JP7033148B2 - 積層ガラス用の太陽光線制御コーティング - Google Patents

Description

本発明は、積層ガラス用の太陽光線制御コーティング、及び太陽光線制御コーティングを取り入れる積層ガラスに関する。

太陽光線制御コーティングは、選択された範囲の電磁放射線を阻止又はフィルタリングする。通常、阻止される放射線は、電磁放射線スペクトルの赤外領域及び／又は紫外領域内にある。太陽光線制御コーティングは、建物又は乗り物に入る選択された範囲の太陽光エネルギーの量を低減するために、建築用窓又は乗り物の窓などのガラスに使用される。このコーティングは、建物又は乗り物の内部に蓄積する熱を低減する。

多くの建築用ガラスは、断熱ガラス・ユニット（ＩＧＵ：insulating glass unit）の形をしている。これらの断熱ガラス・ユニットは、スペーサに嵌め込まれエアギャップで分離された２枚以上のガラス板を有する。ギャップのそれぞれにアルゴンなどのガスが充填される。多くの乗り物のガラスは積層ガラスである。積層ガラスは、ポリマー材料で連結された２枚以上のガラス板を有する。建物には、ＩＧＵではなく積層ガラスを使用することが好ましい場合がある。たとえば、積層ガラスは従来のＩＧＵよりもさらに耐衝撃性にすることができる。加えて、ＩＧＵの一部として積層ガラスを使用することが望ましい場合もある。

したがって、建築用積層ガラスとして使用される場合には、太陽光線制御の向上及び／又は美的性能をもたらす太陽光線制御コーティングを提供することが望ましいはずである。たとえば、建物内部の熱蓄積を防止するには、太陽熱利得係数（ＳＨＧＣ：solar heat gain coefficient）が低い積層建築用ガラスに太陽光線制御コーティングを施すことが望ましい。たとえば、可視光線透過率が高い積層建築用ガラスに太陽光線制御コーティングを施すことが望ましい。これにより建物内部の自然照明が改善される。たとえば、ガラスを建築用ガラス又は乗り物のガラスのどちらにも使用できるように、積層ガラスに太陽光線制御コーティングを施すことが望ましい。

加えて、太陽光線制御コーティングをＩＧＵ又は積層ガラスに施す現在の商業的方法では、太陽光線制御コーティングの各層の厚さに製造公差によるいくらかの固有のばらつきが導入され、この固有のばらつきが製品の色、透過率、又は他の光学的特性に影響を及ぼし得ることが分かっている。製品の光学的特性に対するこの固有のばらつきの影響はコーティングの設計によって異なり、層厚のばらつきがあまりに大きいと、製造工程が商業的に存続できなくなる可能性がある。

積層ガラスにポリマー中間層が存在することが、最終ガラス製品の光学的特性に対するこの固有のばらつきの影響を増大させ得ることも分かっている。さらに、最終製品の均一性は一般に、乗り物用途よりも建築用途における方が、同じ製品の複数のパネルが互いに横に並べて配置されることが多いので、より重要である。そのため、ＩＧＵ又は乗り物の積層ガラスに受け入れられ得る特定のコーティング構成物は、建築用途に使用される積層ガラスには受け入れられないことがある。したがって、光学的特性のばらつきの許容可能なレベルが建築用途に使用する積層ガラスでも得られるように、完成品の光学的特性のばらつきに及ぼす製造ばらつきの影響を最小限にする太陽光線制御コーティング構成物を提供することが望ましいはずである。

上で言及した当技術分野における不完全性の一部又は全部に対処するために、本開示は積層ガラスを提示する。積層ガラスは、ポリマー中間層によって第２の層に連結された第１の層を備える。第１の層は第１の主面及び第２の主面を有し、第２の層は第３の主面及び第４の主面を有する。太陽光線制御コーティングが主面のうちの少なくとも１つに配置される。太陽光線制御コーティングは、第１の位相調整層と、第１の位相調整層の上にある第１の金属層と、第１の金属層の上にある第１のプライマー層と、第１のプライマー層の上にある第２の位相調整層と、第２の位相調整層の上にある第２の金属層と、第２の金属層の上にある第２のプライマー層と、第２のプライマー層の上にある第３の位相調整層と、第３の位相調整層の上にある第３の金属層と、第３の金属層の上にある第３のプライマー層と、第３のプライマー層の上にある第４の位相調整層と、第４の位相調整層の上にある保護層とを含む。第１の位相調整層は、４４ｎｍ～９０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは５１ｎｍ～８１ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは５３ｎｍ～７４ｎｍの範囲の光学的厚さを有する。第２の位相調整層は、９７ｎｍ～１７６ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは９９ｎｍ～１５６ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１１８ｎｍ～１３６ｎｍの範囲の光学的厚さを有する。第３の位相調整層は、１１２ｎｍ～１６９ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは１２６ｎｍ～１６０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１４７ｎｍ～１５６ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、及び／又は、第４の位相調整層は、４７ｎｍ～８２ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは５８ｎｍ～７５ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは６０ｎｍ～７３ｎｍの範囲の光学的厚さを有する。

本発明について添付の図を参照して説明する。図で同じ参照番号は、全体を通して同じ部分を特定する。

本発明の太陽光線制御コーティングを有するコーティング品の側面図（原寸に比例しない）である。 本発明の例示的な太陽光線制御コーティングの多層構造を示す、図１のコーティング品の側面図（原寸に比例しない）である。 積層ガラスに取り入れられた、図１又は図２の太陽光線制御コーティングの側面図（原寸に比例しない）である。

空間又は方向の用語の「左側」、「右側」、「内側」、「外側」、「上」、「下」などは、本発明が図に示されている通りに本発明と合致する。しかし、本発明では様々な代替の向きを仮定することができ、したがって、このような用語は、限定するものとみなされるべきではない。

本明細書及び特許請求の範囲で使用される全ての数値は、全ての場合において用語「約」で修飾されていると理解されたい。「約」とは、提示された値のプラス又はマイナス１０パーセントの範囲を意味する。

本明細書で開示される全ての範囲が、開始及び終止範囲値と、その中に含まれるいずれか又は全てのサブ範囲とを包含する。本明細書で開示される範囲は、指定された範囲の平均値を表す。

