JP7040981B2

JP7040981B2 - Exposure device

Info

Publication number: JP7040981B2
Application number: JP2018065536A
Authority: JP
Inventors: 悟緑川
Original assignee: Orc Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Orc Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2018-03-29
Filing date: 2018-03-29
Publication date: 2022-03-23
Anticipated expiration: 2038-03-29
Also published as: JP2019174755A

Description

本発明は、フレキシブルプリント基板などの長尺基板（ワークピース）を、ロールトゥロール搬送系（Roll to Roll carrier、以下、ＲｔｏＲ搬送系という）によって搬送する露光装置に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus that transports a long substrate (workpiece) such as a flexible printed circuit board by a roll-to-roll carrier (hereinafter referred to as RtoR transport system).

ＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置では、露光ステージの上流側に供給リール（巻出しロール）、下流側に巻取リール（巻取ロール）がそれぞれ配置され、プリント配線基板などの長尺基板を供給リール、巻取リールに巻き回した後、上流側～下流側へ搬送しながら露光を行う。 In an exposure device equipped with an RtoR transfer system, a supply reel (winding roll) is arranged on the upstream side of the exposure stage, and a take-up reel (winding roll) is arranged on the downstream side to supply a long substrate such as a printed wiring board. After winding around a reel and a take-up reel, exposure is performed while transporting from the upstream side to the downstream side.

具体的には、長尺基板の裏面を吸着支持する露光ステージを長尺基板搬送方向に沿って移動させながら、長尺基板上方に設置された露光ヘッドによって投影エリア（露光対象エリア）の位置に応じたパターン光を投影する。露光ステージが露光完了位置まで移動すると、露光ステージが降下して最初の露光位置へ帰還する。同じ露光動作を繰り返すことで、長尺基板全体に対してパターンを形成する（例えば、特許文献１、２参照）。 Specifically, while moving the exposure stage that attracts and supports the back surface of the long substrate along the long substrate transport direction, the exposure head installed above the long substrate moves it to the position of the projection area (exposure target area). Project the corresponding pattern light. When the exposure stage moves to the exposure completion position, the exposure stage descends and returns to the first exposure position. By repeating the same exposure operation, a pattern is formed on the entire long substrate (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

特開２０１５－２２２３７０号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-222370 特開２００９－２７６５２２号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-276522

従来のＲｔｏＲ搬送系は、露光装置のベース（筐体）に固定されている。そのため、長尺基板は露光開始前に供給リールから間欠的に引き出され、下流側へ送り出される。また、露光終了後に露光ステージが上流側へ復帰するのに伴い、長尺基板の上流側への巻き戻しが生じる場合がある。このような基板の移動に起因して長尺基板に蛇行が生じ、また露光位置ずれ、長尺基板の反り、皺や擦れなどのダメージが生じる。特に、複数の長尺基板を並走させて同時露光する場合、蛇行調整が困難となる。 The conventional RtoR transfer system is fixed to the base (housing) of the exposure apparatus. Therefore, the long substrate is intermittently pulled out from the supply reel before the start of exposure and is sent out to the downstream side. Further, as the exposure stage returns to the upstream side after the end of the exposure, the long substrate may be rewound to the upstream side. Due to such movement of the substrate, meandering occurs in the long substrate, and damage such as exposure position shift, warpage of the long substrate, wrinkles, and rubbing occurs. In particular, when a plurality of long substrates are run in parallel and exposed at the same time, it becomes difficult to adjust the meandering.

したがって、長尺基板の蛇行を抑えることができる基板搬送系を構成することが求められる。 Therefore, it is required to construct a substrate transport system capable of suppressing meandering of a long substrate.

本発明の露光装置は、少なくとも１つの長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、露光ステージを間にして対向配置され、長尺基板を搬送する少なくとも１つのリール対と、リール対の間に設けられ、長尺基板と接する複数のローラとを備え、リール対および複数のローラが、露光ステージとともに基板搬送ラインに沿って往復移動可能であり、複数のローラは、基板搬送ラインに沿った往復移動中に他のローラに対して位置変動可能なテンションローラを含む。 The exposure apparatus of the present invention supports at least one long substrate and is arranged so as to face an exposure stage that can reciprocate along a substrate transport line and the exposure stage in between, and transports the long substrate. A reel pair and a plurality of rollers provided between the reel pairs and in contact with a long substrate are provided, and the reel pair and the plurality of rollers can be reciprocated along the substrate transport line together with the exposure stage, and the plurality of rollers can be reciprocated. Includes tension rollers that can be repositioned with respect to other rollers during reciprocating movement along the substrate transfer line.

露光装置は、露光ステージを基板搬送ラインに沿って往復移動させるステージ移動機構と、リール対を、露光ステージとともに基板搬送ラインに沿って往復移動させる搬送部移動機構とを備えることが可能である。 The exposure apparatus can be provided with a stage moving mechanism for reciprocating the exposure stage along the substrate transport line and a transport unit moving mechanism for reciprocating the reel pair together with the exposure stage along the substrate transport line.

テンションローラは、露光ステージの下流側に配置可能である。また、テンションローラが、偏芯したローラとして構成可能である。さらにテンションローラは、上方向の移動、例えば鉛直方向に沿った移動を制限可能である。 The tension roller can be arranged on the downstream side of the exposure stage. Further, the tension roller can be configured as an eccentric roller. Further, the tension roller can limit the upward movement, for example, the movement along the vertical direction.

リール対の供給リールに対し、長尺基板の送り出し方向とは逆方向にトルクをかける供給側駆動機構を備えることが可能である。また、長尺基板の計測されたテンションに基づき、リール対の巻取リールにかかるトルク量を制御する巻取側駆動機構を備えることが可能である。 It is possible to provide a supply-side drive mechanism that applies torque to the supply reels of the reel pair in the direction opposite to the delivery direction of the long substrate. Further, it is possible to provide a take-up side drive mechanism that controls the amount of torque applied to the take-up reels of the reel pair based on the measured tension of the long substrate.

例えば長尺基板は、並列した複数の長尺基板で構成可能であり、テンションローラは、複数の長尺基板に跨って配置可能である。 For example, the long board can be configured by a plurality of parallel long boards, and the tension roller can be arranged across the plurality of long boards.

複数のローラにおいては、テンションローラよりも下流側に配置され、長尺基板のテンションを計測するテンション測定ローラを設けることが可能である。 In the plurality of rollers, it is possible to provide a tension measuring roller which is arranged on the downstream side of the tension roller and measures the tension of the long substrate.

本発明によれば、長尺基板の蛇行を確実に抑えることができる基板搬送系を構成することができる。 According to the present invention, it is possible to configure a substrate transport system capable of reliably suppressing meandering of a long substrate.

本実施形態である露光装置の概略的構成図である。It is a schematic block diagram of the exposure apparatus which is this embodiment. 露光装置の一部を模式的に示した斜視図である。It is a perspective view which shows a part of an exposure apparatus schematically. 露光装置の概略的ブロック図である。It is a schematic block diagram of an exposure apparatus. 露光開始時と露光完了時の露光ステージおよび搬送系の位置を示した図である。It is a figure which showed the position of the exposure stage and the transport system at the start of exposure and at the completion of exposure. 第２の実施形態である露光装置の概略的斜視図である。It is a schematic perspective view of the exposure apparatus which is a 2nd Embodiment. 第２の実施形態である露光装置の概略的平面図である。It is a schematic plan view of the exposure apparatus which is a 2nd Embodiment. 第３の実施形態である露光装置の概略的斜視図である。It is a schematic perspective view of the exposure apparatus which is a 3rd Embodiment.

以下では、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１は、本実施形態である露光装置の概略的構成図である。図２は、露光装置の一部を模式的に示した斜視図である。図３は、露光装置の概略的ブロック図である。 FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus according to this embodiment. FIG. 2 is a perspective view schematically showing a part of the exposure apparatus. FIG. 3 is a schematic block diagram of the exposure apparatus.

露光装置１０は、ロール状に巻かれた長尺基板Ｗを搬送しながら露光動作を行うＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置であり、基板供給装置２０、基板巻取装置３０、露光部４０を備える。長尺基板Ｗは、ここでは長尺フィルムに銅薄膜層を形成した上にフォトレジストなどの感光材料を塗布した（あるいは貼り付けた）長尺シート状の基板が巻回されてロール状に形成されている。図２に示すように、長尺基板Ｗは、幅同一の２条（一対）の基板Ｗ１、Ｗ２から構成されている。 The exposure apparatus 10 is an exposure apparatus provided with an RtoR transfer system that performs an exposure operation while conveying a long substrate W wound in a roll shape, and includes a substrate supply device 20, a substrate winding device 30, and an exposure unit 40. .. Here, the long substrate W is formed in a roll shape by winding a long sheet-like substrate on which a copper thin film layer is formed on a long film and a photosensitive material such as a photoresist is coated (or affixed) on the long film. Has been done. As shown in FIG. 2, the long substrate W is composed of two strips (pair) of substrates W1 and W2 having the same width.

露光ステージ（テーブル）１５は、長尺基板Ｗの裏面を吸着して平坦に保持するとともに、裏面吸着位置と裏面から離れた所定の離間位置との間でＺ方向に昇降可能であり、図示しない昇降機構によって昇降する。露光ステージ１５は、後述するようにステージ移動機構５０に支持され、Ｘ方向に沿って移動可能である。なお、以下では、長尺基板Ｗの搬送方向（搬送ライン）Ｍに沿った方向を“Ｘ”、搬送方向Ｍに垂直な方向（基板幅方向）を“Ｙ”、そして、Ｘ、Ｙに垂直な方向（鉛直方向）を“Ｚ”で表す。 The exposure stage (table) 15 attracts the back surface of the long substrate W and holds it flat, and can move up and down in the Z direction between the back surface adsorption position and a predetermined separation position away from the back surface, and is not shown. It goes up and down by the elevating mechanism. The exposure stage 15 is supported by the stage moving mechanism 50 as described later, and can move along the X direction. In the following, the direction along the transport direction (transport line) M of the long substrate W is "X", the direction perpendicular to the transport direction M (board width direction) is "Y", and perpendicular to X and Y. Direction (vertical direction) is represented by "Z".

