halogenoalkyl group is preferably 10 or less, more preferably 7 or less, and particularly preferably 5 or less.
As the halogenoalkyl group, a fluorinated alkyl group is particularly preferable. Preferred specific examples of the halogenoalkyl group are 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3. , 3,3-Pentafluoropropyl group, 2,2,3,3,4,5,5-octafluoropentyl group and the like. Among these, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group is preferable because the compound represented by the formula (a1) can be easily produced.

Ｒ１としてのハロゲノアルキル基で置換された基としては、１つ又は２つのハロゲノアルキル基で置換されたフェニル基が好ましい。具体的には、Ｒ１としてのハロゲノアルキル基で置換された基は下記式（ａ１－０１）：

Figure 0007051321000008
（式（ａ１－０１）中、Ｒ７は前述の通りであり、Ｒ９は、Ｒ１としてのフェニル基が有してもよい置換基であり、ｍ４は１又は２であり、ｍ４＋ｍ５は１以上５以下の整数である。）
で表される基が好ましい。
Ｒ９としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、及び炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキル基がより好ましく、メチル基、及びエチル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
ｍ５は１であるのが好ましい。 As the group substituted with the halogenoalkyl group as R1 , a phenyl group substituted with one or two halogenoalkyl groups is preferable. Specifically, the group substituted with the halogenoalkyl group as R1 has the following formula (a1-01):
Figure 0007051321000008
 (In the formula (a1-01), R 7 is as described above, R 9 is a substituent that the phenyl group as R 1 may have, m 4 is 1 or 2, and m4 + m 5 is 1. It is an integer of 5 or more.)
The group represented by is preferable.
As R 9 , an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms and an alkoxy group having 1 or more and 6 or less carbon atoms are preferable, an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms is more preferable, and a methyl group and an ethyl group. Is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
It is preferable that m5 is 1.

また、Ｒ１は、下記式（ａ１－０２）：

Figure 0007051321000009
（式（ａ１－０２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、ｍ１、ｍ２、及びｍ３は式（ａ１）と同様であり、Ｒ１０は、２価の有機基である。）
で表される基であってもよい。 Further, R 1 is expressed by the following equation (a1-02):
Figure 0007051321000009
 (In the formula (a1-02), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , m1, m2, and m3 are the same as those in the formula (a1), and R 10 is divalent. It is an organic group.)
It may be a group represented by.

Ｒ１０としての２価の有機基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。Ｒ１０としての２価の有機基の好適な例としては、炭素原子数１以上１０以下のアルカンジイル基（例えば、メチレン基、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基等）、及びアリーレン基（ｐ－フェニレン基、ｍ－フェニレン基、ｏ－フェニレン基、１，１’－ビフェニル－４，４’ジイル基等）が挙げられる。 The divalent organic group as R 10 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. A suitable example of the divalent organic group as R 10 is an alcandiyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms (for example, methylene group, ethane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group). , Butane-1,4-diyl group, etc.), and an arylene group (p-phenylene group, m-phenylene group, o-phenylene group, 1,1'-biphenyl-4,4'diyl group, etc.).

Ｒ１が、上記式（ａ１－０２）で表される基である場合の、式（ａ１）で表される化合物の具体例としては、下記式の化合物が挙げられる。

Figure 0007051321000010
Specific examples of the compound represented by the formula (a1) when R 1 is a group represented by the above formula (a1-02) include compounds of the following formula.
Figure 0007051321000010

以上説明したＲ１の中では、下記式で表される基が好ましい。

Figure 0007051321000011
Among R 1 described above, the group represented by the following formula is preferable.
Figure 0007051321000011

式（ａ１）中、Ｒ２は、置換基を有してもよい炭化水素基、又は置換基を有してもよいヘテロシクリル基である。置換基を有してもよい炭化水素基としては、置換基を有してもよい炭素原子数１以上１１以下のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基が好ましい。アリール基としては、フェニル基、及びナフチル基が好ましく、フェニル基が好ましい。Ｒ２がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Ｒ２がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。 In the formula (a1), R 2 is a hydrocarbon group which may have a substituent or a heterocyclyl group which may have a substituent. As the hydrocarbon group which may have a substituent, an alkyl group which may have a substituent and has 1 or more and 11 or less carbon atoms, or an aryl group which may have a substituent is preferable. As the aryl group, a phenyl group and a naphthyl group are preferable, and a phenyl group is preferable. As the substituent which may be possessed when R 2 is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group and the like are preferably exemplified. Further, as the substituent which may be possessed when R 2 is an aryl group, an alkyl group having 1 or more and 5 or less carbon atoms, an alkoxy group, a halogen atom and the like are preferably exemplified.

Ｒ２が、ヘテロシクリル基である場合、当該ヘテロシクリル基は、脂肪族複素環基であっても、芳香族複素環基であってもよい。Ｒ２がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。
Ｒ２がヘテロシクリル基である場合、当該ヘテロシクリル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。 When R 2 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may be an aliphatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group. When R 2 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, or the single rings are fused together, or the monocycle and the benzene ring are condensed. It is a heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a fused ring, the number of rings is up to 3. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrol, oxazole, isooxazole, thiazole, thiathiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene and indole. Isoindole, indridin, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxalin, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. Will be.
When R 2 is a heterocyclyl group, examples of the substituent that the heterocyclyl group may have include a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, a nitro group and the like.

Ｒ２としては、メチル基、フェニル基、及びチエニル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 As R2 , a methyl group, a phenyl group, and a thienyl group are preferable, and a methyl group is more preferable.

式（ａ１）中、Ｒ３は、１価の有機基である。Ｒ３は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Ｒ３の好適な例としては、炭素原子数１以上２０以下の置換基を有してもよいアルキル基、炭素原子数３以上２０以下の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素原子数２以上２０以下の置換基を有してもよい飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下の置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。 In formula (a1), R 3 is a monovalent organic group. R3 can be selected from various organic groups as long as it does not impair the object of the present invention. Preferable examples of R 3 include an alkyl group which may have a substituent having 1 or more and 20 or less carbon atoms, a cycloalkyl group which may have a substituent having 3 or more and 20 or less carbon atoms, and a carbon atom. A saturated aliphatic acyl group which may have a substituent of 2 or more and 20 or less, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent of 2 or more and 20 or less of carbon atoms, and a phenyl group which may have a substituent. , A benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent and has 7 or more and 20 or less carbon atoms, and a substituent. May have a naphthyl group, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent and has 11 or more and 20 or less carbon atoms, and a substituent. Examples thereof include a heterocyclyl group which may have a group and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent.

Ｒ３の中では、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましい。当該アルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。式（ａ１）で表される化合物の感光性組成物中での溶解性が良好である点から、Ｒ３としてのアルキル基の炭素原子数は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、７以上が特に好ましい。また、感光性組成物中での、式（ａ１）で表される化合物と、他の成分との相溶性が良好である点から、Ｒ３としてのアルキルの基の炭素原子数は、１５以下が好ましく、１０以下がより好ましい。 Among R3 , an alkyl group having 1 or more carbon atoms and 20 or less carbon atoms is preferable. The alkyl group may be linear or branched. The number of carbon atoms of the alkyl group as R3 is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and 7 or more, from the viewpoint of good solubility of the compound represented by the formula (a1) in the photosensitive composition. The above is particularly preferable. Further , the number of carbon atoms of the alkyl group as R3 is 15 or less because the compound represented by the formula (a1) has good compatibility with other components in the photosensitive composition. Is preferable, and 10 or less is more preferable.

Ｒ３が置換基を有する場合、当該置換基の好適な例としては、水酸基、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上２０以下の脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下の脂肪族アシルオキシ基、フェノキシ基、ベンゾイル基、ベンゾイルオキシ基、－ＰＯ（ＯＲ）２で表される基（Ｒは炭素原子数１以上６以下のアルキル基）、ハロゲン原子、シアノ基、ヘテロシクリル基等が挙げられる。置換基としてのヘテロシクリル基の好適な例は、Ｒ２としてのヘテロシクリル基の好適な例と同様である。 When R 3 has a substituent, suitable examples of the substituent include a hydroxyl group, an alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms, an alkoxy group having 1 or more and 20 or less carbon atoms, and 2 or more and 20 or less carbon atoms. An aliphatic acyl group, an aliphatic acyloxy group having 2 or more and 20 or less carbon atoms, a phenoxy group, a benzoyl group, a benzoyloxy group, and a group represented by -PO (OR) 2 (R has 1 or more and 6 or less carbon atoms). Alkyl group), halogen atom, cyano group, heterocyclyl group and the like. A suitable example of a heterocyclyl group as a substituent is similar to a suitable example of a heterocyclyl group as R2 .

前述の通り、式（ａ１）で表される化合物は、下記（１）～（３）：
（１）Ｒ１が－ＯＲ７で表される基を含み、Ｒ７がハロゲノアルキル基である。
（２）ｍ２が１であり、Ｒ４が－ＯＲ７で表される基を含み、Ｒ７がハロゲノアルキル基である。
（３）Ｒ３が置換基を有してもよい分岐鎖状アルキル基である。
のうちの少なくとも１つの条件を満たす必要がある。
このため、Ｒ３が、置換基を有してもよい分岐鎖状アルキル基であるのが好ましい。 As described above, the compounds represented by the formula (a1) are the following (1) to (3) :.
(1) R 1 contains a group represented by −OR 7 , and R 7 is a halogenoalkyl group.
(2) m2 is 1, R4 contains a group represented by −OR7 , and R7 is a halogenoalkyl group.
(3) R 3 is a branched chain alkyl group which may have a substituent.
At least one of these conditions must be met.
Therefore, it is preferable that R 3 is a branched chain alkyl group which may have a substituent.

また、Ｒ３としては、下記式（ａ１－０３）：

Figure 0007051321000012
（式（ａ１－０３）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、ｍ１、ｍ２、及びｍ３は式（ａ１）と同様であり、Ｒ１１は２価の有機基である。） Further, as R3 , the following formula (a1-03):
Figure 0007051321000012
 (In the formula (a1-03), R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 6 , m1, m2, and m3 are the same as those in the formula (a1), and R 11 is a divalent organic group. .)

Ｒ１１としての２価の有機基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。Ｒ１１としての２価の有機基の好適な例としては、炭素原子数１以上１０以下のアルカンジイル基（例えば、メチレン基、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基等）、アリーレン基（ｐ－フェニレン基、ｍ－フェニレン基、ｏ－フェニレン基、１，１’－ビフェニル－４，４’ジイル基等）が挙げられる。 The divalent organic group as R 11 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. A suitable example of the divalent organic group as R 11 is an alcandiyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms (for example, methylene group, ethane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group). , Butane-1,4-diyl, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, etc.), arylene group ( Examples thereof include p-phenylene group, m-phenylene group, o-phenylene group, 1,1'-biphenyl-4,4'diyl group and the like).

また、下記の基も、Ｒ１１としての２価の有機基として好ましい。下記式中、Ｒ１２は炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基である。Ｒ１２としてのアルキレン基としては、メチレン基、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、及びオクタン－１，８－ジイル基が好ましい。

Figure 0007051321000013
The following groups are also preferable as divalent organic groups as R11 . In the following formula, R 12 is an alkylene group having 1 or more and 20 or less carbon atoms. Examples of the alkylene group as R 12 include methylene group, ethane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl, pentane-1,5-diyl group, and hexane-1. , 6-Diyl group, heptane-1,7-diyl group, and octane-1,8-diyl group are preferred.
Figure 0007051321000013

Ｒ３が、上記式（ａ１－０３）で表される基である場合の、式（ａ１）で表される化合物の具体例としては、下記式の化合物が挙げられる。

Figure 0007051321000014
Specific examples of the compound represented by the formula (a1) when R 3 is a group represented by the above formula (a1-03) include a compound of the following formula.
Figure 0007051321000014

以上説明したＲ３の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ペンタン－３－イル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、及び２－エチルヘキシル基が挙げられる。
前述の通り、Ｒ３として分岐鎖状アルキル基が好ましいことから、上記のアルキル基の中では、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ペンタン－３－イル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、及び２－エチルヘキシル基が好ましい。
また、感光性組成物中での式（ａ１）で表される化合物の溶解性が良好である点から、ｎ－オクチル基、及び２－エチルヘキシル基が好ましく、２－エチルヘキシル基がより好ましい。 Preferable specific examples of R3 described above include methyl group , ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and n-pentyl group. Examples thereof include isopentyl group, neopentyl group, pentan-3-yl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and 2-ethylhexyl group.
As described above, since a branched chain alkyl group is preferable as R 3 , among the above alkyl groups, an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, and a pentan-3 -Il group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, and 2-ethylhexyl group are preferable.
Further, an n-octyl group and a 2-ethylhexyl group are preferable, and a 2-ethylhexyl group is more preferable, from the viewpoint of good solubility of the compound represented by the formula (a1) in the photosensitive composition.

式（ａ１）中のＲ４は１価の有機基である。Ｒ４としての１価の有機基としては、Ｒ１としての１価の有機基と同様の基を挙げることができる。 R4 in the formula (a1) is a monovalent organic group. As the monovalent organic group as R 4 , the same group as the monovalent organic group as R 1 can be mentioned.

Ｒ４は、Ｒ４－（ＣＯ）ｍ３－で表される基として、式（ａ１）で表される化合物の主骨格に結合する。Ｒ４－（ＣＯ）ｍ３－で表される基の好適な具体例としては、下記式で表される基が挙げられる。下記式において、ｍ３は式（ａ１）と同じく、１又は０である。

Figure 0007051321000015
R 4 binds to the main skeleton of the compound represented by the formula (a1) as a group represented by R 4- (CO) m3- . Preferable specific examples of the group represented by R 4- (CO) m3- include the group represented by the following formula. In the following formula, m3 is 1 or 0 as in the formula (a1).
Figure 0007051321000015

Figure 0007051321000016
Figure 0007051321000016

Figure 0007051321000017
Figure 0007051321000017

上記のＲ４－（ＣＯ）ｍ３－で表される基の好適な例の中では、１，３，５－トリメチルベンゾイル基が特に好ましい。 Among the preferred examples of the groups represented by R4- (CO) m3- above, the 1,3,5-trimethylbenzoyl group is particularly preferred.

前述の通り、式（ａ１）で表される化合物は、下記（１）～（３）：
（１）Ｒ１が－ＯＲ７で表される基を含み、Ｒ７がハロゲノアルキル基である。
（２）ｍ２が１であり、Ｒ４が－ＯＲ７で表される基を含み、Ｒ７がハロゲノアルキル基である。
（３）Ｒ３が置換基を有してもよい分岐鎖状アルキル基である。
のうちの少なくとも１つの条件を満たす必要がある。
このため、Ｒ４は、－ＯＲ７で表される置換基で置換されているのが好ましい。Ｒ７はハロゲノアルキル基である。Ｒ７については前述の通りである。 As described above, the compounds represented by the formula (a1) are the following (1) to (3) :.
(1) R 1 contains a group represented by −OR 7 , and R 7 is a halogenoalkyl group.
(2) m2 is 1, R4 contains a group represented by −OR7 , and R7 is a halogenoalkyl group.
(3) R 3 is a branched chain alkyl group which may have a substituent.
At least one of these conditions must be met.
Therefore, it is preferable that R 4 is substituted with a substituent represented by −OR 7 . R 7 is a halogenoalkyl group. R7 is as described above.

Ｒ４としてのハロゲノアルキル基で置換された基としては、１つ又は２つのハロゲノアルキル基で置換されたフェニル基が好ましい。具体的には、Ｒ１としてのハロゲノアルキル基で置換された基と同様、前述の式（ａ１－０１）で表される基が好ましい。 As the group substituted with the halogenoalkyl group as R4 , a phenyl group substituted with one or two halogenoalkyl groups is preferable. Specifically, the group represented by the above formula (a1-01) is preferable as well as the group substituted with the halogenoalkyl group as R1 .

また、Ｒ４としては、下記式（ａ１－０４）：

Figure 0007051321000018
（式（ａ１－０４）中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、ｍ１、ｍ２、及びｍ３は、式（ａ１）と同一であり、Ｒ１３は、２価の有機基である。）
で表される基も好ましい。 Further, as R4 , the following equation (a1-04):
Figure 0007051321000018
 (In the formula (a1-04), R 1 , R 3 , R 5 , R 6 , m1, m2, and m3 are the same as those in the formula (a1), and R 13 is a divalent organic group. )
The group represented by is also preferable.

Ｒ１３としての２価の有機基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。Ｒ１３としての２価の有機基の好適な例としては、炭素原子数１以上１０以下のアルカンジイル基（例えば、メチレン基、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基等）、アリーレン基（ｐ－フェニレン基、ｍ－フェニレン基、ｏ－フェニレン基、１，１’－ビフェニル－４，４’ジイル基等）が挙げられる。 The divalent organic group as R 13 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. A suitable example of the divalent organic group as R 13 is an alcandiyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms (for example, methylene group, ethane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group). , Butane-1,4-diyl, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, etc.), arylene group ( Examples thereof include p-phenylene group, m-phenylene group, o-phenylene group, 1,1'-biphenyl-4,4'diyl group and the like).

また、下記の基も、Ｒ１３としての２価の有機基として好ましい。下記式中、Ｒ１３は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基である。Ｒ１４としてのアルキレン基としては、メチレン基、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、及びオクタン－１，８－ジイル基が好ましい。
また、これらのアルキレン基における全ての水素原子がハロゲン原子、特にフッ素原子で置換された基も、Ｒ１４として好ましい。

Figure 0007051321000019
The following groups are also preferable as divalent organic groups as R13 . In the following formula, R 13 is an alkylene group having 1 or more and 20 or less carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the alkylene group as R 14 include methylene group, ethane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl, pentane-1,5-diyl group, and hexane-1. , 6-Diyl group, heptane-1,7-diyl group, and octane-1,8-diyl group are preferred.
Further, a group in which all hydrogen atoms in these alkylene groups are substituted with halogen atoms, particularly fluorine atoms is also preferable as R14 .
Figure 0007051321000019

式（ａ１）中、ｍ１、ｍ２、及びｍ３はいずれも０又は１である。ｍ１としては、０が好ましい。ｍ２としては１が好ましい、ｍ３としては１が好ましい。 In the formula (a1), m1, m2, and m3 are all 0 or 1. As m1, 0 is preferable. 1 is preferable as m2, and 1 is preferable as m3.

以上説明した、式（ａ１）で表される化合物の好ましい具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure 0007051321000020
Preferred specific examples of the compound represented by the formula (a1) described above include the following compounds.
Figure 0007051321000020

Figure 0007051321000021
Figure 0007051321000021

Figure 0007051321000022
Figure 0007051321000022

Figure 0007051321000023
Figure 0007051321000023

Figure 0007051321000024
Figure 0007051321000024

Figure 0007051321000025
Figure 0007051321000025

Figure 0007051321000026
Figure 0007051321000026

〔オキシムエステル化合物（Ａ２）〕
オキシムエステル化合物（Ａ２）は、下記式（ａ２）：

Figure 0007051321000027
（式（ａ２）中、ＣＲは、下記式（ａ２ａ）又は下記式（ａ２ｂ）：
Figure 0007051321000028
 で表される基であり、Ｒａ１は水素原子、ニトロ基又は１価の有機基であり、Ｒａ２及びＲａ３は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Ｒａ２とＲａ３とは相互に結合して環を形成してもよく、Ｒａ４は１価の有機基であり、Ｒａ５は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、ｎ１は０以上４以下の整数であり、ｎ２は０又は１である。）
で表される化合物である。
式（ａ２）で表されるオキシムエステル化合物の合成や入手の容易性や、Ｒａ２及びＲａ３の選択により、オキシムエステル化合物の特性を調整しやすい点等から、式（ａ２）中のＣＲとしては、式（ａ２ａ）で表される基が好ましい。 [Oxime ester compound (A2)]
The oxime ester compound (A2) has the following formula (a2):
Figure 0007051321000027
 (In the formula (a2), CR is the following formula (a2a) or the following formula (a2b):
Figure 0007051321000028
 R a1 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, and Ra 2 and Ra 3 are chain alkyl groups and substituents which may have a substituent, respectively. It is a chain alkoxy group that may have, a cyclic organic group that may have a substituent, or a hydrogen atom, and Ra 2 and Ra 3 may be bonded to each other to form a ring, or Ra 4 Is a monovalent organic group, and Ra5 is a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. Yes, n1 is an integer of 0 or more and 4 or less, and n2 is 0 or 1. )
It is a compound represented by.
As the CR in the formula (a2), the characteristics of the oxime ester compound can be easily adjusted by the ease of synthesizing and obtaining the oxime ester compound represented by the formula ( a2 ) and the selection of Ra 2 and Ra 3 . Is preferably a group represented by the formula (a2a).

式（ａ２）中のＣＲである、式（ａ２ａ）又は式（ａ２ｂ）で表される基において、Ｒａ１は、水素原子、ニトロ基又は１価の有機基である。Ｒａ１は、式（ａ２ａ）又は式（ａ２ｂ）中の縮合環上で、－（ＣＯ）ｎ２－で表される基に結合する芳香環とは、異なる６員芳香環に結合する。式（ａ２ａ）又は式（ａ２ｂ）中、Ｒａ１の結合位置は特に限定されない。式（ａ２）で表される化合物が１以上のＲａ１を有する場合、式（ａ２）で表される化合物の合成が容易であること等から、１以上のＲａ１のうちの１つが、下記式（ａ２ａ－１）、及び式（ａ２ｂ－１）：

Figure 0007051321000029
で示される構造中の＊で示される位置に結合するのが好ましい。Ｒａ１が複数である場合、複数のＲａ１は同一であっても異なっていてもよい。 In the group represented by the formula (a2a) or the formula (a2b), which is the CR in the formula (a2), R a1 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group. R a1 is attached to a 6-membered aromatic ring on the fused ring in the formula (a2a) or the formula (a2b), which is different from the aromatic ring attached to the group represented by − (CO) n2- . In the formula (a2a) or the formula ( a2b ), the binding position of Ra1 is not particularly limited. When the compound represented by the formula (a2) has 1 or more R a1 , one of the 1 or more R a1 is described below because the compound represented by the formula (a2) can be easily synthesized. Equation (a2a-1) and Equation (a2b-1):
Figure 0007051321000029
 It is preferable to bond to the position indicated by * in the structure indicated by. When there are a plurality of R a1 , the plurality of R a1s may be the same or different.

Ｒａ１が有機基である場合、Ｒａ１は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Ｒａ１が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン－１－イル基、及びピペラジン－１－イル基等が挙げられる。 When R a1 is an organic group, R a1 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and is appropriately selected from various organic groups. Preferable examples of the case where R a1 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a benzoyloxy which may have a substituent. A group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a substituent. It has a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include a heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group and the like.

Ｒａ１がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒａ１がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒａ１がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒａ１がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R a1 is an alkyl group, the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. When Ra1 is an alkyl group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of the case where R a1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, Examples thereof include an n-decyl group and an isodecyl group. Further, when Ra1 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, a methoxypropyl group and the like.

Ｒａ１がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒａ１がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒａ１がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ－オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒａ１がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R a1 is an alkoxy group, the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. When Ra1 is an alkoxy group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of the case where R a1 is an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, a tert-butyloxy group and n. -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group , Trt-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group and the like. When Ra1 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propyloxyethoxyethoxy group, methoxypropyloxy group and the like.

Ｒａ１がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上６以下がより好ましい。Ｒａ１がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒａ１がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When Ra1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or cycloalkoxy group is preferably 3 or more and 10 or less, and more preferably 3 or more and 6 or less. Specific examples of the case where R a1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and the like. Specific examples of the case where Ra1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, a cyclooctyloxy group and the like.

Ｒａ１が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、２以上２１以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒａ１が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ－ブタノイル基、２－メチルプロパノイル基、ｎ－ペンタノイル基、２，２－ジメチルプロパノイル基、ｎ－ヘキサノイル基、ｎ－ヘプタノイル基、ｎ－オクタノイル基、ｎ－ノナノイル基、ｎ－デカノイル基、ｎ－ウンデカノイル基、ｎ－ドデカノイル基、ｎ－トリデカノイル基、ｎ－テトラデカノイル基、ｎ－ペンタデカノイル基、及びｎ－ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒａ１が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ－ブタノイルオキシ基、２－メチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ペンタノイルオキシ基、２，２－ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ヘキサノイルオキシ基、ｎ－ヘプタノイルオキシ基、ｎ－オクタノイルオキシ基、ｎ－ノナノイルオキシ基、ｎ－デカノイルオキシ基、ｎ－ウンデカノイルオキシ基、ｎ－ドデカノイルオキシ基、ｎ－トリデカノイルオキシ基、ｎ－テトラデカノイルオキシ基、ｎ－ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ－ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R a1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 or more and 21 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less. Specific examples of the case where R a1 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, an n-butanoyl group, a 2-methylpropanol group, an n-pentanoyl group, a 2,2-dimethylpropanoyl group and n. -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadeca Examples thereof include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples of the case where R a1 is a saturated aliphatic acyloxy group include an acetyloxy group, a propanoyloxy group, an n-butanoyloxy group, a 2-methylpropanoyloxy group, an n-pentanoyloxy group, and 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like can be mentioned.

Ｒａ１がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２以上２０以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒａ１がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ－ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニル基、ｎ－ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシカルボニル基、ｎ－ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ－ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ－オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－オクチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシカルボニル基、ｎ－ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ－デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R a1 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2 or more and 20 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less. Specific examples of the case where R a1 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propyloxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, an n-butyloxycarbonyl group, an isobutyloxycarbonyl group, and sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, and Examples thereof include an isodecyloxycarbonyl group.

Ｒａ１がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、７以上２０以下が好ましく、７以上１０以下がより好ましい。また、Ｒａ１がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、１１以上２０以下が好ましく、１１以上１４以下がより好ましい。Ｒａ１がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、及び４－フェニルブチル基が挙げられる。Ｒａ１がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α－ナフチルメチル基、β－ナフチルメチル基、２－（α－ナフチル）エチル基、及び２－（β－ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒａ１が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒａ１は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R a1 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 or more and 20 or less, and more preferably 7 or more and 10 or less. When Ra1 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably 11 or more and 20 or less, and more preferably 11 or more and 14 or less. Specific examples of the case where R a1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples of the case where R a1 is a naphthylalkyl group include α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β-naphthyl) ethyl group. .. When R a1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R a1 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

Ｒａ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Ｒａ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R a1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, or the monocycles are fused together, or the monocycle and the benzene ring are condensed. It is a heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a fused ring, the number of rings is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrol, oxazole, isooxazole, thiazole, thiathiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene and indole. Isoindole, indridin, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxalin, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. Will be. When R a1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Ｒａ１がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Ｒａ１がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R a1 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R a1 is a heterocyclyl group.

Ｒａ１が１又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２１以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒａ１と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ｎ－ペンチルアミノ基、ｎ－ヘキシルアミノ基、ｎ－ヘプチルアミノ基、ｎ－オクチルアミノ基、ｎ－ノニルアミノ基、ｎ－デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ－ブタノイルアミノ基、ｎ－ペンタノイルアミノ基、ｎ－ヘキサノイルアミノ基、ｎ－ヘプタノイルアミノ基、ｎ－オクタノイルアミノ基、ｎ－デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α－ナフトイルアミノ基、及びβ－ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R a1 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group are an alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 or more and 10 or less carbon atoms, and the like. Saturated aliphatic acyl group having 2 or more and 21 or less carbon atoms, phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, and 7 or more and 20 carbon atoms which may have a substituent. The following phenylalkyl group, naphthyl group which may have a substituent, naphthoyl group which may have a substituent, naphthylalkyl group which may have a substituent and has 11 or more and 20 or less carbon atoms, and heterocyclyl. The group etc. can be mentioned. Specific examples of these suitable organic groups are the same as for Ra1 . Specific examples of the amino group substituted with the organic group 1 or 2 include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group and n-. Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naftylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples thereof include a decanoyylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, a β-naphthoylamino group and the like.

Ｒａ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒａ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１以上４以下が好ましい。Ｒａ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in Ra1 further have a substituent, the substituents include an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, and an alkoxy group having 1 or more and 6 or less carbon atoms. Saturated aliphatic acyl group with 2 to 7 carbon atoms, alkoxycarbonyl group with 2 to 7 carbon atoms, saturated aliphatic acyloxy group with 2 to 7 carbon atoms, alkyl group with 1 to 6 carbon atoms Examples thereof include a monoalkylamino group having, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a halogen, a nitro group, a cyano group and the like. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in Ra1 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but is preferably 1 or more and 4 or less. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in Ra1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

以上説明した基の中でも、Ｒａ１としては、ニトロ基、又はＲａ６－ＣＯ－で表される基であると、感度が向上する傾向があり好ましい。Ｒａ６は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Ｒａ６として好適な基の例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒａ６として、これらの基の中では、２－メチルフェニル基、チオフェン－２－イル基、及びα－ナフチル基が特に好ましい。
また、Ｒａ１が水素原子であると、透明性が良好となる傾向があり好ましい。なお、Ｒａ１が水素原子であり且つＲａ３が後述の式（ａ２－ａ）又は（ａ２－ｂ）で表される基であると透明性はより良好となる傾向がある。 Among the groups described above, as Ra1, a nitro group or a group represented by Ra6 - CO- tends to improve the sensitivity and is preferable. Ra6 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and can be selected from various organic groups. Examples of suitable groups as R a6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include heterocyclyl groups which may be used. Among these groups, 2-methylphenyl group, thiophen-2-yl group, and α-naphthyl group are particularly preferable as R a6 .
Further, when Ra1 is a hydrogen atom, the transparency tends to be good, which is preferable. If R a1 is a hydrogen atom and R a3 is a group represented by the formula (a2-a) or (a2-b) described later, the transparency tends to be better.