本明細書で説明されるコーティング層又はフィルムに関して、用語の「～の上に」とは、議論しているコーティング層又はフィルムがある基板（又はベース層）からさらに遠くに、を意味する。たとえば、第１の層の「上にある」第２の層とは、第２の層が第１の層よりも基板（又はベース層）からさらに遠くにあることを意味する。第２の層は、第１の層と直接接触することができる。或いは、１つ又は複数の別の層を第１と第２の層の間に配置することができる。

用語の「膜」とは、化学的に別個及び／又は同種の構成物を有する領域を意味する。「層」は１つ又は複数の「膜」を含む。「コーティング」は１つ又は複数の「層」を含む。

用語の「ポリマー」又は「ポリマーの」は、たとえば、２つ以上の種類のモノマー又はポリマーから形成されたポリマーである、オリゴマー、ホモポリマー、コポリマー、及びターポリマーを含む。

用語の「紫外放射線」とは、１００ｎｍ～３８０ｎｍ未満の範囲の波長を有する電磁放射線を意味する。用語の「可視放射線」又は「可視光」とは、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を意味する。用語の「赤外放射線」とは、７８０ｎｍ超～１０００００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を意味する。用語の「太陽光赤外放射線」とは、１０００ｎｍ～３０００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を意味する。用語の「熱赤外放射線」とは、３０００ｎｍ超～１０００００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を意味する。

本明細書で参照される全ての文献は、その全体が「参照することにより組み込まれる」。

用語の「光学的厚さ」とは、５５０ｎｍの基準波長における材料の屈折率を乗じた材料の幾何学的厚さを意味する。たとえば、５ｎｍの幾何学的厚さと、５５０ｎｍの基準波長で２の屈折率とを有する材料は、１０ｎｍの光学的厚さを有することになる。

用語の「焼き入れされた」又は「熱処理された」とは、議論している物品又はコーティングが、熱焼き戻し、熱曲げ、及び／又は熱強化を達成するのに十分な温度まで加熱されたことを意味する。この定義は、たとえば、物品をオーブン又は炉の中で、最低で６００℃など、最低で６２０℃などの最低で５８０℃の温度で、熱焼き戻し、熱曲げ、及び／又は熱強化を達成するための期間、加熱することを含む。たとえば、加熱は、１～５分などの１～１５分の範囲の期間とすることができる。

用語の「非熱処理の」とは、最終使用のために焼き入れ若しくは熱処理されていない、又は焼き入れ若しくは熱処理されるように設計されていないことを意味する。

用語の「金属」及び「金属酸化物」とは、それぞれケイ素及びシリカ、並びに伝統的に認められている金属及び金属酸化物を含むが、ケイ素は従来、金属とみなされないことがある。

「少なくとも」とは、「～以上」を意味する。「～より大きくない」とは、「～以下」を意味する。

量についてのいかなる言及も、特にことわらない限り、「重量パーセントで」（重量％）である。

厚さの値は、反する表示がない限り、幾何学的厚さの値である。

「ドーパント」は、５重量％未満など、４重量％未満など、２重量％未満などの、１０重量％未満の量で存在する材料である。たとえば、１重量％未満である。たとえば、０．５重量％未満である。たとえば、０．１重量％未満である。

用語の「含む」は「備える」と同義である。

用語の「硬化性」は、重合又は架橋結合することができる材料を意味する。「硬化した」とは、材料が少なくとも部分的に重合又は架橋結合しており、好ましくは完全に重合又は架橋結合していることを意味する。

「参照積層ユニット」が、０．７６ｍｍのポリビニル・ブチラールの中間層によって連結され第２面にコーティングがある２層の２ｍｍの透明ガラスを有すると定義される。参照積層ユニット値は、コーティングが参照積層ユニットに第２面で取り入れられたときの報告値を表す。

用語の「太陽光線制御コーティング」とは、コーティングで反射される、吸収される、又はコーティングを透過する太陽放射線の量などの、コーティングされた物品の太陽光線特性に影響を及ぼす１つ又は複数の層又は膜から成るコーティングを指す。

光学的な太陽光線制御の性能値（たとえば、可視光透過率及び／又は曇り）は、反する表示がない限り、Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ１０５０分光光度計を使用して決定されたものである。参照積層ユニット値は、反する表示がない限り、Ｌａｗｒｅｎｃｅ Ｂｅｒｋｅｌｅｙ Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙから入手できるＯＰＴＩＣＳ（ｖ６．０）ソフトウェア及びＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）（ｖ７．３．４．０）ソフトウェアによって決定され、ガラスの中心（ＣＯＧ：center of glazing）で測定され、ＮＦＲＣ２０１０（ＮＦＲＣ１００－２０１０を含む）標準デフォルト設定によって計算されている。

シート抵抗値は、反する表示がない限り、４点プローブ（たとえば、Ｎａｇｙ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ ＳＤ－６００測定デバイス、又はＡｌｅｓｓｉ４点プローブ）を使用して決定されたものである。表面粗さの値は、Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ ３１００原子間力顕微鏡を使用して決定されたものである。

色値（たとえば、Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊、Ｃ^＊、及び色相^０）は、国際照明委員会によって指定された１９７６ ＣＩＥＬＡＢ表色系に従っている。

本明細書及び特許請求の範囲のＬ^＊、ａ^＊、及びｂ^＊は、色中心点値を表す。

本発明についての議論では、いくつかの特徴を特定の制限内で「特に」又は「好ましくは」のように説明することがある（たとえば、特定の制限内で「好ましくは」、「より好ましくは」、又は「さらに好ましくは」）。本発明は、これらの特定の、又は好ましい制限に限定されずに本開示の全範囲を包含することを理解されたい。

本発明は、任意の組み合わせの以下の本発明の態様を含み、これらから成り、又は本質的にこれらから成る。本発明のそれぞれ異なる態様が別々の図に示されている。しかし、このことはただ単に、図示及び議論を容易にするためであることを理解されたい。本発明の実施においては、１つの図に示された本発明の１つ又は複数の態様を、１つ又は複数の他の図に示された本発明の１つ又は複数の態様と組み合わせることができる。