露光部４０は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２からＺ方向に所定距離離れた場所に配置され、不図示のフレームを介してベース（基台）１０Ｂに固定されている。図３に示すように、露光部４０は、半導体レーザなどの光源４１と、照明光学系４２と、複数のマイクロミラーをマトリクス配列させたＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）４３と、結像光学系４４などをそれぞれ備えた複数の露光ヘッドから構成され、各露光ヘッドには、搬送方向Ｍに沿った露光領域が規定されている。光源４１は光源制御部１１０によって駆動される。 The exposure unit 40 is arranged at a predetermined distance in the Z direction from the long substrates W1 and W2, and is fixed to the base 10B via a frame (not shown). As shown in FIG. 3, the exposure unit 40 includes a light source 41 such as a semiconductor laser, an illumination optical system 42, a DMD (Digital Micro-mirror Device) 43 in which a plurality of micromirrors are arranged in a matrix, and an imaging optical system. Each of the exposure heads is composed of a plurality of exposure heads including 44 and the like, and each exposure head is defined with an exposure region along the transport direction M. The light source 41 is driven by the light source control unit 110.

各露光ヘッドのＤＭＤは、露光制御部１２０から送られてくる露光エリア位置に応じた描画データ（ラスタデータ）に基づいてマイクロミラーの姿勢を位置決めし、これによってパターン光が長尺基板Ｗ１、Ｗ２に投影される。露光部４０に対する長尺基板Ｗ１、Ｗ２の相対移動に応じてマイクロミラーの姿勢を切り替えることにより、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の感光材料に対する露光（多重露光など）が行われ、これによってパターンが形成される。コントローラ１００（図３参照）は、露光装置１０の露光動作全体を制御する。なお、マスクを用いた露光部によって構成することも可能である。 The DMD of each exposure head positions the posture of the micromirror based on the drawing data (raster data) corresponding to the exposure area position sent from the exposure control unit 120, whereby the pattern light is transmitted to the long substrates W1 and W2. Projected on. By switching the posture of the micromirror according to the relative movement of the long substrates W1 and W2 with respect to the exposed portion 40, the photosensitive materials of the long substrates W1 and W2 are exposed (multiple exposure, etc.), whereby a pattern is formed. Will be done. The controller 100 (see FIG. 3) controls the entire exposure operation of the exposure apparatus 10. It is also possible to configure it by an exposed portion using a mask.

基板供給装置２０は、露光ステージ１５の上流側に配置される供給リール２２Ａ、２２Ｂと、支持ローラ２４と、供給リール２２Ａ、２２Ｂをそれぞれ軸回転させる駆動機構（図示せず）を備えている。駆動機構は、例えばステッピングモータなどで構成される。基板供給装置２０によって片持ち支持される供給リール２２Ａ、２２Ｂは、それぞれ長尺基板Ｗ１、Ｗ２の未露光部分をロール状に巻いた状態で保持、固定し、また、軸回転することによって下流側に向けて長尺基板Ｗを送り出すことができる。なお、露光ステージ１５から見て供給リール２２Ａ、２２Ｂ側を“上流側”、巻取リール３２Ａ、３２Ｂ側を“下流側”とする。 The substrate supply device 20 includes supply reels 22A and 22B arranged on the upstream side of the exposure stage 15, a support roller 24, and a drive mechanism (not shown) for axially rotating the supply reels 22A and 22B, respectively. The drive mechanism is composed of, for example, a stepping motor or the like. The supply reels 22A and 22B, which are cantilevered and supported by the substrate supply device 20, hold and fix the unexposed portions of the long substrates W1 and W2 in a rolled state, respectively, and rotate the axis to the downstream side. The long substrate W can be sent out toward. The supply reels 22A and 22B are referred to as "upstream side" and the take-up reels 32A and 32B are referred to as "downstream side" when viewed from the exposure stage 15.

基板巻取装置３０は、露光ステージ１５の下流側に配置される巻取リール３２Ａ、３２Ｂ、支持ローラ３４と、巻取リール３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ軸回転させる駆動機構（図示せず）を備えている。巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、それぞれ長尺基板Ｗ１、Ｗ２の露光済み部分をロール状に巻いた状態で保持、固定し、また、軸回転することによって長尺基板Ｗ１、Ｗ２を巻き取ることができる。基板供給装置２０、基板巻取装置３０による長尺基板Ｗ１、Ｗ２の巻き取り処理などは、搬送制御部１３０（図３参照）によって制御されている。 The substrate take-up device 30 includes a take-up reels 32A and 32B arranged on the downstream side of the exposure stage 15, a support roller 34, and a drive mechanism (not shown) for axially rotating the take-up reels 32A and 32B, respectively. There is. The take-up reels 32A and 32B hold and fix the exposed portions of the long boards W1 and W2 in a rolled state, respectively, and can take up the long boards W1 and W2 by rotating the shaft, respectively. can. The winding process of the long substrates W1 and W2 by the substrate supply device 20 and the substrate winding device 30 is controlled by the transfer control unit 130 (see FIG. 3).

供給リール２２Ａ、２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂと露光ステージ１５との間にそれぞれ配置される支持ローラ２４、３４は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を支持し、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が搬送されるときに軸回転するフリーローラとして構成されている。支持ローラ２４、３４は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が露光面高さもしくは露光面高さより僅かに低い位置で下流側へ移動するようにその高さが調整されており、それぞれ基板供給装置２０、基板巻取装置３０によって片持ち支持されている。長尺基板Ｗ１、Ｗ２には、支持ローラ２４、３４の区間Ｔ（図１参照）の架け渡し部分に適度なテンションがかかっており、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は皺や伸びがない状態で搬送されていく。 The support rollers 24 and 34 arranged between the supply reels 22A and 22B, the take-up reels 32A and 32B and the exposure stage 15, respectively, support the long substrates W1 and W2, and the long substrates W1 and W2 are conveyed. It is configured as a free roller that rotates around the reel. The heights of the support rollers 24 and 34 are adjusted so that the long substrates W1 and W2 move to the downstream side at a position slightly lower than the exposed surface height or the exposed surface height, respectively. It is cantilevered by the substrate winding device 30. The long boards W1 and W2 are appropriately tensioned at the bridged portion of the section T (see FIG. 1) of the support rollers 24 and 34, and the long boards W1 and W2 are conveyed without wrinkles or elongation. Will be done.

供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、長尺基板Ｗ１、Ｗ２のロール状巻回部分を基板装着時に固定する周知の駆動機構２６Ａ、２６Ｂ、および３６Ａ、３６Ｂを備える。また、基板供給装置２０、基板巻取装置３０それぞれの駆動機構は、供給リール２２Ａと巻取リール３２Ａ、供給リール２２Ｂと巻取リール３２Ｂとをそれぞれ同期回転させ、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を所定長さだけ間欠的に搬送させる。 The supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B include well-known drive mechanisms 26A and 26B and 36A and 36B for fixing the roll-shaped winding portions of the long substrates W1 and W2 when the substrate is mounted. Further, in the drive mechanism of each of the board supply device 20 and the board take-up device 30, the supply reel 22A and the take-up reel 32A, and the supply reel 22B and the take-up reel 32B are rotated synchronously, respectively, and the long boards W1 and W2 are designated. It is transported intermittently by the length.

ステージ移動機構５０は、露光ステージ１５を片持ち支持する昇降機構（図示しない）を装備した移動部材５２と、ベース１０Ｂに設置された一対のガイドレール５４Ａ、５４Ｂおよびアクチュエータ５５を備えている。一対のガイドレール５４Ａ、５４Ｂは、Ｘ方向に沿って延び、移動部材５２はガイドレール５４Ａ、５４Ｂに沿ってＸ方向およびその逆方向に移動可能である。アクチュエータ５５は、例えばボールネジによって構成される。 The stage moving mechanism 50 includes a moving member 52 equipped with an elevating mechanism (not shown) that cantilevers support the exposure stage 15, and a pair of guide rails 54A and 54B and an actuator 55 installed on the base 10B. The pair of guide rails 54A and 54B extend along the X direction, and the moving member 52 can move along the guide rails 54A and 54B in the X direction and vice versa. The actuator 55 is composed of, for example, a ball screw.

搬送部移動機構６０は、プレート状の移動部材６２と、ベース１０Ｂに設置された一対のガイドレール６４Ａ、６４Ｂおよびアクチュエータ６５を備えている。基板供給装置２０と基板巻取装置３０は、移動部材６２の上に搭載されており、一体となって移動する（連動する）。一対のガイドレール６４Ａ、６４Ｂは、Ｘ方向に沿って延び、移動部材６２はガイドレール６４Ａ、６４Ｂに沿ってＸ方向およびその逆方向に移動可能である。 The transport unit moving mechanism 60 includes a plate-shaped moving member 62, a pair of guide rails 64A and 64B installed on the base 10B, and an actuator 65. The board supply device 20 and the board take-up device 30 are mounted on the moving member 62, and move (interlock) as one. The pair of guide rails 64A and 64B extend along the X direction, and the moving member 62 can move along the guide rails 64A and 64B in the X direction and vice versa.

ベース１０Ｂに設けられた移動制御部７０は、アクチュエータ５５、６５の駆動を制御し、搬送系（基板供給装置２０および基板巻取装置３０）と露光ステージ１５との相対的位置関係を維持する、すなわち相対的距離間隔が一定となるように、露光ステージ１５と基板供給装置２０、基板巻取装置３０の移動をフィードバック制御する。 The movement control unit 70 provided on the base 10B controls the drive of the actuators 55 and 65, and maintains the relative positional relationship between the transfer system (board supply device 20 and board winding device 30) and the exposure stage 15. That is, the movement of the exposure stage 15, the substrate supply device 20, and the substrate winding device 30 is feedback-controlled so that the relative distance interval becomes constant.

