JP7034135B2 - 磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体の製造方法に関する。
本願は、２０１７年３月２日に、日本に出願された特願２０１７－０３９８１７号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

磁気記録再生装置の記録密度を向上させるために、高記録密度に適した磁気記録媒体の開発が進められている。
従来、磁気記録媒体として、基板上に記録層（磁性層）を形成し、記録層上にカーボン等の保護層を形成したものがある。保護層は、記録層に記録された情報を保護するとともに、磁気ヘッドの接触に対する耐摩耗性を高める。しかし、記録層上に保護層を設けただけでは、磁気記録媒体の耐久性は十分に得られない。このため、一般に、保護層の表面に潤滑剤を塗布して潤滑層を形成している。

磁気記録媒体の潤滑層を形成する際に用いられる潤滑剤としては、例えば、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖を有するウレア化合物およびウレタン化合物が提案されている（例えば、特許文献１および特許文献２参照）。

また、特許文献３には、フッ素含有イソシアネートと２－イソシアネートエチルメタクリレートを反応させて得られるウレタンメタクリレートを含有する樹脂組成物を用いる光ファイバー用コーティング剤が記載されている。

非特許文献１には、分子の末端が水酸基またはトリフルオロメチル基であるパーフルオロポリエーテル鎖からなる潤滑剤を用いて潤滑層を形成した磁気記録媒体が記載されている。さらに、非特許文献１には、このような磁気記録媒体に紫外線を照射することにより、磁気記録媒体の表面エネルギーが減少することと、磁気記録媒体の表面に結合する潤滑層の膜厚が増加することとが記載されている。

特開平８－３０１８３７号公報 特開平７－１３８３５９号公報 特許第３８８８６５３号公報

Ｈ．Ｔａｎｉ ｅｔ ａｌ，ＩＮＴＥＲＭＡＧ２０１１，ＥＵ－０９

しかしながら、磁気記録媒体の潤滑層においては、磁気記録媒体の耐久性を向上させるために、潤滑層と保護層との密着性をさらに向上させることが要求されていた。

本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、保護層との密着性に優れた潤滑層を形成できる磁気記録媒体用潤滑剤を提供することを課題とする。
また、本発明は、本発明の磁気記録媒体用潤滑剤を用いて、保護層との密着性に優れた潤滑層を形成する磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。
その結果、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置されている含フッ素エーテル化合物を含む磁気記録媒体用潤滑剤とすればよいことを見出した。

上記の磁気記録媒体用潤滑剤を、磁気記録媒体の保護層上に塗布した後、紫外線を照射してエチレン性炭素－炭素二重結合を反応させて形成した潤滑層は、保護層との密着性に優れる。潤滑層と保護層との優れた密着性は、保護層上に塗布した磁気記録媒体用潤滑剤中の含フッ素エーテル化合物が、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の末端にエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基を有することにより得られるものと推定される。より詳細には、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の末端に配置されたエチレン性炭素－炭素二重結合が、保護層上で紫外線照射エネルギーによって開裂し、保護層と結合したことによる効果であると推定される。
以上の検討結果から、以下に示す本発明を完成するに至った。

［１］パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に、エチレン性炭素－炭素の二重結合を有する基が配置されている含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。
［２］前記パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方の末端に前記エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置され、他方の末端に水酸基が配置されている［１］に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
［３］前期エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が（メタ）アクリロイル基である［１］または［２］に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
［４］前期エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が（メタ）アクリロイルオキシ基である［１］または［２］に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
［５］下記式（３）で表される［１］～［４］のいずれかに記載の磁気記録媒体用潤滑剤。

（式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）
［６］下記式（４）で表される［１］～［４］のいずれかに記載の磁気記録媒体用潤滑剤。

（式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）
［７］下記式（５）で表される［１］～［４］のいずれかに記載の磁気記録媒体用潤滑剤。

（式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）
［８］下記式（６）で表される［１］～［４］のいずれかに記載の磁気記録媒体用潤滑剤。

（式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）
［９］下記式（７）で表される［１］～［４］のいずれかに記載の磁気記録媒体用潤滑剤。

（式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）

［１０］第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基から選ばれる一種以上の官能基を１つまたは複数有する第２化合物をさらに含む［１］～［９］のいずれかに記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
［１１］前記含フッ素エーテル化合物は、前記パーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、前記エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基とが、ウレタン結合を介して結合している［１］～［１０］のいずれかに記載の磁気記録媒体用潤滑剤。

［１２］保護層上に潤滑層を形成する潤滑層形成工程を有し、前記潤滑層形成工程が［１］～［１１］のいずれかに記載の磁気記録媒体用潤滑剤を含む潤滑層形成用溶液を前記保護層上に塗布した後、紫外線を照射する工程を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

本発明の磁気記録媒体用潤滑剤は、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置されている含フッ素エーテル化合物を含む。このため、磁気記録媒体用潤滑剤を含む潤滑層形成用溶液を保護層上に塗布し、紫外線を照射することにより、保護層との密着性に優れた磁気記録媒体用の潤滑層が得られる。また、このようにして得られた潤滑層は、磁気ヘッドと保護層との摩擦力を低減させるため、磁気記録媒体の耐久性を向上させることができる。

本発明の磁気記録媒体の製造方法により製造した磁気記録媒体の一実施形態を示した概略断面図である。

以下、本発明の磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体用潤滑剤について詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施形態のみに限定されるものではない。

［磁気記録媒体用潤滑剤］
（第１実施形態）
本実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤（以下、「潤滑剤」と略記する場合がある。）は、含フッ素エーテル化合物を含む。
「含フッ素エーテル化合物」
本実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤に用いる含フッ素エーテル化合物は、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置されているものである。

パーフルオロアルキルポリエーテル鎖は、下記一般式（１）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖であることが好ましい。
－ＣＨ_２－ＣＦ_２Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｙ－ＣＦ_２－ＣＨ_２－
・・・（１）
（式（１）中、ｘは１～３０の整数を表し、ｙは０～３０の整数を表す。繰り返し単位である－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）－と－（ＣＦ_２Ｏ）－との配列順序に特に制限はない。）

一般式（１）中のｘおよびｙが上記範囲内であると、保護層上に塗布しやすい潤滑剤が得られる。しかも、このような潤滑剤を保護層上に塗布し、紫外線を照射して形成した潤滑層は、保護層の表面を被覆して保護層と磁気ヘッドとの摩擦力を低減でき、より一層保護層の耐摩耗性を向上させることができる。上記一般式（１）中のｘは３～２０の整数であることがより好ましく、ｙは０～２０の整数であることがより好ましい。

含フッ素エーテル化合物のパーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に配置されているエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、クロトニル基、アリル基、ビニル基、マレイミド基などが挙げられる。これらのエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基の中でも特に、紫外線硬化性の優れた潤滑剤が得られるため（メタ）アクリロイル基が好ましい。