式（ａ２ａ）中、Ｒａ２及びＲａ３は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Ｒａ２とＲａ３とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Ｒａ２及びＲａ３として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Ｒａ２及びＲａ３が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。 In the formula (a2a), R a2 and Ra 3 have a chain alkyl group which may have a substituent, a chain alkoxy group which may have a substituent, and a cyclic group which may have a substituent, respectively. It is an organic group or a hydrogen atom. R a2 and R a3 may be coupled to each other to form a ring. Among these groups, as Ra2 and Ra3 , a chain alkyl group which may have a substituent is preferable. When R a2 and R a3 are chain alkyl groups which may have a substituent, the chain alkyl group may be a linear alkyl group or a branched chain alkyl group.

Ｒａ２及びＲａ３が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。Ｒａ２及びＲａ３が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒａ２及びＲａ３がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R a2 and Ra 3 are chain alkyl groups having no substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. preferable. Specific examples of cases where R a2 and R a3 are chain alkyl groups include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. , N-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl Examples thereof include a group, an isononyl group, an n-decyl group, and an isodecyl group. Further, when Ra 2 and Ra 3 are alkyl groups, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, a methoxypropyl group and the like.

Ｒａ２及びＲａ３が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。
アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Ｒａ１がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Ｒａ１がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Ｒａ１がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。 When R a2 and Ra 3 are chain alkyl groups having a substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. .. In this case, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the number of carbon atoms of the chain alkyl group. The chain alkyl group having a substituent is preferably linear.
The substituent that the alkyl group may have is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. Preferable examples of the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Among these, a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are preferable. Examples of the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. Specific examples of the cycloalkyl group are the same as in the preferred example when Ra1 is a cycloalkyl group. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and the like. Specific examples of the heterocyclyl group are the same as in the preferred example when Ra1 is a heterocyclyl group. When Ra1 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched chain, preferably linear. The number of carbon atoms of the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group is preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.

鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、１以上２０以下であり、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。 When the chain alkyl group has a substituent, the number of substituents is not particularly limited. The number of preferred substituents depends on the number of carbon atoms of the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1 or more and 20 or less, preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.

Ｒａ２及びＲａ３が置換基を持たない鎖状アルコキシ基である場合、鎖状アルコキシ基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。Ｒａ２及びＲａ３が鎖状アルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ－オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒａ２及びＲａ３がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。
Ｒａ２及びＲａ３が置換基を有する鎖状アルコキシ基である場合に、アルコキシ基が有してもよい置換基は、Ｒａ２及びＲａ３が鎖状アルキル基である場合と同様である。 When R a2 and Ra 3 are chain alkoxy groups having no substituent, the number of carbon atoms of the chain alkoxy group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. preferable. Specific examples of the cases where R a2 and R a3 are chain alkoxy groups include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group and a tert. -Butyloxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, Examples thereof include sec-octyloxy group, tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group and the like. When Ra 2 and Ra 3 are alkoxy groups, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propyloxyethoxyethoxy group, methoxypropyloxy group and the like.
When R a2 and R a3 are chain alkoxy groups having a substituent, the substituents that the alkoxy group may have are the same as when R a2 and R a3 are chain alkyl groups.

Ｒａ２及びＲａ３が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒａ２及びＲａ３が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Ｒａ２及びＲａ３が鎖状アルキル基である場合と同様である。 When R a2 and R a3 are cyclic organic groups, the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group. Examples of the cyclic organic group include an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. When R a2 and R a3 are cyclic organic groups, the substituents that the cyclic organic group may have are the same as when R a2 and R a3 are chain alkyl groups.

Ｒａ２及びＲａ３が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素－炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、３以下が好ましく、２以下がより好ましく、１が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。 When R a2 and R a3 are aromatic hydrocarbon groups, is the aromatic hydrocarbon group a phenyl group or a group formed by bonding a plurality of benzene rings via a carbon-carbon bond? , It is preferable that the group is formed by condensing a plurality of benzene rings. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding or condensing a plurality of benzene rings, the number of rings of the benzene ring contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited. 3 or less is preferable, 2 or less is more preferable, and 1 is particularly preferable. Preferred specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and the like.

Ｒａ２及びＲａ３が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、３以上２０以下が好ましく、３以上１０以下がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。 When R a2 and R a3 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. The number of carbon atoms of the aliphatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, but is preferably 3 or more and 20 or less, and more preferably 3 or more and 10 or less. Examples of monocyclic cyclic hydrocarbon groups include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, norbornyl group, isobornyl group, tricyclononyl group and tricyclodecyl group. Examples thereof include a tetracyclododecyl group and an adamantyl group.

Ｒａ２及びＲａ３がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。 When R a2 and R a3 are heterocyclyl groups, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, or such monocycles, or such monocycles and benzene rings. It is a heterocyclyl group condensed with. When the heterocyclyl group is a fused ring, the number of rings is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrol, oxazole, isooxazole, thiazole, thiathiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene and indole. Isoindole, indridin, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxalin, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. Will be.

Ｒａ２及びＲａ３とは相互に結合して環を形成してもよい。Ｒａ２及びＲａ３とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Ｒａ２及びＲａ３とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、５員環～６員環であるのが好ましく、５員環であるのがより好ましい。 R a2 and R a3 may be coupled to each other to form a ring. The group consisting of the rings formed by R a2 and R a3 is preferably a cycloalkylidene group. When R a2 and R a3 are combined to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered ring to a 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring.

Ｒａ２及びＲａ３とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、１以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。 When the group formed by binding R a2 and R a3 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of rings that may be fused with a cycloalkylidene group include a benzene ring, a naphthalene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, and a pyridine. Rings, pyrazine rings, pyrimidine rings and the like can be mentioned.

以上説明したＲａ２及びＲａ３の中でも好適な基の例としては、式－Ａ１－Ａ２で表される基が挙げられる。式中、Ａ１は直鎖アルキレン基であり、Ａ２は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である挙げられる。 Examples of suitable groups among Ra2 and Ra3 described above include groups represented by the formulas −A1 −A2 . In the formula, A 1 is a linear alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, an alkyl halide group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.

Ａ１の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ２がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ２がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Ａ２がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ２が環状有機基である場合、環状有機基の例は、Ｒａ２及びＲａ３が置換基として有する環状有機基と同様である。Ａ２がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Ｒａ２及びＲａ３が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。 The number of carbon atoms of the linear alkylene group of A 1 is preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. When A 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, preferably linear. The number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. When A 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable. When A 2 is an alkyl halide group, the halogen atom contained in the alkyl halide group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom. The alkyl halide group may be linear or branched, preferably linear. When A 2 is a cyclic organic group, the example of the cyclic organic group is the same as that of the cyclic organic group that Ra 2 and Ra 3 have as a substituent. When A 2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl group that Ra 2 and Ra 3 have as substituents.

Ｒａ２及びＲａ３の好適な具体例としては、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、及びｎ－オクチル基等のアルキル基；２－メトキシエチル基、３－メトキシ－ｎ－プロピル基、４－メトキシ－ｎ－ブチル基、５－メトキシ－ｎ－ペンチル基、６－メトキシ－ｎ－ヘキシル基、７－メトキシ－ｎ－ヘプチル基、８－メトキシ－ｎ－オクチル基、２－エトキシエチル基、３－エトキシ－ｎ－プロピル基、４－エトキシ－ｎ－ブチル基、５－エトキシ－ｎ－ペンチル基、６－エトキシ－ｎ－ヘキシル基、７－エトキシ－ｎ－ヘプチル基、及び８－エトキシ－ｎ－オクチル基等のアルコキシアルキル基；２－シアノエチル基、３－シアノ－ｎ－プロピル基、４－シアノ－ｎ－ブチル基、５－シアノ－ｎ－ペンチル基、６－シアノ－ｎ－ヘキシル基、７－シアノ－ｎ－ヘプチル基、及び８－シアノ－ｎ－オクチル基等のシアノアルキル基；２－フェニルエチル基、３－フェニル－ｎ－プロピル基、４－フェニル－ｎ－ブチル基、５－フェニル－ｎ－ペンチル基、６－フェニル－ｎ－ヘキシル基、７－フェニル－ｎ－ヘプチル基、及び８－フェニル－ｎ－オクチル基等のフェニルアルキル基；２－シクロヘキシルエチル基、３－シクロヘキシル－ｎ－プロピル基、４－シクロヘキシル－ｎ－ブチル基、５－シクロヘキシル－ｎ－ペンチル基、６－シクロヘキシル－ｎ－ヘキシル基、７－シクロヘキシル－ｎ－ヘプチル基、８－シクロヘキシル－ｎ－オクチル基、２－シクロペンチルエチル基、３－シクロペンチル－ｎ－プロピル基、４－シクロペンチル－ｎ－ブチル基、５－シクロペンチル－ｎ－ペンチル基、６－シクロペンチル－ｎ－ヘキシル基、７－シクロペンチル－ｎ－ヘプチル基、及び８－シクロペンチル－ｎ－オクチル基等のシクロアルキルアルキル基；２－メトキシカルボニルエチル基、３－メトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、４－メトキシカルボニル－ｎ－ブチル基、５－メトキシカルボニル－ｎ－ペンチル基、６－メトキシカルボニル－ｎ－ヘキシル基、７－メトキシカルボニル－ｎ－ヘプチル基、８－メトキシカルボニル－ｎ－オクチル基、２－エトキシカルボニルエチル基、３－エトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、４－エトキシカルボニル－ｎ－ブチル基、５－エトキシカルボニル－ｎ－ペンチル基、６－エトキシカルボニル－ｎ－ヘキシル基、７－エトキシカルボニル－ｎ－ヘプチル基、及び８－エトキシカルボニル－ｎ－オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基；２－クロロエチル基、３－クロロ－ｎ－プロピル基、４－クロロ－ｎ－ブチル基、５－クロロ－ｎ－ペンチル基、６－クロロ－ｎ－ヘキシル基、７－クロロ－ｎ－ヘプチル基、８－クロロ－ｎ－オクチル基、２－ブロモエチル基、３－ブロモ－ｎ－プロピル基、４－ブロモ－ｎ－ブチル基、５－ブロモ－ｎ－ペンチル基、６－ブロモ－ｎ－ヘキシル基、７－ブロモ－ｎ－ヘプチル基、８－ブロモ－ｎ－オクチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロ－ｎ－ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。 Suitable specific examples of R a2 and R a3 are alkyl groups such as ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group; 2-methoxyethyl. Group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy-n-heptyl group, 8-methoxy -N-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-pentyl group, 6-ethoxy-n-hexyl group, 7- Alkyl alkyl groups such as ethoxy-n-heptyl group and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano-n-butyl group, 5-cyano-n -Cyanoalkyl groups such as pentyl group, 6-cyano-n-hexyl group, 7-cyano-n-heptyl group, and 8-cyano-n-octyl group; 2-phenylethyl group, 3-phenyl-n-propyl Phyl, such as group, 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group, and 8-phenyl-n-octyl group. Alkyl group; 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n -Heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, 4-cyclopentyl-n-butyl group, 5-cyclopentyl-n-pentyl group, 6-cyclopentyl- Cycloalkylalkyl groups such as n-hexyl group, 7-cyclopentyl-n-heptyl group, and 8-cyclopentyl-n-octyl group; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxy Carbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxycarbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxy Carbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-etoki An alkoxycarbonylalkyl group such as a sicarbonyl-n-heptyl group and an 8-ethoxycarbonyl-n-octyl group; 2-chloroethyl group, 3-chloro-n-propyl group, 4-chloro-n-butyl group, 5- Chloro-n-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4- Bromo-n-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo-n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-tri Examples thereof include a fluoropropyl group and an alkyl halide group such as 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-n-pentyl group.

Ｒａ２及びＲａ３として、上記の中でも好適な基は、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－メトキシエチル基、２－シアノエチル基、２－フェニルエチル基、２－シクロヘキシルエチル基、２－メトキシカルボニルエチル基、２－クロロエチル基、２－ブロモエチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロ－ｎ－ペンチル基である。 As R a2 and R a3 , the preferred groups among the above are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group and 2-phenylethyl group. 2-cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5-hepta It is a fluoro-n-pentyl group.

Ｒａ４の好適な有機基の例としては、Ｒａ１と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン－１－イル基、及びピペラジン－１－イル基等が挙げられる。これらの基の具体例は、Ｒａ１について説明したものと同様である。また、Ｒａ４としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Ｒａ１に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。 Examples of suitable organic groups of R a4 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group and a substituent, as in R a1 . A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent which may have a substituent. A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include a heterocyclylcarbonyl group which may have a group, an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group and the like. Specific examples of these groups are the same as those described for Ra1 . Further, as Ra4 , a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are also preferable. The substituents that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have are the same as the substituents that the phenyl group contained in Ra1 may have.

有機基の中でも、Ｒａ４としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上８以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１以上４以下のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、２－メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、５以上１０以下が好ましく、５以上８以下がより好ましく、５又は６が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、２－（４－クロロフェニルチオ）エチル基が好ましい。 Among the organic groups, Ra 4 includes an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkylalkyl group, and a phenylthio which may have a substituent on the aromatic ring. Alkyl groups are preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is the most preferable. preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 or more and 10 or less, more preferably 5 or more and 8 or less, and particularly preferably 5 or 6. The number of carbon atoms of the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 1 or more and 8 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, and particularly preferably 2. Among the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferable. The number of carbon atoms of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring is preferably 1 or more and 8 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, and particularly preferably 2. Among the phenylthioalkyl groups that may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.

また、Ｒａ４としては、－Ａ３－ＣＯ－Ｏ－Ａ４で表される基も好ましい。Ａ３は、２価の有機基であり、２価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Ａ４は、１価の有機基であり、１価の炭化水素基であるのが好ましい。 Further, as R a4 , a group represented by −A3 - CO—O—A4 is also preferable. A 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A4 is a monovalent organic group, preferably a monovalent hydrocarbon group.

Ａ３がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ３がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましく、１以上４以下が特に好ましい。 When A 3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, preferably linear. When A 3 is an alkylene group, the number of carbon atoms of the alkylene group is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, and particularly preferably 1 or more and 4 or less.

Ａ４の好適な例としては、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数４以上１０以下のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基、及び炭素原子数６以上２０以下の芳香族炭化水素基が挙げられる。Ａ４の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α－ナフチルメチル基、及びβ－ナフチルメチル基等が挙げられる。 Preferable examples of A4 are an alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 or more and 10 or less carbon atoms, a cycloalkylalkyl group having 4 or more and 10 or less carbon atoms, and 7 or more carbon atoms. Examples thereof include an aralkyl group having 20 or less, and an aromatic hydrocarbon group having 6 or more and 20 or less carbon atoms. Suitable specific examples of A4 are methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl. Examples thereof include a group, a phenyl group, a naphthyl group, a benzyl group, a phenethyl group, an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group and the like.

－Ａ３－ＣＯ－Ｏ－Ａ４で表される基の好適な具体例としては、２－メトキシカルボニルエチル基、２－エトキシカルボニルエチル基、２－ｎ－プロピルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ブチルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ペンチルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ヘキシルオキシカルボニルエチル基、２－ベンジルオキシカルボニルエチル基、２－フェノキシカルボニルエチル基、３－メトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－エトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－プロピルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ブチルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ペンチルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ヘキシルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ベンジルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、及び３－フェノキシカルボニル－ｎ－プロピル基等が挙げられる。 Preferable specific examples of the group represented by -A 3 -CO-O-A 4 are 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n. -Butyloxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl Group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group , 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-phenoxycarbonyl-n-propyl group and the like.

以上、Ｒａ４について説明したが、Ｒａ４としては、下記式（ａ２－ａ）又は（ａ２－ｂ）で表される基が好ましい。

Figure 0007051321000030
（式（ａ２－ａ）及び（ａ２－ｂ）中、Ｒａ７及びＲａ８はそれぞれ有機基であり、ｎ３は０以上４以下の整数であり、Ｒａ７及びＲａ８がベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、ＲＲａ７とＲａ８とが互いに結合して環を形成してもよく、ｎ４は１以上８以下の整数であり、ｎ５は１以上５以下の整数であり、ｎ６は０以上（ｎ５＋３）以下の整数であり、Ｒａ９は有機基である。） Although R a4 has been described above, R a4 is preferably a group represented by the following formula (a2-a) or (a2-b).
Figure 0007051321000030
 (In formulas (a2-a) and (a2-b), R a7 and R a8 are organic groups, respectively, n3 is an integer of 0 or more and 4 or less, and R a7 and R a8 are adjacent to each other on the benzene ring. When present at the position, RR a7 and R a8 may be combined with each other to form a ring, n4 is an integer of 1 or more and 8 or less, n5 is an integer of 1 or more and 5 or less, and n6 is 0. It is an integer equal to or less than (n5 + 3), and Ra9 is an organic group.)

式（ｃ２－ａ）中のＲａ７及びＲａ８についての有機基の例は、Ｒａ１と同様である。Ｒａ７としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒａ７がアルキル基である場合、その炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上３以下が特に好ましく、１が最も好ましい。つまり、Ｒａ７はメチル基であるのが最も好ましい。Ｒａ７とＲａ８とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式（ｃ２－ａ）で表される基であって、Ｒａ７とＲａ８とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン－１－イル基や、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－５－イル基等が挙げられる。上記式（ｃ２－ａ）中、ｎ３は０以上４以下の整数であり、０又は１であるのが好ましく、０であるのがより好ましい。 Examples of organic groups for R a7 and R a8 in formula (c2-a) are the same as for R a1 . As R a7 , an alkyl group or a phenyl group is preferable. When R a7 is an alkyl group, the number of carbon atoms thereof is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 5 or less, particularly preferably 1 or more and 3 or less, and most preferably 1. That is, R a7 is most preferably a methyl group. When R a7 and R a8 are combined to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferable examples of the group represented by the formula (c2-a) in which R a7 and R a8 form a ring include a naphthalene-1-yl group and 1,2,3. Examples thereof include 4-tetrahydronaphthalene-5-yl group. In the above formula (c2-a), n3 is an integer of 0 or more and 4 or less, preferably 0 or 1, and more preferably 0.

上記式（ａ２－ｂ）中、Ｒａ９は有機基である。有機基としては、Ｒａ１について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上３以下が特に好ましい。Ｒａ９としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。 In the above formula (a2-b), R a9 is an organic group. Examples of the organic group include groups similar to the organic group described for Ra1 . Among the organic groups, an alkyl group is preferable. The alkyl group may be linear or branched. The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 5 or less, and particularly preferably 1 or more and 3 or less. As R a9 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and the like are preferably exemplified, and among these, a methyl group is more preferable.

上記式（ａ２－ｂ）中、ｎ５は１以上５以下の整数であり、１以上３以下の整数が好ましく、１又は２がより好ましい。上記式（ａ２－ｂ）中、ｎ６は０以上（ｎ５＋３）以下であり、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０が特に好ましい。上記式（ａ２－ｂ）中、ｎ４は１以上８以下の整数であり、１以上５以下の整数が好ましく、１以上３以下の整数がより好ましく、１又は２が特に好ましい。 In the above formula (a2-b), n5 is an integer of 1 or more and 5 or less, preferably an integer of 1 or more and 3 or less, and more preferably 1 or 2. In the above formula (a2-b), n6 is 0 or more (n5 + 3) or less, an integer of 0 or more and 3 or less is preferable, an integer of 0 or more and 2 or less is more preferable, and 0 is particularly preferable. In the above formula (a2-b), n4 is an integer of 1 or more and 8 or less, preferably an integer of 1 or more and 5 or less, more preferably 1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1 or 2.

式（ａ２）中、Ｒａ５は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Ｒａ５が脂肪族炭化水素基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Ｒａ１がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。 In the formula (a2), Ra5 is a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. When R a5 is an aliphatic hydrocarbon group, a phenyl group, a naphthyl group and the like are preferably exemplified as the substituent which may be possessed. Further, as the substituent which may be possessed when Ra1 is an aryl group, an alkyl group having 1 or more and 5 or less carbon atoms, an alkoxy group, a halogen atom and the like are preferably exemplified.

式（ａ２）中、Ｒａ５としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、２－シクロペンチルエチル基、２－シクロブチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 In the formula (a2), R a5 includes a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a 2-cyclopentylethyl group, a 2-cyclobutylethyl group, and a cyclohexylmethyl group. Phenyl group, benzyl group, methylphenyl group, naphthyl group and the like are preferably exemplified, and among these, methyl group or phenyl group is more preferable.

式（ａ２）で表される化合物の好適な具体例としては、下記の化合物が挙げられる。

Figure 0007051321000031
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (a2) include the following compounds.
Figure 0007051321000031

Figure 0007051321000032
Figure 0007051321000032

Figure 0007051321000033
Figure 0007051321000033

Figure 0007051321000034
Figure 0007051321000034

Figure 0007051321000035
Figure 0007051321000035

感光性組成物における光重合開始剤（Ａ）の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。光重合開始剤（Ａ）の含有量は、感光性組成物の固形分の質量に対して０．１質量％以上５０質量％以下が好ましく、０．３質量％以上３０質量％以下がより好ましく、０．５質量％以上２０質量％で以下が特に好ましい。かかる範囲内の量の光重合開始剤（Ａ）を用いることにより、硬化物の機械的特性、耐溶剤性、耐化学薬品性等を損なうことなく、光重合開始剤（Ａ）を用いることによる所望する効果を得やすい。 The content of the photopolymerization initiator (A) in the photosensitive composition is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. The content of the photopolymerization initiator (A) is preferably 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, and more preferably 0.3% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the mass of the solid content of the photosensitive composition. , 0.5% by mass or more and 20% by mass, and the following is particularly preferable. By using the photopolymerization initiator (A) in an amount within such a range, the photopolymerization initiator (A) can be used without impairing the mechanical properties, solvent resistance, chemical resistance, etc. of the cured product. It is easy to obtain the desired effect.

＜重合性基材成分（Ｂ）＞
感光性組成物は、さらに、重合性基材成分（Ｂ）を含んでもよい。重合性基材成分（Ｂ）（以下、「（Ｂ）成分」とも記す。）は、感光性組成物に光重合性と膜形成能とを付与する成分である。重合性基材成分（Ｂ）は、光重合開始剤（Ａ）により重合可能な成分を含み、且つ膜形成可能な感光性組成物を調製可能な成分であれば特に限定されない。重合性基材成分（Ｂ）は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。 <Polymerizable base material component (B)>
The photosensitive composition may further contain the polymerizable substrate component (B). The polymerizable base material component (B) (hereinafter, also referred to as “(B) component”) is a component that imparts photopolymerizability and film-forming ability to the photosensitive composition. The polymerizable base material component (B) is not particularly limited as long as it contains a component that can be polymerized by the photopolymerization initiator (A) and can prepare a photosensitive composition capable of forming a film. The polymerizable base material component (B) can be used alone or in combination of two or more.

重合性基材成分（Ｂ）は、典型的には、光重合性化合物（Ｂ１）、又は光重合性化合物（Ｂ１）と樹脂（Ｂ２）とを含む。光重合性化合物（Ｂ１）は、低分子化合物であってもよく、高分子化合物であってもよい。光重合性化合物（Ｂ１）及び樹脂（Ｂ２）の各々は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。
光重合性化合物（Ｂ１）と、樹脂（Ｂ２）とは、例えば、１種又は２種以上の単量体化合物の重合体であって、重量平均分子量が１０００以上である重合体を樹脂（Ｂ２）とし、樹脂（Ｂ２）に該当せず、光重合性の官能基を有する化合物を光重合性化合物（Ｂ１）とすることにより、区別することができる。 The polymerizable substrate component (B) typically comprises a photopolymerizable compound (B1) or a photopolymerizable compound (B1) and a resin (B2). The photopolymerizable compound (B1) may be a low molecular weight compound or a high molecular weight compound. Each of the photopolymerizable compound (B1) and the resin (B2) can be used alone or in combination of two or more.
The photopolymerizable compound (B1) and the resin (B2) are, for example, a polymer of one kind or two or more kinds of monomer compounds, and a polymer having a weight average molecular weight of 1000 or more is a resin (B2). ), And the compound which does not correspond to the resin (B2) and has a photopolymerizable functional group can be distinguished by using the photopolymerizable compound (B1).

重合性基材成分（Ｂ）は、光重合性の点から、重合体でない低分子量の光重合性化合物（Ｂ１）と、樹脂（Ｂ２）である架橋性基含有樹脂とを組み合わせて含むことが好ましい。
また、重合性基材成分（Ｂ）が樹脂（Ｂ２）を含む場合、現像性の観点から、樹脂（Ｂ２）がアルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、架橋性基を含んでいてもよい。架橋性基を含む（構成単位中の置換基として架橋性基を含む）アルカリ可溶性樹脂は、光重合性とアルカリ現像性との双方の観点から好ましい。 From the viewpoint of photopolymerizability, the polymerizable base material component (B) may contain a low molecular weight photopolymerizable compound (B1) that is not a polymer and a crosslinkable group-containing resin that is a resin (B2) in combination. preferable.
When the polymerizable base material component (B) contains the resin (B2), it is preferable that the resin (B2) contains an alkali-soluble resin from the viewpoint of developability. The alkali-soluble resin may contain a crosslinkable group. An alkali-soluble resin containing a crosslinkable group (including a crosslinkable group as a substituent in the constituent unit) is preferable from the viewpoint of both photopolymerizability and alkali developability.

以下、光重合性化合物（Ｂ１）と、樹脂（Ｂ２）とについて順に説明する。 Hereinafter, the photopolymerizable compound (B1) and the resin (B2) will be described in order.

［光重合性化合物（Ｂ１）］
感光性組成物に含有される光重合性化合物（Ｂ１）としては、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を好ましく用いることができる。このエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の好適な例としては、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。 [Photopolymerizable compound (B1)]
As the photopolymerizable compound (B1) contained in the photosensitive composition, a compound having an ethylenically unsaturated double bond can be preferably used. Preferable examples of the compound having an ethylenically unsaturated double bond include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.

単官能モノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。 Examples of the monofunctional monomer include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth) acrylamide, and N-methylol ( Meta) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide- 2-Methylpropanesulfonic acid, tert-butylacrylamide sulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (Meta) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropylphthalate, Glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylamino (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3- Examples thereof include tetrafluoropropyl (meth) acrylate and half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

一方、多官能モノマーとしては、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレン－プロピレン）グリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、又はヘキサメチレンジイソシアネート等と２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物）、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ－メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物、トリアクリルホルマール、２，４，６－トリオキソヘキサヒドロ－１，３，５－トリアジン－１，３，５－トリスエタノールトリアクリレート、及び２，４，６－トリオキソヘキサヒドロ－１，３，５－トリアジン－１，３，５－トリスエタノールジアクリレート等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。 On the other hand, examples of the polyfunctional monomer include 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and 1,9-nonanediol. Di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, 1,12-dodecanediol di (meth) acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate , 2-Hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) ) Acrylic, Tripropylene Glycol Di (Meta) Acrylic, Ethylated Neopentyl Glycol Di (Meta) Acrylic, Polyethylene Glycol Di (Meta) Acrylic, Poly (ethylene-propylene) Glycol Di (Meta) Acrylic, Polytetramethylene Glycol Di () Meta) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (Meta) acrylate, trimethylolpropantri (meth) acrylate, glycerindi (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxidiethoxy) Feni Le) Propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate , Diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (ie, tolylene diisocyanate, trimethylhexa) Methylene diisocyanate, or a reaction product of hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate), methylenebis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide methylene ether, polyhydric alcohol and N-methylol (meth) acrylamide. Things, triacrylic formal, 2,4,6-trioxohexahydro-1,3,5-triazine-1,3,5-trisethanol triacrylate, and 2,4,6-trioxohexahydro-1, Examples thereof include 3,5-triazine-1,3,5-trisethanoldiacrylate. These polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

これらのエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の中でも、強度と、基板への密着性とに優れる硬化物を与える感光性組成物が得られる点から、３官能以上の多官能モノマーが好ましい。
ガラス転移点（Ｔｇ）のコントロールの観点で３官能以上の多官能モノマーと併用して単官能モノマーや２官能モノマーを用いてもよく、これらの中でも、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートが好ましい。 Among these compounds having an ethylenically unsaturated double bond, a trifunctional or higher functional monomer is preferable from the viewpoint of obtaining a photosensitive composition that gives a cured product having excellent strength and adhesion to a substrate.
From the viewpoint of controlling the glass transition point (Tg), a monofunctional monomer or a bifunctional monomer may be used in combination with a polyfunctional monomer having trifunctionality or higher, and among these, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate may be used. Is preferable.

光重合性化合物（Ｂ１）の含有量は、感光性組成物の固形分に対して５質量％以上９７質量％以下が好ましく、１０質量％以上９５質量％以下がより好ましい。感光性組成物中の光重合性化合物（Ｂ１）の含有量を上記の範囲とすることにより、硬化性が良好である。また、感光性組成物の固形分に対して６０質量％以下（好ましくは、５質量％以上４０質量％以下）とすると、感光性組成物の感度、現像性、及び解像性のバランスをとりやすい傾向がある。 The content of the photopolymerizable compound (B1) is preferably 5% by mass or more and 97% by mass or less, and more preferably 10% by mass or more and 95% by mass or less with respect to the solid content of the photosensitive composition. By setting the content of the photopolymerizable compound (B1) in the photosensitive composition within the above range, the curability is good. Further, when the content is 60% by mass or less (preferably 5% by mass or more and 40% by mass or less) with respect to the solid content of the photosensitive composition, the sensitivity, developability, and resolution of the photosensitive composition are balanced. It tends to be easy.