露光ステージ１５と基板供給装置２０（基板巻取装置３０）との搬送方向Ｍに沿った相対的距離間隔は、アクチュエータ５５，６５に内蔵されるサーボモータの同期制御によって保たれている。また、この相対距離間隔を監視するため、位置検出用フォトセンサ９０が、基板供給装置２０の露光ステージ１５と対向する側面に配置されている（図２参照）。位置検出用フォトセンサ９０はＬＥＤなどの光源を内蔵し、露光ステージ１５の側面を照射する。露光ステージ１５側面は、光の照射位置が基準位置とそれ以外の位置との間で光量差が生じるように形成されている。移動制御部７０は、露光ステージ１５と基板供給装置２０の移動中、検出光量によって適正な相対的距離間隔が保たれているか監視する。 The relative distance between the exposure stage 15 and the substrate supply device 20 (the substrate winding device 30) along the transport direction M is maintained by the synchronous control of the servomotors built in the actuators 55 and 65. Further, in order to monitor this relative distance interval, the position detection photosensor 90 is arranged on the side surface of the substrate supply device 20 facing the exposure stage 15 (see FIG. 2). The position detection photo sensor 90 has a built-in light source such as an LED and illuminates the side surface of the exposure stage 15. The side surface of the exposure stage 15 is formed so that the light irradiation position has a light amount difference between the reference position and the other positions. The movement control unit 70 monitors whether an appropriate relative distance interval is maintained by the amount of detected light while the exposure stage 15 and the substrate supply device 20 are moving.

露光ステージ１５の支持ローラ２４側には、長尺基板Ｗ１、Ｗ２それぞれの端面位置を検出する位置センサ８０が設けられている。位置センサ８０は、例えばラインセンサなどの透過型フォトセンサによって構成することが可能である。基板供給措置２０と基板巻取装置３０は、それぞれ供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂの軸方向位置を制御する機構（図示せず）を備えており、検出された端面位置に応じてリール軸方向位置を調整し、蛇行走行を補正することが可能である。 A position sensor 80 for detecting the end face positions of each of the long substrates W1 and W2 is provided on the support roller 24 side of the exposure stage 15. The position sensor 80 can be configured by a transmissive photo sensor such as a line sensor. The board supply measure 20 and the board take-up device 30 are provided with a mechanism (not shown) for controlling the axial positions of the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B, respectively, according to the detected end face position. It is possible to correct the meandering running by adjusting the position in the reel axis direction.

図４は、露光開始時と露光完了時の露光ステージおよび搬送系の位置を示した図である。 FIG. 4 is a diagram showing the positions of the exposure stage and the transport system at the start of exposure and the completion of exposure.

露光開始前、露光ステージ１５は長尺基板Ｗ１、Ｗ２を吸着保持し、供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、駆動されないため静止状態となっている。露光開始に伴い、露光ステージ１５はＸ方向に沿って所定速度で移動していく。このとき、基板供給装置２０および基板巻取装置３０は、露光ステージ１５の移動に合わせて移動する。 Before the start of exposure, the exposure stage 15 attracts and holds the long substrates W1 and W2, and the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B are in a stationary state because they are not driven. With the start of exposure, the exposure stage 15 moves at a predetermined speed along the X direction. At this time, the substrate supply device 20 and the substrate winding device 30 move in accordance with the movement of the exposure stage 15.

すなわち、露光ステージ１５と同期して移動開始し、基板供給装置２０および基板巻取装置３０と露光ステージ１５との相対的位置関係を保つように、露光ステージ１５と同一速度でＸ方向に移動していく（並走する）。したがって、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は、露光ステージ１５の移動前および露光ステージ１５の移動中の間、下流側へ送り出されず、露光ステージ１５に対して静止している。露光ステージ１５の移動中、各露光ヘッドの露光エリア位置に応じたパターン光が、露光部４０から投影される。 That is, the movement starts in synchronization with the exposure stage 15, and moves in the X direction at the same speed as the exposure stage 15 so as to maintain the relative positional relationship between the substrate supply device 20 and the substrate winding device 30 and the exposure stage 15. Go (run in parallel). Therefore, the long substrates W1 and W2 are not sent to the downstream side before the exposure stage 15 is moved and during the movement of the exposure stage 15, and are stationary with respect to the exposure stage 15. While the exposure stage 15 is moving, pattern light corresponding to the exposure area position of each exposure head is projected from the exposure unit 40.

露光ステージ１５と、基板供給装置２０および基板巻取装置３０が露光完了位置に到達すると、露光ステージ１５は長尺基板Ｗ１、Ｗ２の吸着支持を解除し、降下する。そして、供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび巻取リール３２Ａ、３２Ｂが同期回転し、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は所定長さ分だけ巻取リール３２Ａ、３２Ｂに巻き取られる。 When the exposure stage 15, the substrate supply device 20, and the substrate winding device 30 reach the exposure completion position, the exposure stage 15 releases the suction support of the long substrates W1 and W2 and descends. Then, the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B rotate synchronously, and the long substrates W1 and W2 are taken up by the take-up reels 32A and 32B by a predetermined length.

巻取リール３２Ａ、３２Ｂ側への巻き取りが終了すると、露光ステージ１５と基板供給装置２０および基板巻取装置３０が同期移動し、露光開始位置へ戻る。この間、供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、駆動されないために静止状態となっている。上述した露光動作を繰り返すことによって、長尺基板Ｗ１、Ｗ２全体に対してパターンが形成されていく。 When the winding to the take-up reels 32A and 32B is completed, the exposure stage 15, the substrate supply device 20, and the substrate take-up device 30 move synchronously and return to the exposure start position. During this time, the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B are in a stationary state because they are not driven. By repeating the above-mentioned exposure operation, a pattern is formed on the entire long substrates W1 and W2.

このように本実施形態によれば、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を搬送するＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置１０において、露光ステージ１５の上流側に設けられた供給リール２２Ａ、２２Ｂを保持する基板供給装置２０と、下流側に設けられた巻取リール３２Ａ、３２Ｂを保持する基板巻取装置３０が設けられている。露光動作のとき、露光ステージ１５はステージ移動機構５０によってＸ方向に移動し、同時に、基板供給装置２０および基板巻取装置３０が、搬送部移動機構６０によってＸ方向へともに移動する。 As described above, according to the present embodiment, in the exposure apparatus 10 provided with the RtoR transport system for transporting the long substrates W1 and W2, the substrate supply for holding the supply reels 22A and 22B provided on the upstream side of the exposure stage 15 is provided. A device 20 and a substrate winding device 30 for holding the take-up reels 32A and 32B provided on the downstream side are provided. During the exposure operation, the exposure stage 15 is moved in the X direction by the stage moving mechanism 50, and at the same time, the substrate supply device 20 and the substrate winding device 30 are moved together in the X direction by the transport unit moving mechanism 60.

基板搬送系（基板供給装置２０、基板巻取装置３０）が露光ステージ１５と一緒に移動するため、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が露光ステージ１５の移動開始前および移動中に下流側へ送り出されない。そのため、従来の搬送系のような露光中の蛇行走行が抑制され、蛇行走行に起因する露光位置ずれ、あるいは基板の皺より、反りなどが生じない。また、このような基板搬送系を構成することによって、ダンサーローラなどの機構を設ける必要がなく、簡易な構成で基板搬送系を構築することが可能となる。 Since the substrate transport system (board supply device 20, substrate winding device 30) moves together with the exposure stage 15, the long substrates W1 and W2 are not sent to the downstream side before and during the movement of the exposure stage 15. .. Therefore, meandering running during exposure unlike a conventional transport system is suppressed, and exposure position shift due to meandering running or wrinkles on the substrate does not cause warpage. Further, by constructing such a substrate transport system, it is not necessary to provide a mechanism such as a dancer roller, and it is possible to construct the substrate transport system with a simple configuration.

基板供給装置２０と基板巻取装置３０は、露光中、長尺基板Ｗを下流側の一方向のみ送り出せばよく、巻き戻しを行う必要がない。そのため、長尺基板Ｗの蛇行を抑えたパターン露光を実現することができる。特に、蛇行調整が困難な２条の長尺基板Ｗ１、Ｗ２を搬送する露光装置に好適である。 The substrate supply device 20 and the substrate take-up device 30 need only feed the long substrate W in only one direction on the downstream side during exposure, and do not need to rewind. Therefore, it is possible to realize pattern exposure in which the meandering of the long substrate W is suppressed. In particular, it is suitable for an exposure apparatus that conveys two long substrates W1 and W2 whose meandering adjustment is difficult.

基板搬送系が移動するため、基板搬送長（供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂ間の基板長さ）を短く構成することができる。基板搬送長が短くなることで、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の皺、伸びなどが生じにくく、精度よくパターンを形成することができる。特に、１つの支持ローラ２４、３４を設けるだけで長尺基板Ｗ１、Ｗ２を送り出す搬送系を構成することができる。 Since the board transfer system moves, the board transfer length (the board length between the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B) can be shortened. By shortening the substrate transport length, wrinkles and elongation of the long substrates W1 and W2 are less likely to occur, and a pattern can be formed with high accuracy. In particular, it is possible to configure a transport system that feeds out the long substrates W1 and W2 only by providing one support roller 24 and 34.