本発明は、建築用ガラスに関して議論される。「建築用ガラス」とは、建物の表面又は中にあるあらゆるガラスを意味する。建築用ガラスの実例には、窓、天窓、及び間仕切りパネルが含まれる。しかし、本発明は、建築用ガラスに使用することに限定されずに、任意の所望の分野のガラスにも実施できることを理解されたい。実例には、積層又は非積層の住宅用及び／又は商業用の窓、並びに／或いは陸上、空中、宇宙、水上及び／又は水中の乗り物用のガラスが含まれる。したがって、特に開示された実例は、本発明の一般的な概念を単に説明するために提示されていること、及び本発明はこれらの特定の実例に限定されないことを理解されたい。加えて、典型的な「ガラス」は、ガラスを通して物が見えるように十分な可視光透過率を有し得るが、本発明の実施においては、「ガラス」は可視光に対して透明である必要がなく、半透明又は不透明でもよい。

本発明の特徴を取り入れているコーティングされた物品１０が、図１及び図２に示されている。コーティングされた物品１０は、少なくとも１つの主面を有する基板１１を含む。本発明の太陽光線制御コーティング３０は、主面の１つの少なくとも一部分の上にある。

図１に示されるように、太陽光線制御コーティング３０は、第１の位相調整層４０を含む。第１の金属層４６が第１の位相調整層４０の上にある。第１のプライマー層４８が第１の金属層４６の上にある。第２の位相調整層５０が第１のプライマー層４８の上にある。第２の金属層５８が第２の位相調整層５０の上にある。第２のプライマー層６０が第２の金属層５８の上にある。第３の位相調整層６２が第２のプライマー層６０の上にある。第３の金属層７０が第３の位相調整層６２の上にある。第３のプライマー層７２が第３の金属層７０の上にある。第４の位相調整層８６が第３のプライマー層７２の上にある。保護層９２が第４の位相調整層８６の上にある。

基板１１は、可視放射線に対して透明又は半透明にすることができる。「透明」とは、０％超から１００％までの可視放射線透過率を意味する。或いは、基板１１は半透明とすることができる。「半透明」とは、見る人の反対側の物体が明確に見えないように可視放射線を散乱させることを意味する。或いは、基板１１は不透明にすることができる。「不透明」とは、０％の可視光透過率を意味する。基板１１は、透明であることも、着色される、又は色合いがつけられることもある。

基板１１の適切な材料の実例には、プラスチック基板（ポリアクリレートなどのアクリル系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレートなどのポリアルキルメタクリレート；ポリウレタン；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：polyethyleneterephthalate）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリアルキルテレフタレート；ポリシロキサン含有ポリマー；若しくはこれらを調製するための任意のモノマーのコポリマー、又はこれらの任意の混合物など）、セラミック基板、ガラス基板、又は上記の任意の混合物若しくは組み合わせが含まれる。たとえば、基板１１は、従来のソーダ石灰シリカガラス、ホウケイ酸ガラス、又は鉛入りガラスを含み得る。ガラスは透明ガラスとすることができる。「透明ガラス」とは、色合いのない、又は無着色のガラスを意味する。或いは、ガラスは、ティント・ガラス又は別に着色ガラスとすることができる。ガラスは非加熱処理又は加熱処理のガラスとすることができる。ガラスは、従来のフロート・ガラスなどの任意の種類とすることができ、任意の光学的特性、たとえば、可視放射線透過率、紫外放射線透過率、赤外放射線透過率、及び／又は全太陽光エネルギー透過率のいずれかの値、を有する任意の組成のものとすることができる。「フロート・ガラス」とは、溶融ガラスが溶融金属槽の上に堆積され、制御可能に冷却されてフロート・ガラス・リボンが生成する、従来のフロート処理によって形成されたガラスを意味する。

基板１１は、透明のフロート・ガラスとすること、又はティント・ガラス若しくは着色ガラスとすることができる。基板１１は、任意の所望の寸法、たとえば、長さ、幅、形状、又は厚さとすることができる。本発明を実施するのに使用できるガラスの実例には、透明ガラス、Ｓｔａｒｐｈｉｒｅ（登録商標）、Ｓｏｌａｒｇｒｅｅｎ（登録商標）、Ｓｏｌｅｘｔｒａ（登録商標）、ＧＬ－２０（登録商標）、ＧＬ－３５（商標）、Ｓｏｌａｒｂｒｏｎｚｅ（登録商標）、Ｓｏｌａｒｇｒａｙ（登録商標）ガラス、Ｐａｃｉｆｉｃａ（登録商標）ガラス、ＳｏｌａｒＢｌｕｅ（登録商標）ガラス、及びＯｐｔｉｂｌｕｅ（登録商標）ガラスが含まれ、すべてがＶｉｔｒｏ Ａｒｃｈｉｔｅｃｔｕｒａｌ Ｇｌａｓｓ ｏｆ Ｃｈｅｓｗｉｃｋ、Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａから市販されている。

位相調整層４０、５０、６２、８６は非金属材料を含む。たとえば、位相調整層４０、５０、６２、８６は、誘電体材料又は半導体材料を含むことができる。たとえば、位相調整層４０、５０、６２、８６は、酸化物、窒化物、オキシ窒化物、ホウ化物、炭化物、オキシ炭化物、ホウ炭化物、ホウ窒化物、炭窒化物、及び／又はこれらの混合物、組み合わせ、ブレンド、若しくは合金を含むことができる。位相調整層４０、５０、６２、８６の適切な材料の実例には、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、ニオビウム、亜鉛、ビスマス、鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、ホウ素、の酸化物、窒化物又はオキシ窒化物、及びこれらの混合物、組み合わせ、ブレンド又は合金が含まれる。これらは、少量の別の材料を有することができる。実例には、酸化ビスマス中のマンガン、酸化インジウム中のスズなどが含まれる。加えて、金属合金又は金属混合物の酸化物を使用することができる。実例には、亜鉛及びスズを含む酸化物（たとえば、スズ酸亜鉛）、インジウム－スズ合金の酸化物、シリコン窒化物、シリコン・アルミニウム窒化物、又はアルミニウム窒化物が含まれる。さらに、ドープされた金属酸化物、亜酸化物、窒化物、亜窒化物又はオキシ窒化物を使用することができる。実例には、アンチモン若しくはインジウムがドープされたスズ酸化物、又はニッケル若しくはホウ素がドープされたシリコン酸化物が含まれる。材料の具体的な実例には、亜鉛酸化物、スズ酸化物、シリコン酸化物、シリコン－アルミニウム窒化物、シリコン－ニッケル窒化物、シリコン－クロム窒化物、アンチモンドープ酸化スズ、スズ・ドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化チタン、及び／又はこれらの混合物、組み合わせ、ブレンド若しくは合金が含まれる。