［樹脂（Ｂ２）］
感光性組成物は、重合性基材成分（Ｂ）として、前述の光重合性化合物（Ｂ１）とともに、樹脂（Ｂ２）を含んでいるのが好ましい。樹脂（Ｂ２）としては、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、従来から種々の感光性組成物に配合されている樹脂成分を用いることができる。
以下樹脂（Ｂ２）の好ましい例について説明する。 [Resin (B2)]
The photosensitive composition preferably contains the resin (B2) together with the above-mentioned photopolymerizable compound (B1) as the polymerizable base material component (B). The resin (B2) is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and resin components conventionally blended in various photosensitive compositions can be used.
Hereinafter, a preferable example of the resin (B2) will be described.

（架橋性基含有樹脂）
感光性組成物が、樹脂（Ｂ２）として、架橋性基含有樹脂を含有すると、該感光性組成物を用いる硬化物の形成がより容易になる傾向にある。架橋性基含有樹脂は、架橋性基を有する樹脂であり、架橋性基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位を含むものが好ましい。架橋性基としては、主に加熱により架橋性基含有樹脂の架橋を可能する官能基であれば特に限定されず、エポキシ基、エチレン性不飽和二重結合が好ましい。架橋性基は、例えば、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位及びエチレン性不飽和二重結合を有する単位からなる群から選択される少なくとも１種を含むことにより、架橋性基含有樹脂に導入することができる。 (Crosslinkable group-containing resin)
When the photosensitive composition contains a crosslinkable group-containing resin as the resin (B2), the formation of a cured product using the photosensitive composition tends to be easier. The crosslinkable group-containing resin is a resin having a crosslinkable group, and preferably contains a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a crosslinkable group. The crosslinkable group is not particularly limited as long as it is a functional group capable of crosslinking the crosslinkable group-containing resin mainly by heating, and an epoxy group and an ethylenically unsaturated double bond are preferable. The crosslinkable group includes, for example, at least one selected from the group consisting of a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an epoxy group and a unit having an ethylenically unsaturated double bond. It can be introduced into the contained resin.

架橋性基含有樹脂としては、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂が好ましい。かかる単位を有することにより、感光性組成物を用いて形成される硬化膜の基材への密着性や機械的強度を向上させることもできる。 As the crosslinkable group-containing resin, a resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an epoxy group is preferable. By having such a unit, it is possible to improve the adhesion and mechanical strength of the cured film formed by using the photosensitive composition to the substrate.

エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルは、鎖状脂肪族エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルであっても、後述するような、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルであってもよい。 The (meth) acrylic acid ester having an epoxy group is a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group, which will be described later, even if it is a (meth) acrylic acid ester having a chain aliphatic epoxy group. There may be.

エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルは、芳香族基を有していてもよい。本明細書において、芳香族基は、芳香環を有する基である。芳香族基を構成する芳香環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。芳香族基を有し、且つエポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルの例としては、４－グリシジルオキシフェニル（メタ）アクリレート、３－グリシジルオキシフェニル（メタ）アクリレート、２－グリシジルオキシフェニル（メタ）アクリレート、４－グリシジルオキシフェニルメチル（メタ）アクリレート、３－グリシジルオキシフェニルメチル（メタ）アクリレート、及び２－グリシジルオキシフェニルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。 The (meth) acrylic acid ester having an epoxy group may have an aromatic group. As used herein, an aromatic group is a group having an aromatic ring. Examples of the aromatic ring constituting the aromatic group include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of (meth) acrylic acid esters having an aromatic group and an epoxy group include 4-glycidyloxyphenyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxyphenyl (meth) acrylate, and 2-glycidyloxyphenyl (meth). ) Acrylate, 4-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate, 2-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate and the like.

感光性組成物を用いて形成される膜が透明性を要求される場合、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸は、芳香族基を有さないものが好ましい。 When the film formed by using the photosensitive composition is required to be transparent, the (meth) acrylic acid having an epoxy group is preferably one having no aromatic group.

鎖状脂肪族エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルの例としては、エポキシアルキル（メタ）アクリレート、及びエポキシアルキルオキシアルキル（メタ）アクリレート等のような、エステル基（－Ｏ－ＣＯ－）中のオキシ基（－Ｏ－）に鎖状脂肪族エポキシ基が結合する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。このような（メタ）アクリル酸エステルが有する鎖状脂肪族エポキシ基は、鎖中に１又は複数のオキシ基（－Ｏ－）を含んでいてもよい。鎖状脂肪族エポキシ基の炭素原子数は、特に限定されず、３以上２０以下が好ましく、３以上１５以下がより好ましく、３以上１０以下が特に好ましい。 Examples of (meth) acrylic acid esters having a chain aliphatic epoxy group include in ester groups (-O-CO-) such as epoxyalkyl (meth) acrylates, epoxyalkyloxyalkyl (meth) acrylates and the like. Examples thereof include a (meth) acrylic acid ester in which a chain aliphatic epoxy group is bonded to an oxy group (—O—) of the above. The chain aliphatic epoxy group contained in such a (meth) acrylic acid ester may contain one or more oxy groups (—O—) in the chain. The number of carbon atoms of the chain aliphatic epoxy group is not particularly limited, and is preferably 3 or more and 20 or less, more preferably 3 or more and 15 or less, and particularly preferably 3 or more and 10 or less.

鎖状脂肪族エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、６，７－エポキシヘプチル（メタ）アクリレート等のエポキシアルキル（メタ）アクリレート；２－グリシジルオキシエチル（メタ）アクリレート、３－グリシジルオキシ－ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、４－グリシジルオキシ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、５－グリシジルオキシ－ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、６－グリシジルオキシ－ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート等のエポキシアルキルオキシアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。 Specific examples of the (meth) acrylic acid ester having a chain aliphatic epoxy group include glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, and 6,7-. Epoxyalkyl (meth) acrylates such as epoxy heptyl (meth) acrylates; 2-glycidyloxyethyl (meth) acrylates, 3-glycidyloxy-n-propyl (meth) acrylates, 4-glycidyloxy-n-butyl (meth) acrylates. , 5-Glysidyloxy-n-hexyl (meth) acrylates, 6-glycidyloxy-n-hexyl (meth) acrylates and the like, and examples thereof include epoxyalkyloxyalkyl (meth) acrylates.

脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、例えば下記式（ｄ２－１）～（ｄ２－１６）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、感光性組成物の現像性を適度なものとするためには、下記式（ｄ２－１）～（ｄ２－６）で表される化合物が好ましく、下記式（ｄ２－１）～（ｄ２－４）で表される化合物がより好ましい。
また、これら各化合物に関し、脂環に対するエステル基の酸素原子の結合部位はここで示されているものに限られず、一部位置異性体を含んでいてもよい。 Specific examples of the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group include compounds represented by the following formulas (d2-1) to (d2-16). Among these, in order to make the developability of the photosensitive composition appropriate, the compounds represented by the following formulas (d2-1) to (d2-6) are preferable, and the following formulas (d2-1) to (d2-1) to The compound represented by (d2-4) is more preferable.
Further, with respect to each of these compounds, the binding site of the oxygen atom of the ester group to the alicyclic is not limited to that shown here, and may contain a partial positional isomer.

Figure 0007051321000036
Figure 0007051321000036

上記式中、Ｒｄ４は水素原子又はメチル基を示し、Ｒｄ５は炭素原子数１以上６以下の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒｄ６は炭素原子数１以上１０以下の２価の炭化水素基を示し、ｎは０以上１０以下の整数を示す。Ｒｄ５としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒｄ６としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、－ＣＨ２－Ｐｈ－ＣＨ２－（Ｐｈはフェニレン基を示す）が好ましい。 In the above formula, R d4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R d5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, and R d6 represents 2 having 1 or more and 10 or less carbon atoms. It indicates a valent hydrocarbon group, and n indicates an integer of 0 or more and 10 or less. As R d5 , a linear or branched alkylene group, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group is preferable. Examples of R d6 include methylene group, ethylene group, propylene group, tetramethylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, phenylene group, cyclohexylene group, -CH2 - Ph-CH2- (Ph is (Indicating a phenylene group) is preferable.

エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルが、上記のような脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルであると、鎖状脂肪族エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに比べ、該（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位を含む架橋性基含有樹脂、ひいては感光性組成物の保管安定性に優れ、また、硬化膜の形成時にプリベーク可能な温度の範囲（プリベーク温度マージン）が広くなるため、好ましい。 When the (meth) acrylic acid ester having an epoxy group is a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group as described above, it is compared with a (meth) acrylic acid ester having a chain aliphatic epoxy group. The crosslinkable group-containing resin containing a unit derived from the (meth) acrylic acid ester, and thus the photosensitive composition, has excellent storage stability, and the range of temperatures that can be prebaked during the formation of the cured film (prebaking temperature margin) is set. It is preferable because it becomes wider.

架橋性基含有樹脂は、また、架橋性基としてエチレン性不飽和二重結合を有する単位を含む樹脂（本明細書において、「エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂」ということがある。）であってもよい。該エチレン性不飽和二重結合は、（メタ）アクリロイルオキシ基を構成する一部であることが好ましい。 The crosslinkable group-containing resin is also a resin containing a unit having an ethylenically unsaturated double bond as a crosslinkable group (in the present specification, it may be referred to as "a resin having an ethylenically unsaturated double bond"). May be. The ethylenically unsaturated double bond is preferably part of the (meth) acryloyloxy group.

エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する樹脂を挙げることができる。
（メタ）アクリロイルオキシ基を有する樹脂は、例えば、不飽和カルボン酸に由来する単位を含む重合体に含まれるカルボキシ基の少なくとも一部と、上記脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステル及び／又は上記鎖状脂肪族エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルとを反応させることにより、調製することができる。 Examples of the resin having an ethylenically unsaturated double bond include a resin having a (meth) acryloyloxy group.
The resin having a (meth) acryloyloxy group is, for example, a (meth) acrylic acid ester having at least a part of carboxy groups contained in a polymer containing a unit derived from an unsaturated carboxylic acid and the alicyclic epoxy group. And / or can be prepared by reacting with the (meth) acrylic acid ester having the above-mentioned chain aliphatic epoxy group.

架橋性基含有樹脂がエチレン性不飽和二重結合を有する樹脂である場合、光重合性を有するものであってもよい。感光性組成物が、樹脂（Ｂ２）としてかかるエチレン性不飽和二重結合を有する光重合性樹脂を含有することにより、感光性組成物の硬化性を向上させ、パターン形成を容易にすることができる。 When the crosslinkable group-containing resin is a resin having an ethylenically unsaturated double bond, it may have photopolymerizability. By containing the photopolymerizable resin having such an ethylenically unsaturated double bond as the resin (B2) in the photosensitive composition, the curability of the photosensitive composition can be improved and pattern formation can be facilitated. can.

架橋性基含有樹脂中において、該樹脂の質量に対して、架橋性基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位の量は、２０質量％以上８０質量％以下が好ましく、３０質量％以上７０質量％以下がより好ましく、３３質量％以上６５質量％以下がさらに好ましい。
架橋性基含有樹脂中において、該樹脂の質量に対するエポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位の量は、１０質量％以上９０質量％以下が好ましく、１５質量％以上８０質量％以下がより好ましく、２０質量％以上７０質量％以下がさらにより好ましい。
架橋性基含有樹脂中において、該樹脂の質量に対するエチレン性不飽和二重結合を有する単位の量は、１質量％以上４０質量％以下が好ましく、５質量％以上３５質量％以下がより好ましい。
架橋性基含有樹脂としては、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルから選択される１種以上の単量体の重合体が好ましく、該重合体である場合も、該重合体における、架橋性基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位の含有量は、樹脂の質量に対して、上記と同様である。 In the crosslinkable group-containing resin, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having a crosslinkable group is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, preferably 30% by mass or more, based on the mass of the resin. 70% by mass or less is more preferable, and 33% by mass or more and 65% by mass or less is further preferable.
In the crosslinkable group-containing resin, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an epoxy group with respect to the mass of the resin is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, and 15% by mass or more and 80% by mass or less. Is more preferable, and 20% by mass or more and 70% by mass or less is even more preferable.
In the crosslinkable group-containing resin, the amount of the unit having an ethylenically unsaturated double bond with respect to the mass of the resin is preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more and 35% by mass or less.
As the crosslinkable group-containing resin, a polymer of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester is preferable, and even when the polymer is used, the polymer in the polymer is used. The content of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having a crosslinkable group is the same as above with respect to the mass of the resin.

架橋性基含有樹脂は、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位と、エチレン性不飽和二重結合を有する単位とを両方含むものであってもよいが、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位又はエチレン性不飽和二重結合を有する単位のいずれかを含むものであってよく、架橋性基としてはエポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位のみを含むものが好ましい。 The crosslinkable group-containing resin may contain both a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an epoxy group and a unit having an ethylenically unsaturated double bond, but has an epoxy group ( It may contain either a unit derived from a meta) acrylic acid ester or a unit having an ethylenically unsaturated double bond, and the crosslinkable group is a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an epoxy group. Those containing only are preferable.

架橋性基含有樹脂は、架橋性基を有する樹脂であるとともに、アルカリ可溶性樹脂でもあることが好ましい。感光性組成物は、かかるアルカリ可溶性樹脂を配合することで、感光性組成物にアルカリ現像性を付与することができる。 The crosslinkable group-containing resin is preferably a resin having a crosslinkable group and is also preferably an alkali-soluble resin. By blending the photosensitive composition with such an alkali-soluble resin, it is possible to impart alkali developability to the photosensitive composition.

本明細書においてアルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度２０質量％の樹脂溶液（溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）により、膜厚１μｍの樹脂膜を基板上に形成し、濃度０．０５質量％のＫＯＨ水溶液に１分間浸漬した際に、膜厚０．０１μｍ以上溶解するものをいう。 In the present specification, the alkali-soluble resin means a resin film having a thickness of 1 μm formed on a substrate by a resin solution (solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate) having a resin concentration of 20% by mass, and KOH having a concentration of 0.05% by mass. A solvent that dissolves in a film thickness of 0.01 μm or more when immersed in an aqueous solution for 1 minute.

架橋性基含有樹脂は、アルカリ可溶性樹脂でもある場合、通常、アルカリ可溶性基を有する。アルカリ可溶性基としては、架橋性基含有樹脂に上記のアルカリに対する溶解性を付与する官能基であれば特に限定されず、カルボキシ基又は脱保護してカルボキシ基を生じる基が好ましく、例えば、後述の不飽和カルボン酸に由来する単位を含むことにより、また、アルカリ可溶性基を付与する（メタ）アクリル酸エステルを含む単量体を重合することにより、架橋性基含有樹脂に導入することができる。本明細書において、アルカリ可溶性基を付与する（メタ）アクリル酸エステルは、上述の架橋性基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含まないものとする。 The crosslinkable group-containing resin usually has an alkali-soluble group when it is also an alkali-soluble resin. The alkali-soluble group is not particularly limited as long as it is a functional group that imparts solubility to the above-mentioned alkali to the crosslinkable group-containing resin, and a carboxy group or a group that is deprotected to generate a carboxy group is preferable, and for example, it will be described later. It can be introduced into a crosslinkable group-containing resin by containing a unit derived from an unsaturated carboxylic acid and by polymerizing a monomer containing a (meth) acrylic acid ester that imparts an alkali-soluble group. In the present specification, the (meth) acrylic acid ester imparting an alkali-soluble group shall not include the (meth) acrylic acid ester having the above-mentioned crosslinkable group.

架橋性基含有樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂でもある場合、架橋性基含有樹脂の上記アルカリに対する溶解性を抑制ないし抑止する官能基（以下、「アルカリ溶解抑止基」又は「溶解抑止基」ということがある。）を有しない樹脂であってもよいが、アルカリ可溶性基及び溶解抑止基を有する樹脂が好ましい。溶解抑止基は、架橋性基含有樹脂のアルカリに対する溶解性を低下させる機能がある点で、アルカリ難溶解性基ともいえる。架橋性基含有樹脂は、アルカリ可溶性基及び溶解抑止基を有することで、アルカリに対する溶解性を調整することができ、これにより、感光性組成物のアルカリ現像性を調整することができる。溶解抑止基としては、例えば、後述のスチレン又はスチレン誘導体；不飽和イミド類；脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステル（但し、エポキシ基を有するものを除く。）；ベンジル（メタ）アクリレート等の芳香族基を有する（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。本明細書において、溶解抑止基を付与する（メタ）アクリル酸エステルは、上述の架橋性基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含まないものとする。 When the crosslinkable group-containing resin is also an alkali-soluble resin, the functional group that suppresses or suppresses the solubility of the crosslinkable group-containing resin in the alkali (hereinafter referred to as "alkali dissolution inhibitory group" or "dissolution inhibitory group"). However, a resin having an alkali-soluble group and a dissolution-suppressing group is preferable. The dissolution-inhibiting group can be said to be an alkali-poorly soluble group in that it has a function of reducing the solubility of the crosslinkable group-containing resin in alkali. Since the crosslinkable group-containing resin has an alkali-soluble group and a dissolution-suppressing group, the solubility in alkali can be adjusted, whereby the alkali developability of the photosensitive composition can be adjusted. Examples of the dissolution inhibitoring group include styrene or a styrene derivative described below; unsaturated imides; (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton (excluding those having an epoxy group); benzyl (meth) acrylate. Examples thereof include (meth) acrylic acid esters having an aromatic group such as. In the present specification, the (meth) acrylic acid ester to which a dissolution-suppressing group is imparted does not include the (meth) acrylic acid ester having the above-mentioned crosslinkable group.

架橋性基含有樹脂の中では、製膜性に優れる点や、単量体の選択によって樹脂の特性を調整しやすいこと等から、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体が好ましい。エチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸アミド；クロトン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、これらジカルボン酸の無水物；酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、及びアリルオキシエタノールのようなアリル化合物；ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、１－メチル－２，２－ジメチルプロピルビニルエーテル、２－エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル－２，４－ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、及びビニルアントラニルエーテルのようなビニルエーテル；ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル－β－フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、及びナフトエ酸ビニルのようなビニルエステル；スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、４－メトキシ－３－メチルスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、２－ブロモ－４－トリフルオロメチルスチレン、及び４－フルオロ－３－トリフルオロメチルスチレンのようなスチレン又はスチレン誘導体；エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、３－メチル－１－ブテン、３－メチル－１－ペンテン、３－エチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ペンテン、４－エチル－１－ヘキセン、３－エチル－１－ヘキセン、１－オクテン、１－デセン、１－ドデセン、１－テトラデセン、１－ヘキサデセン、１－オクタデセン、及び１－エイコセンのようなオレフィン；マレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類；が挙げられる。 Among the crosslinkable group-containing resins, a polymer of a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is used because it has excellent film-forming properties and the characteristics of the resin can be easily adjusted by selecting a monomer. preferable. Examples of the monomer having an ethylenically unsaturated double bond include (meth) allylic acid; (meth) allylic acid ester; (meth) allylic acid amide; crotonic acid; maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, and mesaconic acid. Itaconic acid, an anhydride of these dicarboxylic acids; such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate, and allyloxyethanol. Allyl compounds; hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, Diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, vinyl phenyl ether, vinyl trill ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, And vinyl ethers such as vinyl allyl ether; vinyl butylate, vinylisobutyrate, vinyltrimethylacetate, vinyldiethylacetate, vinylvalate, vinylcaproate, vinylchloroacetate, vinyldichloroacetate, vinylmethoxyacetate, vinylbutoxyacetate, Vinyl esters such as vinylphenyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, and vinyl naphthoate; styrene, Methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, Methoxystyrene, 4-methoxy-3-methylstyrene, dimethoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyle , Trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, and 4-fluoro-3-trifluoromethyl. Styrene or styrene derivatives such as styrene; ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, 3-ethyl-1-pentene, 4 -Methyl-1-pentene, 4-methyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 4-ethyl-1-hexene, 3-ethyl-1-hexene , 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, and 1-eicosen; unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, etc. Kind;

架橋性基含有樹脂は、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体である場合、通常、不飽和カルボン酸に由来する単位を含む。不飽和カルボン酸の例としては、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸アミド；クロトン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、これらジカルボン酸の無水物が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂として使用されるエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体に含まれる、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂が所望するアルカリ可溶性を有する限り特に限定されない。アルカリ可溶性樹脂として使用される樹脂中の、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂の質量に対して、５質量％以上２５質量％以下が好ましく、８質量％以上１６質量％以下がより好ましく、架橋性基含有樹脂が後述の溶解抑止基を有する場合、特にこれらの量が好ましい。架橋性基含有樹脂が後述の溶解抑止基を有しない場合、該樹脂中の、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂の質量に対して、５０質量％以上８０質量％以下が好ましく、６０質量％以上７０質量％以下がより好ましい。 The crosslinkable group-containing resin, when it is a polymer of a monomer having an ethylenically unsaturated double bond, usually contains a unit derived from an unsaturated carboxylic acid. Examples of unsaturated carboxylic acids include (meth) acrylic acid; (meth) acrylic acid amide; crotonic acid; maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, and anhydrides of these dicarboxylic acids. The amount of the unit derived from the unsaturated carboxylic acid contained in the polymer of the monomer having an ethylenically unsaturated double bond used as the alkali-soluble resin is not particularly limited as long as the resin has the desired alkali solubility. .. The amount of the unit derived from the unsaturated carboxylic acid in the resin used as the alkali-soluble resin is preferably 5% by mass or more and 25% by mass or less, and 8% by mass or more and 16% by mass or less with respect to the mass of the resin. More preferably, when the crosslinkable group-containing resin has a dissolution-suppressing group described later, these amounts are particularly preferable. When the crosslinkable group-containing resin does not have the dissolution-suppressing group described later, the amount of the unit derived from the unsaturated carboxylic acid in the resin is preferably 50% by mass or more and 80% by mass or less with respect to the mass of the resin. , 60% by mass or more and 70% by mass or less is more preferable.

以上例示した単量体から選択される１種以上の単量体の重合体である、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体の中では、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルから選択される１種以上の単量体の重合体が好ましい。以下、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルから選択される１種以上の単量体の重合体について説明する。 Among the polymers of monomers having an ethylenically unsaturated double bond, which are polymers of one or more types of monomers selected from the monomers exemplified above, (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid and (meth) ) A polymer of one or more monomers selected from acrylic acid esters is preferable. Hereinafter, a polymer of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester will be described.

（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルから選択される１種以上の単量体の重合体の調製に用いられる、（メタ）アクリル酸エステルは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、公知の（メタ）アクリル酸エステルから適宜選択される。 The (meth) acrylic acid ester used in the preparation of a polymer of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester is particularly suitable as long as it does not impair the object of the present invention. It is not limited, and is appropriately selected from known (meth) acrylic acid esters.

（メタ）アクリル酸エステルの好適な例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ｔ－オクチル（メタ）アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル（メタ）アクリレート；クロロエチル（メタ）アクリレート、２，２－ジメチルヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等の芳香族基を有する（メタ）アクリル酸エステル；脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルの詳細については後述する。 Preferable examples of the (meth) acrylic acid ester are linear or linear such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylate and the like. Branched chain alkyl (meth) acrylates; chloroethyl (meth) acrylates, 2,2-dimethylhydroxypropyl (meth) acrylates, 2-hydroxyethyl (meth) acrylates, trimethylolpropane mono (meth) acrylates, furfuryl (meth) Acrylate; (meth) acrylic acid ester having an aromatic group such as benzyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton can be mentioned. Details of the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton will be described later.

また、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルから選択される１種以上の単量体の重合体の中では、感光性組成物を用いて透過率の高い絶縁膜を形成しやすいことから、脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂も好ましい。本明細書において、脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルは、上述の架橋性基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含まないものとする。 Further, among the polymers of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, it is easy to form an insulating film having high transmittance by using the photosensitive composition. Therefore, a resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton is also preferable. In the present specification, the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton shall not contain the (meth) acrylic acid ester having the above-mentioned crosslinkable group.

脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルにおいて、脂環式骨格を有する基は、脂環式炭化水素基を有する基であることが好ましい。脂環式骨格を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。 In the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton, the group having an alicyclic skeleton is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group. The alicyclic group constituting the alicyclic skeleton may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, a tetracyclododecyl group and the like.

脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルのうち、脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば下記式（ｄ１－１）～（ｄ１－８）で表される化合物が挙げられる。これらの中では、下記式（ｄ１－３）～（ｄ１－８）で表される化合物が好ましく、下記式（ｄ１－３）又は（ｄ１－４）で表される化合物がより好ましい。 Among the (meth) acrylic acid esters having an alicyclic skeleton, the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group is represented by, for example, the following formulas (d1-1) to (d1-8). Examples include compounds. Among these, the compounds represented by the following formulas (d1-3) to (d1-8) are preferable, and the compounds represented by the following formulas (d1-3) or (d1-4) are more preferable.

Figure 0007051321000037
Figure 0007051321000037

上記式中、Ｒｄ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒｄ２は単結合又は炭素原子数１以上６以下の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒｄ３は水素原子又は炭素原子数１以上５以下のアルキル基を示す。Ｒｄ２としては、単結合、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒｄ３としては、メチル基、エチル基が好ましい。 In the above formula, R d1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R d2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, and R d3 represents a hydrogen atom or a carbon atom number. Indicates an alkyl group of 1 or more and 5 or less. As R d2 , a single bond, a linear or branched alkylene group, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group is preferable. As R d3 , a methyl group and an ethyl group are preferable.

架橋性基含有樹脂は、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルから選択される１種以上の単量体に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂であることが好ましい。かかる樹脂は、さらに、脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位をも含む樹脂であってもよく、その場合、樹脂中の脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位の量は、１０質量％以上３５質量％以下であってもよく、１５質量％以上３０質量％以下であってもよく、２０質量％以上２５質量％以下であってもよい。 The crosslinkable group-containing resin is a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group and a unit derived from one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester. It is preferable that the resin contains the derived unit. The resin may further contain a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton, in which case the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton in the resin. The amount of the unit derived from the above may be 10% by mass or more and 35% by mass or less, 15% by mass or more and 30% by mass or less, or 20% by mass or more and 25% by mass or less.

また、脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位を含む、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルから選択される１種以上の単量体の重合体の中では、（メタ）アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂が好ましい。このような架橋性基含有樹脂を含む感光性組成物を用いて形成される膜は、基材に対する密着性に優れる。また、このような樹脂を用いる場合、樹脂に含まれるカルボキシ基と、脂環式エポキシ基との自己反応を生じさせることが可能である。このため、このような樹脂を含む感光性組成物を用いると、膜を加熱する方法等を用いて、カルボキシ基と、脂環式エポキシ基との自己反応を生じさせることによって、形成される膜の硬度のような機械的物性を向上させることができる。 Further, among the polymers of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, which contain a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton. , A resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group is preferable. A film formed by using a photosensitive composition containing such a crosslinkable group-containing resin has excellent adhesion to a substrate. Further, when such a resin is used, it is possible to cause a self-reaction between the carboxy group contained in the resin and the alicyclic epoxy group. Therefore, when a photosensitive composition containing such a resin is used, a film formed by causing a self-reaction between a carboxy group and an alicyclic epoxy group by using a method of heating the film or the like. Mechanical properties such as hardness can be improved.

（メタ）アクリル酸に由来する単位（架橋性基を有するものを除く。）と、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、前者（メタ）アクリル酸に由来する単位の量は、１質量％以上９５質量％以下が好ましく、１０質量％以上７０質量％以下がより好ましい。該（メタ）アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位の量は、１質量％以上９５質量％以下が好ましく、１０質量％以上５０質量％以下がより好ましい。 In a resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid (excluding those having a crosslinkable group) and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group, the former in the resin. The amount of the unit derived from (meth) acrylic acid is preferably 1% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 10% by mass or more and 70% by mass or less. In a resin containing a unit derived from the (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group, the (meth) acrylic having an alicyclic epoxy group in the resin. The amount of the unit derived from the acid ester is preferably 1% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less.

（メタ）アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位とを含む、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルから選択される１種以上の単量体の重合体の中では、（メタ）アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂であってもよい。 One selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, which comprises a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group. The above-mentioned monomer polymer has a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and an alicyclic epoxy group. It may be a resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid ester.

（メタ）アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、（メタ）アクリル酸に由来する単位の量は、１質量％以上９５質量％以下が好ましく、１０質量％以上５０質量％以下がより好ましい。（メタ）アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位の量は、１質量％以上９５質量％以下が好ましく、１０質量％以上７０質量％以下がより好ましい。（メタ）アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位の量は、１質量％以上９５質量％以下が好ましく、３０質量％以上８０質量％以下がより好ましい。 A unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group. In the resin contained, the amount of the unit derived from (meth) acrylic acid in the resin is preferably 1% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less. A unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group. In the contained resin, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group in the resin is preferably 1% by mass or more and 95% by mass or less, and 10% by mass or more and 70% by mass or less. More preferred. A unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group. In the contained resin, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group in the resin is preferably 1% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 30% by mass or more and 80% by mass or less. preferable.

架橋性基含有樹脂の質量平均分子量（Ｍｗ：ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）のポリスチレン換算による測定値。本明細書において同じ。）は、２０００以上２０００００以下であることが好ましく、２０００以上１８０００以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。 The mass average molecular weight of the crosslinkable group-containing resin (Mw: measured value by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene. The same applies in the present specification) is preferably 2000 or more and 200,000 or less, preferably 2000 or more and 18,000 or less. It is more preferable to have. Within the above range, it tends to be easy to balance the film forming ability of the photosensitive composition and the developability after exposure.