また、露光動作完了後、露光ステージ１５が長尺基板Ｗ１、Ｗ２を吸着支持していない間に長尺基板Ｗ１、Ｗ２を下流側に送り出して巻き取るため、巻き取りをスムーズに行うことができる。このとき基板搬送長が短いため、短時間での巻き取りが可能となる。 Further, after the exposure operation is completed, the long substrates W1 and W2 are sent out to the downstream side and wound while the exposure stage 15 does not adsorb and support the long substrates W1 and W2, so that the winding can be smoothly performed. .. At this time, since the substrate transport length is short, winding can be performed in a short time.

本実施形態では、露光ステージ１５と基板搬送系（基板供給装置２０、基板巻取装置３０）は、それぞれステージ移動機構５０、搬送部移動機構６０によって別々に駆動されている。長尺基板Ｗ１、Ｗ２に関して言うと、供給リール２２Ａ、２２Ｂのロール状部分、巻取リール３２Ａ、３２Ｂのロール状部分の巻径は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が基板巻取装置３０に巻取られていく過程で逐次変化し、重量バランスが一定とならない。 In the present embodiment, the exposure stage 15 and the substrate transport system (board supply device 20, substrate winding device 30) are separately driven by the stage moving mechanism 50 and the transport unit moving mechanism 60, respectively. Regarding the long boards W1 and W2, the winding diameters of the roll-shaped portions of the supply reels 22A and 22B and the roll-shaped portions of the take-up reels 32A and 32B are such that the long boards W1 and W2 are taken up by the board take-up device 30. It changes sequentially in the process of being reeled, and the weight balance is not constant.

しかしながら、ステージ移動機構５０とは異なる搬送部移動機構６０を設けることにより、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の重量バランス変化があっても露光ステージ１５の移動制御に影響が出るのを防いでいる。また、従来のステージ移動機構を利用したまま搬送系を構築することが可能となる。 However, by providing the transport unit moving mechanism 60 different from the stage moving mechanism 50, it is possible to prevent the movement control of the exposure stage 15 from being affected even if the weight balance of the long substrates W1 and W2 changes. In addition, it is possible to construct a transport system while using the conventional stage moving mechanism.

一方、基板供給装置２０と基板巻取装置３０は、同じ移動部材６２に固定支持されており、一体となって移動する。基板供給装置２０と基板巻取装置３０が連動するため、基板供給装置２０と基板巻取装置３０との間で相対的位置関係に変化が生じず、露光ステージ１５との相対的維持関係を維持させることが容易となる。また、搬送部移動機構６０を１つの駆動系でまとめることができる。 On the other hand, the board supply device 20 and the board take-up device 30 are fixedly supported by the same moving member 62 and move together. Since the board supply device 20 and the board take-up device 30 are interlocked with each other, the relative positional relationship between the board supply device 20 and the board take-up device 30 does not change, and the relative maintenance relationship with the exposure stage 15 is maintained. It becomes easy to make it. Further, the transport unit moving mechanism 60 can be integrated into one drive system.

一方で、移動制御部７０が、露光ステージ１５の移動中、露光ステージ１５と基板供給装置２０および基板巻取装置３０との相対的位置関係を保つように、アクチュエータ５５、６５を駆動制御している。これによって、供給リール２２Ａ、２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂが露光ステージ１５に近づき、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の伸び、反りなどが生じるのを抑え、また、露光位置ずれを防ぐことができる。 On the other hand, the movement control unit 70 drives and controls the actuators 55 and 65 so as to maintain the relative positional relationship between the exposure stage 15 and the substrate supply device 20 and the substrate winding device 30 while the exposure stage 15 is moving. There is. As a result, the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B can be prevented from approaching the exposure stage 15 and the long substrates W1 and W2 from being stretched or warped, and the exposure position can be prevented from being displaced.

なお、移動制御部７０は、距離間隔が閾値以上となったときに移動速度、加速度を制御するようにしてもよい。あるいは、供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび／または巻取リール３２Ａ、３２Ｂを軸回転制御して、長尺基板Ｗ１、Ｗ２に適切なテンションがかかるように調整してもよい。 The movement control unit 70 may control the movement speed and acceleration when the distance interval becomes equal to or greater than the threshold value. Alternatively, the supply reels 22A and 22B and / or the take-up reels 32A and 32B may be controlled to rotate around the axis so that appropriate tension is applied to the long substrates W1 and W2.

２条の長尺基板Ｗ１、Ｗ２だけでなく、より多くの複数の長尺基板を並列させて同時搬送させることも可能であり、また、１つの長尺基板で構成することも可能である。基板供給装置２０と基板巻取装置３０については、機械的に連結させず、別々の移動機構で移動させるようにしてもよい。また、露光ステージ１５と基板供給装置２０、基板巻取装置３０とを同じ移動機構で移動させるようにしてもよい。 In addition to the two long substrates W1 and W2, it is possible to simultaneously transport a larger number of long substrates in parallel, and it is also possible to configure one long substrate. The substrate supply device 20 and the substrate take-up device 30 may not be mechanically connected but may be moved by separate moving mechanisms. Further, the exposure stage 15, the substrate supply device 20, and the substrate winding device 30 may be moved by the same moving mechanism.

以上の実施形態では、露光ステージ１５の上流側に基板供給装置２０と下流側に基板巻取装置３０を設けて、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を同方向に移動させように供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂを駆動していたが、長尺基板Ｗ１とＷ２とがお互いに逆方向に移動するようにしてもよい。 In the above embodiment, the substrate supply device 20 is provided on the upstream side of the exposure stage 15 and the substrate winding device 30 is provided on the downstream side, and the supply reels 22A and 22B are provided so as to move the long substrates W1 and W2 in the same direction. Although the take-up reels 32A and 32B were driven, the long substrates W1 and W2 may be moved in opposite directions to each other.

すなわち、露光ステージ１５の両側に２対のリールを設け、一方のリール対をＸ方向に向けて巻き取るように供給リール、巻取リールを設置する一方、他方のリール対を－Ｘ方向に向けて巻き取るように供給リール、巻取リールを設けることが可能である。この場合、基板供給装置と基板巻取装置の機能を組み合わせた一対の搬送装置を露光ステージに対して移動させる。このように長尺基板Ｗ１とＷ２とがお互いに逆方向に移動するように構成すると、露光ステージの上流側と下流側における長尺基板の重量バランスの変化を軽減することが可能となる。 That is, two pairs of reels are provided on both sides of the exposure stage 15, and a supply reel and a take-up reel are installed so that one reel pair is wound in the X direction, while the other reel pair is directed in the −X direction. It is possible to provide a supply reel and a take-up reel so as to take up the reel. In this case, a pair of transfer devices that combine the functions of the board supply device and the board take-up device are moved with respect to the exposure stage. When the long substrates W1 and W2 are configured to move in opposite directions to each other in this way, it is possible to reduce the change in the weight balance of the long substrates on the upstream side and the downstream side of the exposure stage.

また、以上の実施形態では露光ステージ１５が移動することで長尺基板Ｗ１、Ｗ２と露光部４０との相対移動を実現し露光を行っていたが、露光ステージ１５がベース１０Ｂに固定され、露光部４０が不図示の移動装置によって基板搬送方向に移動することで相対移動するようにしてもよい。その場合、基板供給装置２０と基板巻取装置３０とが、露光ステージ１５と相対的位置関係を維持するようにベース１０Ｂに固定される。 Further, in the above embodiment, the exposure stage 15 is moved to realize the relative movement between the long substrates W1 and W2 and the exposure unit 40 for exposure, but the exposure stage 15 is fixed to the base 10B and exposed. The unit 40 may be moved relative to each other by moving in the substrate transport direction by a moving device (not shown). In that case, the substrate supply device 20 and the substrate winding device 30 are fixed to the base 10B so as to maintain a relative positional relationship with the exposure stage 15.

次に、図５、６を用いて、第２の実施形態について説明する。第２の実施形態では、ＲｔｏＲ搬送系が、露光ステージの露光面以下に配置されている。また、露光ステージ、基板供給装置、基板巻取装置が移動しているときの長尺基板にテンションをかけるテンションローラが設けられている。なお、第１の実施形態においても、ＲｔｏＲ搬送系が露光ステージの露光面以下に配置されている。 Next, the second embodiment will be described with reference to FIGS. 5 and 6. In the second embodiment, the RtoR transport system is arranged below the exposed surface of the exposure stage. Further, a tension roller for applying tension to the long substrate when the exposure stage, the substrate supply device, and the substrate winding device are moving is provided. Also in the first embodiment, the RtoR transport system is arranged below the exposure surface of the exposure stage.

図５は、第２の実施形態である露光装置の概略的斜視図である。図６は、露光装置の概略的平面図である。なお、第２の実施形態の基板搬送方向は、第１の実施形態の搬送方向と逆向きであり、基板供給装置、基板巻取装置の配置箇所も、第１の実施形態と逆になっている。同一の構成要素に関し、第１の実施形態と同じ符号を用いている。 FIG. 5 is a schematic perspective view of the exposure apparatus according to the second embodiment. FIG. 6 is a schematic plan view of the exposure apparatus. The substrate transport direction of the second embodiment is opposite to the transport direction of the first embodiment, and the arrangement locations of the board supply device and the board take-up device are also opposite to those of the first embodiment. There is. With respect to the same component, the same reference numerals as those in the first embodiment are used.

露光装置１０’は、第１の実施形態と同様、基板供給装置２０、基板巻取装置３０を備え、それぞれ供給リール２２Ａ、２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂを備える。一方、フリーローラとして構成され、露光ステージ１５の両端傍に配置される支持ローラ２４、３４は、基板供給装置２０と基板巻取装置３０との間に設けられたローラ支持装置５５によって支持されている。 Similar to the first embodiment, the exposure device 10'includes a substrate supply device 20 and a substrate take-up device 30, and includes supply reels 22A and 22B and take-up reels 32A and 32B, respectively. On the other hand, the support rollers 24 and 34 configured as free rollers and arranged near both ends of the exposure stage 15 are supported by the roller support device 55 provided between the board supply device 20 and the board take-up device 30. There is.