なお、本明細書において「（メタ）アクリロイル」とは、アクリロイルまたはメタクリロイルを意味する。

含フッ素エーテル化合物としては、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方の末端にエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置され、他方の末端に水酸基が配置されていることが好ましい。このような含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤は、これを塗布し、紫外線を照射することで、より保護層との密着性および耐摩耗性に優れた潤滑層を形成できる。

パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の両方の末端に、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置されている場合、両方の末端に配置されているエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。両方の末端に配置されているエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が同じである場合、含フッ素エーテル化合物の製造が容易であるため好ましい。

含フッ素エーテル化合物において、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、その一方または両方の末端に配置されているエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基とは、直接またはアルキレン基等により間接的にウレタン結合を介して結合していることが好ましい。このような含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤は、これを塗布して紫外線を照射して得られる潤滑層が、磁気ヘッドへの潤滑剤の付着（ピックアップ）を抑制できるものとなる。例えば、アクリロイルオキシエチルイソシアナートと末端に水酸基を有するパーフルオロアルキルポリエーテルとを反応させて得られる化合物は、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が、ウレタン結合を介してパーフルオロアルキルポリエーテル鎖と結合しているものとなる。

さらに、含フッ素エーテル化合物においては、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方の末端にエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置され、他方の末端に水酸基が配置され、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖とエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基とがウレタン結合を介して結合していることが好ましい。この場合、これを塗布して紫外線を照射して得られる潤滑層において、含フッ素エーテル化合物中のウレタン結合と、他の含フッ素エーテル化合物中の他方の末端に配置された水酸基とが、水素結合を形成する。その結果、潤滑層の潤滑性が向上するとともに、潤滑層と保護層との密着性が向上するため、磁気ヘッドへの潤滑剤の付着（ピックアップ）が効果的に抑制される。

パーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、その一方または両方の末端に配置されているエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基とがウレタン結合を介して結合している場合、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基とウレタン結合とは下記一般式（２）で示される連結基を介して結合していることが好ましい。このような含フッ素エーテル化合物は、これを塗布して紫外線を照射して潤滑層を形成することで、より一層保護層との密着性に優れた潤滑層が得られる。

－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｔ－ ・・・（２）
（式（２）中、ｔは１～４の整数を表す。）

一般式（２）中のｔが上記範囲内であると、保護層上に塗布しやすい潤滑剤が得られる。しかも、一般式（２）中のｔが上記範囲内であると、分子量が小さくなり、二重結合当量（分子量／二重結合の数）が小さくなることから、より一層保護層との密着性に優れた潤滑層を形成できる潤滑剤が得られる。上記一般式（２）中のｔは１または２であることがより好ましい。

含フッ素エーテル化合物において、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖が、一般式（１）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖である場合、一般式（１）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、その一方または両方の末端に配置されているエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基とは、エーテル結合（－Ｏ－）を介して直接結合していてもよい。この場合、潤滑層形成用溶液に用いられる溶媒に対する溶解性に優れた含フッ素エーテル化合物となる。このため、潤滑層形成用溶液中の含フッ素エーテル化合物濃度が調整しやすいという効果が得られる。

本実施形態の潤滑剤に含まれる含フッ素エーテル化合物は、一般式（３）～（７）で示される化合物であることが好ましい。（式（３）～（７）中、ｘおよびｙは一般式（１）と同じである。）

一般式（３）～（７）で示される含フッ素エーテル化合物は、一般式（１）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基として（メタ）アクリロイル基を有する。
一般式（３）～（６）で示される含フッ素エーテル化合物は、一般式（１）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方の末端に、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基として（メタ）アクリロイル基が配置され、他方の末端に水酸基が配置されたものである。
また、一般式（７）で示される含フッ素エーテル化合物は、一般式（１）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖の両方の末端に、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基としてアクリロイル基が配置されたものである。

一般式（４）～（７）で示される含フッ素エーテル化合物は、一般式（１）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、その一方または両方の末端に配置されている（メタ）アクリロイル基とが、ウレタン結合を介して結合している。
また、一般式（４）～（７）で示される含フッ素エーテル化合物では、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基である（メタ）アクリロイル基とウレタン結合とが、上記一般式（２）で示される連結基を介して結合している。
一般式（３）で示される含フッ素エーテル化合物は、一般式（１）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、その一方の末端に配置されているメタクリロイル基とが、エーテル結合を介して結合している。

含フッ素エーテル化合物は、数平均分子量が５００～１００００の範囲内であることが好ましく、５００～２０００であることがより好ましい。数平均分子量が５００以上であると、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤が蒸散しにくいものとなる。このため、潤滑剤が蒸散して磁気ヘッドに移着することを防止できる。また、数平均分子量が１００００以下であると、含フッ素エーテル化合物の粘度が適正なものとなる。よって、この含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を含む潤滑層形成用溶液が調製しやすくなるとともに、これを塗布することによって容易に厚みの薄い潤滑層を形成できる。含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、溶媒で希釈して潤滑層形成用溶液を調製する際に扱いやすい粘度となるため、２０００以下であることがより好ましい。

含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めることができる。ＧＰＣの測定条件は、以下の通りである。
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ製 ＫＦ８０３
溶離液：フッ素系溶剤（商品名：アサヒクリンＡＫ－２２５、旭硝子社製）／アセトン＝４／１（ｖ／ｖ）
流速：１ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＥＬＳＤ（蒸発光散乱検出器）

本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、二種以上の化合物を反応させることにより得られる。本実施形態の含フッ素エーテル化合物の合成方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の合成方法を用いて製造できる。

（第２実施形態）
本実施形態の潤滑剤は、含フッ素エーテル化合物の他に、潤滑剤としての他の化合物（以下、「第２化合物」という。）を含むものである。
「第２化合物」
第２化合物は、本実施形態の潤滑剤を用いて形成した潤滑層で被覆されている保護層の耐摩耗性を向上させるものであることが好ましい。このような第２化合物としては、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖（以下第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖）の一方または両方の末端に、官能基を１つまたは複数有する化合物が挙げられる。

第２化合物の第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖は、下記一般式（８）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖であることが好ましい。この場合、潤滑剤を保護層上に塗布し、紫外線を照射して形成した潤滑層は、保護層の表面を被覆して保護層と磁気ヘッドとの摩擦力を低減する。その結果、より優れた耐摩耗性を有する保護層となる。

－ＣＨ_２－ＣＦ_２Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ａ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｂ－ＣＦ_２－ＣＨ_２－
・・・（８）
（式（８）中、ａは１～３０の整数を表し、ｂは０～３０の整数を表す。繰り返し単位である－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）－と－（ＣＦ_２Ｏ）－との配列順序に特に制限はない。）