（カルド構造を有する樹脂）
以下に説明するカルド構造を有する樹脂（以下、「カルド樹脂」とも記す。）も、樹脂（Ｂ２）として好適に用いることができる。
カルド樹脂としては、その構造中にカルド骨格を有し、所定のアルカリ可溶性を有する樹脂を用いることができる。カルド骨格とは、第１の環状構造を構成している１つの環炭素原子に、第２の環状構造と第３の環状構造とが結合した骨格をいう。なお、第２の環状構造と、第３の環状構造とは、同一の構造であっても異なった構造であってもよい。
カルド骨格の代表的な例としては、フルオレン環の９位の炭素原子に２つの芳香環（例えばベンゼン環）が結合した骨格が挙げられる。 (Resin with cardo structure)
A resin having a cardo structure described below (hereinafter, also referred to as “cardo resin”) can also be suitably used as the resin (B2).
As the cardo resin, a resin having a cardo skeleton in its structure and having a predetermined alkali solubility can be used. The cardo skeleton is a skeleton in which a second cyclic structure and a third cyclic structure are bonded to one ring carbon atom constituting the first cyclic structure. The second annular structure and the third annular structure may have the same structure or different structures.
A typical example of a cardo skeleton is a skeleton in which two aromatic rings (for example, a benzene ring) are bonded to a carbon atom at the 9-position of the fluorene ring.

カルド構造を有する樹脂としては、特に限定されるものではなく、従来公知の樹脂を用いることができる。その中でも、下記式（ｂ－１）で表される樹脂が好ましい。
下記式（ｂ－１）で表される樹脂は、その構造中にカルボキシ基と、エチレン性不飽和二重結等とを有するため、架橋性基を有するアルカリ可溶性樹脂としての役割を果たす。 The resin having a cardo structure is not particularly limited, and conventionally known resins can be used. Among them, the resin represented by the following formula (b-1) is preferable.
Since the resin represented by the following formula (b-1) has a carboxy group and an ethylenically unsaturated double bond in its structure, it plays a role as an alkali-soluble resin having a crosslinkable group.

Figure 0007051321000038
Figure 0007051321000038

式（ｂ－１）中、Ｘｂは、下記式（ｂ－２）で表される基を示す。ｔ１は０以上２０以下の整数を示す。 In the formula (b-1), X b represents a group represented by the following formula (b-2). t1 represents an integer of 0 or more and 20 or less.

Figure 0007051321000039
Figure 0007051321000039

上記式（ｂ－２）中、Ｒｂ１１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ｒｂ１２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒｂ１３は、それぞれ独立に直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、ｔ２は、０又は１を示し、Ｗｂは、下記式（ｂ－３）で表される基を示す。 In the above formula (b-2), R b11 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, or a halogen atom, and R b12 independently represents a hydrogen atom or a methyl group. As shown, R b13 independently represents a linear or branched alkylene group, t2 represents 0 or 1, and W b represents a group represented by the following formula (b-3).

Figure 0007051321000040
Figure 0007051321000040

式（ｂ－２）中、Ｒｂ１３としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基が好ましく、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基がより好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキレン基が特に好ましく、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、及びプロパン１，３－ジイル基が最も好ましい。 In the formula (b-2), as R b13 , an alkylene group having 1 or more and 20 or less carbon atoms is preferable, an alkylene group having 1 or more and 10 or less carbon atoms is more preferable, and an alkylene group having 1 or more and 6 or less carbon atoms is preferable. Is particularly preferable, and ethane-1,2-diyl group, propane-1,2-diyl group, and propane1,3-diyl group are most preferable.

式（ｂ－３）中の環Ａｂは、芳香族環と縮合していてもよく置換基を有していてもよい脂肪族環を示す。脂肪族環は、脂肪族炭化水素環であっても、脂肪族複素環であってもよい。
脂肪族環としては、モノシクロアルカン、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカン等が挙げられる。
具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のモノシクロアルカンや、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンが挙げられる。
脂肪族環に縮合してもよい芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族複素環でもよく、芳香族炭化水素環が好ましい。具体的にはベンゼン環、及びナフタレン環が好ましい。 Ring Ab in formula ( b -3) represents an aliphatic ring that may be condensed with an aromatic ring or may have a substituent. The aliphatic ring may be an aliphatic hydrocarbon ring or an aliphatic heterocycle.
Examples of the aliphatic ring include monocycloalkane, bicycloalkane, tricycloalkane, tetracycloalkane and the like.
Specific examples thereof include monocycloalkanes such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and cyclooctane, and adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane and tetracyclododecane.
The aromatic ring that may be condensed with the aliphatic ring may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle, and an aromatic hydrocarbon ring is preferable. Specifically, a benzene ring and a naphthalene ring are preferable.

式（ｂ－３）で表される２価基の好適な例としては、下記の基が挙げられる。

Figure 0007051321000041
Preferable examples of the divalent group represented by the formula (b-3) include the following groups.
Figure 0007051321000041

式（ｂ－１）中の２価基Ｘｂは、残基Ｚｂを与えるテトラカルボン酸二無水物と、下式（ｂ－２ａ）で表されるジオール化合物とを反応させることにより、カルド樹脂中に導入される。

Figure 0007051321000042
The divalent group X b in the formula (b-1) is a cardo by reacting a tetracarboxylic dianhydride giving the residue Z b with a diol compound represented by the following formula (b-2a). Introduced in the resin.
Figure 0007051321000042

式（ｂ－２ａ）中、Ｒｂ１１、Ｒｂ１２、Ｒｂ１３、及びｔ２は、式（ｂ－２）について説明した通りである。式（ｂ－２ａ）中の環Ａｂについては、式（ｂ－３）について説明した通りである。 In the formula (b-2a), R b11 , R b12 , R b13 , and t2 are as described in the formula (b-2). The ring Ab in the formula ( b -2a) is as described in the formula (b-3).

式（ｂ－２ａ）で表されるジオール化合物は、例えば、以下の方法により製造し得る。
まず、下記式（ｂ－２ｂ）で表されるジオール化合物が有するフェノール性水酸基中の水素原子を、必要に応じて、常法に従って、－Ｒｂ１３－ＯＨで表される基に置換した後、エピクロルヒドリン等を用いてグリシジル化して、下記式（ｂ－２ｃ）で表されるエポキシ化合物を得る。
次いで、式（ｂ－２ｃ）で表されるエポキシ化合物を、アクリル酸又はメタアクリル酸と反応させることにより、式（ｂ－２ａ）で表されるジオール化合物が得られる。
式（ｂ－２ｂ）及び式（ｂ－２ｃ）中、Ｒｂ１１、Ｒｂ１３、及びｔ２は、式（ｂ－２）について説明した通りである。式（ｂ－２ｂ）及び式（ｂ－２ｃ）中の環Ａｂについては、式（ｂ－３）について説明した通りである。
なお、式（ｂ－２ａ）で表されるジオール化合物の製造方法は、上記の方法に限定されない。

Figure 0007051321000043
The diol compound represented by the formula (b-2a) can be produced, for example, by the following method.
First, the hydrogen atom in the phenolic hydroxyl group of the diol compound represented by the following formula (b-2b) is replaced with a group represented by -R b13 -OH according to a conventional method, if necessary. Glysidylation is performed using epichlorohydrin or the like to obtain an epoxy compound represented by the following formula (b-2c).
Then, the epoxy compound represented by the formula (b-2c) is reacted with acrylic acid or methacrylic acid to obtain a diol compound represented by the formula (b-2a).
In the formula (b-2b) and the formula (b-2c), R b11 , R b13 , and t2 are as described for the formula (b-2). The ring Ab in the formula (b-2b) and the formula ( b -2c) is as described in the formula (b-3).
The method for producing the diol compound represented by the formula (b-2a) is not limited to the above method.
Figure 0007051321000043

式（ｂ－２ｂ）で表されるジオール化合物の好適な例としては、以下のジオール化合物が挙げられる。

Figure 0007051321000044
Preferable examples of the diol compound represented by the formula (b-2b) include the following diol compounds.
Figure 0007051321000044

上記式（ｂ－１）中、Ｒｂ０は水素原子又は－ＣＯ－Ｙｂ－ＣＯＯＨで表される基である。ここで、Ｙｂは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基（－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－）を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。 In the above formula (b-1), R b0 is a hydrogen atom or a group represented by -CO-Y b -COOH. Here, Y b indicates a residue obtained by removing the acid anhydride group (-CO-O-CO-) from the dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic acid anhydrides are phthalic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, and methyltetrahydro. Phthalic anhydride, glutaric anhydride and the like can be mentioned.

また、上記式（ｂ－１）中、Ｚｂは、テトラカルボン酸二無水物から２個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、下記式（ｂ－４）で表されるテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式（ｂ－１）中、ｔ１は、０以上２０以下の整数を示す。 Further, in the above formula (b-1), Z b indicates a residue obtained by removing two acid anhydride groups from the tetracarboxylic dianhydride. Examples of tetracarboxylic acid dianhydrides include tetracarboxylic acid dianhydride represented by the following formula (b-4), pyromellitic acid dianhydride, benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, and biphenyltetracarboxylic acid dianhydride. Examples thereof include biphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride.
Further, in the above equation (b-1), t1 represents an integer of 0 or more and 20 or less.

Figure 0007051321000045
（式（ｂ－４）中、Ｒｂ１４、Ｒｂ１５、及びＲｂ１６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基及びフッ素原子からなる群より選択される１種を示し、ｔ３は、０以上１２以下の整数を示す。）
Figure 0007051321000045
 (In the formula (b-4), R b14 , R b15 , and R b16 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms, and a fluorine atom. Indicated, t3 indicates an integer of 0 or more and 12 or less.)

式（ｂ－４）中のＲｂ１４として選択され得るアルキル基は、炭素原子数が１以上１０以下のアルキル基である。アルキル基の備える炭素原子数をこの範囲に設定することで、得られるカルボン酸エステルの耐熱性を一段と向上させることができる。Ｒｂ１４がアルキル基である場合、その炭素原子数は、耐熱性に優れるカルド樹脂を得やすい点から、１以上６以下が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上４以下がさらに好ましく、１以上３以下が特に好ましい。
Ｒｂ１４がアルキル基である場合、当該アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。 The alkyl group that can be selected as R b14 in the formula (b-4) is an alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms. By setting the number of carbon atoms contained in the alkyl group in this range, the heat resistance of the obtained carboxylic acid ester can be further improved. When R b14 is an alkyl group, the number of carbon atoms thereof is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1 or more and 5 or less, still more preferably 1 or more and 4 or less, from the viewpoint that a cardo resin having excellent heat resistance can be easily obtained. 1 or more and 3 or less are particularly preferable.
When R b14 is an alkyl group, the alkyl group may be linear or branched.

式（ｂ－４）中のＲｂ１４としては、耐熱性に優れるカルド樹脂を得やすい点から、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１以上１０以下のアルキル基がより好ましい。式（ｂ－４）中のＲｂ１４は、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基又はイソプロピル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
式（ｂ－４）中の複数のＲｂ１４は、高純度のテトラカルボン酸二無水物の調製が容易であることから、同一の基であるのが好ましい。 As R b14 in the formula (b-4), a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms is more preferable independently from the viewpoint that a cardo resin having excellent heat resistance can be easily obtained. As R b14 in the formula (b-4), a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group is more preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is particularly preferable.
The plurality of R b14s in the formula (b-4) are preferably the same group because it is easy to prepare a high-purity tetracarboxylic dianhydride.

式（ｂ－４）中のｔ３は０以上１２以下の整数を示す。ｔ３の値を１２以下とすることによって、テトラカルボン酸二無水物の精製を容易にすることができる。
テトラカルボン酸二無水物の精製が容易である点から、ｔ３の上限は５が好ましく、３がより好ましい。
テトラカルボン酸二無水物の化学的安定性の点から、ｔ３の下限は１が好ましく、２がより好ましい。
式（ｂ－４）中のｔ３は、２又は３が特に好ましい。 T3 in the equation (b-4) indicates an integer of 0 or more and 12 or less. By setting the value of t3 to 12 or less, purification of the tetracarboxylic dianhydride can be facilitated.
The upper limit of t3 is preferably 5 and more preferably 3 because the purification of the tetracarboxylic dianhydride is easy.
From the viewpoint of the chemical stability of the tetracarboxylic dianhydride, the lower limit of t3 is preferably 1 and more preferably 2.
2 or 3 is particularly preferable for t3 in the formula (b-4).

式（ｂ－４）中のＲｂ１５、及びＲｂ１６として選択され得る炭素原子数１以上１０以下のアルキル基は、Ｒｂ１４として選択され得る炭素原子数１以上１０以下のアルキル基と同様である。
Ｒｂ１５、及びＲｂ１６は、テトラカルボン酸二無水物の精製が容易である点から、水素原子、又は炭素原子数１以上１０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上５以下、さらに好ましくは１以上４以下、特に好ましくは１以上３以下）のアルキル基であるのが好ましく、水素原子又はメチル基であるのが特に好ましい。 The alkyl groups having 1 or more and 10 or less carbon atoms that can be selected as R b15 and R b16 in the formula (b-4) are the same as the alkyl groups having 1 or more and 10 or less carbon atoms that can be selected as R b14 . ..
R b15 and R b16 have a hydrogen atom or a carbon atom number of 1 or more and 10 or less (preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1 or more and 5 or less, because the purification of tetracarboxylic acid dianhydride is easy. More preferably, it is preferably 1 or more and 4 or less, particularly preferably 1 or more and 3 or less), and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.

式（ｂ－４）で表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロペンタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物（別名「ノルボルナン－２－スピロ－２’－シクロペンタノン－５’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物」）、メチルノルボルナン－２－スピロ－α－シクロペンタノン－α’－スピロ－２’’－（メチルノルボルナン）－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロヘキサノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物（別名「ノルボルナン－２－スピロ－２’－シクロヘキサノン－６’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物」）、メチルノルボルナン－２－スピロ－α－シクロヘキサノン－α’－スピロ－２’’－（メチルノルボルナン）－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロプロパノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロブタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロヘプタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロオクタノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロノナノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロウンデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロドデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロトリデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロテトラデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－シクロペンタデカノン－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－（メチルシクロペンタノン）－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン－２－スピロ－α－（メチルシクロヘキサノン）－α’－スピロ－２’’－ノルボルナン－５，５’’，６，６’’－テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。 Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride represented by the formula (b-4) include norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-Tetracarboxylic acid dianhydride (also known as "norbornane-2-spiri-2'-cyclopentanone-5'-spiro-2"-norbornane-5,5'', 6,6'' -Tetracarboxylic acid dianhydride "), methylnorbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-(methylnorbornane) -5,5'', 6,6''-tetra Norbornane-2-anhydrogenate, norbornane-2-spiro-α-cyclohexanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride (also known as "norbornane-" 2-Spiro-2'-Cyclohexanone-6'-Spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride "), methylnorbornane-2-spiro-α- Cyclohexanone-α'-spiro-2''-(methylnorbornane) -5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclopropanol-α'- Spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclobutanone-α'-norborn-2''-norbornane-5, 5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cycloheptanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6' ′ -Tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclooctanone-α ′-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride , Norbornane-2-spiro-α-cyclononanon-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclodecanone -Α'-Spyro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cycloundecanone-α'-spiro-2' '-Norbornane-5,5'', 6,6''-Tetracarboxylic acid dianhydride, Norbornane-2-spiro-α-cyclododecanone-α'-Norbornane-5,5'-Norbornane-5,5' ', 6, 6''-Tetracarboxylic acid dianhydride, Norbornane Nan-2-spiro-α-cyclotridecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α- Cyclotetradecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclopentadecanone-α' -Spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α- (methylcyclopentanone) -α'-spiro-2' '-Norbornane-5,5'', 6,6''-Tetracarboxylate dianhydride, Norbornane-2-spiro-α- (methylcyclohexanone) -α'-Spiro-2''-Norbornane-5,5 '', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride and the like can be mentioned.

カルド樹脂の重量平均分子量は、１０００以上４００００であることが好ましく、１５００以上３００００以下であることがより好ましく、２０００以上１００００以下であることがさらに好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、十分な耐熱性、膜強度を得ることができる。 The weight average molecular weight of the cardo resin is preferably 1000 or more and 40,000, more preferably 1500 or more and 30,000 or less, and further preferably 2000 or more and 10,000 or less. Within the above range, sufficient heat resistance and film strength can be obtained while obtaining good developability.

（ノボラック樹脂）
樹脂（Ｂ２）としては、ノボラック樹脂を用いることもできる。ノボラック樹脂は、アルカリ可溶性樹脂に該当する。感光性組成物が、樹脂（Ｂ２）としノボラック樹脂を含むと、感光性組成物を用いて硬化膜を形成する際に硬化膜に対してポストベークを行う場合に、硬化膜の過度の熱フローを抑制しやすい。
このため、感光性組成物を用いてブラックカラムスペーサーを形成する場合に、感光性組成物がノボラック樹脂を含んでいると、所望する形状のブラックカラムスペーサーを形成しやすい。 (Novolak resin)
As the resin (B2), a novolak resin can also be used. The novolak resin corresponds to an alkali-soluble resin. When the photosensitive composition contains a novolak resin as the resin (B2), excessive heat flow of the cured film is performed when post-baking the cured film when forming the cured film using the photosensitive composition. Is easy to suppress.
Therefore, when a black column spacer is formed using a photosensitive composition, if the photosensitive composition contains a novolak resin, it is easy to form a black column spacer having a desired shape.

ノボラック樹脂としては、従来から感光性組成物に配合されている種々のノボラック樹脂を用いることができる。ノボラック樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物（以下、単に「フェノール類」という。）とアルデヒド類とを酸触媒下で付加縮合させることにより得られるものが好ましい。 As the novolak resin, various novolak resins conventionally blended in the photosensitive composition can be used. The novolak resin is preferably obtained by addition-condensing an aromatic compound having a phenolic hydroxyl group (hereinafter, simply referred to as "phenols") and aldehydes under an acid catalyst.

・フェノール類
ノボラック樹脂を作製する際に用いられるフェノール類としては、例えば、フェノール；ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール等のクレゾール類；２，３－キシレノール、２，４－キシレノール、２，５－キシレノール、２，６－キシレノール、３，４－キシレノール、３，５－キシレノール等のキシレノール類；ｏ－エチルフェノール、ｍ－エチルフェノール、ｐ－エチルフェノール等のエチルフェノール類；２－イソプロピルフェノール、３－イソプロピルフェノール、４－イソプロピルフェノール、ｏ－ブチルフェノール、ｍ－ブチルフェノール、ｐ－ブチルフェノール、並びにｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール等のアルキルフェノール類；２，３，５－トリメチルフェノール、及び３，４，５－トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類；レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、及びフロログリシノール等の多価フェノール類；アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、及びアルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類（いずれのアルキル基も炭素原子数１以上４以下である。）；α－ナフトール；β－ナフトール；ヒドロキシジフェニル；並びにビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェノール類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 -Phenols Examples of the phenols used in producing the novolak resin include phenols; cresols such as o-cresol, m-cresol, p-cresol; 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2 , 5-Xylenol, 2,6-Xylenol, 3,4-Xylenol, 3,5-Xylenol and other xylenols; o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol and other ethylphenols; 2-isopropyl Alkylphenols such as phenol, 3-isopropylphenol, 4-isopropylphenol, o-butylphenol, m-butylphenol, p-butylphenol, and p-tert-butylphenol; 2,3,5-trimethylphenol, and 3,4,5 -Trialkylphenols such as trimethylphenol; polyhydric phenols such as resorcinol, catechol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, and fluoroglycinol; alkyl polyhydric phenols such as alkylresorcin, alkylcatechol, and alkylhydroquinone (either The alkyl group of is also 1 or more and 4 or less carbon atoms.); Α-naphthol; β-naphthol; hydroxydiphenyl; and bisphenol A and the like. These phenols may be used alone or in combination of two or more.

これらのフェノール類の中でも、ｍ－クレゾール及びｐ－クレゾールが好ましく、ｍ－クレゾールとｐ－クレゾールとを併用することがより好ましい。この場合、両者の配合割合を調整することにより、感光性組成物を用いて形成される硬化膜の耐熱性等の諸特性を調節することができる。
ｍ－クレゾールとｐ－クレゾールの配合割合は特に限定されるものではないが、ｍ－クレゾール／ｐ－クレゾールのモル比で、３／７以上８／２以下が好ましい。ｍ－クレゾール及びｐ－クレゾールをかかる範囲の比率で用いることにより、耐熱性に優れる硬化膜を形成可能な感光性組成物を得やすい。 Among these phenols, m-cresol and p-cresol are preferable, and it is more preferable to use m-cresol and p-cresol in combination. In this case, various properties such as heat resistance of the cured film formed by using the photosensitive composition can be adjusted by adjusting the blending ratio of both.
The blending ratio of m-cresol and p-cresol is not particularly limited, but the molar ratio of m-cresol / p-cresol is preferably 3/7 or more and 8/2 or less. By using m-cresol and p-cresol in a ratio within such a range, it is easy to obtain a photosensitive composition capable of forming a cured film having excellent heat resistance.

また、ｍ－クレゾールと、２，３，５－トリメチルフェノールとを併用して製造されるノボラック樹脂も好ましい。かかるノボラック樹脂を用いる場合、ポストベーク時の加熱により過度にフローし難い硬化膜を形成できる感光性組成物を、特に得やすい。
ｍ－クレゾールと２，３，５－トリメチルフェノールの配合割合は特に限定されるものではないが、ｍ－クレゾール／２，３，５－トリメチルフェノールのモル比で、７０／３０以上９５／５以下が好ましい。 Further, a novolak resin produced by using m-cresol and 2,3,5-trimethylphenol in combination is also preferable. When such a novolak resin is used, it is particularly easy to obtain a photosensitive composition capable of forming a cured film that is difficult to flow excessively by heating during post-baking.
The mixing ratio of m-cresol and 2,3,5-trimethylphenol is not particularly limited, but the molar ratio of m-cresol / 2,3,5-trimethylphenol is 70/30 or more and 95/5 or less. Is preferable.

・アルデヒド類
ノボラック樹脂を作製する際に用いられるアルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、及びアセトアルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 -Aldehydes Examples of the aldehydes used in producing the novolak resin include formaldehyde, paraformaldehyde, furfural, benzaldehyde, nitrobenzaldehyde, acetaldehyde and the like. These aldehydes may be used alone or in combination of two or more.

・酸触媒
ノボラック樹脂を作製する際に用いられる酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、及び亜リン酸等の無機酸類；蟻酸、シュウ酸、酢酸、ジエチル硫酸、及びパラトルエンスルホン酸等の有機酸類；並びに酢酸亜鉛等の金属塩類等が挙げられる。これらの酸触媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 -Acid catalyst Examples of the acid catalyst used in producing the novolak resin include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitrate, phosphoric acid, and phosphoric acid; formic acid, oxalic acid, acetic acid, diethyl sulfate, and paratoluene. Examples thereof include organic acids such as sulfonic acid; and metal salts such as zinc acetate. These acid catalysts may be used alone or in combination of two or more.

・分子量
ノボラック樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ；以下、単に「重量平均分子量」ともいう。）は、感光性組成物を用いて形成される硬化膜の加熱によるフローに対する耐性の観点から、下限値として２０００が好ましく、５０００がより好ましく、１００００が特に好ましく、１５０００がさらに好ましく、２００００が最も好ましく、上限値として５００００が好ましく、４５０００がより好ましく、４００００がさらに好ましく、３５０００が最も好ましい。 -Molecular weight The polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw; hereinafter, also simply referred to as "weight average molecular weight") of the novolak resin is determined from the viewpoint of resistance to the flow of the cured film formed by using the photosensitive composition. The lower limit is 2000, more preferably 5000, particularly preferably 10000, even more preferably 15,000, most preferably 20000, the upper limit is 50,000, more preferably 45,000, even more preferably 40,000, and most preferably 35,000.

ノボラック樹脂としては、ポリスチレン換算の重量平均分子量が異なるものを少なくとも２種組み合わせて用いることができる。重量平均分子量が異なるものを大小組み合わせて用いることにより、感光性組成物の現像性と、感光性組成物を用いて形成される硬化膜の耐熱性とのバランスをとることができる。 As the novolak resin, at least two kinds of resins having different polystyrene-equivalent weight average molecular weights can be used in combination. By using a combination of large and small materials having different weight average molecular weights, it is possible to balance the developability of the photosensitive composition and the heat resistance of the cured film formed by using the photosensitive composition.

（変性エポキシ樹脂）
感光性組成物を用いて形成される硬化膜に、ベーク時のより高いフロー耐性と、高い耐水性とを付与しやすい点から、感光性組成物は、樹脂（Ｂ２）として、エポキシ化合物（ｂ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）との反応物の、多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ）付加体である変性エポキシ樹脂を含んでいてもよい。
変性エポキシ樹脂は、その構造中にカルボキシ基と、エチレン性不飽和二重結等とを有するため、架橋性基を有するアルカリ可溶性樹脂としての役割を果たす。
なお、本出願の明細書及び特許請求の範囲において、上記の定義に該当する化合物であって、前述のカルド構造を有する樹脂に該当しない化合物を、変性エポキシ樹脂とする。 (Modified epoxy resin)
The photosensitive composition is an epoxy compound (b) as a resin (B2) because it is easy to impart higher flow resistance at the time of baking and higher water resistance to the cured film formed by using the photosensitive composition. It may contain a modified epoxy resin which is an adduct of polybasic acid anhydride (b-3c), which is a reaction product of -3a) and an unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b).
Since the modified epoxy resin has a carboxy group and an ethylenically unsaturated double bond in its structure, it serves as an alkali-soluble resin having a crosslinkable group.
In the specification of the present application and the scope of claims, a compound that falls under the above definition and does not fall under the above-mentioned resin having a cardo structure is referred to as a modified epoxy resin.

以下、エポキシ化合物（ｂ－３ａ）、不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）、及び多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ）について説明する。 Hereinafter, the epoxy compound (b-3a), the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b), and the polybasic acid anhydride (b-3c) will be described.

・エポキシ化合物（ｂ－３ａ）
エポキシ化合物（ｂ－３ａ）は、エポキシ基を有する化合物であれば特に限定されず、芳香族基を有する芳香族エポキシ化合物であっても、芳香族基を含まない脂肪族エポキシ化合物であってもよく、芳香族基を有する芳香族エポキシ化合物が好ましい。
エポキシ化合物（ｂ－３ａ）は、単官能エポキシ化合物であっても、２官能以上の多官能エポキシ化合物であってもよく、多官能エポキシ化合物が好ましい。 -Epoxy compound (b-3a)
The epoxy compound (b-3a) is not particularly limited as long as it is a compound having an epoxy group, and may be an aromatic epoxy compound having an aromatic group or an aliphatic epoxy compound containing no aromatic group. Often, aromatic epoxy compounds having an aromatic group are preferred.
The epoxy compound (b-3a) may be a monofunctional epoxy compound or a bifunctional or higher functional epoxy compound, and a polyfunctional epoxy compound is preferable.

エポキシ化合物（ｂ－３ａ）の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂等の２官能エポキシ樹脂；ダイマー酸グリシジルエステル、及びトリグリシジルエステル等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂；テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジル－ｐ－アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、及びテトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂；フロログリシノールトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシビフェニルトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシフェニルメタントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、２－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－２－［４－［１，１－ビス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］エチル］フェニル］プロパン、及び１，３－ビス［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチル］フェノキシ］－２－プロパノール等の３官能型エポキシ樹脂；テトラヒドロキシフェニルエタンテトラグリシジルエーテル、テトラグリシジルベンゾフェノン、ビスレゾルシノールテトラグリシジルエーテル、及びテトラグリシドキシビフェニル等の４官能型エポキシ樹脂が挙げられる。 Specific examples of the epoxy compound (b-3a) include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, and biphenyl type epoxy resin. Functional epoxy resin; glycidyl ester type epoxy resin such as dimer acid glycidyl ester and triglycidyl ester; tetraglycidyl aminodiphenylmethane, triglycidyl-p-aminophenol, tetraglycidyl metaxylylene diamine, tetraglycidyl bisaminomethylcyclohexane and the like. Glycyzylamine type epoxy resin; heterocyclic epoxy resin such as triglycidyl isocyanurate; fluoroglycinol triglycidyl ether, trihydroxybiphenyl triglycidyl ether, trihydroxyphenylmethane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 2- [4- (2,3-Epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] ethyl] phenyl] propane, and 1,3-bis [4- [1- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -1- [4- [1- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -1-methylethyl] phenyl] ethyl] phenoxy] Trifunctional epoxy resins such as -2-propanol; tetrafunctional epoxy resins such as tetrahydroxyphenylethane tetraglycidyl ether, tetraglycidyl benzophenone, bisresolsinol tetraglycidyl ether, and tetraglycidoxybiphenyl can be mentioned.

また、エポキシ化合物（ｂ－３ａ）としては、ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物が好ましい。
ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物は、主鎖に下記式（ｂ－３ａ－１）で表されるビフェニル骨格を少なくとも１つ以上有するのが好ましい。
ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物は、２以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物であるのが好ましい。
ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物を用いることにより、感度と現像性とのバランスに優れ、基板への密着性に優れた硬化膜を形成できる感光性組成物を得やすい。 Further, as the epoxy compound (b-3a), an epoxy compound having a biphenyl skeleton is preferable.
The epoxy compound having a biphenyl skeleton preferably has at least one biphenyl skeleton represented by the following formula (b-3a-1) in the main chain.
The epoxy compound having a biphenyl skeleton is preferably a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups.
By using an epoxy compound having a biphenyl skeleton, it is easy to obtain a photosensitive composition capable of forming a cured film having an excellent balance between sensitivity and developability and having excellent adhesion to a substrate.

Figure 0007051321000046
（式（ｂ－３ａ－１）中、Ｒｂ１７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１以上１２以下のアルキル基、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよいフェニル基であり、ｊは１以上４以下の整数である。）
Figure 0007051321000046
 (In the formula (b-3a-1), R b17 is a phenyl group which may independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 or more and 12 or less carbon atoms, a halogen atom, or a substituent. j is an integer of 1 or more and 4 or less.)