基板供給装置２０（２０Ａ、２０Ｂ）、基板巻取装置３０（３０Ａ、３０Ｂ）、ローラ支持装置５５は、搬送部移動機構６０によって搬送方向Ｍ（Ｘ方向）およびその逆方向に移動可能である。また、露光ステージ１５はステージ移動機構５０によって搬送方向Ｍおよびその逆方向に移動可能であり、基板供給装置２０、基板巻取装置３０、ローラ支持装置５５は、第１の実施形態と同様、露光ステージ１５と同期して移動することができる。 The substrate supply device 20 (20A, 20B), the substrate winding device 30 (30A, 30B), and the roller support device 55 can be moved in the transport direction M (X direction) and vice versa by the transport unit moving mechanism 60. Further, the exposure stage 15 can be moved in the transport direction M and the opposite direction by the stage moving mechanism 50, and the substrate supply device 20, the substrate winding device 30, and the roller support device 55 are exposed as in the first embodiment. It can move in synchronization with the stage 15.

第２の実施形態では、長尺基板Ｗ１、Ｗ２に接するローラとして、支持ローラ２４、３４に加え、テンションローラ３６、テンション測定ローラ３７、テンション測定ローラ３９が設けられている。テンションローラ３６は、フリーローラであって、ローラ支持装置５５に支持されている。 In the second embodiment, as the rollers in contact with the long substrates W1 and W2, in addition to the support rollers 24 and 34, a tension roller 36, a tension measuring roller 37, and a tension measuring roller 39 are provided. The tension roller 36 is a free roller and is supported by the roller support device 55.

テンション測定ローラ３９は、ローラ支持装置３０Ｃによって支持され、２つのフリーローラ３９Ａ，３９Ｂによって構成されている。長尺基板Ｗ２は、２つのフリーローラ３９Ａ，３９Ｂの間に挟まれた状態で巻かれる。テンション測定ローラ３７はフリーローラであり、ローラ支持装置５５によって支持されている。テンション測定ローラ３７、３９は、ロードセルなどの既知のテンション計測手法によって長尺基板Ｗ１、Ｗ２のテンションを計測する。 The tension measuring roller 39 is supported by the roller support device 30C and is composed of two free rollers 39A and 39B. The long substrate W2 is wound while being sandwiched between the two free rollers 39A and 39B. The tension measuring roller 37 is a free roller and is supported by the roller support device 55. The tension measuring rollers 37 and 39 measure the tension of the long substrates W1 and W2 by a known tension measuring method such as a load cell.

図６に示すように、露光部４０は、４本の脚４６Ａ～４６Ｄを備えた架台４５の上に設定されている。ただし、図５には架台４５を図示していない。架台４５の脚４６Ａ、４６Ｃ（脚４６Ｂ、４６Ｄ）の距離間隔は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２およびＲｔｏＲ搬送系が架台４５の内部空間ＳＪを通過できるように定められている。 As shown in FIG. 6, the exposure unit 40 is set on a gantry 45 provided with four legs 46A to 46D. However, the gantry 45 is not shown in FIG. The distance between the legs 46A and 46C (legs 46B and 46D) of the gantry 45 is set so that the long substrates W1, W2 and the RtoR transport system can pass through the internal space SJ of the gantry 45.

一方、露光光学系のワークディスタンス（ＷＤ）が非常に短い距離間隔（例えば数十ミリ程度）に設定されるため、架台４５の高さは、露光ステージ１５の高さを大きく超えるように設定することができない。したがって、露光ステージ１５は、架台４５の内面のすぐ傍を通過していく。 On the other hand, since the work distance (WD) of the exposure optical system is set to a very short distance interval (for example, about several tens of millimeters), the height of the gantry 45 is set so as to greatly exceed the height of the exposure stage 15. I can't. Therefore, the exposure stage 15 passes immediately near the inner surface of the gantry 45.

本実施形態では、ＲｔｏＲ搬送系を構成する支持ローラ２４、３４およびテンション測定ローラ３７、３９、そして供給リール２２Ａ，２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂが、いずれも露光ステージ１５の露光面ＥＨ以下（すなわち露光面ＥＨを基準として露光部４０と反対側）のスペースに配置されている。言い換えると、ＲｔｏＲ搬送系を構成する部材が、露光面ＥＨを（一部分でも）実質的に超えていない。 In the present embodiment, the support rollers 24 and 34 and the tension measuring rollers 37 and 39, the supply reels 22A and 22B, and the take-up reels 32A and 32B constituting the RtoR transfer system are all below the exposed surface EH of the exposure stage 15 ( That is, it is arranged in the space on the side opposite to the exposed portion 40 with respect to the exposed surface EH. In other words, the members constituting the RtoR transport system do not substantially exceed (even a part of) the exposed surface EH.

これは、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の搬送に関与するＲｏＲ搬送系の上面がフラットであることを示す。そのため、支持ローラ２４，３４、テンション測定ローラ３７、３９は、架台４５に当たることなく内部空間ＳＪへ移動することができる。基板供給装置２０、基板巻取装置３０、ローラ支持装置５５も同様である。 This indicates that the upper surface of the RoR transport system involved in the transport of the long substrates W1 and W2 is flat. Therefore, the support rollers 24 and 34 and the tension measurement rollers 37 and 39 can move to the internal space SJ without hitting the gantry 45. The same applies to the board supply device 20, the board take-up device 30, and the roller support device 55.

ＲｔｏＲ搬送系が露光面ＥＨ以下に配置されるため、供給リール２２Ａ、２２Ｂは、長尺基板Ｗ１、Ｗ２に適度なテンションがかかるように、架台４５の近くに配置される。巻取リール３２Ａ、３２Ｂも、テンションローラ３６、テンション測定ローラ３７、３９を間に含め、できる限り架台４５の近くに配置される。 Since the RtoR transfer system is arranged below the exposed surface EH, the supply reels 22A and 22B are arranged near the gantry 45 so that appropriate tension is applied to the long substrates W1 and W2. The take-up reels 32A and 32B are also arranged as close to the gantry 45 as possible, including the tension roller 36 and the tension measuring rollers 37 and 39 in between.

一方、長尺基板Ｗ１、Ｗ２にそれぞれ適切なテンションをかけるため、供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、それぞれ独立して駆動される。一方、搬送部移動機構６０は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の片方の側面側だけに配置され、供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび巻取リール３２Ａ、３２Ｂは片持ち支持されている。 On the other hand, the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B are independently driven in order to apply appropriate tensions to the long substrates W1 and W2, respectively. On the other hand, the transport unit moving mechanism 60 is arranged only on one side surface side of the long substrates W1 and W2, and the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B are cantilevered and supported.

そのため、供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、それぞれ基板搬送方向Ｍに関し、異なった位置に配置される。その一方で、長尺基板Ｗ１、Ｗ２に同じテンションをかけやすく、また、ＲｔｏＲ搬送系の鉛直方向幅を抑えるなどの理由により、供給リール２２Ａ、巻取リール３２Ａの鉛直方向高さと、供給リール２２Ｂ、巻取リール３２Ｂの鉛直方向高さが等しくなるように、配置設定されている。 Therefore, the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B are arranged at different positions with respect to the substrate transport direction M, respectively. On the other hand, the vertical heights of the supply reel 22A and the take-up reel 32A and the supply reel 22B are due to the fact that the same tension can be easily applied to the long substrates W1 and W2, and the vertical width of the RtoR transport system is suppressed. , The arrangement is set so that the vertical heights of the take-up reels 32B are equal.

長尺基板Ｗ２は、長尺基板Ｗ１よりも基板供給装置２０、基板巻取装置３０から離れ、供給リール２２Ｂ、巻取リール３２Ｂの長さが供給リール２２Ａ、巻取リール３２Ａの長さよりも長く、ロール状の長尺基板Ｗ２は基板供給装置２０、基板巻取装置３０から離れた位置で支持される。そのため、供給リール２２Ｂ、巻取リール３２Ｂの間で長尺基板Ｗ２が蛇行しやすい。 The long board W2 is farther from the board supply device 20 and the board take-up device 30 than the long board W1, and the lengths of the supply reel 22B and the take-up reel 32B are longer than the lengths of the supply reel 22A and the take-up reel 32A. The roll-shaped long substrate W2 is supported at a position away from the substrate supply device 20 and the substrate winding device 30. Therefore, the long substrate W2 tends to meander between the supply reel 22B and the take-up reel 32B.

これを防ぐため、供給リール２２Ｂ、巻取リール３２Ｂのリール間距離を、供給リール２２Ａ、巻取リール３２Ａのリール間距離よりも短くなるようにＲｔｏＲ搬送系を構成している。すなわち、基板供給装置２０、基板巻取装置３０により近い場所でロール状の長尺基板Ｗ１を支持する供給リール２２Ａ、巻取リール３２Ａが、供給リール２２Ｂ、巻取リール３２Ｂよりも露光部４０から離れた外側に位置している。 In order to prevent this, the RtoR transfer system is configured so that the distance between the reels of the supply reel 22B and the take-up reel 32B is shorter than the distance between the reels of the supply reel 22A and the take-up reel 32A. That is, the supply reel 22A and the take-up reel 32A that support the roll-shaped long substrate W1 at a location closer to the board supply device 20 and the board take-up device 30 are from the exposed portion 40 rather than the supply reel 22B and the take-up reel 32B. Located on the far outside.

このように第２の実施形態によれば、ＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置１０’において、ＲｔｏＲ搬送系を構成する支持ローラ２４、３４およびテンション測定ローラ３７、３９、そして供給リール２２Ａ，２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂ、基板供給装置２０、基板巻取装置３０、ローラ支持装置５５が、露光ステージ１５の露光面ＥＨ以下のスペースに配置されている。 As described above, according to the second embodiment, in the exposure apparatus 10'provided with the RtoR transfer system, the support rollers 24, 34 and the tension measuring rollers 37, 39, and the supply reels 22A, 22B constituting the RtoR transfer system, and the supply reels 22A, 22B. The take-up reels 32A and 32B, the substrate supply device 20, the substrate take-up device 30, and the roller support device 55 are arranged in a space below the exposure surface EH of the exposure stage 15.