位相調整層４０、５０、６２、８６のうちの１つ以上が、単一の材料及び／又は単一の膜を含むことができる。或いは位相調整層４０、５０、６２、８６のうちの１つ以上が、複数の材料及び／又は複数の膜を含むことができる。位相調整層４０、５０、６２、８６は、化学的に別個の材料若しくは相の一連の層状膜を含むことができ、且つ／又は１つ又は複数の化学的に別個の材料若しくは相の１つ又は複数の構成物を含むことができる。異なる位相調整層４０、５０、６２、８６は、同じ材料又は別々の材料を含むことができる。位相調整層４０、５０、６２、８６は、同じ厚さ又は別々の厚さを有することができる。

位相調整層４０、５０、６２、８６は、太陽光線制御コーティング３０の各層の様々な界面境界で部分的に反射される、及び／又は部分的に透過される、電磁放射線の強め合う光学干渉及び弱め合う光学干渉の調整を可能にする。位相調整層４０、５０、６２、８６の厚さ及び／又は構成物を変えることにより、太陽光線制御コーティング３０の全体の反射率、透過率、及び／又は吸収率を変化させることができ、これにより、太陽光線制御コーティング３０の太陽光線制御性能、熱赤外線絶縁性能、色、及び／又は美観を変えることができる。加えて、位相調整層４０、５０、６２、８６は、金属層４６、５８、７０のうちの１つ以上など、太陽光線制御コーティング３０の他の１つ又は複数の層を化学的及び／又は機械的に保護することができる。

高い可視光透過率が望まれる場合、位相調整層４０、５０、６２、８６は反射防止層として機能して、太陽光線制御コーティング３０の全体の可視光反射率を低減させる、且つ／又は可視光透過率を増加させるように金属層４６、５８、７０の反射防止をすることができる。約２の屈折率を有する材料が、多くの金属層の反射防止に特に有用である。

１つ又は複数の位相調整層を基板１１と最下金属層４６の間に配置することができる。１つ又は複数の位相調整層を最上金属層７０と周囲環境（たとえば、空気）との間に配置することができる。

図示の例示的なコーティング３０では、第１の位相調整層４０は、基板１１の主面の少なくとも一部分の上にある。たとえば、第１の位相調整層４０は、基板１１と直接接触することができる。第１の位相調整層４０は単一の層にすること、或いは上記の反射防止材料及び／又は誘電体材料からなる１つ又は複数の膜を含むことができる。第１の位相調整層４０は、可視光に対し透明にすることができる。第１の位相調整層４０は、電磁スペクトルの１つ又は複数の領域、たとえば可視光において、最小の吸収率を示すことも示さないこともある。

第１の位相調整層４０は、上述の位相調整材料のいずれでも含むことができる。たとえば、第１の位相調整層４０は、金属酸化物、ドープ金属酸化物、金属酸化物の混合物、又は金属合金酸化物を含むことができる。たとえば、第１の位相調整層４０は、亜鉛及びスズのドープ又は非ドープ酸化物を含むことができる。

第１の位相調整層４０は、４４ｎｍ～９０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、５１ｎｍ～８１ｎｍの範囲の光学的厚さ。たとえば、５３ｎｍ～７４ｎｍの範囲の光学的厚さ。

第１の位相調整層４０は、２２ｎｍ～４５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、２５ｎｍ～４１ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。たとえば、２６ｎｍ～３７ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。

図２に示されるように、第１の位相調整層４０は、第１の膜４２及び第２の膜４４を有する複数膜構造体を含むことができる。第２の膜４４は第１の膜４２の上に配置することができる。

第１の膜４２は、たとえば、金属合金の酸化物又は金属酸化物の混合物を含むことができる。たとえば、第１の膜４２は、亜鉛とスズの合金の酸化物とすることができる。「亜鉛とスズの合金」とは、真の合金及びまた混合物の両方を意味する。亜鉛とスズの合金の酸化物は、亜鉛とスズのカソードからのマグネトロン・スパッタリング真空堆積（ＭＳＶＤ：magnetron sputtering vacuum deposition）により得ることができる。カソードは亜鉛とスズを１０重量％～９０重量％亜鉛と９０重量％～１０重量％スズなど、５重量％～９５重量％亜鉛と９５重量％～５重量％スズの比率で含むことができる。しかし、亜鉛とスズの他の比もまた用いることができる。第１の膜４２の金属合金の例示的な酸化物はＺｎ_ＸＳｎ_１－ＸＯ_２－Ｘ（式１）と書くことができ、ここで「ｘ」は０超～１未満の範囲で変化する。たとえば、「ｘ」は０よりも大きくすることができ、０よりも大きく１よりも小さい分数又は小数とすることができる。式１の化学量論の形は「Ｚｎ_２ＳｎＯ_４」であり、一般にスズ酸亜鉛と呼ばれる。スズ酸亜鉛層は、５２重量％亜鉛及び４８重量％スズを有するカソードから酸素の存在下でスパッタ堆積することができる。たとえば、第１の膜４２はスズ酸亜鉛を含むことができる。

ドープ酸化亜鉛は、カソードのスパッタリング特性を改善するために別の材料を含む亜鉛カソードから堆積させることができる。たとえば、亜鉛カソードは、スパッタリングを改善するために少量のスズ（５重量％までなど、たとえば、２０重量％まで、１５重量％まで、１０重量％まで）を含むことができる。この場合、結果として得られる酸化亜鉛膜は、たとえば、２０重量％まで、１５重量％まで、１０重量％までの酸化スズ、たとえば、５重量％までの酸化スズ（酸素を除く）である、少ないパーセンテージの酸化スズを含むことになる。他の材料の実例には、アルミニウム、インジウム、及びこれらの組み合わせが含まれる。好ましくは、他の材料にはスズが含まれる。

第２の膜４４は、金属酸化物、ドープ金属酸化物、又は混合酸化物を含むことができる。第２の膜４４は、金属酸化物又はドープ金属酸化物を含むことができる。たとえば、第２の膜４４は、酸化亜鉛又はドープ酸化亜鉛を含むことができる。たとえば、第２の膜４４はドープ酸化亜鉛を含むことができる。

第１の膜４２は、３０ｎｍ～６０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、３６ｎｍ～５４ｎｍの範囲の光学的厚さ。たとえば、３７ｎｍ～５０ｎｍの範囲の光学的厚さ。