一般式（８）中のａおよびｂが上記範囲である場合、保護層上に塗布しやすい潤滑剤が得られる。しかも、潤滑剤を保護層上に塗布し、紫外線を照射して形成した潤滑層は、より優れた耐摩耗性を有するものとなる。上記一般式（８）中のａは３～２０の整数であることがより好ましく、ｂは３～２０の整数であることがより好ましい。

本実施形態の潤滑剤が第２化合物を含む場合、第２化合物の第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、上記の含フッ素エーテル化合物のパーフルオロアルキルポリエーテル鎖とは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。

第２化合物において、第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に配置されている官能基としては、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基から選ばれる一種以上の官能基が挙げられ、これらの中でも保護層との水素結合が形成しやすい水酸基が好ましい。
また、第２化合物において、第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に配置されている上記官能基の数は、１つであってもよいし、２つ以上であってもよいが、１つであることが好ましい。第２化合物の末端に配置されている上記官能基の数が１つである場合、保護層との水素結合を形成する第２化合物の分子数を多くすることができ、潤滑層における耐摩耗性をより向上させることができる。

第２化合物の第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の両方の末端に、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基から選ばれる一種以上の官能基が配置されている場合、両方の末端に配置されている官能基は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。両方の末端に配置されている官能基が同じである場合、第２化合物の製造が容易であるため好ましい。

第２化合物は、第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方の末端に、水酸基、アミノ基、アミド基（ＲＣＯＮＨ－）、カルボキシル基から選ばれる一種以上の官能基が配置され、他方の末端に他の官能基が配置されているものであってもよい。他の官能基としては、例えば、フェニル基、ｐ－トリフルオロメチルフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、ナフチル基、４－トリフルオロメチルナフチル、６－トリフルオロメチルナフチル、４－シクロペンタジエン基、フタルイミド基、スクシンイミド基などが挙げられる。これらの他の官能基の中でも特に、保護層との相互作用が期待できるため、フェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、ｐ－トリフルオロメチルフェニル基が好ましい。

第２化合物において、第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖が、一般式（８）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖である場合、一般式（８）で示されるパーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、その一方または両方の末端に配置されている官能基とは、エーテル結合を介して結合していてもよい。この場合、官能基の回転に自由度を持たせることができ、保護層と相互作用し、潤滑剤の密着性を良くする効果が得られる。

本実施形態の潤滑剤に含まれる第２化合物は、下記一般式（９）または一般式（１０）で示される化合物であることが好ましい。（式（９）および（１０）中、ａおよびｂは一般式（８）と同じである。）

第２化合物は、数平均分子量が５００～１００００の範囲内であることが好ましく、５００～２０００であることがより好ましい。数平均分子量が５００以上であると、第２化合物を含む潤滑剤が蒸散しにくいものとなる。このため、潤滑剤が蒸散して磁気ヘッドに移着することを防止できる。また、数平均分子量が１００００以下であると、第２化合物の粘度が適正なものとなる。よって、第２化合物を含む潤滑剤を含む潤滑層形成用溶液が調製しやすくなるとともに、これを塗布することによって容易に厚みの薄い潤滑層を形成できる。第２化合物の数平均分子量は、扱いやすい粘度の粘着剤となるため、２０００以下であることが好ましい。
第２化合物の数平均分子量は、上述した含フッ素エーテル化合物の数平均分子量と同様にして求めることができる。

第２化合物の製造方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の製造方法を用いて製造できる。

「第２実施形態の潤滑剤の組成」
本実施形態の潤滑剤が、上記の含フッ素エーテル化合物と第２化合物とからなるものであり、潤滑剤中の上記含フッ素エーテル化合物の含有量が３０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。

本実施形態の潤滑剤において、含フッ素エーテル化合物として、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、その一方または両方の末端に配置されているエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基とが、ウレタン結合を介して結合しているものを含むことが好ましい。また、第２化合物として、第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に水酸基が配置されているものを含むことが好ましい。この場合、本実施形態の潤滑剤を用いて形成した潤滑層において、含フッ素エーテル化合物のウレタン結合と、第２化合物の水酸基とが、水素結合する。その結果、保護層の潤滑性が向上するとともに、潤滑層と保護層との密着性が向上し、磁気ヘッドへの潤滑剤の付着（ピックアップ）が効果的に抑制される。

本実施形態の潤滑剤は、上記の含フッ素エーテル化合物と、第２化合物の他に、必要に応じて、上記の含フッ素エーテル化合物および第２化合物とは異なる別の化合物を含むものであってもよい。
本実施形態の潤滑剤が、上記の含フッ素エーテル化合物の他に、第２化合物とは異なる別の化合物を含む場合、本実施形態の潤滑剤中の上記含フッ素エーテル化合物（または含フッ素エーテル化合物と第２化合物との合計）の含有量は、３０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。

本発明の第１実施形態及び第２実施形態の潤滑剤は、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置されている含フッ素エーテル化合物を含む。このため、潤滑剤を含む潤滑層形成用溶液を保護層上に塗布し、紫外線を照射することにより、保護層との密着性に優れた磁気記録媒体用の潤滑層が得られる。また、このようにして得られた潤滑層は、磁気ヘッドと保護層との摩擦力を低減させるため、磁気記録媒体の耐久性を向上させることができる。

［磁気記録媒体の製造方法］
図１は、本発明の磁気記録媒体の製造方法により製造した磁気記録媒体の一実施形態を示した概略断面図である。
図１に示す磁気記録媒体１０は、基板１１上に、付着層１２と、軟磁性層１３と、第１下地層１４と、第２下地層１５と、磁性層１６と、保護層１７と、潤滑層１８とが順次設けられた構造をなしている。

「基板」
基板１１としては、例えば、ＡｌもしくはＡｌ合金などの金属または合金材料からなる基体上に、ＮｉＰまたはＮｉＰ合金からなる膜が形成された非磁性基板等を用いることができる。
また、基板１１としては、ガラス、セラミックス、シリコン、シリコンカーバイド、カーボン、樹脂などの非金属材料からなる非磁性基板を用いてもよいし、これらの非金属材料からなる基体上にＮｉＰまたはＮｉＰ合金の膜を形成した非磁性基板を用いてもよい。