これにより、ＲｔｏＲ搬送系の基板搬送方向Ｍに沿った装置サイズを小さくすることができる。すなわち、設置スペースが露光面以下に配置するＲｔｏＲ搬送系は、ニップローラ、ダンサーローラを必然的に省くことになり、基板搬送方向に沿った装置サイズをコンパクト化することができる。なお、ＲｔｏＲ搬送系が露光ステージ１５と移動しない従来型ＲｔｏＲ搬送系に対しても、本実施形態は有効である。 As a result, the size of the device along the substrate transfer direction M of the RtoR transfer system can be reduced. That is, the RtoR transport system in which the installation space is arranged below the exposed surface inevitably omits the nip roller and the dancer roller, and the device size along the substrate transport direction can be reduced. The present embodiment is also effective for the conventional RtoR transfer system in which the RtoR transfer system does not move with the exposure stage 15.

そして、ＲｔｏＲ搬送系において、ローラ群の中で長尺基板Ｗ１、Ｗ２の表面と接するローラが従来の搬送系と比べて少ない。これにより、パターンの形成される基板表面が傷つくのを抑えることができる。特に、ソルダーレジスト露光には効果的である。 In the RtoR transport system, the number of rollers in contact with the surfaces of the long substrates W1 and W2 in the roller group is smaller than that in the conventional transport system. As a result, it is possible to prevent the surface of the substrate on which the pattern is formed from being damaged. It is particularly effective for solder resist exposure.

さらに第２の実施形態では、テンションローラ３６を設けた構成により、移動期間中でも、長尺基板Ｗ１、Ｗ２に対して適度なテンションを掛け続けることができる。以下では、テンションローラ３６の働き、そして供給リール２２Ａ、２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂの駆動について説明する。 Further, in the second embodiment, due to the configuration provided with the tension roller 36, it is possible to continue to apply an appropriate tension to the long substrates W1 and W2 even during the moving period. Hereinafter, the operation of the tension roller 36 and the driving of the supply reels 22A and 22B and the take-up reels 32A and 32B will be described.

テンションローラ３６は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２にテンションを掛けるローラであり、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の表面と接し、他のローラに対して位置変動可能な状態でローラ支持装置５５に支持されている。また、テンションローラ３６は、偏芯ローラであり、揺動運動できるように支持されている。 The tension roller 36 is a roller that applies tension to the long substrates W1 and W2, is in contact with the surfaces of the long substrates W1 and W2, and is supported by the roller support device 55 in a state where the position can be changed with respect to other rollers. There is. Further, the tension roller 36 is an eccentric roller and is supported so as to be able to swing.

供給リール２２Ａ，２２Ｂを駆動する駆動機構２１Ａ、２１Ｂは、基板供給装置２０Ａ，２０Ｂにそれぞれ設けられている。駆動機構２１Ａ、２１Ｂは、ワンウェイクラッチ機構を備え、基板搬送方向Ｍの逆方向にのみトルクＴを掛け続けるように動作する。トルクＴは、露光ステージ１５の長尺基板Ｗ１、Ｗ２に対する吸着力よりも弱い。例えば、駆動機構２１Ａ、２１Ｂは、パウダークラッチを備えており、テンション測定ローラ３７、３９によって測定されるテンションに応じてパウダークラッチを制御する。 The drive mechanisms 21A and 21B for driving the supply reels 22A and 22B are provided in the substrate supply devices 20A and 20B, respectively. The drive mechanisms 21A and 21B are provided with a one-way clutch mechanism and operate so as to continuously apply the torque T only in the direction opposite to the substrate transport direction M. The torque T is weaker than the suction force of the exposure stage 15 on the long substrates W1 and W2. For example, the drive mechanisms 21A and 21B include a powder clutch, and control the powder clutch according to the tension measured by the tension measuring rollers 37 and 39.

一方、基板巻取装置３０Ａ，３０Ｂに設けられた巻取リール３２Ａ，３２Ｂの駆動機構３１Ａ，３１Ｂは、サーボモータ機構によって構成されている。なお、駆動機構３１Ａ，３１Ｂが、テンション測定ローラ３７、３９によって測定されるテンションに応じて、巻取時などのトルク量を調整するようにしてもよい。 On the other hand, the drive mechanisms 31A and 31B of the take-up reels 32A and 32B provided in the substrate take-up devices 30A and 30B are configured by a servomotor mechanism. The drive mechanisms 31A and 31B may adjust the torque amount at the time of winding or the like according to the tension measured by the tension measuring rollers 37 and 39.

上述したように、搬送部移動機構６０とステージ移動機構５０が別々に構成され、ＲｔｏＲ搬送系は、露光ステージ１５と同期して移動する。そのため、移動時の制御の問題などによって同期ずれが生じる。すなわち、露光ステージ１５がＲｔｏＲ搬送系より早く移動し、あるいは遅れる。同期ずれが生じると、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が撓み、あるいは伸びにつながる。これを防ぐため、テンションローラ３６がテンションを長尺基板Ｗ１、Ｗ２にかけるように位置変動する。 As described above, the transport unit moving mechanism 60 and the stage moving mechanism 50 are separately configured, and the RtoR transport system moves in synchronization with the exposure stage 15. Therefore, a synchronization shift occurs due to a control problem at the time of movement. That is, the exposure stage 15 moves faster or lags behind the RtoR transport system. When the synchronization shift occurs, the long substrates W1 and W2 are bent or stretched. In order to prevent this, the tension roller 36 changes its position so as to apply tension to the long substrates W1 and W2.

テンションローラ３６は、図示しない規制部材と接することによって、鉛直上方向の移動が制限されている。露光ステージ１５が長尺基板Ｗ１、Ｗ２を吸着していない状態では、供給リール２２Ａ、２２Ｂに対して供給側と逆方向にトルクが掛かかっているため、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の表面に接するテンションローラ３６は、鉛直方向に付勢され、規制部材と接した状態を維持する。長尺基板Ｗ１、Ｗ２は、支持ローラ２４、３４の間で適度なテンションがかかる状態となる。露光ステージ１５が長尺基板Ｗ１、Ｗ２を吸着し、移動する間、同様にテンションがかかる状態が維持される。 The tension roller 36 is restricted from moving in the vertical upward direction by coming into contact with a restricting member (not shown). When the exposure stage 15 does not adsorb the long substrates W1 and W2, torque is applied to the supply reels 22A and 22B in the direction opposite to the supply side, so that the exposure stage 15 comes into contact with the surfaces of the long substrates W1 and W2. The tension roller 36 is urged in the vertical direction and maintains a state of being in contact with the regulating member. The long substrates W1 and W2 are in a state where an appropriate tension is applied between the support rollers 24 and 34. While the exposure stage 15 adsorbs the long substrates W1 and W2 and moves, the tension is similarly maintained.

一方、同期ずれによってＲｔｏＲ搬送系が露光ステージ１５より遅れた場合、すなわち、露光ステージ１５がＲｔｏＲ搬送系に近づく場合、露光ステージ１５が長尺基板Ｗ１、Ｗ２を吸着しながら移動しているため、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は撓もうとする。このとき、テンションローラ３６が揺動し、上限位置から変動する。その結果、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は撓むことなく適度なテンションがかかる。 On the other hand, when the RtoR transport system lags behind the exposure stage 15 due to synchronization deviation, that is, when the exposure stage 15 approaches the RtoR transport system, the exposure stage 15 moves while adsorbing the long substrates W1 and W2. The long substrates W1 and W2 try to bend. At this time, the tension roller 36 swings and fluctuates from the upper limit position. As a result, the long substrates W1 and W2 are not bent and an appropriate tension is applied.

逆に、同期ずれによってＲｔｏＲ搬送系が露光ステージ１５より進んだ場合、すなわち、露光ステージ１５がＲｔｏＲ搬送系から離れた場合、駆動機構２１Ａ、２１Ｂが供給リール２２Ａ，２２Ｂに対して長尺基板の送り出し方向とは逆方向にトルクＴをかけているため、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が支持ローラ２４と供給リール２２Ａ、２２Ｂとの間で撓むことがなく、適度なテンションが維持される。 On the contrary, when the RtoR transfer system advances from the exposure stage 15 due to the synchronization deviation, that is, when the exposure stage 15 is separated from the RtoR transfer system, the drive mechanisms 21A and 21B are long substrates with respect to the supply reels 22A and 22B. Since the torque T is applied in the direction opposite to the feeding direction, the long substrates W1 and W2 do not bend between the support rollers 24 and the supply reels 22A and 22B, and an appropriate tension is maintained.

一方、テンションローラ３６を設けたことによって、テンションローラ３６とテンション測定ローラ３９との間の長尺基板Ｗ１、Ｗ２の傾斜が緩くなっている。そのため、ローラ３９Ａ，３９Ｂの間に長尺基板Ｗ１、Ｗ２を挟むことによって角度を付け、正確なテンションを測れるように構成している。 On the other hand, by providing the tension roller 36, the inclination of the long substrates W1 and W2 between the tension roller 36 and the tension measuring roller 39 is loosened. Therefore, by sandwiching the long substrates W1 and W2 between the rollers 39A and 39B, an angle is set so that an accurate tension can be measured.