第１の膜４２は、１５ｎｍ～３０ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、１８ｎｍ～２７ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。たとえば、１８ｎｍ～２５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。

第２の膜４４は、１４ｎｍ～３０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、１４ｎｍ～２８ｎｍの範囲の光学的厚さ。たとえば、１６ｎｍ～２５ｎｍの範囲の光学的厚さ。

第２の膜４４は、７ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、７ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。たとえば、８ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。

金属層４６、５８、７０は、単一の膜とすることができる。たとえば、金属層４６、５８、７０は、連続金属膜を含むことができる。「連続」金属膜とは、均一膜などの、破断されていない、又は切断されていない膜を意味する。或いは、金属層４６、５８、７０のうちの１つ以上は、複数の膜層とすることができる。金属層４６、５８、７０は、好ましくは少なくとも１つの赤外線反射膜を含む。

赤外線反射膜の実例には、連続金属膜が含まれる。赤外線反射膜にとって有用な赤外線反射金属の実例には、貴金属又は準貴金属が含まれる。このような金属の実例には、銀、金、プラチナ、パラジウム、オスミウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、銅、水銀、レニウム、アルミニウム、及びこれらの組み合わせ、混合物、ブレンド、又は合金が含まれる。たとえば、金属の膜のうちの１つ以上が、連続金属銀膜を含むことができる。

第１の金属層４６は、上記の赤外線反射金属のうちのいずれかを含む単一の赤外線反射膜を備えることができる。たとえば、第１の金属層４６は、金属銀の連続膜を備えることができる。

第１の金属層４６は、８ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、８ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。たとえば、９ｎｍ～１１ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。

プライマー層４８、６０、７２は、下にある結合された金属層に直接接触して配置される。プライマー層４８、６０、７２は、コーティング処理、及び／又は熱焼き戻しなどの後続の処理の間、結合された金属層を保護する。プライマー材料は、金属のように堆積される。重なり合う位相調整層の堆積及び／又は熱焼き戻しなどの後続の処理の間、金属プライマーの一部又は全部が酸化する。酸化物又は窒化物材料が位相調整層に使用される場合、プライマー層４８、６０、７２はそれぞれ、オキソフィリック材料又はニトロフィリック材料を含むことができる。プライマー層４８、６０、７２は、すべて同じ材料である必要はない、プライマー層４８、６０、７２は、同じ厚さである必要はない。

プライマー層４８、６０、７２は、完全に酸化されたときに、２～３の範囲の屈折率を有する。

プライマー層４８、６０、７２に対して有用な材料の実例には、チタン、ニオビウム、タングステン、ニッケル、クロム、鉄、タンタル、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、インジウム、スズ、亜鉛、モリブデン、ハフニウム、ビスマス、バナジウム、マンガン、及びこれらの組み合わせ、混合物、ブレンド、又は合金が含まれる。

第１のプライマー層４８は、第１の金属層４６の上にある。第１のプライマー層４８は、単一の膜又は複数の膜層とすることができる。第１のプライマー層４８は、上述のプライマー材料のいずれでも含むことができる。たとえば、第１のプライマー層４８はチタンを含むことができる。たとえば、第１のプライマー層４８は、チタン金属として堆積することができる。堆積したチタンは、さらなる処理、たとえば加熱、又はさらなるコーティング層の追加などによって酸化してチタニアになる。

第１のプライマー層４８は、完全に酸化したとき、６ｎｍ～１４ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、７ｎｍ～１２ｎｍの範囲内。たとえば、８ｎｍ～１０ｎｍの範囲内。

第１のプライマー層４８は、２．５ｎｍ～５．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、３ｎｍ～４．５ｎｍの範囲内。たとえば、３．５ｎｍ～４ｎｍの範囲内。

第２の位相調整層５０は、第１のプライマー層４８の上にある。第２の位相調整層５０は、位相調整材料及び／又は位相調整層について上述した膜のうちの１つ以上を含むことができる。

第２の位相調整層５０は、９７ｎｍ～１７６ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、９９ｎｍ～１５６ｎｍの範囲の光学的厚さ。たとえば、１１８ｎｍ～１３６ｎｍの範囲の光学的厚さ。

第２の位相調整層５０は、３３ｎｍ～８８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、３３．５ｎｍ～７８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。たとえば、５９ｎｍ～６８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。

第２の位相調整層５０は、単一の膜又は複数膜構造体とすることができる。たとえば、第２の位相調整層５０は、第１の膜５２、第２の膜５４、及び第３の膜５６を含むことができる。

第１の膜５２と第３の膜５６は、同じ材料又は異なる材料を含むことができ、且つ／又は同じ厚さ又は異なる厚さとすることができる。第１の膜５２及び／又は第３の膜５６は、金属酸化物又はドープ金属酸化物を含むことができる。たとえば、第１の膜５２及び／又は第３の膜５６は、酸化亜鉛又はドープ酸化亜鉛を含むことができる。たとえば、第１の膜５２及び／又は第３の膜５６は、スズ・ドープ酸化亜鉛を含むことができる。たとえば、第１の膜５２及び／又は第３の膜５６は、ＺｎＯ９０／１０を含むことができる。

第２の膜５４は、金属合金の酸化物を含むことができる。たとえば、亜鉛及びスズを含む酸化物。たとえば、第２の膜５４はスズ酸亜鉛を含むことができる。

第１の膜５２（及び／又は第３の膜５６）は、１７ｎｍ～３３ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、１７ｎｍ～３０ｎｍの範囲の光学的厚さ。たとえば、２０ｎｍ～２５ｎｍの範囲の光学的厚さ。

第１の膜５２（及び／又は第３の膜５６）は、７ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、７ｎｍ～１２ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。たとえば、８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ。

第２の膜５４は、７０ｎｍ～１３０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜５４は、８０ｎｍ～１１２ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜５４は、８４ｎｍ～９８ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

第２の膜５４は、３５ｎｍ～６５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜５４は、４０ｎｍ～５６ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜５４は、４２ｎｍ～４９ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第２の金属層５８は、第２の位相調整層５０の上にある。第２の金属層５８は、赤外線反射膜を含む単一の膜とすることができる。或いは、第２の金属層５８は複数の膜層を含むことができる。