「付着層」
付着層１２は、基板１１と、付着層１２上に設けられる軟磁性層１３とを接して配置した場合に、基板１１の腐食の進行を防止する。
付着層１２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金等から適宜選択できる。付着層１２は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「軟磁性層」
軟磁性層１３は、第１軟磁性膜と、Ｒｕ膜からなる中間層と、第２軟磁性膜とが順に積層された構造を有していることが好ましい。すなわち、軟磁性層１３は、２層の軟磁性膜の間にＲｕ膜からなる中間層を挟み込むことによって、中間層の上下の軟磁性膜がアンチ・フェロ・カップリング（ＡＦＣ）結合した構造を有していることが好ましい。軟磁性層１３がＡＦＣ結合した構造を有していると、外部からの磁界に対しての耐性、並びに、垂直磁気記録特有の問題であるＷＡＴＥ（Ｗｉｄｅ Ａｒｅａ Ｔｒａｃｋ Ｅｒａｓｕｒｅ）現象に対しての耐性を高めることができる。

第１軟磁性膜および第２軟磁性膜は、ＣｏＦｅ合金からなる膜であることが好ましい。
第１軟磁性膜および第２軟磁性膜がＣｏＦｅ合金からなる膜である場合、高い飽和磁束密度Ｂｓ（１．４（Ｔ）以上）を実現できる。
また、第１軟磁性膜および第２軟磁性膜に使用されるＣｏＦｅ合金には、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂの何れかを添加することが好ましい。これにより、第１軟磁性膜および第２軟磁性膜の非晶質化が促進され、第１下地層（シード層）の配向性を向上させることが可能になるとともに、磁気ヘッドの浮上量を低減することが可能となる。
軟磁性層１３は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「第１下地層」
第１下地層１４は、その上に設けられる第２下地層１５および磁性層１６の配向や結晶サイズを制御するための層である。第１下地層１４は、磁気ヘッドから発生する磁束の基板面に対する垂直方向成分を大きくするとともに、磁性層１６の磁化の方向をより強固に基板１１と垂直な方向に固定するために設けられている。
第１下地層１４は、ＮｉＷ合金からなる層であることが好ましい。第１下地層１４がＮｉＷ合金からなる層である場合、必要に応じてＮｉＷ合金にＢ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ｔａなどの他の元素を添加してもよい。
第１下地層１４は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「第２下地層」
第２下地層１５は、磁性層１６の配向が良好になるように制御する層である。第２下地層１５は、ＲｕまたはＲｕ合金からなる層であることが好ましい。
第２下地層１５は、１層からなる層であってもよいし、複数層から構成されていてもよい。第２下地層１５が複数層からなる場合、全ての層が同じ材料から構成されていてもよいし、少なくとも一層が異なる材料から構成されていてもよい。
第２下地層１５は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「磁性層」
磁性層１６は、磁化容易軸が基板面に対して垂直または水平方向を向いた磁性膜からなる。磁性層１６は、ＣｏとＰｔを含む層であり、さらにＳＮＲ特性を改善するために、酸化物や、Ｃｒ、Ｂ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｚｒ等を含む層であってもよい。
磁性層１６に含有される酸化物としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｏＯ、Ｔａ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等が挙げられる。

磁性層１６は、１層から構成されていてもよいし、組成の異なる材料からなる複数の磁性層から構成されていてもよい。
例えば、磁性層１６が、第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層の３層からなる場合、第１磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔを含み、さらに酸化物を含んだ材料からなるグラニュラー構造であることが好ましい。第１磁性層に含有される酸化物としては、例えば、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏ等の酸化物を用いることが好ましい。その中でも、特に、ＴｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２等を好適に用いることができる。また、第１磁性層は、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも、特に、Ｃｒ_２Ｏ_３－ＳｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３－ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２－ＴｉＯ_２等を好適に用いることができる。

第１磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ、酸化物の他に、Ｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｗ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｒｕ、Ｒｅの中から選ばれる１種類以上の元素を含むことができる。
上記元素を１種類以上含むことにより、磁性粒子の微細化を促進、または結晶性や配向性を向上させることができ、より高密度記録に適した記録再生特性、熱揺らぎ特性を得ることができる。

第２磁性層には、第１磁性層と同様の材料を用いることができる。第２磁性層は、グラニュラー構造であることが好ましい。
第３磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔを含み、酸化物を含まない材料からなる非グラニュラー構造であることが好ましい。第３磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔの他に、Ｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｗ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｍｎの中から選ばれる１種類以上の元素を含むことができる。第３磁性層がＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔの他に上記元素を含むことにより、磁性粒子の微細化を促進、または結晶性や配向性を向上させることができ、より高密度記録に適した記録再生特性および熱揺らぎ特性が得られる。

磁性層１６が複数の磁性層で形成されている場合、隣接する磁性層の間には、非磁性層を設けることが好ましい。磁性層１６が、第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層の３層からなる場合、第１磁性層と第２磁性層との間と、第２磁性層と第３磁性層との間に、非磁性層を設けることが好ましい。
隣接する磁性層間に非磁性層を適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができ、Ｓ／Ｎ比をより向上させることができる。

磁性層１６の隣接する磁性層間に設けられる非磁性層は、例えば、Ｒｕ、Ｒｕ合金、ＣｏＣｒ合金、ＣｏＣｒＸ１合金（Ｘ１は、Ｐｔ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｒｅ，Ｒｕ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｏ、Ｎ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｒ、Ｂの中から選ばれる１種または２種以上の元素を表す。）等を好適に用いることができる。

磁性層１６の隣接する磁性層間に設けられる非磁性層には、酸化物、金属窒化物、または金属炭化物を含んだ合金材料を使用することが好ましい。具体的には、酸化物として、例えば、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等を用いることができる。金属窒化物として、例えば、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＴａＮ、ＣｒＮ等を用いることができる。金属炭化物として、例えば、ＴａＣ、ＢＣ、ＳｉＣ等を用いることができる。
非磁性層は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

磁性層１６は、より高い記録密度を実現するために、磁化容易軸が基板面に対して垂直方向を向いた垂直磁気記録の磁性層であることが好ましいが、面内磁気記録であってもよい。
磁性層１６は、蒸着法、イオンビームスパッタ法、マグネトロンスパッタ法等、従来の公知のいかなる方法によって形成してもよいが、通常、スパッタリング法により形成される。

「保護層」
保護層１７は、磁性層１６を保護するための層である。保護層１７は、一層から構成されていてもよいし、複数層から構成されていてもよい。保護層１７は、炭素または炭化ケイ素からなる層であることが好ましい。特に、保護層１７の最表面が窒素を含む炭素からなる層である場合、潤滑層との結合力が高くなり、優れた耐久性が得られるため好ましい。
保護層１７の成膜方法としては、カーボンを含むターゲット材を用いるスパッタ法や、エチレンやトルエン等の炭化水素原料を用いるＣＶＤ（化学蒸着法）法，ＩＢＤ（イオンビーム蒸着）法等を用いることができる。