このように第２の実施形態によれば、ＲｔｏＲ搬送系が露光ステージ１５とともに基板搬送方向Ｍに沿って移動可能な露光装置１０’において、テンションローラ３６が露光ステージ１５の下流側に設けられている。そしてＲｔｏＲ搬送系の移動中、テンションローラ３６は、他のローラに対して位置変動し、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の撓みを抑えるようにテンションをかける。 As described above, according to the second embodiment, in the exposure apparatus 10'in which the RtoR transfer system can move along with the exposure stage 15 along the substrate transfer direction M, the tension roller 36 is provided on the downstream side of the exposure stage 15. There is. Then, during the movement of the RtoR transport system, the tension roller 36 changes its position with respect to the other rollers, and applies tension so as to suppress the bending of the long substrates W1 and W2.

多くの場合、ＲｔｏＲ搬送系を移動させる方が露光ステージ１５を移動させるより駆動力が必要となる。したがって、露光ステージ１５がＲｔｏＲ搬送系に近づく同期ずれが生じやすい。したがって、テンションローラ３６を露光ステージ１５の下流側に配置されることにより、効果的にテンションを掛けることができる。 In many cases, moving the RtoR transport system requires more driving force than moving the exposure stage 15. Therefore, a synchronization shift in which the exposure stage 15 approaches the RtoR transport system is likely to occur. Therefore, by arranging the tension roller 36 on the downstream side of the exposure stage 15, tension can be effectively applied.

また、駆動機構２１Ａ，２１Ｂが、供給リール２２Ａ、２２Ｂに対して基板搬送方向とは逆の方向にのみトルクをかけ続けることによって、テンションローラを露光ステージ１５の上流側に設けなくても、同期ずれの時にテンションを掛けることができる。 Further, the drive mechanisms 21A and 21B continue to apply torque to the supply reels 22A and 22B only in the direction opposite to the substrate transport direction, so that the tension rollers are synchronized even if the tension roller is not provided on the upstream side of the exposure stage 15. Tension can be applied at the time of deviation.

さらに、テンションローラ３６が、偏芯ローラの構成によって揺動し、等時性をもった動きをする。これによって、テンションを適度にかけ続けることが容易となる。そして、このテンションローラ３６は長尺基板Ｗ１、Ｗ２に跨るように配置されることにより、長尺基板Ｗ１、Ｗ２に対し、同等なテンションを掛けることができる。 Further, the tension roller 36 swings due to the configuration of the eccentric roller, and moves with isochronism. This makes it easy to continue to apply tension appropriately. By arranging the tension roller 36 so as to straddle the long substrates W1 and W2, it is possible to apply the same tension to the long substrates W1 and W2.

なお、テンションローラ３６を偏芯ローラで構成しなくてもよく、鉛直方向に沿って位置変動するようにしてもよい。また、上流側にテンションローラを設けるようにしてもよい、そして、ステージ移動機構５０と搬送部移動機構６０が一体となった移動機構に対して適用することも可能である。 The tension roller 36 does not have to be composed of an eccentric roller, and the position may be changed along the vertical direction. Further, a tension roller may be provided on the upstream side, and it can also be applied to a moving mechanism in which the stage moving mechanism 50 and the transporting portion moving mechanism 60 are integrated.

次に、図７を用いて、第３の実施形態について説明する。第３の実施形態では、搬送部移動機構が、露光部を支持する架台の外側に設けられている。 Next, the third embodiment will be described with reference to FIG. 7. In the third embodiment, the transport unit moving mechanism is provided on the outside of the gantry that supports the exposed unit.

図７は、第３の実施形態である露光装置の概略的斜視図である。 FIG. 7 is a schematic perspective view of the exposure apparatus according to the third embodiment.

露光装置１０”は、供給リール２２Ａ，２２Ｂを駆動し、対向配置される一対の基板供給装置１２０Ｘ、１２０Ｙ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂを駆動し、対向配置される一対の基板巻取装置１３０Ｘ、１３０Ｙを備える。搬送部移動機構６０は、露光部４０の架台４５の外側で基板搬送方向Ｍに並列する一対の搬送部移動機構６０Ｘ、６０Ｙによって構成されている。 The exposure device 10 "drives the supply reels 22A and 22B and drives the pair of substrate supply devices 120X and 120Y arranged to face each other, and the take-up reels 32A and 32B, and the pair of substrate take-up devices 130X and arranged to face each other. The transport unit moving mechanism 60 includes 130Y. The transport unit moving mechanism 60 is composed of a pair of transport unit moving mechanisms 60X and 60Y parallel to the substrate transport direction M on the outside of the gantry 45 of the exposed unit 40.

一対の搬送部移動機構６０Ｘ、６０Ｙにそれぞれ配置された基板供給装置１２０Ａ１、１２０Ａ２は、供給リール２２Ａを両側から支持する。また、供給リール２２Ａの軸部は、基板供給装置１２０Ａ１、１２０Ａ２の距離間隔に応じた長さをもつ。供給リール２２Ｂも、基板供給装置１２０Ｂ１、１２０Ｂ２によって両側から支持されている。 The substrate supply devices 120A1 and 120A2 arranged in the pair of transport unit moving mechanisms 60X and 60Y, respectively, support the supply reels 22A from both sides. Further, the shaft portion of the supply reel 22A has a length corresponding to the distance interval between the substrate supply devices 120A1 and 120A2. The supply reel 22B is also supported from both sides by the substrate supply devices 120B1 and 120B2.

同様に、一対の搬送部移動機構６０Ｘ、６０Ｙにそれぞれ配置された基板巻取装置１３０Ｂ１、１３０Ｂ２は、巻取リール３２Ｂを両側から支持し、搬送部移動機構６０Ｘ、６０Ｙにそれぞれ配置された基板巻取装置１３０Ａ１、１３０Ａ２は、巻取リール３２Ａを両側から支持する。搬送部移動機構６０Ｘは、ガイドレール６１Ｘに沿って基板搬送方向Ｍおよびその逆方向に移動可能であり、搬送部移動機構６０Ｙは、ガイドレール６１Ｙに沿って基板搬送方向Ｍおよびその逆方向に移動可能である。 Similarly, the substrate winding devices 130B1 and 130B2 arranged in the pair of transport unit moving mechanisms 60X and 60Y support the take-up reels 32B from both sides, and the substrate winding devices arranged in the transport unit moving mechanisms 60X and 60Y, respectively. The take-up devices 130A1 and 130A2 support the take-up reel 32A from both sides. The transport unit moving mechanism 60X can move along the guide rail 61X in the substrate transport direction M and vice versa, and the transport unit moving mechanism 60Y moves in the substrate transport direction M and vice versa along the guide rail 61Y. It is possible.

搬送部移動機構６０Ｘ、６０Ｙは、互いに同期しながら移動する。これによって、第１、第２の実施形態と同様、ＲｔｏＲ搬送系は露光ステージ１５とともに基板搬送方向Ｍに移動することができる。ただし、ガイドレール６１Ｘ、６１Ｙが架台４５の周囲に配置されているため、供給リール２２Ｂ、巻取リール３２Ｂが架台４５と当たらないように移動範囲が制限されている。支持ローラ２４、３４は、ここでは露光ステージ１５に取り付けられている。 The transport unit moving mechanisms 60X and 60Y move in synchronization with each other. As a result, as in the first and second embodiments, the RtoR transfer system can move in the substrate transfer direction M together with the exposure stage 15. However, since the guide rails 61X and 61Y are arranged around the gantry 45, the moving range is limited so that the supply reel 22B and the take-up reel 32B do not hit the gantry 45. The support rollers 24 and 34 are attached here to the exposure stage 15.

搬送部移動機構６０Ｘ、６０Ｙが架台４５の下を通らない構成にすることで、搬送部移動機構６０Ｘ、６０Ｙが動作するときに露光部４０へ振動が伝わり、パターン露光に影響が出るのを抑制することができる。また、架台４５の内部空間ＳＪのスペースが確保され、３、４条といった多数の長尺基板を搬送することも可能となる。 By configuring the transport unit moving mechanisms 60X and 60Y so that they do not pass under the gantry 45, vibration is transmitted to the exposed unit 40 when the transport unit moving mechanisms 60X and 60Y operate, which suppresses the influence on the pattern exposure. can do. Further, the space of the internal space SJ of the gantry 45 is secured, and it is possible to transport a large number of long boards such as 3 or 4 strips.

一方、基板供給装置１２０Ａ１、１２０Ａ２は、それぞれアクチュエータ１４０Ａ１、１４０Ａ２によって移動可能であり、基板供給装置１２０Ｂ１、１２０Ｂ２は、それぞれアクチュエータ１４０Ｂ１、１４０Ｂ２に沿って移動可能である。同様に、基板巻取装置１３０Ａ１、１３０Ａ２は、それぞれアクチュエータ１５０Ａ１、１５０Ａ２に沿って移動可能であり、基板供給装置１３０Ｂ１、１３０Ｂ２は、それぞれアクチュエータ１５０Ｂ１、１５０Ｂ２に沿って移動可能である。 On the other hand, the substrate supply devices 120A1 and 120A2 can be moved by the actuators 140A1 and 140A2, respectively, and the substrate supply devices 120B1 and 120B2 can be moved along the actuators 140B1 and 140B2, respectively. Similarly, the substrate take-up devices 130A1 and 130A2 can move along the actuators 150A1 and 150A2, respectively, and the substrate supply devices 130B1 and 130B2 can move along the actuators 150B1 and 150B2, respectively.

供給側のアクチュエータ１４０Ａ１、１４０Ａ２、１４０Ｂ１、１４０Ｂ２、そして巻取側のアクチュエータ１５０Ａ１、１５０Ａ２、１５０Ｂ１、１５０Ｂ２は、いずれも基板供給装置１２０Ｘ、１２０Ｙおよび基板巻取装置１３０Ｘ、１３０Ｙを、基板搬送方向Ｍに直交する方向（以下、基板搬送直交方向という）Ｎに沿って移動させることが可能である。また、いずれのアクチュエータも、ボールネジなどによって構成することができる。 The supply side actuators 140A1, 140A2, 140B1, 140B2, and the take-up side actuators 150A1, 150A2, 150B1, 150B2 all have the board supply devices 120X, 120Y and the board take-up devices 130X, 130Y in the board transfer direction M. It is possible to move along N in the orthogonal direction (hereinafter referred to as the substrate transport orthogonal direction) N. Further, any actuator can be configured by a ball screw or the like.