第２の金属層５８は、上述の赤外線反射材料のうちのいずれかを含む。たとえば、第２の金属層５８は連続金属膜とすることができる。たとえば、第２の金属層５８は、連続銀膜とすることができる。

第２の金属層５８は、８．５ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２の金属層５８は、１０ｎｍ～１３．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２の金属層５８は、１０ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第２のプライマー層６０は、第２の金属層５８の上にある。第２のプライマー層６０は、プライマー材料のいずれでも含むことができ、任意選択の第１のプライマー層４８に関して上述した厚さのいずれかとすることができる。たとえば、第２のプライマー層６０はチタンを含むことができる。

第２のプライマー層６０は、６ｎｍ～１３ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第２のプライマー層６０は、７ｎｍ～１２ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第２のプライマー層６０は、８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

第２のプライマー層６０は、２．５ｎｍ～５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２のプライマー層６０は、３ｎｍ～４．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２のプライマー層６０は、３．５ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第３の位相調整層６２は、第２のプライマー層６０の上にある。第３の位相調整層６２は、第１及び第２の位相調整層４０、５０に関して上で論じた位相調整材料及び／又は膜のいずれでも含むことができる。たとえば、第３の位相調整層６２は、複数膜構造体とすることができる。たとえば、第３の位相調整層６２は、第１の膜６４、第２の膜６６、及び第３の膜６８を含むことができる。

第３の位相調整層６２は、１１２ｎｍ～１６９ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第３の位相調整層６２は、１２６ｎｍ～１６０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第３の位相調整層６２は、１４７ｎｍ～１５６ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

第３の位相調整層６２は、５６ｎｍ～８５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第３の位相調整層６２は、６３ｎｍ～８０ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第３の位相調整層６２は、７３．５ｎｍ～７８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第１の膜６４及び／又は第３の膜６８は、金属酸化物又はドープ金属酸化物を含むことができる。たとえば、第１の膜６４及び／又は第３の膜６８は、酸化亜鉛、ドープ酸化亜鉛、スズ・ドープ酸化亜鉛を含むことができる。第２の膜６６は、金属合金の酸化物、たとえば、亜鉛及びスズ又はスズ酸亜鉛を含む酸化物を含むことができる。

第１の膜６４及び／又は第３の膜６８は、１７ｎｍ～４０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第１の膜６４及び／又は第３の膜６８は、２０ｎｍ～３５ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第１の膜６４及び／又は第３の膜６８は、２５ｎｍ～３５ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。第１の膜６４及び／又は第３の膜６８は、同じ厚さ又は異なる厚さとすることができる。

第１の膜６４及び／又は第３の膜６８は、７ｎｍ～１６ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第１の膜６４及び／又は第３の膜６８は、８ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第１の膜６４及び／又は第３の膜６８は、１０ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第２の膜６６は、８０ｎｍ～１２０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜６６は、８８ｎｍ～１１０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜６６は、１０４ｎｍ～１０８ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

第２の膜６６は、４０ｎｍ～６０ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜６６は、４４ｎｍ～５５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜６６は、５２ｎｍ～５４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第３の金属層７０は、単一の膜又は複数膜構造体とすることができる。第３の金属層７０は、連続金属膜とすることができる。たとえば、第３の金属層７０は、連続金属の膜とすることができる。たとえば、第３の金属層７０は、金属銀膜とすることができる。

第３の金属層７０は、８．５ｎｍ～１６ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第３の金属層７０は、１０ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第３の金属層７０は、１２ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第３のプライマー層７２は、上述のプライマー材料のいずれでも含むことができる。たとえば、第３のプライマー層７２はチタンを含むことができる。チタンは、上述のように、さらなる処理によって酸化させてチタニアにすることができる。

第３のプライマー層７２は、２．５ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第３のプライマー層７２は、３．５ｎｍ～８ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第３のプライマー層７２は、５ｎｍ～６．５ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

第３のプライマー層７２は、１ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第３のプライマー層７２は、１．５ｎｍ～３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第３のプライマー層７２は、２ｎｍ～２．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第４の位相調整層８６は、第１、第２、又は第３の位相調整層４０、５０、６２に関して上で論じた位相調整材料及び／又は膜のうちの１つ以上を含むことができる。

第４の位相調整層８６は、４７ｎｍ～８２ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第４の位相調整層８６は、５８ｎｍ～７５ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第４の位相調整層８６は、６０ｎｍ～７３ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

第４の位相調整層８６は、２３ｎｍ～４１ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第４の位相調整層８６は、２９ｎｍ～３８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第４の位相調整層８６は、３０ｎｍ～３７ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第４の位相調整層８６は、第１の膜８８及び第２の膜９０を含むことができる。

第１の膜８８は、金属酸化物又はドープ金属酸化物を含むことができる。たとえば、酸化亜鉛又はドープ酸化亜鉛。たとえば、第１の膜８８は、スズ・ドープ酸化亜鉛を含むことができる。たとえば、ＺｎＯ９０／１０。第２の膜９０は、金属合金の酸化物、たとえば、亜鉛及びスズ又はスズ酸亜鉛を含む酸化物を含むことができる。

第１の膜８８は、１７ｎｍ～３０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第１の膜８８は、２０ｎｍ～２７ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第１の膜８８は、２０ｎｍ～２６ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

第１の膜８８は、８ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第１の膜８８は、１０ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第１の膜８８は、１０ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

第２の膜９０は、３０ｎｍ～５２ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜９０は、３６ｎｍ～５０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜９０は、３８ｎｍ～４８ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

第２の膜９０は、１５ｎｍ～２６ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜９０は、１８ｎｍ～２５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、第２の膜９０は、１９ｎｍ～２４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

保護層９２は、太陽光線制御コーティング３０の終端層とすることができる。保護層９２は、位相調整層に関して上述したものなどの１つ又は複数の非金属材料を含むことができる。或いは、保護層９２は金属材料を含むことができる。保護層９２は、下にあるコーティング層を化学的及び／又は機械的に保護することができる。保護層９２は、位相調整及び／又は吸収を行うことができる。保護層９２は、単一の膜とすること、又は複数膜構造体を有することができる。

保護層９２は、１つ又は複数の金属酸化物、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物、アルミノケイ酸塩、シリコン窒化物、ケイ素炭化物、及びケイ素オキシ炭化物を含むことができる。保護層９２に適している材料の実例には、ジルコニウム、亜鉛、スズ、アルミニウム、ケイ素、チタン、並びにこれらの混合物及び／又は合金の内の１つ又は複数の酸化物が含まれる。たとえば、保護層９２は金属酸化物を含むことができる。たとえば、保護層は二酸化チタン（すなわち、チタニア）を含むことができる。