「潤滑層」
潤滑層１８は、磁気記録媒体１０の汚染を防止するとともに、磁気記録媒体１０上を摺動する磁気記録再生装置の磁気ヘッドの摩擦力を低減させて、磁気記録媒体１０の耐久性を向上させる層である。
潤滑層１８は、図１に示すように、保護層１７上に接して形成される。潤滑層１８は、保護層１７上に、上述した第１実施形態の潤滑剤又は第２実施形態の潤滑剤を含む潤滑層形成用溶液を塗布した後、紫外線を照射することにより形成されたものである。

保護層１７が炭素で形成されている場合、保護層１７に含まれる炭素原子と潤滑層１８との結合力が高くなり、優れた耐久性が得られる。
潤滑層１８は、潤滑層１８の下に配置されている保護層１７の最表面が、窒素を含む炭素からなる層である場合、保護層１７に含まれる含フッ素エーテル化合物とより一層高い結合力で結合される。その結果、磁気記録媒体１０の表面の汚染を効果的に防止できる。

潤滑層１８の平均膜厚は、特に限定されないが、０．５ｎｍ（５Å）～３ｎｍ（３０Å）であることが好ましく、０．５ｎｍ（５Å）～２ｎｍ（２０Å）であることがより好ましい。
潤滑層１８の平均膜厚が０．５ｎｍ以上であると、潤滑層１８がアイランド状または網目状とならずに均一の膜厚で形成される。このため、潤滑層１８によって、保護層１７の表面を高い被覆率で被覆できる。また、潤滑層１８の平均膜厚を３ｎｍ以下にすることで、磁気ヘッドの浮上量を十分小さくして、磁気記録媒体１０の記録密度を高くすることができる。

「潤滑層の形成方法」
潤滑層１８は、例えば、基板１１上に保護層１７までの各層が形成された製造途中の磁気記録媒体を用意し、保護層１７上に潤滑層形成用溶液を塗布した後、紫外線を照射する方法により形成する。

潤滑層形成用溶液は、上述の実施形態の潤滑剤を必要に応じて溶媒で希釈して、塗布方法に適した粘度および濃度とすることにより得られる。
潤滑層形成用溶液に用いられる溶媒としては、潤滑剤を溶解させることができるものであれば良く、例えば、２－プロパノール、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶媒；アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５（旭硝子）、バートレル（登録商標）ＸＦ（三井・デュポンフロロケミカル）、Ｎｏｖｅｃ（登録商標）ＨＦＥ７１００（３Ｍ）、Ｎｏｖｅｃ（登録商標）ＨＦＥ７２００（３Ｍ）、ソルブ５５（ソルベックス）などのフッ素系溶媒などを１種または２種以上用いることができる。これらの溶媒の中でも特に、適度な溶解度を持つため、アサヒクリンＡＫ２２５（旭硝子）、バートレルＸＦ（三井・デュポンフロロケミカル）、ＮｏｖｅｃＨＦＥ７２００（３Ｍ）などのフッ素系溶媒を用いることが好ましい。

潤滑層形成用溶液の塗布方法は、特に限定されないが、例えば、スピンコート法やディップ法等が挙げられる。
ディップ法を用いる場合、例えば、以下に示す方法を用いることができる。まず、ディップコート装置の浸漬槽に入れられた潤滑層形成用溶液中に、保護層１７までの各層が形成された基板１１を浸漬する。次いで、浸漬槽から基板１１を所定の速度で引き上げる。
このことにより、潤滑層形成用溶液を基板１１の保護層１７上の表面に塗布する。
ディップ法を用いることで、潤滑層形成用溶液を保護層１７の表面に均一に塗布することができ、保護層１７上に均一な膜厚で潤滑層１８を形成できる。

保護層１７上に潤滑層形成用溶液を塗布した後、紫外線を照射する方法は、所定のエネルギーを得られるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、低圧水銀ランプを用いる方法により行うことができる。
また、保護層１７上に潤滑層形成用溶液を塗布した後、紫外線を照射する前に、必要に応じて、潤滑層形成用溶液中に含まれる溶媒を除去するための熱処理を行ってもよい。

本実施形態では、保護層１７上に潤滑層形成用溶液を塗布した後、紫外線を照射すると、潤滑層形成用溶液に含まれる含フッ素エーテル化合物中のエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が開裂して、保護層１７と結合する。このことにより、保護層との密着性に優れた潤滑層が得られると推定される。

潤滑層と保護層との密着性をより一層向上させるために、保護層１７上に塗布した潤滑層形成用溶液に照射する紫外線照射エネルギー量は、含フッ素エーテル化合物中のエチレン性炭素－炭素二重結合を有する基を開裂させて、潤滑層と保護層１７とを結合させるための所定のエネルギー量とする。所定のエネルギー量は、潤滑層と保護層との密着性が十分に得られる範囲内であることが好ましい。所定のエネルギー量は、潤滑層形成用溶液の組成、形成する潤滑層の厚み、必要とされる保護層との密着性などに応じて適宜決定することが好ましい。具体的には、形成する潤滑層と保護層との密着性と、種々の紫外線照射エネルギー量との関係を、以下の方法によりあらかじめ確認し、上記の所定のエネルギー量を求めることが好ましい。例えば、結合率が６５％以上となる紫外線照射エネルギー量を、所定のエネルギー量とすることができる。所定のエネルギー量を規定する際に用いる結合率は、６５％以上に限定されるものではなく、磁気記録媒体の用途などに応じて適宜設定できる。

（所定のエネルギー量の規定方法）
（１）溶媒への浸漬時間の設定
磁気記録媒体に潤滑層を形成し、同じ大きさのエネルギーで紫外線を照射した基板を複数作製する。紫外線照射済みの複数の基板を、それぞれ種々の時間溶媒に浸漬させ、以下に示す結合率が略一定となる浸漬時間範囲を調べる。そして、得られた浸漬時間範囲内に、以下の（２）の実験の浸漬時間を設定する。当浸漬時間は、前記の範囲内であれば限定されないが、なるべく短い方が実施の効率がよいため最短の時間の２倍程度とするのがよい。なお、長時間溶媒に浸漬させても結合率が一定とならない場合、基板に照射する紫外線のエネルギーを増やして再度同様の実験を行う。

「結合率」
結合率＝（Ｂ／Ａ）×１００（％）
上記の式において、Ａは紫外線照射前の潤滑層の膜厚、Ｂは溶媒に浸漬させた後の潤滑層の膜厚である。

（２）所定のエネルギー量の規定
磁気記録媒体に潤滑層を形成し、種々のエネルギーで紫外線を照射した基板を作製する。紫外線照射済みの基板を（１）で設定した浸漬時間溶媒に浸漬させ、結合率が６５％以上となる紫外線照射エネルギーを、所定のエネルギー量（Ｊ／枚）とする。