基板供給装置１２０Ｘ，１２０Ｙおよび基板巻取装置１３０Ｘ，１３０Ｙは、同じ動きで基板搬送直交方向Ｎに沿って移動する。すなわち、始動タイミング、移動速度、停止タイミングが同じになって移動する。これにより、ＲｔｏＲ搬送系が、全体的に一体となって基板搬送直交方向Ｎに沿って移動することができる。 The board supply devices 120X and 120Y and the board take-up devices 130X and 130Y move along the board transfer orthogonal direction N with the same movement. That is, the start timing, the movement speed, and the stop timing are the same and the movement is performed. As a result, the RtoR transport system can move as a whole along the substrate transport orthogonal direction N.

露光ステージ１５は、ステージ移動機構５０によって基板搬送垂直方向Ｎおよびその逆方向に沿って移動可能である。そして、基板供給装置１２０Ｘ，１２０Ｙおよび基板巻取装置１３０Ｘ，１３０Ｙは、移動制御部７０によって露光ステージ１５と同期して移動することができる。 The exposure stage 15 can be moved along the substrate transport vertical direction N and vice versa by the stage moving mechanism 50. The substrate supply devices 120X and 120Y and the substrate winding devices 130X and 130Y can be moved in synchronization with the exposure stage 15 by the movement control unit 70.

ＲｔｏＲ搬送系が露光ステージ１５とともに基板搬送方向Ｍおよび基板搬送直交方向Ｎに移動可能であることから、長尺基板Ｗ１、Ｗ２に対してもマルチパス露光を行うことが可能となる。すなわち、矩形状基板への露光と同様、基板搬送方向Ｍに沿ってある走査バンドを露光した後、露光ステージ１５を基板搬送直交方向Ｎに移動させ、隣の走査バンドを露光することが可能となる。 Since the RtoR transfer system can move in the substrate transfer direction M and the substrate transfer orthogonal direction N together with the exposure stage 15, it is possible to perform multipath exposure on the long substrates W1 and W2. That is, it is possible to expose the scanning band along the substrate transport direction M and then move the exposure stage 15 in the substrate transport orthogonal direction N to expose the adjacent scan band, as in the case of exposure to a rectangular substrate. Become.

露光時の照射エリア（露光エリア）サイズは、露光部４０の光学系、露光特性（光強度、感光量など）に依存し、使用される長尺基板の幅に合わせたサイズを確保できない場合がある。露光エリアが長尺基板の幅全体をカバーできない場合、マルチパス露光を実行することによって長尺基板Ｗ１、Ｗ２の幅全体にパターンを形成することが可能となる。 The size of the irradiation area (exposure area) at the time of exposure depends on the optical system of the exposure unit 40 and the exposure characteristics (light intensity, exposure amount, etc.), and it may not be possible to secure a size that matches the width of the long substrate used. be. When the exposure area cannot cover the entire width of the long substrate, it is possible to form a pattern over the entire width of the long substrates W1 and W2 by performing multi-pass exposure.

このように第３の実施形態によれば、ＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置１０”において、搬送部移動機構６０Ｘ、６０Ｙは、露光部４０の架台４５の外側に配置され、一対の基板供給装置１２０Ｘ、１２０Ｙ、一対の基板巻取装置１３０Ｘ、１３０Ｙは、架台４５の下を通過しない。また、基板供給装置１２０Ｘ、１２０Ｙおよび基板巻取装置１３０Ｘ，１３０Ｙが同期して基板搬送直交方向Ｎに移動し、ＲｔｏＲ搬送系を露光ステージ１５とともに基板搬送直交方向Ｎに沿って移動させる。 As described above, according to the third embodiment, in the exposure apparatus 10 "equipped with the RtoR transport system, the transport unit moving mechanisms 60X and 60Y are arranged outside the gantry 45 of the exposure unit 40, and a pair of substrate supply devices. 120X, 120Y, the pair of substrate winding devices 130X, 130Y do not pass under the gantry 45, and the substrate supply devices 120X, 120Y and the substrate winding devices 130X, 130Y move synchronously in the substrate transport orthogonal direction N. Then, the RtoR transfer system is moved together with the exposure stage 15 along the substrate transfer orthogonal direction N.

第２の実施形態においても、搬送部移動機構６０を架台４５の外側に設けて移動させる構成にすることが可能である。 Also in the second embodiment, the transport unit moving mechanism 60 can be provided on the outside of the gantry 45 and moved.

１０露光装置
１５露光ステージ
２０基板供給装置（基板供給部）
２２Ａ、２２Ｂ供給リール
２６Ａ、２６Ｂ駆動機構（供給側駆動機構）
３０基板巻取装置（基板巻取部）
３２Ａ、３２Ｂ巻取リール
３６テンションローラ
３６Ａ、３６Ｂ駆動機構（巻取側駆動機構）
３７テンション測定ローラ
３９テンション測定ローラ
４０露光部
４５架台
５０ステージ移動機構
６０搬送部移動機構
７０移動制御部
１２０Ｘ，１２０Ｙ基板供給装置
１３０Ｘ，１３０Ｙ基板巻取装置
１４０Ａ１、１４０Ａ２アクチュエータ
１４０Ｂ１、１４０Ｂ２アクチュエータ
１５０Ａ１、１５０Ａ２アクチュエータ
１５０Ｂ１、１５０Ｂ２アクチュエータ
Ｗ１、Ｗ２長尺基板 10 Exposure device 15 Exposure stage 20 Board supply device (board supply section)
22A, 22B Supply reel 26A, 26B Drive mechanism (supply side drive mechanism)
30 Board winding device (board winding section)
32A, 32B take-up reel 36 tension roller 36A, 36B drive mechanism (wind-up side drive mechanism)
37 Tension measurement roller 39 Tension measurement roller 40 Exposed part 45 Stand 50 Stage movement mechanism 60 Transport part movement mechanism 70 Movement control unit 120X, 120Y Board supply device 130X, 130Y Board take-up device 140A1, 140A2 Actuator 140B1, 140B2 Actuator 150A1, 150A2 Actuator 150B1, 150B2 Actuator W1, W2 Long board

Claims

少なくとも１つの長尺基板を支持し、基板搬送ラインに沿って往復移動可能な露光ステージと、
前記露光ステージを間にして対向配置され、前記長尺基板を搬送する少なくとも１つのリール対と、
前記リール対の間に設けられ、前記長尺基板と接する複数のローラと、
前記露光ステージを基板搬送ラインに沿って往復移動させるステージ移動機構と、
前記リール対および前記複数のローラを支持するローラ支持装置を、前記露光ステージとともに基板搬送ラインに沿って往復移動させる、前記ステージ移動機構とは異なる搬送部移動機構とを備え、
前記リール対および前記複数のローラが、前記リール対および前記ローラ支持装置と前記露光ステージとの相対的距離間隔が一定となるように、前記露光ステージとともに基板搬送ラインに沿って往復移動し、
前記複数のローラは、基板搬送ラインに沿った往復移動中に他のローラに対して位置変動可能なテンションローラを含むことを特徴とする露光装置。 An exposure stage that supports at least one long substrate and can be reciprocated along the substrate transfer line.
At least one reel pair that is arranged facing each other with the exposure stage in between and conveys the long substrate.
A plurality of rollers provided between the reel pairs and in contact with the long substrate ,
A stage moving mechanism that reciprocates the exposure stage along the substrate transfer line,
The reel support device for supporting the reel pair and the plurality of rollers is provided with a transport unit moving mechanism different from the stage moving mechanism for reciprocating along the substrate transport line together with the exposure stage .
The reel pair and the plurality of rollers reciprocate along the substrate transport line together with the exposure stage so that the relative distance between the reel pair and the roller support device and the exposure stage is constant .
The plurality of rollers are an exposure apparatus including a tension roller whose position can be changed with respect to other rollers during reciprocating movement along a substrate transport line.

前記テンションローラが、規制部材と接することで、鉛直上方向の移動が制限されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 1 , wherein the tension roller is in contact with a restricting member to restrict vertical movement .

前記テンションローラが、前記露光ステージの下流側に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 1 or 2, wherein the tension roller is arranged on the downstream side of the exposure stage.

前記テンションローラが、偏芯していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装置。 The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the tension roller is eccentric.

前記テンションローラが、上方向の移動を制限されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 1 , wherein the tension roller is restricted from moving upward.

前記リール対の供給リールに対し、前記長尺基板の送り出し方向とは逆方向にトルクをかける供給側駆動機構を備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置。 The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 5, further comprising a supply-side drive mechanism that applies torque to the supply reels of the reel pair in a direction opposite to the delivery direction of the long substrate.

前記長尺基板の計測されたテンションに基づき、前記リール対の巻取リールにかかるトルク量を制御する巻取側駆動機構を備えたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の露光装置。 The invention according to any one of claims 1 to 6, further comprising a take-up side drive mechanism for controlling the amount of torque applied to the take-up reel of the reel pair based on the measured tension of the long substrate. Exposure device.

前記長尺基板が、並列した複数の長尺基板で構成され、
前記テンションローラが、前記複数の長尺基板に跨っていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の露光装置。 The long board is composed of a plurality of parallel long boards.
The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the tension roller straddles the plurality of long substrates.

前記複数のローラが、前記テンションローラよりも下流側に配置され、前記長尺基板のテンションを計測するテンション測定ローラを含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の露光装置。 The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the plurality of rollers are arranged on the downstream side of the tension roller and include a tension measuring roller for measuring the tension of the long substrate.