Ｒｂ１７が炭素原子数１以上１２以下のアルキル基である場合、アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、イソデシル基、ｎ－ウンデシル基、及びｎ－ドデシル基が挙げられる。 When R b17 is an alkyl group having 1 or more carbon atoms and 12 or less carbon atoms, specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group and sec-butyl. Group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert- Examples thereof include octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group, isodecyl group, n-undecyl group, and n-dodecyl group.

Ｒｂ１７がハロゲン原子である場合、ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。 When R b17 is a halogen atom, specific examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

Ｒｂ１７が置換基を有してもよいフェニル基である場合、フェニル基上の置換基の数は特に限定されない。フェニル基上の置換基の数は、０以上５以下であり、０又は１が好ましい。
置換基の例としては、炭素原子数１以上４以下のアルキル基、炭素原子数１以上４以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上４以下の脂肪族アシル基、ハロゲン原子、シアノ基、及びニトロ基が挙げられる。 When R b17 is a phenyl group which may have a substituent, the number of substituents on the phenyl group is not particularly limited. The number of substituents on the phenyl group is 0 or more and 5 or less, preferably 0 or 1.
Examples of substituents are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an aliphatic acyl group having 2 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, and a nitro group. The group is mentioned.

上記式（ｂ－３ａ－１）で表されるビフェニル骨格を有するエポキシ化合物（ｂ－３ａ）としては特に限定されないが、例えば、下記式（ｂ－３ａ－２）で表されるエポキシ化合物を挙げることができる。

Figure 0007051321000047
（式（ｂ－３ａ－２）中、Ｒｂ１７及びｊは、式（ｂ－３ａ－１）と同様であり、ｋは括弧内の構成単位の平均繰り返し数であって０以上１０以下である。） The epoxy compound (b-3a) having a biphenyl skeleton represented by the above formula (b-3a-1) is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy compound represented by the following formula (b-3a-2). be able to.
Figure 0007051321000047
 (In the equation (b-3a-2), R b17 and j are the same as those in the equation (b-3a-1), and k is the average number of repetitions of the constituent units in parentheses and is 0 or more and 10 or less. .)

式（ｂ－３ａ－２）で表されるエポキシ化合物の中では、感度と現像性とのバランスに優れる感光性組成物を特に得やすいことから、下記式（ｂ－３ａ－３）で表される化合物が好ましい。

Figure 0007051321000048
（式（ｂ－３ａ－３）中、ｋは、式（ｂ－３ａ－２）と同様である。） Among the epoxy compounds represented by the formula (b-3a-2), it is particularly easy to obtain a photosensitive composition having an excellent balance between sensitivity and developability, and therefore, it is represented by the following formula (b-3a-3). Compounds are preferred.
Figure 0007051321000048
 (In the formula (b-3a-3), k is the same as the formula (b-3a-2).)

（不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ））
変性エポキシ化合物（ｂ－３）を調製するにあたって、エポキシ化合物（ｂ－３ａ）と、不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）とを反応させる。
不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）としては、分子中にアクリル基やメタクリル基等の反応性の不飽和二重結合を含有するモノカルボン酸が好ましい。このような不飽和基含有カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、β－スチリルアクリル酸、β－フルフリルアクリル酸、α－シアノ桂皮酸、桂皮酸等を挙げることができる。また、不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）は、単独又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。 (Unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b))
In preparing the modified epoxy compound (b-3), the epoxy compound (b-3a) is reacted with the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b).
As the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b), a monocarboxylic acid containing a reactive unsaturated double bond such as an acrylic group or a methacrylic group in the molecule is preferable. Examples of such unsaturated group-containing carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, β-styrylacrylic acid, β-flufurylacrylic acid, α-cyanocinnamic acid, and cinnamic acid. Further, the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b) may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ化合物（ｂ－３ａ）と、不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）とは、公知の方法により反応させることができる。好ましい反応方法としては、例えば、エポキシ化合物（ｂ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）とを、トリエチルアミン、ベンジルエチルアミン等の３級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ピリジン、又はトリフェニルホスフィン等を触媒として、有機溶剤中、反応温度５０℃以上１５０℃以下で数時間から数十時間反応させる方法が挙げられる。 The epoxy compound (b-3a) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b) can be reacted by a known method. As a preferable reaction method, for example, the epoxy compound (b-3a) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b) are mixed with a tertiary amine such as triethylamine or benzylethylamine, dodecyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, or the like. Examples thereof include a method of reacting in an organic solvent at a reaction temperature of 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower for several hours to several tens of hours using a quaternary ammonium salt such as tetraethylammonium chloride or benzyltriethylammonium chloride, pyridine, or triphenylphosphine as a catalyst. Be done.

エポキシ化合物（ｂ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）との反応における両者の使用量の比率は、エポキシ化合物（ｂ－３ａ）のエポキシ当量と、不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）のカルボン酸当量との比として、通常１：０．５～１：２が好ましく、１：０．８～１：１．２５がより好ましく、１：０．９～１：１．１が特に好ましい。
エポキシ化合物（ｂ－３ａ）の使用量と不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）の使用量との比率が、前記の当量比で１：０．５～１：２であると、架橋効率が向上する傾向があり好ましい。 The ratio of the amounts used in the reaction between the epoxy compound (b-3a) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b) is the epoxy equivalent of the epoxy compound (b-3a) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b). The ratio of b-3b) to the carboxylic acid equivalent is usually preferably 1: 0.5 to 1: 2, more preferably 1: 0.8 to 1: 1.25, and 1: 0.9 to 1: 1. .1 is particularly preferable.
When the ratio of the amount of the epoxy compound (b-3a) used and the amount of the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b) used is 1: 0.5 to 1: 2 in the above equivalent ratio, the crosslinking efficiency Is preferable because it tends to improve.

（多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ））
多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ）は、２個以上のカルボキシ基を有するカルボン酸の無水物である。
多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ）としては、特に限定されないが、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３－メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、４－メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、３－エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４－エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、３－メチルテトラヒドロ無水フタル酸、４－メチルテトラヒドロ無水フタル酸、３－エチルテトラヒドロ無水フタル酸、４－エチルテトラヒドロ無水フタル酸、下記式（ｂ－３ｃ－１）で表される化合物、及び下記式（ｂ－３ｃ－２）で表される化合物を挙げることができる。また、多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ）は、単独又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。 (Polybasic acid anhydride (b-3c))
Polybasic acid anhydride (b-3c) is a carboxylic acid anhydride having two or more carboxy groups.
The polybasic acid anhydride (b-3c) is not particularly limited, and for example, phthalic anhydride, succinic anhydride, thalic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride are used. Phthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, 3-ethylhexa Hydrophthalic anhydride, 4-ethylhexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, 4-methyltetrahydrophthalic anhydride, 3-ethyltetrahydrophthalic anhydride, 4-ethyltetrahydrophthalic anhydride , The compound represented by the following formula (b-3c-1), and the compound represented by the following formula (b-3c-2) can be mentioned. Further, the polybasic acid anhydride (b-3c) may be used alone or in combination of two or more.

Figure 0007051321000049
（式（ｂ－３ｃ－２）中、Ｒｂ１８は、炭素原子数１以上１０以下の置換基を有してもよいアルキレン基を示す。）
Figure 0007051321000049
 (In the formula (b-3c-2), R b18 represents an alkylene group which may have a substituent having 1 or more and 10 or less carbon atoms.)

多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ）としては、感度と現像性とのバランスに優れる感光性組成物を得やすいことから、ベンゼン環を２個以上有する化合物であることが好ましい。また、多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ）は、上記式（ｂ－３ｃ－１）で表される化合物、及び上記式（ｂ－３ｃ－２）で表される化合物の少なくとも一方を含むのがより好ましい。 The polybasic acid anhydride (b-3c) is preferably a compound having two or more benzene rings because it is easy to obtain a photosensitive composition having an excellent balance between sensitivity and developability. Further, the polybasic acid anhydride (b-3c) contains at least one of the compound represented by the above formula (b-3c-1) and the compound represented by the above formula (b-3c-2). Is more preferable.

エポキシ化合物（ｂ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）とを反応させた後、多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ）を反応させる方法は、公知の方法から適宜選択できる。
また、使用量比は、エポキシ化合物（ｂ－３ａ）と不飽和基含有カルボン酸（ｂ－３ｂ）との反応後の成分中のＯＨ基のモル数と、多塩基酸無水物（ｂ－３ｃ）の酸無水物基の当量比で、通常１：１～１：０．１であり、好ましくは１：０．８～１：０．２である。上記範囲とすることにより、現像性が良好である感光性組成物を得やすい。 The method of reacting the epoxy compound (b-3a) with the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b) and then the polybasic acid anhydride (b-3c) can be appropriately selected from known methods.
The amount used ratio is the number of moles of OH groups in the component after the reaction between the epoxy compound (b-3a) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b-3b), and the polybasic acid anhydride (b-3c). ), The equivalent ratio of the acid anhydride group is usually 1: 1 to 1: 0.1, preferably 1: 0.8 to 1: 0.2. Within the above range, it is easy to obtain a photosensitive composition having good developability.

また、変性エポキシ樹脂（ｂ－３）の酸価は、樹脂固形分で、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、より好ましくは、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。樹脂の酸価を１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上にすることにより現像液に対する充分な溶解性が得られ、また、酸価を１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下にすることにより充分な硬化性を得ることができ、表面性を良好にすることができる。 The acid value of the modified epoxy resin (b-3) is preferably 10 mgKOH / g or more and 150 mgKOH / g or less, and more preferably 70 mgKOH / g or more and 110 mgKOH / g or less in terms of resin solid content. Sufficient solubility in a developing solution can be obtained by setting the acid value of the resin to 10 mgKOH / g or more, and sufficient curability can be obtained by setting the acid value to 150 mgKOH / g or less, and the surface property can be improved. Can be good.

また、変性エポキシ樹脂（ｂ－３）の重量平均分子量は、１０００以上４００００以下であることが好ましく、より好ましくは、２０００以上３００００以下である。重量平均分子量が１０００以上であることにより耐熱性、及び強度に優れるブラックカラムスペーサーを形成しやすい。また、４００００以下であることにより現像液に対する十分な溶解性を示す感光性組成物を得やすい。 The weight average molecular weight of the modified epoxy resin (b-3) is preferably 1000 or more and 40,000 or less, and more preferably 2000 or more and 30,000 or less. When the weight average molecular weight is 1000 or more, it is easy to form a black column spacer having excellent heat resistance and strength. Further, when it is 40,000 or less, it is easy to obtain a photosensitive composition showing sufficient solubility in a developing solution.

（主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマー）
主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマーを、所定の環構造を有するとともに所定のアルカリ可溶性を備える樹脂であれば特に限定されない。主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマーの好適な例として、マレイミド由来の構成単位（以下、「構成単位（Ａ２ａ）」ともいう。）を含有するポリマー（以下、「ポリマー（Ａ２）」ともいう。）及び下記式（Ａ－１）で表される構成単位（以下、「構成単位（Ａ１ａ）」ともいう。）を含有するポリマー（以下、「ポリマー（Ａ１）」ともいう。）を挙げることができる。 (Polymer containing a structural unit having a ring structure in the main chain)
The polymer containing a structural unit having a ring structure in the main chain is not particularly limited as long as it is a resin having a predetermined ring structure and a predetermined alkali solubility. As a suitable example of a polymer containing a structural unit having a ring structure in the main chain, a polymer containing a maleimide-derived structural unit (hereinafter, also referred to as “constituent unit (A2a)”) (hereinafter, “polymer (A2)”). ”) And a polymer containing a structural unit represented by the following formula (A-1) (hereinafter, also referred to as“ structural unit (A1a) ”) (hereinafter, also referred to as“ polymer (A1) ”). Can be mentioned.

ポリマー（Ａ２）が有するマレイミド由来の構成単位（Ａ２ａ）としては、マレイミド骨格を有するモノマーを重合して得られるものであれば特に限定されない。マレイミド骨格を有するモノマーとしては、例えば、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。 The maleimide-derived structural unit (A2a) contained in the polymer (A2) is not particularly limited as long as it is obtained by polymerizing a monomer having a maleimide skeleton. Examples of the monomer having a maleimide skeleton include N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.

特に、主鎖に環構造を有する構成単位（Ａ１ａ）を含有するポリマー（Ａ１）を含む感光性組成物は、現像液に対する溶解性が良好である。 In particular, the photosensitive composition containing the polymer (A1) containing the structural unit (A1a) having a ring structure in the main chain has good solubility in a developing solution.

Figure 0007051321000050
Figure 0007051321000050

式（Ａ－１）中、環Ａは、１個の酸素原子を環構成原子として有する炭素原子数４以上６以下の飽和脂肪族環式基である。環Ａは、好ましくは、１個の酸素原子を環構成原子として有する炭素原子数４又は５の飽和脂肪族環式基であり、より好ましくは、テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環であり、さらに好ましくは、下記式（Ａ－３）で表される構成単位（以下、「構成単位（Ａ１ａ１）」ともいう。）におけるテトラヒドロピラン環又は下記式（Ａ－４）で表される構成単位（以下、「構成単位（Ａ１ａ２）」ともいう。）におけるテトラヒドロフラン環である。

Figure 0007051321000051
In the formula (A-1), the ring A is a saturated aliphatic cyclic group having one oxygen atom as a ring-constituting atom and having 4 or more carbon atoms and 6 or less carbon atoms. Ring A is preferably a saturated aliphatic cyclic group having 4 or 5 carbon atoms having one oxygen atom as a ring-constituting atom, more preferably a tetrahydrofuran ring or a tetrahydropyran ring, and further preferably. , The tetrahydropyran ring in the structural unit represented by the following formula (A-3) (hereinafter, also referred to as "constituent unit (A1a1)") or the structural unit represented by the following formula (A-4) (hereinafter, "" It is a tetrahydrofuran ring in (also referred to as "constituent unit (A1a2)").
Figure 0007051321000051

主鎖に上記式（Ａ－１）で表される構成単位を含有するポリマー（ポリマー（Ａ１））は、通常、主鎖に上記式（Ａ－１）で表される構成単位（構成単位（Ａ１ａ））を複数個含有する。複数の構成単位（Ａ１ａ）において、各構成単位（Ａ１ａ）に含有される環Ａはポリマー（Ａ１）を構成する一の主鎖において相互に同一であってもよいし異なっていてもよい。具体的には、ポリマー（Ａ１）を構成する一の主鎖は、該主鎖に含有される上記式（Ａ－１）で表される構成単位として、例えば、上記式（Ａ－３）で表される構成単位のみを有するものであってもよいし、上記式（Ａ－４）で表される構成単位のみを有するものであってもよいし、上記式（Ａ－３）で表される構成単位と上記式（Ａ－４）で表される構成単位とを併有するものであってもよい。 A polymer (polymer (A1)) containing a structural unit represented by the above formula (A-1) in the main chain is usually a structural unit (constituent unit (constituent unit (A-1)) represented by the above formula (A-1) in the main chain. Contains a plurality of A1a)). In the plurality of structural units (A1a), the rings A contained in each structural unit (A1a) may be the same or different from each other in one main chain constituting the polymer (A1). Specifically, one main chain constituting the polymer (A1) is, for example, the above formula (A-3) as a structural unit represented by the above formula (A-1) contained in the main chain. It may have only the structural unit represented by it, it may have only the structural unit represented by the above formula (A-4), or it may be represented by the above formula (A-3). The structural unit may be combined with the structural unit represented by the above formula (A-4).

上記式（Ａ－１）、式（Ａ－３）及び式（Ａ－４）において、Ｒｂ１及びＲｂ２はそれぞれ独立に水素原子又は－ＣＯＯＲｂ３であり、Ｒｂ３はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよい炭素原子数１以上２５以下の炭化水素基である。Ｒｂ１及びＲｂ２は、－ＣＯＯＲｂ３であることが好ましい。上記式（Ａ－１）で表される構成単位を含有するポリマー（ポリマー（Ａ１））を構成する一の主鎖が複数個の環Ａを含有する場合、各環Ａに結合する－ＣＯＯＲｂ３はそれぞれ独立であり、－ＣＯＯＲｂ３として同一又は異なる基が各環Ａに結合していてもよい。 In the above formulas (A-1), (A-3) and (A-4), R b1 and R b2 are independently hydrogen atoms or -COOR b3 , and R b3 is independently hydrogen atoms or. It is a hydrocarbon group having 1 or more and 25 or less carbon atoms which may have a substituent. R b1 and R b2 are preferably −COOR b3 . When one main chain constituting the polymer (polymer (A1)) containing the structural unit represented by the above formula (A-1) contains a plurality of rings A, it is bonded to each ring A-COOR b3 . Are independent of each other, and the same or different groups as -COOR b3 may be attached to each ring A.

Ｒｂ１及びＲｂ２で表される置換基を有していてもよい炭素原子数１以上２５以下の炭化水素基としては、特に制限はない。炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔ－ブチル、ｔ－アミル、ステアリル、ラウリル、２－エチルヘキシル等の直鎖状又は分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔ－ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２－メチル－２－アダマンチル等の脂環式基；１－メトキシエチル、１－エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。 The hydrocarbon group having 1 or more and 25 or less carbon atoms which may have a substituent represented by R b1 and R b2 is not particularly limited. Specific examples of the hydrocarbon group include linear or branched alkyl such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, t-amyl, stearyl, lauryl and 2-ethylhexyl. Group; aryl group such as phenyl; alicyclic group such as cyclohexyl, t-butylcyclohexyl, dicyclopentadienyl, tricyclodecanyl, isobornyl, adamantyl, 2-methyl-2-adamantyl; 1-methoxyethyl, 1 -Alkyl groups substituted with alkoxy such as ethoxyethyl; alkyl groups substituted with aryl groups such as benzyl; and the like.

Ｒｂ１及びＲｂ２が炭化水素基である場合、炭化水素基の炭素原子数は８以下が好ましい。炭素原子数が８以下の炭化水素基としては、酸や熱で脱離しにくいことから、炭化水素基が有する方末端が自由な結合手が、１級炭素原子又は２級炭素原子と結合している炭化水素基が好ましい。このような炭化水素基としては、炭素原子数が１以上８以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、炭素原子数が１以上５以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましい。
このような炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等が挙げられ、メチル基が好ましい。 When R b1 and R b2 are hydrocarbon groups, the number of carbon atoms of the hydrocarbon group is preferably 8 or less. As a hydrocarbon group having 8 or less carbon atoms, it is difficult to desorb by acid or heat. Therefore, a bond having a free end of the hydrocarbon group is bonded to a primary carbon atom or a secondary carbon atom. Hydrocarbon groups are preferred. As such a hydrocarbon group, a linear or branched alkyl group having 1 or more and 8 or less carbon atoms is preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 or more and 5 or less carbon atoms is preferable. Is preferable.
Specific examples of such a hydrocarbon group include methyl, ethyl, cyclohexyl, benzyl and the like, and a methyl group is preferable.

上記式（Ａ－１）で表される構成単位（構成単位（Ａ１ａ））を含有するポリマー（ポリマー（Ａ１））を構成する一の主鎖に構成単位（Ａ１ａ）が複数個含有される場合、各構成単位（Ａ１ａ）に結合しているＲｂ１及びＲｂ２は、各構成単位（Ａ１ａ）間で同一であってもよいし異なっていてもよい。
該各構成単位（Ａ１ａ）間で同一又は異なる環Ａが含有される場合、Ｒｂ１及びＲｂ２は結合する各環Ａの種類に依存することなく相互に独立である。 When a plurality of structural units (A1a) are contained in one main chain constituting a polymer (polymer (A1)) containing a structural unit (constituent unit (A1a)) represented by the above formula (A-1). , R b1 and R b2 bonded to each structural unit (A1a) may be the same or different among each structural unit (A1a).
When the same or different rings A are contained between the respective structural units (A1a), R b1 and R b2 are independent of each other regardless of the type of each ring A to be bonded.

具体的には、ポリマー（Ａ１）を構成する一の主鎖に、上記式（Ａ－３）で表される構成単位（構成単位（Ａ１ａ１））が複数個含有される場合、各構成単位（Ａ１ａ１）におけるＲｂ１及びＲｂ２は各構成単位（Ａ１ａ１）間で同一であってもよいし異なっていてもよい。 Specifically, when a plurality of structural units (constituent units (A1a1)) represented by the above formula (A-3) are contained in one main chain constituting the polymer (A1), each structural unit ( R b1 and R b2 in A1a1) may be the same or different among the constituent units (A1a1).

ポリマー（Ａ１）を構成する一の主鎖に、上記式（Ａ－４）で表される構成単位（構成単位（Ａ１ａ２））が複数個含有される場合、各構成単位（Ａ１ａ２）におけるＲｂ１及びＲｂ２は各構成単位（Ａ１ａ２）間で同一であってもよいし異なっていてもよい。
さらに、ポリマー（Ａ１）を構成する一の主鎖に、上記式（Ａ－３）で表される構成単位（構成単位（Ａ１ａ１））と上記式（Ａ－４）で表される構成単位（構成単位（Ａ１ａ２））とが含有される場合、各構成単位（Ａ１ａ１）におけるＲｂ１及びＲｂ２と各構成単位（Ａ１ａ２）におけるＲｂ１及びＲｂ２とは同一であってもよいし異なっていてもよい。 When a plurality of structural units (constituent units (A1a2)) represented by the above formula (A-4) are contained in one main chain constituting the polymer (A1), R b1 in each structural unit (A1a2) is contained. And R b2 may be the same or different among the constituent units (A1a2).
Further, on one main chain constituting the polymer (A1), a structural unit (constituent unit (A1a1)) represented by the above formula (A-3) and a structural unit represented by the above formula (A-4) ( When the constituent unit (A1a2)) is contained, R b1 and R b2 in each constituent unit (A1a1) may be the same as or different from R b1 and R b2 in each constituent unit (A1a2). May be good.

上記式（Ａ－３）で表される構成単位（構成単位（Ａ１ａ１））は、下記式（Ａ－５）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ａｒ１）」ともいう。）の一部であってよい。上記式（Ａ－４）で表される構成単位（構成単位（Ａ１ａ２））は、下記式（Ａ－６）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ａｒ２）」ともいう。）の一部であってよい。

Figure 0007051321000052
（式（Ａ－５）及び式（Ａ－６）中、Ｒｂ１及びＲｂ２はそれぞれ独立に上記と同様である。） The structural unit (constituent unit (A1a1)) represented by the above formula (A-3) is a repeating unit represented by the following formula (A-5) (hereinafter, also referred to as “repeating unit (ar1)”). May be part. The structural unit (constituent unit (A1a2)) represented by the above formula (A-4) is a repeating unit represented by the following formula (A-6) (hereinafter, also referred to as “repeating unit (ar2)”). May be part.
Figure 0007051321000052
 (In the formula (A-5) and the formula (A-6), R b1 and R b2 are independently the same as above.)

上記式（Ａ－５）及び（Ａ－６）で表される各繰り返し単位を与えるモノマーとしては、例えば、下記式で表される１，６－ジエン類が挙げられる。

Figure 0007051321000053
（上記式中、Ｒｂ３はそれぞれ独立に上記と同様である。） Examples of the monomer giving each repeating unit represented by the above formulas (A-5) and (A-6) include 1,6-dienes represented by the following formulas.
Figure 0007051321000053
 (In the above formula, R b3 are independently the same as above.)

主鎖に上記式（Ａ－１）で表される構成単位（構成単位（Ａ１ａ））を含有するポリマー（ポリマー（Ａ１））を与えるモノマー組成物中、構成単位（Ａ１ａ）を含有する繰り返し単位（上述の構成単位（Ａ１ａ１）及び構成単位（Ａ１ａ２）を含み得る。）を与えるモノマー（Ａ１ｍａ）の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは１質量％以上６０質量％以下であり、より好ましくは５質量％以上５０質量％以下であり、特に好ましくは１０質量％以上４０質量％以下である。 A repeating unit containing a structural unit (A1a) in a monomer composition comprising a polymer (polymer (A1)) containing a structural unit (constituent unit (A1a)) represented by the above formula (A-1) in the main chain. The content ratio of the monomer (A1ma) giving (which may include the above-mentioned structural unit (A1a1) and structural unit (A1a2)) is preferably 1% by mass or more and 60% by mass with respect to the total amount of the monomers in the monomer composition. % Or less, more preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and particularly preferably 10% by mass or more and 40% by mass or less.

ポリマー（Ａ１）は、好ましくは、側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ａ１ｂ）を有する。ポリマー（Ａ１）が側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ａ１ｂ）を有していれば、アルカリ現像性に優れる感光性組成物を得ることができる。側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ａ１ｂ）を構成することとなるモノマー（Ａ１ｍｂ）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、イタコン酸、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトンモノアクリレート等のカルボキシ基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー等が挙げられる。なかでも好ましくは（メタ）アクリル酸である。 The polymer (A1) preferably has a repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain. If the polymer (A1) has a repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain, a photosensitive composition having excellent alkali developability can be obtained. Examples of the monomer (A1mb) constituting the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain include (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, itaconic acid, and ω-. Monomers having a carboxy group such as carboxy-polycaprolactone monoacrylate; Monomers having a carboxylic acid anhydride group such as maleic anhydride and itaconic anhydride can be mentioned. Of these, (meth) acrylic acid is preferable.

ポリマー（Ａ１）を与えるモノマー組成物中、側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ａ１ｂ）を構成することとなるモノマー（Ａ１ｍｂ）の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは１質量％以上５０質量％以下であり、より好ましくは５質量％以上４０質量％以下であり、さらに好ましくは１０質量％以上３５質量％以下である。 In the monomer composition that gives the polymer (A1), the content ratio of the monomer (A1mb) that constitutes the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain is based on the total amount of the monomers in the monomer composition. It is preferably 1% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 40% by mass or less, and further preferably 10% by mass or more and 35% by mass or less.

好ましくは、ポリマー（Ａ１）は、側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位（Ａ１ｃ）を有する。側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位（Ａ１ｃ）は、側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ａ１ｂ）の酸基の一部又は全部（好ましくは、一部）を反応点として、炭素二重結合を有する化合物を付加することにより、得ることができる。 Preferably, the polymer (A1) has a repeating unit (A1c) having a carbon double bond in the side chain. The repeating unit (A1c) having a carbon double bond in the side chain is composed of a part or all (preferably a part) of the acid group of the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain as a reaction point. It can be obtained by adding a compound having a double bond.

側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ａ１ｂ）の酸基がカルボキシ基である場合、炭素二重結合を有する化合物として、エポキシ基と二重結合とを有する化合物、イソシアネート基と二重結合とを有する化合物等が用いられ得る。エポキシ基と二重結合とを有する化合物としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル等が挙げられる。イソシアネート基と二重結合とを有する化合物としては２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ａ１ｂ）の酸基がカルボン酸無水物基である場合、炭素二重結合を有する化合物として、水酸基と二重結合とを有する化合物が用いられ得る。水酸基と二重結合とを有する化合物としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。 When the acid group of the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain is a carboxy group, the compound having a carbon double bond includes a compound having an epoxy group and a double bond, and an isocyanate group and a double bond. A compound or the like can be used. Examples of the compound having an epoxy group and a double bond include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, and p-vinyl. Benzyl glycidyl ether, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether and the like can be mentioned. Examples of the compound having an isocyanate group and a double bond include 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate. When the acid group of the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain is a carboxylic acid anhydride group, a compound having a hydroxyl group and a double bond can be used as the compound having a carbon double bond. Examples of the compound having a hydroxyl group and a double bond include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and the like.

ポリマー（Ａ１）は、上記モノマー（Ａ１ｍａ）、モノマー（Ａ１ｍｂ）及び／又はモノマー（Ａ１ｍｃ）と共重合可能なその他のモノマー（Ａ１ｍｅ）由来のその他の繰り返し単位（Ａ１ｅ）をさらに有し得る。 The polymer (A1) may further have other repeating units (A1e) derived from other monomers (A1me) copolymerizable with the monomer (A1ma), monomer (A1mb) and / or monomer (A1mc).

その他のモノマー（Ａ１ｍｅ）としては、例えば、側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位をさらに有するものであってもよい。側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位としては、例えば、下記式で表される繰り返し単位が挙げられる。

Figure 0007051321000054
The other monomer (A1me) may further have, for example, a repeating unit having two or more oxyalkylene groups in the side chain. Examples of the repeating unit having two or more oxyalkylene groups in the side chain include a repeating unit represented by the following formula.
Figure 0007051321000054

上記式中、Ｒｂ７、Ｒｂ８及びＲｂ９はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基であり、好ましくは水素原子である。Ｒｂ１０は、炭素原子数が１以上２０以下の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素原子数が２以上２０以下の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基又は炭素原子数が６以上２０以下の芳香族炭化水素基であり、好ましくは水素原子、炭素原子数が１以上２０以下の直鎖状のアルキル基、炭素原子数が２以上２０以下の直鎖状のアルケニル基又は炭素原子数が６以上２０以下の芳香族炭化水素基であり、より好ましくは炭素原子数が１以上１０以下の直鎖状のアルキル基又は炭素原子数が６以上１２以下の芳香族炭化水素基であり、さらに好ましくは炭素原子数が１以上５以下の直鎖状のアルキル基、フェニル基又はビフェニル基であり、特に好ましくはメチル基、フェニル基又はビフェニル基である。なお、アルキル基、アルケニル基及び芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。ＡＯは、オキシアルキレン基を表す。ＡＯで表されるオキシアルキレン基の炭素原子数は２以上２０以下であり、好ましくは２以上１０以下であり、より好ましくは２以上５以下であり、さらに好ましくは２である。側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位は１種又は２種以上のオキシアルキレン基を含み得る。ｘは０以上２以下の整数を表す。ｙは０又は１を表す。ｚは、オキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、２以上であり、好ましくは２以上１００以下であり、より好ましくは２以上５０以下であり、さらに好ましくは２以上１５以下である。 In the above formula, R b7 , R b8 and R b9 are independently hydrogen atoms or methyl groups, preferably hydrogen atoms. R b10 is a linear or branched alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 or more and 20 or less carbon atoms, or 6 or more and 20 or less carbon atoms. The aromatic hydrocarbon group is preferably a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms, a linear alkenyl group having 2 or more and 20 or less carbon atoms, or a carbon atom number. An aromatic hydrocarbon group of 6 or more and 20 or less, more preferably a linear alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 or more and 12 or less carbon atoms. A linear alkyl group, phenyl group or biphenyl group having 1 or more and 5 or less carbon atoms is preferable, and a methyl group, a phenyl group or a biphenyl group is particularly preferable. The alkyl group, alkenyl group and aromatic hydrocarbon group may have a substituent. AO represents an oxyalkylene group. The number of carbon atoms of the oxyalkylene group represented by AO is 2 or more and 20 or less, preferably 2 or more and 10 or less, more preferably 2 or more and 5 or less, and further preferably 2. Repeating units having two or more oxyalkylene groups in the side chain may contain one or more oxyalkylene groups. x represents an integer of 0 or more and 2 or less. y represents 0 or 1. z represents the average number of moles of oxyalkylene group added, which is 2 or more, preferably 2 or more and 100 or less, more preferably 2 or more and 50 or less, and further preferably 2 or more and 15 or less.