本実施形態の磁気記録媒体１０は、基板１１上に、少なくとも磁性層１６と、保護層１７と、潤滑層１８とが順次設けられたものである。本実施形態の磁気記録媒体１０では、保護層１７上に、本実施形態の潤滑剤を含む潤滑層形成用溶液を塗布した後、紫外線を照射することにより形成された潤滑層１８が形成されている。この潤滑層１８は、保護層１７との密着性に優れ、磁気ヘッドと保護層１８との摩擦力を低減させることができる。このため、耐久性に優れた磁気記録媒体１０となる。

以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例のみに限定されない。
「合成例１」
以下に示す方法により、一般式（３）で示される含フッ化エーテル化合物を合成した。
窒素ガス雰囲気下で５０ｍＬのナスフラスコに、下記一般式（１１）で示されるフルオロポリエーテル（Ｓｏｌｖａｙ Ｓｏｌｅｘｉｓ社製Ｆｏｍｂｌｉｎ（登録商標）ＺＤＯＬ２０００Ｓ、数平均分子量２０００、分子量分布１．１）７ｇ（３．５ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒としてジクロロメタン１４ｍＬと１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン（ソルベックス社製ソルブ５５）２１ｍＬとを投入し、均一になるまで撹拌した。

（式（１１）中、ｍは１～３０を表し、ｎは０～３０を表す。繰り返し単位である（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２Ｏ）との配列順序に特に制限はない。）

そこに、トリエチルアミン（東京化成工業社製）３５０ｍｇ（３．５ｍｍｏｌ）とメチルメタクリロイルクロリド（東京化成工業社製）４６０ｍｇ（４．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で６時間撹拌し、反応させた。その後、反応生成物を純水で分液洗浄し、溶媒を留去した。

続いて、以下に示す方法により、反応生成物に含まれる不純物を除去した。反応生成物の入れられたナスフラスコに、ｎ－ヘキサンを１０ｍＬ加え、反応生成物を撹拌洗浄して静置し、ｎ－ヘキサン相をデカンテーションにより取り除く操作を、３回繰り返し行って反応生成物中の反応残渣を取り除いた。その後、減圧下でｎ－ヘキサンを留去し、一般式（３）で示される化合物ａを約７ｇ得た。

得られた化合物ａの^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果より構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．８７（３Ｈ）,３．８０～４．００（２Ｈ）,４．４２～４．６０（２Ｈ）,４．７８～５．０１（１Ｈ）,５．６０～５．７０（１Ｈ）,５．９５～６．０３（１Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－９１．０２～－８８．４８（４２Ｆ）,－８３．３８～－８１．３０（２Ｆ）,－８０．６３～－７８．６５（２Ｆ）,－５５．６７～－５１．３５（２０Ｆ）

「合成例２」
以下に示す方法により、一般式（４）に示される含フッ化エーテル化合物を合成した。
窒素ガス雰囲気下で５０ｍＬのナスフラスコに、合成例１と同じフルオロポリエーテルと合成例１と同じ溶媒を合成例１と同量投入し、均一になるまで撹拌した。
そこに、ジラウリン酸ジブチル錫を０．０２ｇ加え、ウレタン化剤として２－アクリロイルオキシエチルイソシアナート（昭和電工社製 カレンズＡＯＩ（登録商標））５３０ｍｇ（３．７６ｍｍｏｌ）を室温にて滴下し、ＦＴ－ＩＲ分析（フーリエ変換赤外分光分析）法によりイソシアネート基由来ピーク（２３００ｃｍ^－１）の消失を確認した。その後、減圧下で溶媒を留去した。
続いて、合成例１と同様にして不純物を除去し、一般式（４）で示される化合物ｂを約７ｇ得た。

得られた化合物ｂの^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果より構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０～３．５５（２Ｈ）,３．８０～４．００（２Ｈ），４．１４～４．３０（２Ｈ）,４．４２～４．６０（２Ｈ）,４．８０～５．００（１Ｈ），５．８０～５．９２（１Ｈ）,６．００～６．１８（１Ｈ）,６．２８～６．４２（１Ｈ），６．５５～６．７３（１Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－９１．００～－８８．４９（４２Ｆ），－８３．３９～－８１．３２（２Ｆ），－８０．６２～－７８．６２（２Ｆ），－５５．６５～－５１．３７（２０Ｆ）

「合成例３」
以下に示す方法により、一般式（５）に示される含フッ化エーテル化合物を合成した。
ウレタン化剤として、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（昭和電工社製
カレンズＭＯＩ（登録商標））５８６ｍｇを用いたこと以外は、合成例２と同様にして一般式（５）で示される化合物ｃを約７ｇ得た。

得られた化合物ｃの^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果より構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．８５（３Ｈ）,３．４６～３．５５（２Ｈ）,３．７８～４．００（２Ｈ）,４．１５～４．５２（４Ｈ）,４．８０～５．０３（１Ｈ）,５．６０～５．７０（１Ｈ）,５．９５～６．０３（１Ｈ）,６．６０～６．７８（１Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－９１．００～－８８．５０（４２Ｆ），－８３．４０～－８１．３０（２Ｆ），－８０．６０～－７８．６０（２Ｆ），－５５．６５～－５１．３５（２０Ｆ）

「合成例４」
以下に示す方法により、一般式（６）に示される含フッ化エーテル化合物を合成した。
ウレタン化剤として、２－メタクリロイルオキシエチルオキシエチルイソシアネート（昭和電工製 カレンズＭＯＩ－ＥＧ（登録商標））５４０ｍｇを用いたこと以外は、合成例２と同様にして一般式（６）で示される化合物ｄを約７ｇ得た。

得られた化合物ｄの^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果より構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．８３（３Ｈ），３．４６～３．５５（２Ｈ），３．５５～４．４０（８Ｈ）,４．４２～４．５２（２Ｈ）,４．８０～５．００（１Ｈ）,５．６０～５．７０（１Ｈ）,５．９５～６．０５（１Ｈ）,６．６０～６．７５（１Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－９１．００～－８８．５０（４２Ｆ），－８３．４０～－８１．３０（２Ｆ），－８０．６０～－７８．６０（２Ｆ），－５５．６５～－５１．３５（２０Ｆ）

「合成例５」
以下に示す方法により、一般式（７）に示される含フッ化エーテル化合物を合成した。
ウレタン化剤の使用量を１．０６ｇに変えたこと以外は、合成例２と同様にして一般式（７）で示される化合物ｅを約７ｇ得た。

得られた化合物ｅの^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果より構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０～３．５５（４Ｈ），４．１４～４．３０（４Ｈ），４．４２～４．６０（４Ｈ）,５．８０～５．９２（２Ｈ）,６．００～６．１８（２Ｈ）,６．２８～６．４２（２Ｈ）,６．５５～６．７３（２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－９１．００～－８８．４９（４２Ｆ），－８０．６２～－７８．６２（４Ｆ），－５５．６５～－５１．３７（２０Ｆ）