例示的な金属酸化物保護層９２は、１２．５ｎｍ～２０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、金属酸化物保護層９２は、１３ｎｍ～１８ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。たとえば、金属酸化物保護層９２は、１４ｎｍ～１６．５ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

例示的な金属酸化物保護層９２は、５ｎｍ～８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、金属酸化物保護層９２は、５．５ｎｍ～７ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。たとえば、金属酸化物保護層９２は、５．７ｎｍ～６．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

或いは、保護層９２は金属酸化物の混合物、たとえばシリカとアルミナの混合物を含むことができる。

保護層９２は、少なくとも４０重量％シリカと６０重量％以下のアルミナなど、少なくとも７０重量％シリカと３０重量％以下のアルミナなど、少なくとも７５重量％のシリカなど、少なくとも８０重量％のシリカなど、少なくとも８５重量％シリカなど、１重量％～９９重量％シリカと９９重量％～１重量％アルミナを含む混合金属酸化物を含むことができる。たとえば、保護層９２は、８５重量％シリカと１５重量％アルミナを含むことができる。

例示的な混合金属酸化物保護層９２は、１００ｎｍ～１８０ｎｍの範囲、好ましくは１２０ｎｍ～１６０ｎｍの範囲、より好ましくは１３０～１５０ｎｍの範囲の光学的厚さを有することができる。

例示的な混合金属酸化物保護層９２は、５０ｎｍ～９０ｎｍの範囲、好ましくは６０ｎｍ～８０ｎｍの範囲、より好ましくは６５～７５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することができる。

例示的なコーティング３０では、第１の位相調整層４０は、スズ酸亜鉛を含む第１の層４２と、酸化亜鉛、ドープ酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第２の層４４とを含む。第１の金属層４６は、金属銀の連続層を含む。第１のプライマー層４８はチタニア（チタン金属として堆積）を含む。第２の位相調整層５０は、酸化亜鉛、ドープ酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第１の層５２と、スズ酸亜鉛を含む第２の層５４と、酸化亜鉛、ドープ酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第３の層５６とを含む。第２の金属層５８は金属銀の連続層を含む。第２のプライマー層６０は、チタニア（チタン金属として堆積）を含む。第３の位相調整層６２は、酸化亜鉛、ドープ酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第１の層６４と、スズ酸亜鉛を含む第２の層６６と、酸化亜鉛、ドープ酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第３の層６８とを含む。第３の金属層７０は、金属銀の連続層を含む。第３のプライマー層７２は、チタニア（チタン金属として堆積）を含む。第４の位相調整層８６は、酸化亜鉛、ドープ酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第１の層８８と、スズ酸亜鉛を含む第２の層９０とを含む。保護層９２は、シリカとアルミナの混合物を含む。或いは、保護層９２はチタニアを含むことができる。

太陽光線制御コーティング３０の層及び／又は膜は、任意の従来の方法によって形成することができる。このような方法の実例には、従来の化学気相堆積（ＣＶＤ：chemical vapor deposition）及び／又は物理的気相堆積（ＰＶＤ：physical vapor deposition）方法が含まれる。ＣＶＤプロセスの実例には、噴霧熱分解が含まれる。ＰＶＤプロセスの実例には、電子ビーム蒸着、及びマグネトロン・スパッタ蒸着（ＭＳＶＤ）などの真空スパッタリングが含まれる。それだけには限らないが、ゾル－ゲル堆積などの他のコーティング方法もまた使用することができる。１つ又は複数の層又は膜は、１つの方法によって形成することができ、１つ又は複数の別の層又は膜は、異なる方法で形成することができる。たとえば、コーティング３０はＭＳＶＤによって形成することができる。

図３は、積層ガラス１１０に取り入れられた図１又は図２のコーティング３０を示す。積層ガラス１１０は、第２の層１１８に連結された第１の層１１２を含む。第１の層１１２は、第１の主面１１４及び第２の主面１１６を有する。第１の主面１１４（第１面）は建物外部に面し、すなわち外側主面であり、第２の主面１１６（第２面）は建物の内部に面する。第２の層１１８は、外側に面する主面１２０（第３面）、及び内側に面する主面１２２（第４面）を有する。この層面の番号付けは、開窓術における従来の慣習と合っている。

図示の実例では、太陽光線制御コーティング３０は第２面１１６にある。しかし、太陽光線制御コーティング３０は、他の面のいずれかに配置することもできる。たとえば、太陽光線制御コーティング３０は、第３面１２０に配置することもできる。たとえば、太陽光線制御コーティング３０は、第１面１１４又は第４面１２２に配置することもできる。

第１の層１１２は、中間層１３０によって第２の層１１８に連結される。中間層１３０は、任意の従来の中間層材料とすることができる。たとえば、中間層はポリビニル・ブチラール（ＰＶＢ：polyvinyl butyral）とすることができる。

第１の層１１２及び第２の層１１８は、基板１１について上述した材料のいずれにすることもできる。第２の層１１８は第１の層１１２と同じものとすることができ、或いは第２の層１１８は第１の層１１２とは別のものとすることができる。第１の層１１２及び第２の層１１８はそれぞれ、たとえば、透明なフロート・ガラスとすること、又はティント・ガラス若しくは着色ガラスとすることができ、或いは層１１２、１１８の一方を透明ガラスとし、層１１２、１１８の他方をティント・ガラス若しくは着色ガラスとすることができる。

第１の層１１２及び第２の層１１８は、任意の所望の寸法とすることができる。

第１の層１１２及び第２の層１１８は、異なるレベルの可視光透過率を有することができる。たとえば、第１の層１１２は、第２の層１１８よりも高い可視光透過率を有することができる。たとえば、第１の層１１２は透明なガラスとし、第２の層１１８はティント・ガラスとすることができる。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニットＳＨＧＣを０．３以下に、たとえば、０．２９以下、０．２８以下、０．２７以下、０．２６以下、又は０．２５以下にすることができる。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット可視光透過率（ＬＴＡ：visible light transmittance）を６０％～８０％の範囲内に、たとえば、６５％～７５％又は７１％～７３％にする。