側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位は、側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有するモノマーにより構成される。該モノマーとしては、例えば、下記式で表されるモノマーが挙げられる。

Figure 0007051321000055
（上記式中、Ｒｂ７、Ｒｂ８、Ｒｂ９、Ｒｂ１０、ＡＯ、ｘ、ｙ及びｚは、上記で説明した通りである。） A repeating unit having two or more oxyalkylene groups in the side chain is composed of a monomer having two or more oxyalkylene groups in the side chain. Examples of the monomer include a monomer represented by the following formula.
Figure 0007051321000055
 (In the above formula, R b7 , R b8 , R b9 , R b10 , AO, x, y and z are as described above.)

上記側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有するモノマーとしては、例えば、エトキシ化ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート（ＥＯ２モル）、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ４モル）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ９モル）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ１３モル）、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ４―１７モル）、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート（ＰＯ５モル）、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート（ＥＯ２モル）等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で、又は２種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも好ましくは、エトキシ化ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート（ＥＯ２モル）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ９モル）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ１３モル）である。さらに好ましくは、エトキシ化ｏ－フェニルフェノールアクリレート（ＥＯ２モル）、メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ＥＯ９モル）、メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ＥＯ１３モル）である。なお、本明細書において、例えば「ＥＯ２モル」、「ＰＯ５モル」等の表記は、オキシアルキレン基の平均付加モル数を表す。 Examples of the monomer having two or more oxyalkylene groups in the side chain include ethoxylated o-phenylphenol (meth) acrylate (EO2 mol), phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, and phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO4 mol). ), -Ethylhexyldiethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO4-17 mol), nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (PO5) Mol), EO-modified cresol (meth) acrylate (EO 2 mol) and the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more. Of these, ethoxylated o-phenylphenol (meth) acrylate (EO 2 mol), methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO 9 mol), and methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO 13 mol) are preferable. More preferably, it is ethoxylated o-phenylphenol acrylate (EO 2 mol), methoxypolyethylene glycol acrylate (EO 9 mol), and methoxypolyethylene glycol acrylate (EO 13 mol). In the present specification, for example, the notations such as "EO 2 mol" and "PO 5 mol" represent the average number of added moles of the oxyalkylene group.

その他のモノマー（Ａ１ｍｅ）としては、また、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ビフェニル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチレングリコールル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシルエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ビフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデシルオキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシプロピレングリコール、ベンジル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；（メタ）アクリロイルモルホリン（モルホリノ（メタ）アクリレート）、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｔ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｔ－オクチル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ベンジル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－トリフェニルメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリル酸アミド類；スチレン、ビニルトルエン、α－メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物；ブタジエン、イソプレン等のブタジエン又は置換ブタジエン化合物；エチレン、プロピレン、塩化ビニル、アクリロニトリル等のエチレン又は置換エチレン化合物；酢酸ビニル等のビニルエステル類等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で、又は２種以上組み合わせて用いてもよい。 Examples of other monomers (A1me) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth). ) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, biphenyl (meth) acrylate, methoxy Ethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, biphenoxyethyl (Meta) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, tricyclodecyl (meth) acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecyloxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethylene glycol (meth) (Meta) acrylic acid esters such as acrylates, nonylphenoxypropylene glycols, benzyl (meth) acrylates, 2-hydroxyethyl (meth) acrylates, ethoxylated o-phenylphenol (meth) acrylates; Meta) acrylate), (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-isobutyl (meth) acrylamide, Nt-butyl (meth) Acrylate, Nt-octyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-cyclohexyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) ) (Meta) acrylic acid amides such as acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, N-triphenylmethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide; styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, etc. Acrylate vinyl compounds; butadienes such as butadienes and isoprenes or substituted butazies Compounds; ethylene or substituted ethylene compounds such as ethylene, propylene, vinyl chloride and acrylonitrile; vinyl esters such as vinyl acetate and the like can be mentioned. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

ポリマー（Ａ１）を与えるモノマー組成物中、その他の繰り返し単位（Ａ１ｅ）を与えるモノマー（Ａ１ｍｅ）の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは０質量％以上５５質量％以下であり、より好ましくは５質量％以上５０質量％以下であり、さらに好ましくは１０質量％以上４５質量％以下である。 In the monomer composition giving the polymer (A1), the content ratio of the monomer (A1me) giving the other repeating unit (A1e) is preferably 0% by mass or more and 55% by mass with respect to the total amount of the monomers in the monomer composition. It is more preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and further preferably 10% by mass or more and 45% by mass or less.

ポリマー（Ａ１）は、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。ポリマー（Ａ１）としては、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。 The polymer (A1) may be a random copolymer or a block copolymer. As the polymer (A1), it can be used alone or in combination of two or more.

ポリマー（Ａ１）の重量平均分子量は、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法（ＧＰＣ）で測定した値が、好ましくは３，０００以上２００，０００以下であり、より好ましくは３，５００以上１００，０００以下であり、さらに好ましくは４，０００以上５０，０００以下である。このような範囲であれば、耐熱性を確保し、且つ、塗膜形成に適切な粘度を有する感光性組成物を得ることができる。 The weight average molecular weight of the polymer (A1) is preferably a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using a tetrahydrofuran (THF) solvent, preferably 3,000 or more and 200,000 or less, more preferably. Is 3,500 or more and 100,000 or less, and more preferably 4,000 or more and 50,000 or less. Within such a range, it is possible to obtain a photosensitive composition having heat resistance and having an appropriate viscosity for forming a coating film.

ポリマー（Ａ１）は、ポリマー（Ａ１）を与えるモノマー組成物を、任意の適切な方法で重合して得ることができる。重合方法としては、例えば、溶液重合法が挙げられる。 The polymer (A1) can be obtained by polymerizing the monomer composition giving the polymer (A1) by any suitable method. Examples of the polymerization method include a solution polymerization method.

ポリマー（Ａ１）を与えるモノマー組成物は、任意の適切な溶媒を含み得る。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート等のエステル類；メタノール、エタノール等のアルコール類；トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロホルム；ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、又は２種以上組み合わせて用いてもよい。上記モノマー組成物を重合する際の重合濃度は、好ましくは５質量％以上９０質量％以下であり、より好ましくは５質量％以上５０質量％以下であり、さらに好ましくは１０質量％以上５０質量％以下である。 The monomer composition which gives the polymer (A1) may contain any suitable solvent. Examples of the solvent include ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl. Examples include esters such as acetate; alcohols such as methanol and ethanol; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and ethylbenzene; chloroform; dimethylsulfoxide and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The polymerization concentration when polymerizing the above-mentioned monomer composition is preferably 5% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and further preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less. It is as follows.

ポリマー（Ａ１）を与えるモノマー組成物は、任意の適切な重合開始剤を含み得る。重合開始剤としては、例えば、クメンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ－アミルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート等の有機過酸化物；２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）等のアゾ化合物等が挙げられる。重合開始剤の含有割合は、モノマー組成物中の全モノマー１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上１５質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下である。 The monomer composition which gives the polymer (A1) may contain any suitable polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include cumenehydroperoxide, diisopropylbenzenehydroperoxide, di-t-butyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylperoxyisopropyl carbonate, and t-amylperoxy-2-. Organic peroxides such as ethylhexanoate and t-butylperoxy-2-ethylhexanoate; 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexanecarbonitrile), 2 , 2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate) and other azo compounds can be mentioned. The content ratio of the polymerization initiator is preferably 0.1 part by mass or more and 15 parts by mass or less, and more preferably 0.5 part by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of all the monomers in the monomer composition. ..

ポリマー（Ａ１）を溶液重合法により重合する際の重合温度は、好ましくは４０℃以上１５０℃以下であり、より好ましくは６０℃以上１３０℃以下である。 The polymerization temperature when the polymer (A1) is polymerized by the solution polymerization method is preferably 40 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and more preferably 60 ° C. or higher and 130 ° C. or lower.

側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位（Ａ１ｃ）を有するポリマー（Ａ１）を得る場合、上記重合後、得られたポリマーに上記炭素二重結合を有する化合物を付加する。炭素二重結合を有する化合物を付加する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、重合禁止剤及び触媒の存在下で、炭素二重結合を有する化合物を、側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ａ１ｂ）の酸基の一部又は全部（好ましくは、一部）に反応させて付加することにより、側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位（Ａ１ｃ）を形成させることができる。 When a polymer (A1) having a repeating unit (A1c) having a carbon double bond in the side chain is obtained, the compound having the carbon double bond is added to the obtained polymer after the polymerization. Any suitable method can be adopted as a method for adding a compound having a carbon double bond. For example, in the presence of a polymerization inhibitor and a catalyst, a compound having a carbon double bond is reacted with a part or all (preferably a part) of the acid group of the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain. By adding the compound, a repeating unit (A1c) having a carbon double bond in the side chain can be formed.

上記炭素二重結合を有する化合物の付加量は、上記重合後のポリマー（すなわち、炭素二重結合を有する化合物を付加する前のポリマー）１００質量部に対して、好ましくは５質量部以上であり、より好ましくは１０質量部以上であり、さらに好ましくは１５質量部以上であり、特に好ましくは２０質量部以上である。このような範囲であれば、露光感度に優れる感光性組成物を得ることができる。このような感光性組成物を用いれば、緻密な硬化塗膜を形成しやすく、基板密着性にも優れたパターンが得られる傾向にある。また、炭素二重結合を有する化合物の付加量が上記範囲であれば、炭素二重結合を有する化合物の付加により水酸基が十分に生成され、アルカリ現像液に対する溶解性に優れる感光性組成物を得ることができる。上記炭素二重結合を有する化合物の付加量の上限は、上記重合後のポリマー（すなわち、炭素二重結合を有する化合物を付加する前のポリマー）１００質量部に対して、好ましくは１７０質量部以下であり、より好ましくは１５０質量部以下であり、さらに好ましくは１４０質量部以下である。炭素二重結合を有する化合物の付加量が上記範囲内であれば、感光性組成物の保存安定性及び溶解性を維持することができる。 The amount of the compound having a carbon double bond added is preferably 5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymer after the polymerization (that is, the polymer before adding the compound having a carbon double bond). , More preferably 10 parts by mass or more, further preferably 15 parts by mass or more, and particularly preferably 20 parts by mass or more. Within such a range, a photosensitive composition having excellent exposure sensitivity can be obtained. When such a photosensitive composition is used, it is easy to form a dense cured coating film, and there is a tendency to obtain a pattern having excellent substrate adhesion. Further, when the addition amount of the compound having a carbon double bond is within the above range, a hydroxyl group is sufficiently generated by the addition of the compound having a carbon double bond, and a photosensitive composition having excellent solubility in an alkaline developer is obtained. be able to. The upper limit of the addition amount of the compound having a carbon double bond is preferably 170 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymer after the polymerization (that is, the polymer before the compound having a carbon double bond is added). It is more preferably 150 parts by mass or less, still more preferably 140 parts by mass or less. When the addition amount of the compound having a carbon double bond is within the above range, the storage stability and solubility of the photosensitive composition can be maintained.

重合禁止剤としては、例えば、６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノール等のアルキルフェノール化合物が挙げられる。触媒としては、例えば、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン等の３級アミンが挙げられる。 Examples of the polymerization inhibitor include alkylphenol compounds such as 6-tert-butyl-2,4-xylenol. Examples of the catalyst include tertiary amines such as dimethylbenzylamine and triethylamine.

以上説明した樹脂（Ｂ２）の含有量は、感光性組成物の固形分に対して、１質量％以上９５質量％以下が好ましく、３質量％以上８５質量％以下がより好ましく、５質量％以上７０質量％以下が特に好ましい。
感光性組成物が、かかる範囲内の量の樹脂（Ｂ２）を含む場合、感光性組成物の製膜性が良好であり、機械的特性や、形状が良好である硬化膜を形成しやすい。
また、樹脂（Ｂ２）がアルカリ可溶性である場合、良好なアルカリ現像性を実現しやすい。 The content of the resin (B2) described above is preferably 1% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 85% by mass or less, and 5% by mass or more with respect to the solid content of the photosensitive composition. 70% by mass or less is particularly preferable.
When the photosensitive composition contains an amount of the resin (B2) within such a range, the photosensitive composition has good film-forming properties, and it is easy to form a cured film having good mechanical properties and shape.
Further, when the resin (B2) is alkali-soluble, it is easy to realize good alkali developability.

＜着色剤（Ｃ）＞
感光性組成物は、感光性組成物を用いて形成される硬化膜の用途に応じて着色剤（Ｃ）を含んでいてもよい。着色剤（Ｃ）としては、耐光性、耐候性が良好であり、ブリーディングの問題が生じにくいこと等から、顔料が好ましい。 <Colorant (C)>
The photosensitive composition may contain a colorant (C) depending on the use of the cured film formed by using the photosensitive composition. As the colorant (C), a pigment is preferable because it has good light resistance and weather resistance and is less likely to cause bleeding problems.

顔料としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ社発行）において、ピグメント（Ｐｉｇｍｅｎｔ）に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものを用いることができる。 The pigment is not particularly limited, but for example, a compound classified as Pigment in the Color Index (CI; The Society of Dyers and Colorists), specifically, the following. Those with a color index (CI) number can be used.

好適に使用できる黄色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。）、３、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、５５、６０、６１、６５、７１、７３，７４、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、９９、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１６、１１７、１１９、１２０、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６６、１６７、１６８、１７５、１８０、及び１８５が挙げられる。 Examples of suitable yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, "CI Pigment Yellow" is the same and only the number is described), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53. , 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116 , 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180. , And 185.

好適に使用できる橙色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。）、５、１３、１４、１６、１７、２４、３４、３６、３８、４０、４３、４６、４９、５１、５５、５９、６１、６３、６４、７１、及び７３が挙げられる。 Examples of preferably usable orange pigments include C.I. I. Pigment Orange 1 (hereinafter, "CI Pigment Orange" is the same and only the number is described), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46. , 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, and 73.

好適に使用できる紫色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。）、１９、２３、２９、３０、３２、３６、３７、３８、３９、４０、及び５０が挙げられる。 Examples of suitably usable purple pigments include C.I. I. Pigment Violet 1 (hereinafter, "CI Pigment Violet" is the same and only the number is described), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, and 50. Can be mentioned.

好適に使用できる赤色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。）２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２１、２２、２３、３０、３１、３２、３７、３８、４０、４１、４２、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５３：１、５７、５７：１、５７：２、５８：２、５８：４、６０：１、６３：１、６３：２、６４：１、８１：１、８３、８８、９０：１、９７、１０１、１０２、１０４、１０５、１０６、１０８、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１５１、１５５、１６６、１６８、１７０、１７１、１７２、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８０、１８５、１８７、１８８、１９０、１９２、１９３、１９４、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４２、２４３、２４５、２５４、２５５、２６４、及び２６５が挙げられる。 Examples of preferably usable red pigments include C.I. I. Pigment Red 1 (hereinafter, "CI Pigment Red" is the same and only the number is described.) 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81: 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, and 265.

好適に使用できる青色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。）、２、１５、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、及び６６が挙げられる。 Examples of blue pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Blue 1 (hereinafter, "CI Pigment Blue" is the same and only the number is described) 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64. , And 66.

好適に使用できる、上記の他の色相の顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３７等の緑色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２８等の茶色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７等の黒色顔料が挙げられる。 Examples of pigments of the above other hues that can be suitably used include C.I. I. Pigment Green 7, C.I. I. Pigment Green 36, C.I. I. Pigment Green 37 and other green pigments, C.I. I. Pigment Brown 23, C.I. I. Pigment Brown 25, C.I. I. Pigment Brown 26, C.I. I. Pigment Brown 28 and other brown pigments, C.I. I. Pigment Black 1, C.I. I. Examples thereof include black pigments such as Pigment Black 7.

また、感光性組成物に遮光性を付与する場合は、感光性組成物が着色剤（Ｃ）として黒色顔料を含むことが好ましい。黒色顔料を含む感光性組成物は、液晶表示パネルにおけるブラックマトリックス又はブラックカラムスペーサーの形成や、有機ＥＬ素子における発光層の区画用のバンクの形成に好適に用いられる。 Further, when imparting a light-shielding property to the photosensitive composition, it is preferable that the photosensitive composition contains a black pigment as the colorant (C). The photosensitive composition containing a black pigment is suitably used for forming a black matrix or a black column spacer in a liquid crystal display panel, and forming a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL device.

黒色顔料の例としては、カーボンブラック、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。これらの黒色顔料の中では、入手が容易であることや、遮光性に優れ且つ電気抵抗の高い硬化膜を形成しやすいことから、カーボンブラックが好ましい。
なお、黒色顔料の色相は、色彩論上の無彩色である黒色には限定されず、紫がかった黒色や、青みがかった黒色や、赤みがかった黒色であってもよい。 Examples of black pigments include carbon black, perylene pigments, lactam pigments, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, silver and other metal oxides, composite oxides and metal sulfides. Various pigments, regardless of whether they are organic or inorganic, such as substances, metal sulfates or metal carbonates, can be mentioned. Among these black pigments, carbon black is preferable because it is easily available and it is easy to form a cured film having excellent light-shielding properties and high electrical resistance.
The hue of the black pigment is not limited to black, which is an achromatic color in terms of color theory, and may be purplish black, bluish black, or reddish black.

カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができる。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。 As the carbon black, known carbon blacks such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black can be used. Further, resin-coated carbon black may be used.

カーボンブラックとしては、酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックも好ましい。カーボンブラックに導入される酸性基は、ブレンステッドの定義による酸性を示す官能基である。酸性基の具体例としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。カーボンブラックに導入された酸性基は、塩を形成していてもよい。酸性基と塩を形成するカチオンは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カチオンの例としては、種々の金属イオン、含窒素化合物のカチオン、アンモニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン等のアルカリ金属イオンや、アンモニウムイオンが好ましい。 As the carbon black, carbon black that has been treated to introduce an acidic group is also preferable. The acidic group introduced into carbon black is a functional group that exhibits acidity as defined by Bronsted. Specific examples of the acidic group include a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group and the like. The acidic group introduced into the carbon black may form a salt. The cation forming the salt with the acidic group is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. Examples of the cation include various metal ions, cations of nitrogen-containing compounds, ammonium ions and the like, and alkali metal ions such as sodium ion, potassium ion and lithium ion, and ammonium ion are preferable.

以上説明した酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックの中では、感光性組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の高抵抗を達成する観点で、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、及びスルホン酸塩基からなる群より選択される１種以上の官能基を有するカーボンブラックが好ましい。 Among the carbon blacks that have been treated to introduce the acidic groups described above, carboxylic acid groups and carboxylic acid bases are used from the viewpoint of achieving high resistance of the light-shielding cured film formed by using the photosensitive composition. , A carbon black having one or more functional groups selected from the group consisting of a sulfonic acid group and a sulfonic acid base is preferable.

カーボンブラックに酸性基を導入する方法は特に限定されない。酸性基を導入する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
１）濃硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン酸等を用いる直接置換法や、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩等を用いる間接置換法により、カーボンブラックにスルホン酸基を導入する方法。
２）アミノ基と酸性基とを有する有機化合物と、カーボンブラックとをジアゾカップリングさせる方法。
３）ハロゲン原子と酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとをウィリアムソンのエーテル化法により反応させる方法。
４）ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとを反応させる方法。
５）ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物を用いて、カーボンブラックに対してフリーデルクラフツ反応を行った後、脱保護する方法。 The method for introducing an acidic group into carbon black is not particularly limited. Examples of the method for introducing an acidic group include the following methods.
1) A method of introducing a sulfonic acid group into carbon black by a direct substitution method using concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid, chlorosulfonic acid, etc., or an indirect substitution method using sulfite, hydrogen sulfite, etc.
2) A method of diazo-coupling an organic compound having an amino group and an acidic group with carbon black.
3) A method in which an organic compound having a halogen atom and an acidic group and carbon black having a hydroxyl group are reacted by Williamson's etherification method.
4) A method of reacting an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group with carbon black having a hydroxyl group.
5) A method of deprotecting carbon black after conducting a Friedel-Crafts reaction using an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group.

これらの方法の中では、酸性基の導入処理が、容易且つ安全であることから、方法２）が好ましい。方法２）で使用されるアミノ基と酸性基とを有する有機化合物としては、芳香族基にアミノ基と酸性基とが結合した化合物が好ましい。このような化合物の例としては、スルファニル酸のようなアミノベンゼンスルホン酸や、４－アミノ安息香酸のようなアミノ安息香酸が挙げられる。 Among these methods, method 2) is preferable because the process of introducing an acidic group is easy and safe. As the organic compound having an amino group and an acidic group used in the method 2), a compound in which an amino group and an acidic group are bonded to an aromatic group is preferable. Examples of such compounds include aminobenzenesulfonic acid such as sulfanilic acid and aminobenzoic acid such as 4-aminobenzoic acid.

カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、カーボンブラック１００ｇに対して、１ｍｍｏｌ以上２００ｍｍｏｌ以下が好ましく、５ｍｍｏｌ以上１００ｍｍｏｌ以下がより好ましい。 The number of moles of acidic groups introduced into carbon black is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. The number of moles of the acidic group introduced into the carbon black is preferably 1 mmol or more and 200 mmol or less, and more preferably 5 mmol or more and 100 mmol or less with respect to 100 g of carbon black.

酸性基を導入されたカーボンブラックは、樹脂による被覆処理を施されていてもよい。
樹脂により被覆されたカーボンブラックを含む感光性組成物を用いる場合、遮光性及び絶縁性に優れ、表面反射率が低い遮光性の硬化膜を形成しやすい。なお、樹脂による被覆処理によって、感光性組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の誘電率に対する悪影響は特段生じない。カーボンブラックの被覆に使用できる樹脂の例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。カーボンブラックに対する樹脂の被覆量は、カーボンブラックの質量と樹脂の質量との合計に対して、１質量％以上３０質量％以下が好ましい。 The carbon black into which an acidic group has been introduced may be coated with a resin.
When a photosensitive composition containing carbon black coated with a resin is used, it is easy to form a light-shielding cured film having excellent light-shielding and insulating properties and low surface reflectance. It should be noted that the coating treatment with the resin does not cause any adverse effect on the dielectric constant of the light-shielding cured film formed by using the photosensitive composition. Examples of resins that can be used for coating carbon black include thermocurable resins such as phenol resin, melamine resin, xylene resin, diallyl phthalate resin, glyptal resin, epoxy resin, and alkylbenzene resin, and polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and poly. Examples thereof include thermoplastic resins such as butylene terephthalate, modified polyphenylene oxide, polysulphon, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyaminobismaleimide, polyether sulfopolyphenylensulphon, polyarylate, and polyether ether ketone. The coating amount of the resin on the carbon black is preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the total of the mass of the carbon black and the mass of the resin.

また、黒色顔料としてはペリレン系顔料も好ましく用いることができる。ペリレン系顔料の具体例としては、下記式（ｄ－１）で表されるペリレン系顔料、下記式（ｄ－２）で表されるペリレン系顔料、及び下記式（ｄ－３）で表されるペリレン系顔料が挙げられる。市販品では、ＢＡＳＦ社製の製品名Ｋ００８４、及びＫ００８６や、ピグメントブラック２１、３０、３１、３２、３３、及び３４等を、ペリレン系顔料として好ましく用いることができる。 Further, as the black pigment, a perylene-based pigment can also be preferably used. Specific examples of the perylene-based pigment include a perylene-based pigment represented by the following formula (d-1), a perylene-based pigment represented by the following formula (d-2), and a perylene-based pigment represented by the following formula (d-3). Examples include perylene-based pigments. As commercial products, product names K0084 and K0083 manufactured by BASF, Pigment Black 21, 30, 31, 32, 33, 34, and the like can be preferably used as perylene-based pigments.

Figure 0007051321000056
式（ｃ－１）中、Ｒｃ１及びＲｃ２は、それぞれ独立に炭素原子数１以上３以下のアルキレン基を表し、Ｒｃ３及びＲｃ４は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、メトキシ基、又はアセチル基を表す。
Figure 0007051321000056
 In formula (c-1), R c1 and R c2 each independently represent an alkylene group having 1 or more and 3 or less carbon atoms, and R c3 and R c4 independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, and a methoxy group, respectively. Or represents an acetyl group.

Figure 0007051321000057
式（ｃ－２）中、Ｒｃ５及びＲｃ６は、それぞれ独立に、炭素原子数１以上７以下のアルキレン基を表す。
Figure 0007051321000057
 In the formula (c-2), R c5 and R c6 each independently represent an alkylene group having 1 or more carbon atoms and 7 or less carbon atoms.

Figure 0007051321000058
式（ｃ－３）中、Ｒｃ７及びＲｃ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１以上２２以下のアルキル基であり、Ｎ，Ｏ、Ｓ、又はＰのヘテロ原子を含んでいてもよい。Ｒｃ７及びＲｃ８がアルキル基である場合、当該アルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Figure 0007051321000058
 In formula (c-3), R c7 and R c8 are independently hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 22 carbon atoms, and contain N, O, S, or P heteroatoms. May be good. When R c7 and R c8 are alkyl groups, the alkyl groups may be linear or branched.

上記の式（ｃ－１）で表される化合物、式（ｃ－２）で表される化合物、及び式（ｃ－３）で表される化合物は、例えば、特開昭６２－１７５３号公報、特公昭６３－２６７８４号公報に記載の方法を用いて合成することができる。すなわち、ペリレン－３，５，９，１０－テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。 The compound represented by the above formula (c-1), the compound represented by the formula (c-2), and the compound represented by the formula (c-3) are, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-1753. , No. 63-26784 can be synthesized by using the method described in Japanese Patent Publication No. 63-26784. That is, a heating reaction is carried out in water or an organic solvent using perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or its dianhydride or amines as raw materials. Then, the desired product can be obtained by reprecipitating the obtained crude product in sulfuric acid or recrystallizing it in water, an organic solvent or a mixed solvent thereof.

感光性組成物中においてペリレン系顔料を良好に分散させるためには、ペリレン系顔料の平均粒子径は１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるのが好ましい。 In order to satisfactorily disperse the perylene-based pigment in the photosensitive composition, the average particle size of the perylene-based pigment is preferably 10 nm or more and 1000 nm or less.

また、遮光剤としては、ラクタム系顔料を含ませることもできる。ラクタム系顔料としては、例えば、下記式（ｃ－４）で表される化合物が挙げられる。 Further, the light-shielding agent may contain a lactam pigment. Examples of the lactam pigment include compounds represented by the following formula (c-4).

Figure 0007051321000059
Figure 0007051321000059

式（ｃ－４）中、Ｘｃは二重結合を示し、幾何異性体としてそれぞれ独立にＥ体又はＺ体であり、Ｒｃ９は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、臭素原子、塩素原子、フッ素原子、カルボキシ基、又はスルホ基を示し、Ｒｃ１０は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はフェニル基を示し、Ｒｃ１１は、各々独立に、水素原子、メチル基、又は塩素原子を示す。
式（ｃ－４）で表される化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
Ｒｃ９は、式（ｃ－４）で表される化合物の製造が容易である点から、ジヒドロインドロン環の６位に結合するのが好ましく、Ｒｃ１１はジヒドロインドロン環の４位に結合するのが好ましい。同様の観点から、Ｒｃ９、Ｒｃ１０、及びＲｃ１１は、好ましくは水素原子である。
式（ｃ－４）で表される化合物は、幾何異性体としてＥＥ体、ＺＺ体、ＥＺ体を有するが、これらのいずれかの単一の化合物であってもよいし、これらの幾何異性体の混合物であってもよい。
式（ｃ－４）で表される化合物は、例えば、国際公開第２０００／２４７３６号、及び国際公開第２０１０／０８１６２４号に記載された方法により製造することができる。 In formula (c-4), X c represents a double bond and is an E-form or a Z-form independently as geometric isomers, and R c9 is independently a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, and a methoxy. A group, a bromine atom, a chlorine atom, a fluorine atom, a carboxy group, or a sulfo group, R c10 independently indicates a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group, and R c11 independently indicates a hydrogen atom. , Methyl group, or chlorine atom.
The compound represented by the formula (c-4) can be used alone or in combination of two or more.
R c9 is preferably bonded to the 6-position of the dihydroindron ring because the compound represented by the formula (c-4) can be easily produced, and R c11 is bonded to the 4-position of the dihydroindron ring. It is preferable to do. From the same viewpoint, R c9 , R c10 , and R c11 are preferably hydrogen atoms.
The compound represented by the formula (c-4) has an EE form, a ZZ form, and an EZ form as geometric isomers, but may be a single compound of any one of these, or these geometric isomers may be used. May be a mixture of.
The compound represented by the formula (c-4) can be produced, for example, by the methods described in International Publication No. 2000/24736 and International Publication No. 2010/0816224.