「比較合成例１」
合成例１～合成例５の化合物ａ～化合物ｅの合成に使用した一般式（１１）で示されるフルオロポリエーテルを化合物ｆとした。

「比較合成例２」
以下に示す方法により、下記一般式（１２）に示される含フッ化エーテル化合物（化合物ｇ）を合成した。
ウレタン化剤として、イソシアン酸エチル（東京化成工業社製）３００ｍｇを用いたこと以外は、合成例２と同様にして一般式（１２）で示される化合物ｇを約７ｇ得た。

（式（１２）中、ｍおよびｎは一般式（１１）と同じである。）

得られた化合物ｇの^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果より構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．３２（３Ｈ）,３．６０（２Ｈ）,３．７８～４．００（２Ｈ）,４．４７～４．５７（２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－９１．００～－８８．５０（４２Ｆ），－８３．４０～－８１．３０（２Ｆ），－８０．６０～－７８．６０（２Ｆ），－５５．６５～－５１．３５（２０Ｆ）

「実施例１～５、比較例１、２」
「磁気記録媒体の製造」
以下に示す方法により、合成例１～５、比較合成例１、２の化合物ａ～ｇを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を調製し、これを用いて磁気記録媒体の保護層上に潤滑層を形成し、実施例１～５、比較例１、２の磁気記録媒体を得た。

まず、直径６５ｍｍの基板上に、付着層と軟磁性層と第１下地層と第２下地層と磁性層と保護層とを順次設けた磁気記録媒体を用意した。保護層は、最表面が窒素を含む炭素からなるものとした。
また、化合物ａ～ｇをそれぞれフッ素系溶媒であるバートレル（登録商標）ＸＦ（商品名、三井デュポンフロロケミカル社製）に溶解し、保護層上に塗布した時の膜厚が１０Å～１５ÅになるようにバートレルＸＦで希釈し、潤滑層形成用溶液とした。

次いで、保護層までの各層の形成された磁気記録媒体の保護層上に、ディップ法により、潤滑層形成用溶液を塗布した。なお、ディップ法は、浸漬速度１０ｍｍ／ｓｅｃ、浸漬時間３０ｓｅｃ、引き上げ速度１．２ｍｍ／ｓｅｃの条件で行った。
その後、潤滑層形成用溶液を塗布した磁気記録媒体を、１２０℃の恒温槽に入れ、１０分間加熱して潤滑層形成用溶液中の溶媒を除去し、保護層上に潤滑層を形成した。

このようにして形成した潤滑層の膜厚を、ＦＴ－ＩＲ（商品名：Ｎｉｃｏｌｅｔ ｉＳ５０、Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）を用いて測定した。その結果を表１に示す。

次に、磁気記録媒体に形成された潤滑層に紫外線を照射した。紫外線の照射は、低圧水銀ランプＳＵＶ－１１０Ｓ（セン特殊光源社製）を用いて行った。実施例１では、磁気記録媒体１枚あたりの紫外線照射エネルギー量が、上述した（所定のエネルギー量の規定方法）により求めた所定のエネルギー量（１０Ｊ）となるように、紫外線を照射した。実施例２～５、比較例１、２においては、磁気記録媒体１枚あたりの紫外線照射エネルギーが、実施例１の所定のエネルギー量（１０Ｊ）となるように紫外線を照射した。
以上の工程により、保護層上に紫外線を照射した潤滑層が形成された実施例１～５、比較例１、２の磁気記録媒体を得た。

次に、実施例１～５、比較例１、２の磁気記録媒体について、以下に示す方法により、紫外線を照射した潤滑層と保護層との密着性を評価した。

（紫外線を照射した潤滑層と保護層との密着性試験）
紫外線を照射した潤滑層の形成された磁気記録媒体を、以下に示す方法により洗浄し、洗浄後の潤滑層の膜厚を、紫外線照射前に行った潤滑層の膜厚の測定と同じ方法で測定した。

磁気記録媒体の洗浄は、潤滑層の形成された磁気記録媒体を、潤滑剤を含まない溶媒に１０分間浸漬後、引き上げる方法により行った。なお、浸漬速度は１０ｍｍ／ｓｅｃ、引き上げ速度は１．２ｍｍ／ｓｅｃの条件で行った。
磁気記録媒体の洗浄は、紫外線の照射された潤滑層を有する磁気記録媒体を複数作製し、溶媒として、バートレルを用いた洗浄と、エタノールを用いた洗浄の２種類の洗浄を行った。

その後、紫外線照射前の潤滑層の膜厚をＡ、洗浄後（溶媒浸漬後）の潤滑層の膜厚をＢとし、ＡとＢとの比（（Ｂ／Ａ）×１００（％））から潤滑剤の結合率を算出し、以下の基準により評価した。その結果を表１に示す。
表１において「ＶＢＲ（Ｖｅｒｔｒｅｌ Ｂｏｎｄｅｄ Ｒａｔｉｏ）」はバートレルを用いて洗浄した場合の評価結果であり、「ＥＢＲ（Ｅｔｈａｎｏｌ Ｂｏｎｄｅｄ Ｒａｔｉｏ）」はエタノールを用いて洗浄した場合の評価結果である。

（基準）
◎；結合率が６５％以上。
○；結合率が３０％以上６５％未満。
×；結合率が３０％未満。

表１に示すように、合成例１～５の化合物ａ～ｅを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いて形成した実施例１～５の潤滑層の評価は、バートレルを用いて洗浄した場合◎であり、エタノールを用いて洗浄した場合○であり、保護層との密着性に優れていることが分かった。
これに対し、比較合成例１の化合物ｆを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いて形成した比較例１の潤滑層の評価は、バートレルを用いて洗浄した場合○であったが、エタノールを用いて洗浄した場合×であり、保護層との密着性が不十分であった。また、比較合成例２の化合物ｇを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いて形成した比較例２の潤滑層の評価は、バートレルを用いて洗浄した場合もエタノールを用いて洗浄した場合も×であり、保護層との密着性が不十分であった。

次に、実施例１および実施例２の磁気記録媒体について、以下に示す方法により、紫外線を照射していない潤滑層と保護層との密着性を評価した。

（紫外線を照射していない潤滑層と保護層との密着性試験）
紫外線を照射する前の潤滑層の形成された磁気記録媒体を、上記の紫外線を照射した潤滑層と保護層との密着性試験と同様にして洗浄した。その後、洗浄後の潤滑層の膜厚を、紫外線照射前に行った潤滑層の膜厚の測定と同じ方法で測定し、潤滑剤の結合率を算出して、以下の基準により評価した。その結果を表２に示す。
表２において「ＶＢＲ」はバートレルを用いて洗浄した場合の評価結果であり、「ＥＢＲ」はエタノールを用いて洗浄した場合の評価結果である。