感光性組成物中においてラクタム系顔料を良好に分散させるためには、ラクタム系顔料の平均粒子径は１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるのが好ましい。 In order to satisfactorily disperse the lactam pigment in the photosensitive composition, the average particle size of the lactam pigment is preferably 10 nm or more and 1000 nm or less.

さらに、銀錫（ＡｇＳｎ）合金を主成分とする微粒子（以下、「ＡｇＳｎ合金微粒子」という。）も黒色顔料として好ましく用いられる。このＡｇＳｎ合金微粒子は、ＡｇＳｎ合金が主成分であればよく、他の金属成分として、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ａｕ等が含まれていてもよい。
このＡｇＳｎ合金微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好ましい。 Further, fine particles containing silver-tin (AgSn) alloy as a main component (hereinafter, referred to as "AgSn alloy fine particles") are also preferably used as the black pigment. The AgSn alloy fine particles may contain AgSn alloy as a main component, and may contain, for example, Ni, Pd, Au, etc. as other metal components.
The average particle size of the AgSn alloy fine particles is preferably 1 nm or more and 300 nm or less.

ＡｇＳｎ合金は、化学式ＡｇｘＳｎにて表した場合、化学的に安定したＡｇＳｎ合金が得られるｘの範囲は１≦ｘ≦１０であり、化学的安定性と黒色度とが同時に得られるｘの範囲は３≦ｘ≦４である。
ここで、上記ｘの範囲でＡｇＳｎ合金中のＡｇの質量比を求めると、
ｘ＝１の場合、 Ａｇ／ＡｇＳｎ＝０．４７６２
ｘ＝３の場合、 ３・Ａｇ／Ａｇ３Ｓｎ＝０．７３１７
ｘ＝４の場合、 ４・Ａｇ／Ａｇ４Ｓｎ＝０．７８４３
ｘ＝１０の場合、１０・Ａｇ／Ａｇ１０Ｓｎ＝０．９００８
となる。
従って、このＡｇＳｎ合金は、Ａｇを４７．６質量％以上９０質量％以下含有した場合に化学的に安定なものとなり、Ａｇを７３．１７質量％以上７８．４３質量％以下含有した場合にＡｇ量に対し効果的に化学的安定性と黒色度とを得ることができる。 When the AgSn alloy is represented by the chemical formula AgxSn, the range of x in which a chemically stable AgSn alloy can be obtained is 1 ≦ x ≦ 10, and the range of x in which chemical stability and blackness can be obtained at the same time is. 3 ≦ x ≦ 4.
Here, when the mass ratio of Ag in the AgSn alloy is obtained in the range of x above,
When x = 1, Ag / AgSn = 0.4762
When x = 3, 3.Ag / Ag3Sn = 0.7317
When x = 4, 4. Ag / Ag4Sn = 0.7843
When x = 10, 10 · Ag / Ag10Sn = 0.9008
Will be.
Therefore, this AgSn alloy becomes chemically stable when Ag is contained in an amount of 47.6% by mass or more and 90% by mass or less, and when Ag is contained in an amount of 73.17% by mass or more and 78.43% by mass or less. Chemical stability and blackness can be effectively obtained with respect to the amount.

このＡｇＳｎ合金微粒子は、通常の微粒子合成法を用いて作製することができる。微粒子合成法としては、気相反応法、噴霧熱分解法、アトマイズ法、液相反応法、凍結乾燥法、水熱合成法等が挙げられる。 The AgSn alloy fine particles can be produced by using a usual fine particle synthesis method. Examples of the fine particle synthesis method include a gas phase reaction method, a spray pyrolysis method, an atomizing method, a liquid phase reaction method, a freeze-drying method, and a hydrothermal synthesis method.

ＡｇＳｎ合金微粒子は絶縁性の高いものであるが、感光性組成物の用途によっては、さらに絶縁性を高めるため、表面を絶縁膜で覆うようにしても構わない。このような絶縁膜の材料としては、金属酸化物又は有機高分子化合物が好適である。
金属酸化物としては、絶縁性を有する金属酸化物、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、酸化イットリウム（イットリア）、酸化チタン（チタニア）等が好適に用いられる。
また、有機高分子化合物としては、絶縁性を有する樹脂、例えば、ポリイミド、ポリエーテル、ポリアクリレート、ポリアミン化合物等が好適に用いられる。 The AgSn alloy fine particles have high insulating properties, but depending on the application of the photosensitive composition, the surface may be covered with an insulating film in order to further improve the insulating properties. As the material of such an insulating film, a metal oxide or an organic polymer compound is suitable.
As the metal oxide, a metal oxide having an insulating property, for example, silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), zirconium oxide (zirconia), yttrium oxide (itria), titanium oxide (titania) and the like is preferably used. Be done.
Further, as the organic polymer compound, a resin having an insulating property, for example, a polyimide, a polyether, a polyacrylate, a polyamine compound or the like is preferably used.

絶縁膜の膜厚は、ＡｇＳｎ合金微粒子の表面の絶縁性を十分に高めるためには１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みが好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。
絶縁膜は、表面改質技術あるいは表面のコーティング技術により容易に形成することができる。特に、テトラエトキシシラン、アルミニウムトリエトキシド等のアルコキシドを用いれば、比較的低温で膜厚の均一な絶縁膜を形成することができるので好ましい。 The thickness of the insulating film is preferably 1 nm or more and 100 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 50 nm or less in order to sufficiently enhance the insulating property of the surface of the AgSn alloy fine particles.
The insulating film can be easily formed by a surface modification technique or a surface coating technique. In particular, it is preferable to use an alkoxide such as tetraethoxysilane or aluminum triethoxyde because an insulating film having a uniform film thickness can be formed at a relatively low temperature.

黒色顔料としては、上述のペリレン系顔料、ラクタム系顔料、ＡｇＳｎ合金微粒子単独でも用いてもよいし、これらを組み合わせて用いてもよい。
その他、黒色顔料は、色調の調整の目的等で、赤、青、緑、黄等の色相の色素を含んでいてもよい。黒色顔料の他の色相の色素は、公知の色素から適宜選択することができる。例えば、黒色顔料の他の色相の色素としては、上記の種々の顔料を用いることができる。黒色顔料の他の色相の色素の使用量は、黒色顔料の全質量に対して、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。 As the black pigment, the above-mentioned perylene-based pigment, lactam-based pigment, and AgSn alloy fine particles may be used alone, or these may be used in combination.
In addition, the black pigment may contain a pigment having a hue such as red, blue, green, or yellow for the purpose of adjusting the color tone. The dye having another hue of the black pigment can be appropriately selected from known dyes. For example, as the pigment having another hue of the black pigment, the above-mentioned various pigments can be used. The amount of the black pigment used in other hues is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, based on the total mass of the black pigment.

以上説明した顔料を感光性組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、顔料として、カーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。
なお、分散剤に起因する腐食性のガスが硬化膜から生じる場合もある。このため、顔料が、分散剤を用いることなく分散処理されるのも好ましい態様の一例である。 Further, a dispersant may be used in order to uniformly disperse the pigment described above in the photosensitive composition. As such a dispersant, it is preferable to use a polyethyleneimine-based, urethane resin-based, or acrylic resin-based polymer dispersant. In particular, when carbon black is used as the pigment, it is preferable to use an acrylic resin-based dispersant as the dispersant.
In addition, corrosive gas due to the dispersant may be generated from the cured film. Therefore, it is also an example of a preferable embodiment that the pigment is dispersed without using a dispersant.

また、無機顔料と有機顔料はそれぞれ単独又は２種以上併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量１００質量部に対して、有機顔料を１０質量部以上８０質量部以下の範囲で用いることが好ましく、２０質量部以上４０質量部以下の範囲で用いることがより好ましい。 Further, the inorganic pigment and the organic pigment may be used alone or in combination of two or more, but when they are used in combination, the organic pigment is added in an amount of 10 parts by mass or more and 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the inorganic pigment and the organic pigment. It is preferably used in the range of 20 parts by mass or less, and more preferably 20 parts by mass or more and 40 parts by mass or less.

なお、感光性組成物において、顔料と染料とを組み合わせて用いてもよい。この染料は公知の材料のなかから適宜選択すればよい。
感光性組成物に適用可能な染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、アントラキノン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、シアニン染料、ナフトキノン染料、キノンイミン染料、メチン染料、フタロシアニン染料等を挙げることができる。
また、これら染料については、レーキ化（造塩化）することで有機溶媒等に分散させ、これを着色剤（Ｃ）として用いることができる。
これらの染料以外にも、例えば、特開２０１３－２２５１３２号公報、特開２０１４－１７８４７７号公報、特開２０１３－１３７５４３号公報、特開２０１１－３８０８５号公報、特開２０１４－１９７２０６号公報等に記載の染料等も好ましく用いることができる。 In the photosensitive composition, the pigment and the dye may be used in combination. This dye may be appropriately selected from known materials.
Examples of dyes applicable to the photosensitive composition include azo dyes, metal complex salt azo dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, naphthoquinone dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, phthalocyanine dyes and the like. be able to.
Further, these dyes can be raked (chlorinated) to be dispersed in an organic solvent or the like, and this can be used as a colorant (C).
In addition to these dyes, for example, JP-A-2013-225132, JP-A-2014-178477, JP-A-2013-137543, JP-A-2011-38085, JP-A-2014-197206, etc. The dyes and the like described can also be preferably used.

感光性組成物における着色剤（Ｃ）の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で適宜選択でき、典型的には、感光性組成物の固形分全体の質量に対して、２質量％以上７５質量％以下が好ましく、３質量％以上７０質量％以下がより好ましい。 The amount of the colorant (C) used in the photosensitive composition can be appropriately selected as long as it does not impair the object of the present invention, and is typically 2% by mass with respect to the total mass of the solid content of the photosensitive composition. More than 75% by mass is preferable, and 3% by mass or more and 70% by mass or less is more preferable.

着色剤（Ｃ）として顔料を用いる場合、顔料は分散剤の存在下又は不存在下に適当な濃度で分散させた分散液とした後、感光性組成物に添加することが好ましい。
尚、本明細書においては、上述の顔料の使用量について、この存在する分散剤も含む値として定義することができる。 When a pigment is used as the colorant (C), it is preferable to add the pigment to the photosensitive composition after preparing a dispersion liquid in which the pigment is dispersed at an appropriate concentration in the presence or absence of the dispersant.
In this specification, the amount of the above-mentioned pigment used can be defined as a value including the present dispersant.

＜その他の成分＞
感光性組成物は、必要に応じて、各種の添加剤を含んでいてもよい。具体的には、溶剤、表面調整剤、増感剤、硬化促進剤、光架橋剤、光増感剤、分散助剤、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、連鎖移動剤等が例示される。いずれの添加剤も、従来公知のものを用いることができる。界面活性剤としては、アニオン系化合物、カチオン系化合物、ノニオン系化合物等が挙げられる。密着性向上剤としては、従来公知のシランカップリング剤が挙げられる。熱重合禁止剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられる。消泡剤としては、シリコーン系化合物、フッ素系化合物等が挙げられる。
連鎖移動剤としては、メルカプタン系化合物、ハロゲン系化合物、キノン系化合物、α－メチルスチレンダイマー等が挙げられる。連鎖移動剤を含有することで、パターン形状（特に、ホールパターンのＣＤ変化、露光マージン）を良好にコントロールすることができる。なかでも２，４－ジフェニル－４－メチル－１－ペンテン（α－メチルスチレンダイマー）は上記効果に加え、昇華物や着色、臭気が低減できる点で好ましい。 <Other ingredients>
The photosensitive composition may contain various additives, if necessary. Specifically, a solvent, a surface conditioner, a sensitizer, a curing accelerator, a photocrossing agent, a photosensitizer, a dispersion aid, a filler, an adhesion accelerator, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and an antiaggregating agent. , Thermal polymerization inhibitor, defoaming agent, surfactant, chain transfer agent and the like are exemplified. As any of the additives, conventionally known ones can be used. Examples of the surfactant include anionic compounds, cationic compounds, nonionic compounds and the like. Examples of the adhesion improving agent include conventionally known silane coupling agents. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monoethyl ether and the like. Examples of the defoaming agent include silicone-based compounds and fluorine-based compounds.
Examples of the chain transfer agent include mercaptan compounds, halogen compounds, quinone compounds, α-methylstyrene dimers and the like. By containing the chain transfer agent, the pattern shape (particularly, the CD change of the hole pattern and the exposure margin) can be satisfactorily controlled. Among them, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene (α-methylstyrene dimer) is preferable because it can reduce sublimation, coloring and odor in addition to the above effects.

感光性組成物に溶剤を用いる場合、使用される溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等のケトン類；２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチル部炭酸メチル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ－プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 When a solvent is used in the photosensitive composition, examples of the solvent used include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, and diethylene glycol monomethyl ether. Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n- Propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tri (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol mono (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethyl ether acetate; other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone Classes: Lactic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxy Methyl propionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methyl carbonate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybuty Lupropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-pentyl formate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyrate , Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate and other esters; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone , N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and other amides and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

上記溶剤の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＧＰＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（ＭＥＤＧ）、シクロヘキサノン、３－メトキシブチルアセテート（ＭＢＡ）は、上述の（Ａ１）成分及び（Ａ２）成分並びに任意に用いられる（Ｂ）成分に対して優れた溶解性を示すため好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテートを用いることが特に好ましい。溶剤の含有量は、感光性組成物の用途に応じて適宜決定すればよいが、一例として、感光性組成物の固形分の合計１００質量部に対して、５０質量部以上９００質量部以下程度が挙げられる。 Among the above solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (GPMEA), propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether (MEDG), cyclohexanone, 3-methoxybutyl acetate. (MBA) is preferable because it exhibits excellent solubility in the above-mentioned components (A1) and (A2) and optionally used component (B), and propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl acetate are used. Is particularly preferred. The content of the solvent may be appropriately determined according to the intended use of the photosensitive composition, but as an example, about 50 parts by mass or more and 900 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the photosensitive composition. Can be mentioned.

≪感光性組成物の調製方法≫
本発明に係る感光性組成物は、上記各成分を均一に撹拌、混合し、均一に溶解、分散させた後に、必要に応じて０．２μｍメンブランフィルタ等のフィルタで濾過して調製することができる。 << Preparation method of photosensitive composition >>
The photosensitive composition according to the present invention can be prepared by uniformly stirring and mixing each of the above components, uniformly dissolving and dispersing, and then filtering with a filter such as a 0.2 μm membrane filter, if necessary. can.

≪硬化物形成方法、及び硬化物≫
硬化物形成方法は、上述の感光性組成物を用いることの他は、感光性組成物を用いて形成された従来の硬化物形成方法と同様である。 << Cured product forming method and cured product >>
The cured product forming method is the same as the conventional cured product forming method formed by using the photosensitive composition, except that the above-mentioned photosensitive composition is used.

上述の感光性組成物を用いて、硬化物を形成する方法は特に制限されず、従来より採用されている方法から適宜選択できる。硬化物は、感光性組成物の塗布時の塗膜の形状のコントロールや、位置選択的な露光と現像との組み合わせによって、所望する形状の成形体として形成される。好適な硬化物形成方法としては、上述の感光性組成物を用いて塗膜を形成する塗膜形成工程と、上記塗膜に対して、露光する露光工程と、を含む方法が挙げられる。露光が位置選択的に行われる場合、露光された塗膜を現像液により現像して、パターン化された硬化物を得てもよい The method for forming the cured product using the above-mentioned photosensitive composition is not particularly limited, and can be appropriately selected from the conventionally adopted methods. The cured product is formed as a molded product having a desired shape by controlling the shape of the coating film at the time of applying the photosensitive composition and by combining regioselective exposure and development. As a suitable cured product forming method, a method including a coating film forming step of forming a coating film using the above-mentioned photosensitive composition and an exposure step of exposing the coating film to the above-mentioned coating film can be mentioned. When the exposure is regioselective, the exposed coating may be developed with a developer to obtain a patterned cured product.

まず、塗膜形成工程では、例えば、硬化物が形成されるべき基板上に、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて本発明に係る感光性組成物を塗布し、必要に応じて、乾燥（プリベーク）により溶媒を除去して塗膜を形成する。
なお、基板上に盛られた液滴や、凹凸を有する基板の凹部に埋め込めまれた感光性組成物や、モールドの凹部に充填された感光性組成物等についても、便宜上「塗膜」と称する。 First, in the coating film forming step, for example, a contact transfer type coating device such as a roll coater, a reverse coater, or a bar coater, a spinner (rotary coating device), a curtain flow coater, or the like is used on a substrate on which a cured product is to be formed. The photosensitive composition according to the present invention is applied using a non-contact coating device, and if necessary, the solvent is removed by drying (pre-baking) to form a coating film.
For convenience, the droplets piled up on the substrate, the photosensitive composition embedded in the concave portions of the substrate having irregularities, the photosensitive composition filled in the concave portions of the mold, and the like are also referred to as "coating film". ..

次いで、形成された塗膜は、露光工程に供される。露光工程では、塗膜にＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザー、極紫外線（ＥＵＶ）、真空紫外線（ＶＵＶ）、電子線、Ｘ線、軟Ｘ線、ｇ線、ｉ線、ｈ線等の放射線ないし電磁波を照射して塗膜を露光する。塗膜に対する露光は、ネガ型のマスクを介して位置選択的に行われてもよい。露光量は感光性組成物の組成によっても異なるが、例えば１０ｍＪ／ｃｍ２以上６００ｍＪ／ｃｍ２以下程度が好ましい。 The formed coating film is then subjected to an exposure step. In the exposure process, ArF excimer laser, KrF excimer laser, F2 excimer laser, extreme ultraviolet ( EUV), vacuum ultraviolet (VUV), electron beam, X-ray, soft X-ray, g-ray, i-ray, h-ray are applied to the coating film. The coating film is exposed by irradiating with radiation or electromagnetic waves such as. The exposure to the coating film may be regioselective via a negative mask. The amount of exposure varies depending on the composition of the photosensitive composition, but is preferably about 10 mJ / cm 2 or more and 600 mJ / cm 2 or less, for example.

露光された、塗膜は、必要に応じて現像される。
前述の感光性組成物は、露光後にアルカリ現像液に対して過度に溶解しにくい。このため、前述の感光性組成物を用いることにより、露光部を凸部とし、未露光部を凹部とする、良好な形状のパターン化された硬化物を形成しやすい。 The exposed coating film is developed as needed.
The above-mentioned photosensitive composition is difficult to be excessively dissolved in an alkaline developer after exposure. Therefore, by using the above-mentioned photosensitive composition, it is easy to form a well-shaped patterned cured product in which the exposed portion is a convex portion and the unexposed portion is a concave portion.

現像工程では、露光された塗膜を現像液で現像することにより、所望する形状にパターン化された硬化物が形成される。現像方法は特に限定されず、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。 In the developing step, the exposed coating film is developed with a developing solution to form a cured product patterned into a desired shape. The developing method is not particularly limited, and a dipping method, a spraying method, or the like can be used. Specific examples of the developing solution include organic ones such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia and quaternary ammonium salts.

そして、必要に応じ、露光後の硬化物、又は現像後のパターン化された硬化物にポストベークを施してさらに加熱硬化を進めてもよい。ポストベークの温度は１５０℃以上２７０℃以下が好ましい。 Then, if necessary, the cured product after exposure or the patterned cured product after development may be post-baked to further heat cure. The temperature of the post bake is preferably 150 ° C. or higher and 270 ° C. or lower.

硬化物は、前述の感光性組成物を用いて形成される。上記硬化物は、好ましくは、絶縁膜である、又は、ホトレジスト膜上に積層される保護膜である。感光性組成物が着色剤（Ｃ）を含まず透明である場合、上記硬化物は、厚さ３．５μｍ（光路長３．５μｍ）の試料としたときの波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の範囲内の光線に対する透過率の平均値として、通常、９０％以上、好ましくは９３％以上、より好ましくは９５％以上である。このように、上記硬化物は、透過率に優れるため、インセルタッチパネル方式の液晶表示装置、ＵＨＡ（Ｕｌｔｒａ Ｈｉｇｈ Ａｐｅｒｔｕｒｅ）パネル等の透明性に優れる絶縁膜を必要とする表示装置用の絶縁膜として好適に使用される。 The cured product is formed using the above-mentioned photosensitive composition. The cured product is preferably an insulating film or a protective film laminated on the photoresist film. When the photosensitive composition does not contain the colorant (C) and is transparent, the cured product has a wavelength in the range of 400 nm or more and 650 nm or less when a sample having a thickness of 3.5 μm (optical path length 3.5 μm) is used. The average value of the transmittance for light rays is usually 90% or more, preferably 93% or more, and more preferably 95% or more. As described above, since the cured product has excellent transmittance, it is suitable as an insulating film for display devices that require an insulating film having excellent transparency, such as an in-cell touch panel type liquid crystal display device and a UHA (Ultra High Aperture) panel. Used for.

また、上記の感光性組成物を用いてハーフトーンマスクを介して露光を行ってパターン化された硬化膜を形成する場合に、形成されるパターン化された硬化物において、フルトーン露光部とハーフトーン露光部とに十分に高さの差をつけつつ、ハーフトーン露光部の十分な高さを確保することができる。このため、上記の感光性組成物を用いて形成される硬化膜は、液晶表示パネル等の表示パネルにおいて用いられるスペーサー、特にブラックカラムスペーサーとして好適に使用される。 Further, when the above-mentioned photosensitive composition is exposed through a halftone mask to form a patterned cured film, the patterned cured product to be formed includes a full-tone exposed portion and a halftone. It is possible to secure a sufficient height of the halftone exposed part while making a sufficient difference in height from the exposed part. Therefore, the cured film formed by using the above-mentioned photosensitive composition is suitably used as a spacer used in a display panel such as a liquid crystal display panel, particularly as a black column spacer.

≪感光性接着剤、及び接着方法≫
前述の感光性組成物は、感光性接着剤として好適に用いることができる。感光性組成物を感光性接着剤として用いる場合、視認性付与や遮光性付与の目的に応じて、感光性組成物は着色剤（Ｃ）を含んでもよいし、含まなくてもよい。
前述の通り、感光性接着剤として使用される感光性組成物は透光性に優れる。このため、前述の感光性組成物を、感光性接着剤として用いる場合、接着剤全体に露光光が届きやすく、露光により接着剤が速やかに硬化する。
特に、膜厚１μｍ以上５００μｍ以下の接着剤層を形成して、接着を行う場合に、上記の感光性接着剤が好適に使用される。 ≪Photosensitive adhesive and bonding method≫
The above-mentioned photosensitive composition can be suitably used as a photosensitive adhesive. When the photosensitive composition is used as the photosensitive adhesive, the photosensitive composition may or may not contain the colorant (C) depending on the purpose of imparting visibility and light-shielding property.
As described above, the photosensitive composition used as the photosensitive adhesive has excellent translucency. Therefore, when the above-mentioned photosensitive composition is used as a photosensitive adhesive, the exposure light easily reaches the entire adhesive, and the adhesive is rapidly cured by the exposure.
In particular, when an adhesive layer having a film thickness of 1 μm or more and 500 μm or less is formed and bonded, the above-mentioned photosensitive adhesive is preferably used.

特に、自動車、自動二輪車、自転車、鉄道車両、航空機、船舶、種々の建築用部材等の製造や、産業用ロボットによる種々の製品の製造における、溶接、ネジ止め、ビス止め等の接合作業を、上記の感光性接着剤を用いる接着に変更すると、接合された最終製品の軽量化や、ネジ止めやビス止めによる接合を行う際の金属疲労等に起因するネジやビスの切断が生じないことや、異種金属が接合される場合の電池硬化による腐食が起きないこと等の種々のメリットがある。 In particular, joining work such as welding, screwing, and screwing in the manufacture of automobiles, motorcycles, bicycles, railroad vehicles, aircraft, ships, various building parts, and various products by industrial robots. If you change to bonding using the above photosensitive adhesive, the weight of the finished product to be joined will be reduced, and the screws and screws will not be cut due to metal fatigue when joining by screwing or screwing. There are various merits such as no corrosion due to battery curing when dissimilar metals are joined.

上記の感光性接着剤を用いる接着方法は、特に限定されない。種々の物品における、被接着面を接着する方法において、上記の感光性接着剤を用いることができる。
典型的な接着方法としては、
対向する被接着面の一方、又は双方に、感光性接着剤からなる接着剤層を形成することと、
接着剤層を露光による硬化させることと、を含む方法が挙げられる。 The bonding method using the above-mentioned photosensitive adhesive is not particularly limited. The above-mentioned photosensitive adhesive can be used in the method of adhering the surface to be adhered in various articles.
As a typical bonding method,
Forming an adhesive layer made of a photosensitive adhesive on one or both of the opposing surfaces to be adhered,
Examples include curing the adhesive layer by exposure and including.

感光性接着剤からなる接着剤層を形成する方法は特に限定されない。典型的には、対向する被接着面の一方、又は双方に感光性接着剤を塗布して接着剤層が形成される。
また、被接着面の間に、所望する幅の隙間が形成されている状態で、隙間に感光性接着剤を注入してもよい。 The method for forming the adhesive layer made of the photosensitive adhesive is not particularly limited. Typically, a photosensitive adhesive is applied to one or both of the opposing surfaces to be adhered to form an adhesive layer.
Further, the photosensitive adhesive may be injected into the gap in a state where a gap having a desired width is formed between the surfaces to be adhered.

接着対象の物品の数は、１つであっても、２以上の複数であってもよい。接着対象の物品の材質が可撓性、柔軟性を有する場合、接着対象の物品の数が１つである場合がある。接着対象の物品の数が１つである場合としては、例えば、１枚の矩形のプラスチック板を円筒状に丸め、プラスチック板の継ぎ目部分を接着する場合が挙げられる。 The number of articles to be bonded may be one or a plurality of two or more. When the material of the article to be bonded is flexible and flexible, the number of articles to be bonded may be one. An example of the case where the number of articles to be bonded is one is a case where one rectangular plastic plate is rolled into a cylindrical shape and the joint portion of the plastic plate is bonded.

露光は、前述の硬化膜の形成と同様に行われる。接着対象の物品が透明である場合、露光光を接着剤層に照射する方法は特に制限されない。この場合、接着対象の物品を透過させつつ、接着剤層に露光光を照射してもよく、接着剤層の端面から露光光が入射するように露光光を照射してもよい。
接着対象の物品が金属のような不透明な材質からなる場合、露光は、接着剤層の端面から露光光が入射するように行われる。 The exposure is performed in the same manner as the formation of the cured film described above. When the article to be bonded is transparent, the method of irradiating the adhesive layer with the exposure light is not particularly limited. In this case, the adhesive layer may be irradiated with the exposure light while transmitting the article to be bonded, or the exposure light may be irradiated so that the exposure light is incident from the end face of the adhesive layer.
When the article to be bonded is made of an opaque material such as metal, the exposure is performed so that the exposure light is incident from the end face of the adhesive layer.

≪その他の用途≫
前述の感光性組成物は、半導体加工やガラス加工等におけるエッチングマスクの形成等、従来から感光性組成物が使用されている種々の用途に用いることができる。
また、前述の感光性組成物は、感光性組成物層を形成する工程を含む、所謂３Ｄプリントによる立体造形法における、感光性組成物層の形成にも適用することができる。
３Ｄプリントにおける、露光により硬化した層の積層は、感光性組成物を用いて形成された硬化物の層についての所謂自己接着である。このため、上記の感光性組成物からなる感光性接着剤を用いる、３Ｄプリントによる立体造形法も、一態様として、感光性接着剤を用いる前述の接着方法に含まれる。
前述の感光性組成物は、透光性に優れるため、感光性組成物層の膜厚を厚くしても感光性組成物層を露光により短時間で良好に硬化させることができる。このため、前述の感光性組成物を３Ｄプリントによる立体造形に適用すると、感光性組成物層の膜厚を厚くすることによって、感光性組成物層の積層回数と、露光回数とを減らすことができ、短時間で所望する形状の立体造形物を作成することができる。 ≪Other uses≫
The above-mentioned photosensitive composition can be used for various applications in which a photosensitive composition has been conventionally used, such as formation of an etching mask in semiconductor processing, glass processing, and the like.
Further, the above-mentioned photosensitive composition can also be applied to the formation of a photosensitive composition layer in a so-called 3D printing three-dimensional modeling method including a step of forming a photosensitive composition layer.
The lamination of the layers cured by exposure in 3D printing is so-called self-adhesion to the layer of the cured product formed by using the photosensitive composition. Therefore, a three-dimensional modeling method by 3D printing using a photosensitive adhesive composed of the above-mentioned photosensitive composition is also included in the above-mentioned bonding method using a photosensitive adhesive as one aspect.
Since the above-mentioned photosensitive composition has excellent translucency, the photosensitive composition layer can be satisfactorily cured by exposure in a short time even if the film thickness of the photosensitive composition layer is increased. Therefore, when the above-mentioned photosensitive composition is applied to three-dimensional modeling by 3D printing, the number of times the photosensitive composition layer is laminated and the number of exposures can be reduced by increasing the thickness of the photosensitive composition layer. It is possible to create a three-dimensional model having a desired shape in a short time.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

〔実施例１、及び比較例１～４〕
光重合開始剤（Ａ）３質量部と、光重合性化合物（Ｂ１）３８質量部と、樹脂（Ｂ２）６２質量部とを、固形分濃度が２４質量％であるように有機溶剤に溶解させて、感光性組成物を調製した。 [Example 1 and Comparative Examples 1 to 4]
3 parts by mass of the photopolymerization initiator (A), 38 parts by mass of the photopolymerizable compound (B1), and 62 parts by mass of the resin (B2) are dissolved in an organic solvent so that the solid content concentration is 24% by mass. To prepare a photosensitive composition.

光重合開始剤（Ａ）としては、下記のＰＩ－１、ＰＩ－２、及びＰＩ－３を用いた。これらの光重合開始剤の吸光特性は下表１に示す通りである。表１中のＰＩ－３のグラム吸光係数の数値は４００ｎｍにおける値である。

Figure 0007051321000060
The following PI-1, PI-2, and PI-3 were used as the photopolymerization initiator (A). The absorption characteristics of these photopolymerization initiators are as shown in Table 1 below. The numerical value of the gram absorption coefficient of PI-3 in Table 1 is the value at 400 nm.
Figure 0007051321000060

Figure 0007051321000061
Figure 0007051321000061

実施例１、及び比較例１～４で用いた光重合開始剤の種類及び量は下表２に記載の通りである。 The types and amounts of the photopolymerization initiators used in Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 are as shown in Table 2 below.

光重合性化合物（Ｂ１）としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いた。 Dipentaerythritol hexaacrylate was used as the photopolymerizable compound (B1).

樹脂（Ｂ２）としては、下記の構造単位からなるアクリル系樹脂を用いた（Ｍｗ：１００００）。下記式における括弧の右下の数値は、樹脂における各構造単位の含有量（質量％）である。

Figure 0007051321000062
As the resin (B2), an acrylic resin composed of the following structural units was used (Mw: 10000). The numerical value in the lower right of the parentheses in the following formula is the content (mass%) of each structural unit in the resin.
Figure 0007051321000062

有機溶剤としては、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（ＭＥＤＧ）と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）と、３－メトキシブチルアセテート（ＭＢＡ）との混合溶剤（混合比（質量比）：ＭＥＤＧ：ＰＧＭＥＡ：ＭＢＡ＝８５：１０：５）を用いた。 As the organic solvent, a mixed solvent of diethylene glycol methyl ethyl ether (MEDG), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), and 3-methoxybutyl acetate (MBA) (mixing ratio (mass ratio): MEDG: PGMEA: MBA = 85:10: 5) was used.

得られた、実施例１、及び比較例１～４の感光性組成物を用いて、下記の方法に従って、ハーフトーン特性と、硬化膜の透過率とを評価した。ハーフトーン特性の評価結果を表２に記す。 Using the obtained photosensitive compositions of Examples 1 and Comparative Examples 1 to 4, the halftone characteristics and the transmittance of the cured film were evaluated according to the following methods. Table 2 shows the evaluation results of the halftone characteristics.

＜ハーフトーン特性評価＞
各実施例及び比較例で得た感光組成物を、スピンナーを用いてガラス基板上に塗布した後、塗膜を８０℃で１０分乾燥させて、フルトーン露光を行った場合に膜厚約３．５μｍの硬化膜が形成される膜厚の塗膜を得た。
次いで、露光装置（キヤノン製、ＭＰＡ６００ＦＡ）を用いて、４０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で、塗膜に対してハーフトーンマスクを介してオープンフレーム露光を行った。
露光後、濃度０．５質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液を現像液として用いて、２３℃６０秒の条件でパドル現像を行った。
現像後の露光された塗膜を、１００℃で１００分間、さらに２２０℃で４０分間の条件でポストベークして、パターン化された硬化膜を得た。 <Halftone characterization>
When the photosensitive compositions obtained in each Example and Comparative Example were applied onto a glass substrate using a spinner, the coating film was dried at 80 ° C. for 10 minutes, and full-tone exposure was performed, the film thickness was about 3. A coating film having a film thickness of 5 μm was obtained.
Next, using an exposure apparatus (manufactured by Canon, MPA600FA), an open frame exposure was performed on the coating film with an exposure amount of 40 mJ / cm 2 via a halftone mask.
After the exposure, paddle development was carried out under the conditions of 23 ° C. and 60 seconds using an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide having a concentration of 0.5% by mass as a developing solution.
The exposed coating film after development was post-baked at 100 ° C. for 100 minutes and further at 220 ° C. for 40 minutes to obtain a patterned cured film.

ポストベークを行う際に、ポストベークを行う前の塗膜の膜厚Ｔ１と、ポストベーク後の硬化膜の膜厚Ｔ２とを、触針式表面形状測定器（アルバック製、Ｄｅｋｔａｋ ３ｓｔ）を用いて測定した。測定された、Ｔ１及びＴ２から、下記式：
残膜率（％）＝Ｔ２／Ｔ１×１００
に従って残膜率（％）を算出した。算出された残膜率（％）を用いて、以下の基準に従って、ハーフトーン露光部のポストベーク時の残膜の良否を評価した。
○：残膜率６５％以上
×：残膜率６５％未満 When performing post-baking, the film thickness T1 of the coating film before post-baking and the film thickness T2 of the cured film after post-baking are measured using a stylus type surface shape measuring instrument (ULVAC, Dektak 3st). Was measured. From the measured T1 and T2, the following formula:
Remaining film ratio (%) = T2 / T1 × 100
The residual film ratio (%) was calculated according to the above. Using the calculated residual film ratio (%), the quality of the residual film at the time of post-baking of the halftone exposed portion was evaluated according to the following criteria.
◯: Residual film rate 65% or more ×: Residual film rate less than 65%

また、フルトーンマスクを用いることの他は、上記の方法と同様にしてパターン化された硬化膜を得た。フルトーンマスクを用いた露光により得られた、ポストベーク後のパターン化された硬化膜について、触針式表面形状測定器（アルバック製、Ｄｅｋｔａｋ ３ｓｔ）を用いて膜厚Ｔ３を測定した。
Ｔ２の値と、Ｔ３の値とから、フルトーン露光時のパターンの高さと、ハーフトーン露光時のパターンの高さとの差であるΔＨ（＝Ｔ３－Ｔ２）を算出した。 Further, a cured film patterned in the same manner as described above was obtained except that a fulltone mask was used. The film thickness T3 of the patterned cured film after post-baking obtained by exposure using a full-tone mask was measured using a stylus type surface shape measuring instrument (Dektake 3st, manufactured by ULVAC).
From the value of T2 and the value of T3, ΔH (= T3-T2), which is the difference between the height of the pattern at the time of fulltone exposure and the height of the pattern at the time of halftone exposure, was calculated.

求められたΔＨ（Å）の値から、以下の基準に従って、フルトーン露光と、ハーフトーン露光とによる硬化膜の膜厚差を評価した。
○：ΔＨの値が７５００Å以上
△：ΔＨの値が７０００Å以上７５００Å未満
×：ΔＨの値が７０００Å未満 From the obtained ΔH (Å) value, the difference in film thickness of the cured film between fulltone exposure and halftone exposure was evaluated according to the following criteria.
◯: ΔH value is 7500 Å or more Δ: ΔH value is 7000 Å or more and less than 7500 Å ×: ΔH value is less than 7000 Å

上記の残膜率と、ΔＨの値とから、下記の基準に従ってハーフトーン特性を評価した。
○：残膜率６５％以上、且つΔＨの値が７５００Å以上
△：残膜率６５％以上、且つΔＨの値が７０００Å以上７５００Å未満
×：残膜率６５％未満であるか、残膜率６５％以上、且つΔＨの値が７０００Å未満 From the above residual film ratio and the value of ΔH, the halftone characteristics were evaluated according to the following criteria.
◯: Residual film ratio 65% or more and ΔH value 7500 Å or more Δ: Residual film ratio 65% or more and ΔH value 7000 Å or more and less than 7500 Å ×: Residual film ratio less than 65% or residual film ratio 65 % Or more and the value of ΔH is less than 7000 Å

実施例１の感光性組成物を用いて、フルトーン露光により形成された厚さ３．５μｍの硬化膜について、４００ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の範囲の波長域における光線透過率の平均値を測定したところ、その値は９５％であった。つまり、実施例１の感光性組成物を用いて形成される硬化膜の透光性は良好である。 Using the photosensitive composition of Example 1, the average value of the light transmittance in the wavelength range of 400 nm or more and 650 nm or less was measured for the cured film having a thickness of 3.5 μm formed by full-tone exposure. The value was 95%. That is, the translucency of the cured film formed by using the photosensitive composition of Example 1 is good.

Figure 0007051321000063
Figure 0007051321000063

表２によれば、光重合開始剤（Ａ）として、吸光スペクトルにおいて、３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長域においてピークを有するオキシムエステル化合物を２種含み、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を光重合開始剤（Ａ）として含まず、２種のオキシムエステル化合物についてのピークの極大波長が、それぞれ異なる実施例１の感光性組成物だけが、良好なハーフトーン特性を示すことが分かる。 According to Table 2, the photopolymerization initiator (A) contains two kinds of oxime ester compounds having a peak in the wavelength range of 320 nm or more and less than 400 nm in the absorption spectrum, and 10 at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more. Only the photosensitive composition of Example 1, which does not contain the compound exhibiting the above gram absorption coefficient as the photopolymerization initiator (A) and has different peak maximum wavelengths for the two oxime ester compounds, is a good half. It can be seen that it shows tone characteristics.

〔実施例２、及び比較例５〕
光重合開始剤（Ａ）５質量部と、光重合性化合物（Ｂ１）１０質量部と、樹脂（Ｂ２）３２質量部と、カーボンブラック８質量部と、ペリレン顔料３４質量部と、分散剤６質量部とを、固形分濃度が２５質量％であるように有機溶剤に溶解、分散させて、感光性組成物を調製した。 [Example 2 and Comparative Example 5]
Photopolymerization initiator (A) 5 parts by mass, photopolymerizable compound (B1) 10 parts by mass, resin (B2) 32 parts by mass, carbon black 8 parts by mass, perylene pigment 34 parts by mass, dispersant 6 The photosensitive composition was prepared by dissolving and dispersing the parts by mass in an organic solvent so that the solid content concentration was 25% by mass.

光重合開始剤（Ａ）としては、前述のＰＩ－１、及びＰＩ－２を用いた。光重合開始剤の種類及び量は、表３に記載される通りである。光重合性化合物（Ｂ１）としては、テトラエチレングリコールジメタクリレート３質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７質量部とを用いた。 As the photopolymerization initiator (A), the above-mentioned PI-1 and PI-2 were used. The types and amounts of the photopolymerization initiators are as shown in Table 3. As the photopolymerizable compound (B1), 3 parts by mass of tetraethylene glycol dimethacrylate and 7 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate were used.

樹脂（Ｂ２）としては、以下の方法合成されたカルド樹脂を用いた。
まず、５００ｍＬ四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（エポキシ当量２３５）２３５ｇ、テトラメチルアンモニウムクロライド１１０ｍｇ、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール１００ｍｇ、及びアクリル酸７２．０ｇを仕込み、これに２５ｍＬ／分の速度で空気を吹き込みながら９０～１００℃で加熱溶解した。次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、１２０℃に加熱して完全溶解させた。この際、溶液は次第に透明粘稠になったが、そのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標値に達するまで１２時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の下記式で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。 As the resin (B2), a cardo resin synthesized by the following method was used.
First, in a 500 mL four-necked flask, 235 g of bisphenol fluorene-type epoxy resin (epoxy equivalent 235), 110 mg of tetramethylammonium chloride, 100 mg of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, and 72.0 g of acrylic acid. Was charged, and the mixture was heated and dissolved at 90 to 100 ° C. while blowing air at a rate of 25 mL / min. Next, the temperature was gradually raised while the solution was cloudy, and the solution was heated to 120 ° C. to completely dissolve it. At this time, the solution gradually became transparent and viscous, but stirring was continued as it was. During this period, the acid value was measured, and heating and stirring were continued until the acid value became less than 1.0 mgKOH / g. It took 12 hours for the acid value to reach the target value. Then, it was cooled to room temperature to obtain a colorless transparent solid bisphenol fluorene type epoxy acrylate represented by the following formula.

Figure 0007051321000064
Figure 0007051321000064

次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート３０７．０ｇに３－メトキシブチルアセテート６００ｇを加えて溶解した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物８０．５ｇ及び臭化テトラエチルアンモニウム１ｇを混合し、徐々に昇温して１１０～１１５℃で４時間反応させた。酸無水物基の消失を確認した後、１，２，３，６－テトラヒドロ無水フタル酸３８．０ｇを混合し、９０℃で６時間反応させ、カルド樹脂を得た。酸無水物基の消失はＩＲスペクトルにより確認した。 Next, 600 g of 3-methoxybutyl acetate was added to 307.0 g of the above-mentioned bisphenol fluorene type epoxy acrylate thus obtained and dissolved, and then 80.5 g of benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide were added. The mixture was mixed, gradually heated, and reacted at 110 to 115 ° C. for 4 hours. After confirming the disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90 ° C. for 6 hours to obtain a cardo resin. The disappearance of the acid anhydride group was confirmed by IR spectrum.

有機溶剤としては、３－メトキシブチルアセテート（ＭＢＡ）と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）との混合溶剤（混合比（質量比）：ＭＢＡ：ＰＧＭＥＡ＝５：９５）を用いた。 As the organic solvent, a mixed solvent of 3-methoxybutyl acetate (MBA) and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) (mixing ratio (mass ratio): MBA: PGMEA = 5: 95) was used.

得られた、実施例２、及び比較例５の感光性組成物を用いて、下記の方法に従って、ハーフトーン特性と、現像後残渣とを評価した。ハーフトーン特性の評価結果を表３に記す。 Using the obtained photosensitive compositions of Example 2 and Comparative Example 5, the halftone characteristics and the post-development residue were evaluated according to the following method. The evaluation results of the halftone characteristics are shown in Table 3.

＜ハーフトーン特性評価＞
各実施例及び比較例で得た感光組成物を、スピンナーを用いてガラス基板上に塗布した後、塗膜を１００℃で１２０秒間乾燥させて、フルトーン露光を行った場合に膜厚約３．５μｍの硬化膜が形成される膜厚の塗膜を得た。
次いで、露光装置（トプコン製、ＴＭＥ１５０ＲＴＯ）を用いて、５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で、塗膜に対してハーフトーンマスクを介してオープンフレーム露光を行った。
露光後、濃度０．０５質量％の水酸化カリウムの水溶液を現像液として用いて、２５℃６０秒の条件でスプレー現像を行った。
現像後の露光された塗膜を、２３０℃で２０分間の条件でポストベークして、パターン化された硬化膜を得た。 <Halftone characterization>
When the photosensitive compositions obtained in each Example and Comparative Example were applied onto a glass substrate using a spinner, the coating film was dried at 100 ° C. for 120 seconds, and full-tone exposure was performed, the film thickness was about 3. A coating film having a film thickness of 5 μm was obtained.
Next, using an exposure apparatus (TME150RTO manufactured by Topcon), an open frame exposure was performed on the coating film with an exposure amount of 50 mJ / cm 2 via a halftone mask.
After the exposure, an aqueous solution of potassium hydroxide having a concentration of 0.05% by mass was used as a developing solution, and spray development was performed under the conditions of 25 ° C. and 60 seconds.
The exposed coating film after development was post-baked at 230 ° C. for 20 minutes to obtain a patterned cured film.

ポストベークを行う際に、ポストベークを行う前の塗膜の膜厚Ｔ１と、ポストベーク後の硬化膜の膜厚Ｔ２とを、触針式表面形状測定器（アルバック製、Ｄｅｋｔａｋ ３ｓｔ）を用いて測定した。測定された、Ｔ１及びＴ２から、下記式：
残膜率（％）＝Ｔ２／Ｔ１×１００
に従って残膜率（％）を算出した。算出された残膜率（％）を用いて、以下の基準に従って、ハーフトーン露光部のポストベーク時の残膜の良否を評価した。
○：残膜率８０％以上
×：残膜率８０％未満 When performing post-baking, the film thickness T1 of the coating film before post-baking and the film thickness T2 of the cured film after post-baking are measured using a stylus type surface shape measuring instrument (ULVAC, Dektak 3st). Was measured. From the measured T1 and T2, the following formula:
Remaining film ratio (%) = T2 / T1 × 100
The residual film ratio (%) was calculated according to the above. Using the calculated residual film ratio (%), the quality of the residual film at the time of post-baking of the halftone exposed portion was evaluated according to the following criteria.
◯: Residual film rate 80% or more ×: Residual film rate less than 80%

また、フルトーンマスクを用いることの他は、上記の方法と同様にしてパターン化された硬化膜を得た。フルトーンマスクを用いた露光により得られた、ポストベーク後のパターン化された硬化膜について、触針式表面形状測定器（アルバック製、Ｄｅｋｔａｋ ３ｓｔ）を用いて膜厚Ｔ３を測定した。
Ｔ２の値と、Ｔ３の値とから、フルトーン露光時のパターンの高さと、ハーフトーン露光時のパターンの高さとの差であるΔＨ（＝Ｔ３－Ｔ２）を算出した。 Further, a cured film patterned in the same manner as described above was obtained except that a fulltone mask was used. The film thickness T3 of the patterned cured film after post-baking obtained by exposure using a full-tone mask was measured using a stylus type surface shape measuring instrument (Dektake 3st, manufactured by ULVAC).
From the value of T2 and the value of T3, ΔH (= T3-T2), which is the difference between the height of the pattern at the time of fulltone exposure and the height of the pattern at the time of halftone exposure, was calculated.

求められたΔＨ（Å）の値から、以下の基準に従って、フルトーン露光と、ハーフトーン露光とによる硬化膜の膜厚差を評価した。
○：ΔＨの値が１０００Å以上
×：ΔＨの値が１０００Å未満 From the obtained ΔH (Å) value, the difference in film thickness of the cured film between fulltone exposure and halftone exposure was evaluated according to the following criteria.
◯: ΔH value is 1000 Å or more ×: ΔH value is less than 1000 Å

上記の残膜率と、ΔＨの値とから、下記の基準に従ってハーフトーン特性を評価した。
○：残膜率８０％以上、且つΔＨの値が１０００Å以上
×：残膜率８０％未満であるか、残膜率８０％以上、且つΔＨの値が１０００Å未満 From the above residual film ratio and the value of ΔH, the halftone characteristics were evaluated according to the following criteria.
◯: Residual film ratio 80% or more and ΔH value 1000 Å or more ×: Residual film ratio less than 80% or residual film ratio 80% or more and ΔH value less than 1000 Å

実施例２の感光性組成物を用いて、フルトーン露光により形成された厚さ３．５μｍの硬化膜について、顕微鏡観察により、パターンにおける残渣の有無を確認したが、残渣は確認されなかった。 Using the photosensitive composition of Example 2, the presence or absence of a residue in the pattern was confirmed by microscopic observation of the cured film having a thickness of 3.5 μm formed by full-tone exposure, but no residue was confirmed.

Figure 0007051321000065
Figure 0007051321000065

表３によれば、着色剤（Ｃ）を含む感光性組成物についても、光重合開始剤（Ａ）として、吸光スペクトルにおいて、３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長域においてピークを有するオキシムエステル化合物を２種含み、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を光重合開始剤（Ａ）として含まず、２種のオキシムエステル化合物についてのピークの極大波長が、それぞれ異なる実施例２の感光性組成物だけが、良好なハーフトーン特性を示すことが分かる。 According to Table 3, also in the photosensitive composition containing the colorant (C), as the photopolymerization initiator (A), two kinds of oxime ester compounds having a peak in the wavelength range of 320 nm or more and less than 400 nm in the absorption spectrum are used. The peak maximum wavelengths of the two oxime ester compounds are different from each other, not including the compound exhibiting a gram absorption coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more as the photopolymerization initiator (A). It can be seen that only the photosensitive composition of Example 2 exhibits good halftone properties.

Claims (9)

光重合開始剤（Ａ）を含む感光性組成物であって、
吸光スペクトルにおいて、３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長域においてピークを有するオキシムエステル化合物を２種以上含み、
前記光重合開始剤（Ａ）が、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を含まず、
２種以上の前記オキシムエステル化合物についての前記ピークの極大波長が、それぞれ異なり、
２種以上の前記オキシムエステル化合物についての前記ピークの極大波長のうち、最も長波長側の極大波長をλｍａｘ－ｒとし、最も短波長側の極大波長をλｍａｘ－ｂとする場合に、前記λｍａｘ－ｒと前記λｍａｘ－ｂとの差が２０ｎｍ以上であり、
２種以上の前記オキシムエステル化合物の組み合わせが、下記式（ａ２）で表されるオキシムエステル化合物（Ａ２）と、下記ＰＩ－２との組み合わせである、感光性組成物（ただし、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ製）及びＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ製）を含有する緑色カラーフィルタ用組成物を除く。）。
Figure 0007051321000066
 （上記式（ａ２）中、ＣＲは、下記式（ａ２ａ）：
Figure 0007051321000067
 で表される基であり、Ｒ ａ１ は水素原子、ニトロ基又は１価の有機基であり、Ｒ ａ２ 及びＲ ａ３ は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Ｒ ａ２ とＲ ａ３ とは相互に結合して環を形成してもよく、Ｒ ａ４ は、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロアルキルアルキル基、又は芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基であり、Ｒ ａ５ は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、ｎ１は０以上４以下の整数であり、ｎ２は０又は１である。）
Figure 0007051321000068
 A photosensitive composition containing the photopolymerization initiator (A).
In the absorption spectrum, it contains two or more kinds of oxime ester compounds having a peak in the wavelength range of 320 nm or more and less than 400 nm.
The photopolymerization initiator (A) does not contain a compound exhibiting a gram extinction coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more.
The maximum wavelengths of the peaks of the two or more kinds of the oxime ester compounds are different from each other.
Among the maximum wavelengths of the peaks of the two or more kinds of the oxime ester compounds, the maximum wavelength on the longest wavelength side is λ max-r , and the maximum wavelength on the shortest wavelength side is λ max-b . The difference between λ max-r and λ max-b is 20 nm or more, and the difference is 20 nm or more.
A photosensitive composition (however, IRGACURE OXE01 (BASF ), in which the combination of two or more of the oxime ester compounds is a combination of the oxime ester compound (A2) represented by the following formula (a2) and the following PI-2. ) And IRGACURE OXE03 (manufactured by BASF), excluding compositions for green color filters).
Figure 0007051321000066
 (In the above formula (a2), CR is the following formula (a2a):
Figure 0007051321000067
 R a1 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, and Ra 2 and Ra 3 are chain alkyl groups and substituents which may have a substituent, respectively. It is a chain alkoxy group which may have, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom, and Ra 2 and Ra 3 may be bonded to each other to form a ring, or Ra 4 Is an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a cycloalkylalkyl group, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, and Ra 5 is . , A hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and n1 is an integer of 0 or more and 4 or less. , N2 is 0 or 1. )
Figure 0007051321000068
 光重合開始剤（Ａ）を含む感光性組成物であって、
吸光スペクトルにおいて、３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長域においてピークを有するオキシムエステル化合物を２種以上含み、
前記光重合開始剤（Ａ）が、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を含まず、
２種以上の前記オキシムエステル化合物についての前記ピークの極大波長が、それぞれ異なり、
２種以上の前記オキシムエステル化合物についての前記ピークの極大波長のうち、最も長波長側の極大波長をλｍａｘ－ｒとし、最も短波長側の極大波長をλｍａｘ－ｂとする場合に、前記λｍａｘ－ｒと前記λｍａｘ－ｂとの差が２０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、
２種以上の前記オキシムエステル化合物の組み合わせが、下記式（ａ２）で表されるオキシムエステル化合物（Ａ２）と、下記ＰＩ－２との組み合わせである、感光性組成物。
Figure 0007051321000069
 （上記式（ａ２）中、ＣＲは、下記式（ａ２ａ）：
Figure 0007051321000070
 で表される基であり、Ｒ ａ１ は水素原子、ニトロ基又は１価の有機基であり、Ｒ ａ２ 及びＲ ａ３ は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Ｒ ａ２ とＲ ａ３ とは相互に結合して環を形成してもよく、Ｒ ａ４ は、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロアルキルアルキル基、又は芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基であり、Ｒ ａ５ は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、ｎ１は０以上４以下の整数であり、ｎ２は０又は１である。）
Figure 0007051321000071
 A photosensitive composition containing the photopolymerization initiator (A).
In the absorption spectrum, it contains two or more kinds of oxime ester compounds having a peak in the wavelength range of 320 nm or more and less than 400 nm.
The photopolymerization initiator (A) does not contain a compound exhibiting a gram extinction coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more.
The maximum wavelengths of the peaks of the two or more kinds of the oxime ester compounds are different from each other.
Among the maximum wavelengths of the peaks of the two or more kinds of the oxime ester compounds, the maximum wavelength on the longest wavelength side is λ max-r , and the maximum wavelength on the shortest wavelength side is λ max-b . The difference between λ max-r and λ max-b is 20 nm or more and 30 nm or less.
A photosensitive composition in which the combination of two or more of the oxime ester compounds is a combination of the oxime ester compound (A2) represented by the following formula (a2) and the following PI-2 .
Figure 0007051321000069
 (In the above formula (a2), CR is the following formula (a2a):
Figure 0007051321000070
 R a1 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, and Ra 2 and Ra 3 are chain alkyl groups and substituents which may have a substituent, respectively. It is a chain alkoxy group which may have, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom, and Ra 2 and Ra 3 may be bonded to each other to form a ring, or Ra 4 Is an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a cycloalkylalkyl group, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, and Ra 5 is . , A hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and n1 is an integer of 0 or more and 4 or less. , N2 is 0 or 1. )
Figure 0007051321000071
 光重合開始剤（Ａ）を含む感光性組成物であって、
吸光スペクトルにおいて、３２０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の波長域においてピークを有するオキシムエステル化合物を２種以上含み、
前記光重合開始剤（Ａ）が、４００ｎｍ以上の波長域のいずれかの波長において１０以上のグラム吸光係数を示す化合物を含まず、
２種以上の前記オキシムエステル化合物についての前記ピークの極大波長が、それぞれ異なり、
前記光重合開始剤（Ａ）が、下記式ＰＩ－２：
Figure 0007051321000072
 であるオキシムエステル化合物（Ａ１）と、下記式（ａ２）：
Figure 0007051321000073
 （式（ａ２）中、ＣＲは、下記式（ａ２ａ）：
Figure 0007051321000074
で表される基であり、Ｒａ１は水素原子、ニトロ基又は１価の有機基であり、Ｒａ２及びＲａ３は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Ｒａ２とＲａ３とは相互に結合して環を形成してもよく、Ｒａ４はアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロアルキルアルキル基、又は芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基であり、Ｒａ５は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、ｎ１は０以上４以下の整数であり、ｎ２は０又は１である。）
で表されるオキシムエステル化合物（Ａ２）と、を含む、感光性組成物。 A photosensitive composition containing the photopolymerization initiator (A).
In the absorption spectrum, it contains two or more kinds of oxime ester compounds having a peak in the wavelength range of 320 nm or more and less than 400 nm.
The photopolymerization initiator (A) does not contain a compound exhibiting a gram extinction coefficient of 10 or more at any wavelength in the wavelength range of 400 nm or more.
The maximum wavelengths of the peaks of the two or more kinds of the oxime ester compounds are different from each other.
The photopolymerization initiator (A) has the following formula PI-2 :
Figure 0007051321000072
 Oxime ester compound (A1) and the following formula (a2):
Figure 0007051321000073
 (In the formula (a2), CR is the following formula (a2a ):
Figure 0007051321000074
R a1 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, and Ra 2 and Ra 3 are chain alkyl groups and substituents which may have a substituent, respectively. It is a chain alkoxy group which may have, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom, and Ra 2 and Ra 3 may be bonded to each other to form a ring, or Ra 4 Is an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a cycloalkylalkyl group, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, and R a5 is It is a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and n1 is an integer of 0 or more and 4 or less. n2 is 0 or 1. )
A photosensitive composition comprising an oxime ester compound (A2) represented by. 重合性基材成分（Ｂ）を含み、重合性基材成分（Ｂ）が、光重合性化合物（Ｂ１）、又は光重合性化合物（Ｂ１）と、樹脂（Ｂ２）とを含む請求項１～３のいずれか１項に記載の感光性組成物。 Claims 1 to include a polymerizable base material component (B), and the polymerizable base material component (B) contains a photopolymerizable compound (B1) or a photopolymerizable compound (B1) and a resin (B2). 3. The photosensitive composition according to any one of 3. 請求項１～４のいずれか１項に記載の感光性組成物を用いて塗膜を形成することと、
前記塗膜に対して、露光することと、
を含む硬化物形成方法。 Forming a coating film using the photosensitive composition according to any one of claims 1 to 4 .
Exposing the coating film and
A method for forming a cured product including. 前記塗膜に対して、位置選択的に露光が行なわれ、
露光された塗膜を現像することを含む請求項５に記載の硬化物形成方法。 The coating film is exposed in a regioselective manner.
The cured product forming method according to claim 5 , which comprises developing an exposed coating film. 請求項１～４のいずれか１項に記載の感光性組成物の硬化物。 The cured product of the photosensitive composition according to any one of claims 1 to 4 . 請求項１～４のいずれか１項に記載の感光性組成物からなる感光性接着剤。 A photosensitive adhesive comprising the photosensitive composition according to any one of claims 1 to 4 . 被接着面を接着する方法であって、
対向する被接着面の一方、又は双方に、請求項８に記載の感光性接着剤からなる接着剤層を形成することと、
前記接着剤層を露光により硬化させることと、を含む方法。 It is a method of adhering the surface to be adhered.
To form an adhesive layer made of the photosensitive adhesive according to claim 8 on one or both of the opposing surfaces to be adhered.
A method comprising curing the adhesive layer by exposure.
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