（基準）
◎；結合率が６５％以上。
○；結合率が３０％以上６５％未満。
×；結合率が３０％未満。

表１および表２に示すように、合成例１の化合物ａを潤滑剤として含む実施例１の潤滑層形成用溶液、および合成例２の化合物ｂを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いて形成した実施例２の潤滑層では、紫外線の照射により潤滑層と保護層との密着性が向上することが分かった。

「実施例６～実施例１５、比較例３～比較例６」
以下に示す方法により、合成例１～５、比較合成例１、２の化合物ａ～ｇと、以下に示す第２化合物とを含み、潤滑剤中の第２化合物の含有量が３０質量％である潤滑剤を含む潤滑層形成用溶液を用いたこと以外は、上記の実施例１の磁気記録媒体と同様にして、保護層上に紫外線を照射した潤滑層が形成された実施例６～実施例１５、比較例３～比較例６の磁気記録媒体を得た。

第２化合物としては、一般式（９）で示される化合物ｈ（ＭＯＲＥＳＣＯ社製ＭＯＲＥＳＣＯ ＰＨＯＳＦＡＲＯＬ Ａ２０Ｈ）または一般式（１０）で示される化合物ｉ（ＭＯＲＥＳＣＯ社製ＭＯＲＥＳＣＯ ＰＨＯＳＦＡＲＯＬ ＡＤＯＨ）を用いた。

「実施例１６」
化合物ｂを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いたこと以外は、上記の実施例１の磁気記録媒体と同様にして、保護層上に紫外線を照射した潤滑層が形成された実施例１６の磁気記録媒体を得た。

「比較例７」
化合物ｆを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いたこと以外は、上記の実施例１の磁気記録媒体と同様にして、保護層上に紫外線を照射した潤滑層が形成された比較例７の磁気記録媒体を得た。

このようにして得られた実施例６～実施例１６、比較例３～比較例７の磁気記録媒体を用いて、下記に示す方法により、ピックアップ抑制効果と耐摩耗性とを調べた。その結果を表４に示す。
また、実施例６～実施例１６、比較例３～比較例７の磁気記録媒体を製造する際に、実施例１と同様の方法を用いて、紫外線照射前の潤滑層の膜厚を測定した。その結果を表４に示す。

（ピックアップ抑制試験）
スピンスタンドに磁気記録媒体および磁気ヘッドを装着し、常温減圧下（約２５０ｔｏｒｒ）で１０分間磁気ヘッドを定点浮上させた。その後、磁気ヘッドの磁気記録媒体と相対する面を、ＥＳＣＡ（Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）分析装置を用いて分析し、フッ素由来のピークの強度（信号強度）から磁気ヘッドへの潤滑剤の付着量を表３に示す基準により評価した。その結果を表４に示す。

（耐摩耗性試験）
ピンオンディスク型摩擦摩耗試験機を用い、接触子として直径２ｍｍのアルミナの球を用い、荷重４０ｇｆ、摺動速度０．２５ｍ／ｓｅｃで摺動させて、潤滑層の表面の摩擦係数を測定し、摩擦係数が急激に増大するまでの時間を測定した。摩擦係数が急激に増大するまでの時間は、各実施例および比較例の潤滑層について４回ずつ測定し、その平均値（時間）を潤滑剤塗膜の耐摩耗性の指標とした。

なお、摩擦係数が急激に増大するまでの時間は、以下に示す理由により、潤滑層の耐摩耗性の指標として用いることができる。磁気記録媒体の潤滑層は、磁気記録媒体を使用することにより摩耗が進行し、潤滑層が無くなると、接触子と保護層とが直接接触して、摩擦係数が急激に増大するためである。

表４に示すように、化合物ａ～ｅを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いて形成した実施例６～１６の潤滑層は、化合物ｆ、ｇを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いて形成した比較例３～比較例７の潤滑層と比較して、摩擦係数が急激に増大するまでの時間が長く、耐摩耗性に優れていることが分かった。特に、パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方の末端に（メタ）アクリロイル基が配置され、他方の末端に水酸基が配置されたものであって、ウレタン結合を有する化合物ｂ～ｄと第２化合物とを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いて形成した実施例８～１３の潤滑層は、摩擦係数が急激に増大するまでの時間が長く、耐摩耗性に優れていることが分かった。

また、実施例６～１６の潤滑層は、磁気ヘッドへの潤滑剤の付着量が少なく、比較例３～比較例７の潤滑層と比較して、優れたピックアップ抑制効果を有することが分かった。
特に、ウレタン結合を有する化合物ｂ～ｅと第２化合物とを潤滑剤として含む潤滑層形成用溶液を用いて形成した実施例８～１５の潤滑層は、優れたピックアップ抑制効果を有することが分かった。
また、化合物ｂと第２化合物とを含む実施例８および実施例９では、化合物ｂを含み第２化合物を含まない実施例１６と比較して、耐摩耗性に優れているとともに優れたピックアップ抑制効果を有することが分かった。

１０・・・磁気記録媒体、１１・・・基板、１２・・・付着層、１３・・・軟磁性層、
１４・・・第１下地層、１５・・・第２下地層、１６・・・磁性層、１７・・・保護層、
１８・・・潤滑層。

Claims (12)

1. パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に、エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置されている含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。
2. 前記パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方の末端に前記エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が配置され、他方の末端に水酸基が配置されている請求項１に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
3. 前記エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が（メタ）アクリロイル基である請求項１または２に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
4. 前記エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基が（メタ）アクリロイルオキシ基である請求項１または２に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
5. 下記式（３）で表される請求項１～４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
   

   

   
   
   （式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）
6. 下記式（４）で表される請求項１～４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
   

   

   
   
   （式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）
7. 下記式（５）で表される請求項１～４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
   

   

   
   
   （式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）
8. 下記式（６）で表される請求項１～４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
   

   

   
   
   （式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）
9. 下記式（７）で表される請求項１～４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
   

   

   
   
   （式中、ｘおよびｙはそれぞれ１～３０の整数を表す。）
10. 第２パーフルオロアルキルポリエーテル鎖の一方または両方の末端に、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基から選ばれる一種以上の官能基を１つまたは複数有する第２化合物をさらに含む請求項１～９のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
11. 前記含フッ素エーテル化合物は、前記パーフルオロアルキルポリエーテル鎖と、前記エチレン性炭素－炭素二重結合を有する基とが、ウレタン結合を介して結合している請求項１～１０のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用潤滑剤。
12. 保護層上に潤滑層を形成する潤滑層形成工程を有し、
    前記潤滑層形成工程が、請求項１～１１のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用潤滑剤を含む潤滑層形成用溶液を前記保護層上に塗布した後、紫外線を照射する工程を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

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