太陽光線制御コーティング３０は、シート抵抗を５オーム毎スクウェア（Ω／□）未満に、たとえば、２Ω／□未満、１Ω／□未満、０．９Ω／□未満、０超～１．５Ω／□の範囲、又は０超～１Ω／□の範囲とする。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット透過Ｌ^＊を７５～９５の範囲、８２～９２の範囲、又は８７～８９の範囲とする。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット透過ａ^＊を－６～１の範囲、－５～－１の範囲、又は－３～－２の範囲とする。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット透過ｂ^＊を２～６の範囲、２．５～５の範囲、又は３．８～４．４の範囲とする。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット反射（外面）Ｌ^＊を３０～５０の範囲、３５～４５の範囲、又は３９～４２の範囲とする。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット反射（外面）ａ^＊を－９～１の範囲、－８～０の範囲、又は－７．４～－２の範囲とする。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット反射（外面）ｂ^＊を－７～３の範囲、－６～１．５の範囲、又は－５～０の範囲とする。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット反射（内面）Ｌ^＊を３０～５０の範囲、３５～４５の範囲、又は４０～４２の範囲とする。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット反射（内面）ａ^＊を－９～０の範囲、－８～－１の範囲、又は－７．２～－３の範囲とする。

太陽光線制御コーティング３０は、参照積層ユニット反射（内面）ｂ^＊を－６．５～１の範囲、－５．５～０の範囲、又は－４．３～－１の範囲とする。

本発明について、以下の番号が付けられた条項でさらに説明する。

条項１ 第１の位相調整層４０と、第１の位相調整層４０の上にある第１の金属層４６と、第１の金属層４６の上にある第１のプライマー層４８と、第１のプライマー層４８の上にある第２の位相調整層５０と、第２の位相調整層５０の上にある第２の金属層５８と、第２の金属層５８の上にある第２のプライマー層６０と、第２のプライマー層６０の上にある第３の位相調整層６２と、第３の位相調整層６２の上にある第３の金属層７０と、第３の金属層７０の上にある第３のプライマー層７２と、第３のプライマー層７２の上にある第４の位相調整層８６と、第４の位相調整層８６の上にある保護層９２とを含む、太陽光線制御コーティング３０。

条項２ 位相調整層４０、５０、６２、８６が非金属材料を含む、条項１の太陽光線制御コーティング３０。

条項３ 位相調整層４０、５０、６２、８６が誘電体材料又は半導体材料を含む、条項１又は２の太陽光線制御コーティング３０。

条項４ 第１の位相調整層４０が金属酸化物、ドープ金属酸化物、金属酸化物の混合物、又は金属合金酸化物を含む、条項１から３のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項５ 第１の位相調整層４０がドープ又は非ドープの亜鉛酸化物及びスズ酸化物を含む、条項１から４のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項６ 第１の位相調整層４０が、４４ｎｍ～９０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは５１ｎｍ～８１ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは５３ｎｍ～７４ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項１から５のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項７ 第１の位相調整層４０が、２２ｎｍ～４５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは２５ｎｍ～４１ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは２６ｎｍ～３７ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から５のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項８ 第１の位相調整層４０が、第１の膜４２、及び第１の膜４２の上にある第２の膜４４を有する複数膜構造体を含む、条項１から７のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項９ 第１の膜４２が亜鉛とスズの合金の酸化物を含む、条項８の太陽光線制御コーティング３０。

条項１０ 第１の膜４２がスズ酸亜鉛を含む、条項８又は９の太陽光線制御コーティング３０。

条項１１ 第２の膜４４がドープ酸化亜鉛を含む、条項８から１０のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項１２ 第１の層４２が、３０ｎｍ～６０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは３６ｎｍ～５４ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは３７ｎｍ～５０ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項８から１１のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項１３ 第１の膜４２が、１５ｎｍ～３０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１８ｎｍ～２７ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１８ｎｍ～２５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項８から１２のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項１４ 第２の膜４４が、１４ｎｍ～３０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは１４ｎｍ～２８ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１６ｎｍ～２５ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項８から１３のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項１５ 第２の膜４４が、７ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項８から１４のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項１６ 第１の金属層４６が金属銀の連続膜を含む、条項１から１５のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項１７ 第１の金属層４６が、８ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは８ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは９ｎｍ～１１ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から１６のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項１８ 第１のプライマー層４８がチタニアを含む、条項１から１７のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項１９ 第１のプライマー層４８が、６ｎｍ～１４ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項１から１８のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項２０ 第１のプライマー層４８が、２．５ｎｍ～５．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは３ｎｍ～４．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは３．５ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から１９のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項２１ 第２の位相調整層５０が、９７ｎｍ～１７６ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは９９ｎｍ～１５６ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１１８ｎｍ～１３６ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項１から２０のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項２２ 第２の位相調整層５０が、３３ｎｍ～８８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは３３．５ｎｍ～７８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは５９ｎｍ～６８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から２１のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項２３ 第２の位相調整層５０が、第１の膜５２、第２の膜５４、及び第３の膜５６を含む、条項１から２２のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項２４ 第１の膜５２及び第３の膜５６が、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む、条項２３の太陽光線制御コーティング３０。

条項２５ 第２の膜５４がスズ酸亜鉛を含む、条項２３又は２４の太陽光線制御コーティング３０。

条項２６ 第１の膜５２及び／又は第３の膜５６が、１７ｎｍ～３３ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは１７ｎｍ～３０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは２０ｎｍ～２５ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項２３から２５のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項２７ 第１の膜５２及び／又は第３の膜５６が、７ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項２３から２６のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項２８ 第２の膜５４が、７０ｎｍ～１３０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは８０ｎｍ～１１２ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは８４ｎｍ～９８ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項２３から２７のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項２９ 第２の膜５４が、３５ｎｍ～６５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは４０ｎｍ～５６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは４２ｎｍ～４９ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項２３から２８のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項３０ 第２の金属層５８が連続銀膜を含む、条項１から２９のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項３１ 第２の金属層５８が、８．５ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１０ｎｍ～１３．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１０ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から３０のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項３２ 第２のプライマー層６０がチタニアを含む、条項１から３１のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項３３ 第２のプライマー層６０が、６ｎｍ～１３ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項１から３２のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項３４ 第２のプライマー層６０が、２．５ｎｍ～５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは３ｎｍ～４．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは３．５ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から３３のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項３５ 第３の位相調整層６２が、１１２ｎｍ～１６９ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは１２６ｎｍ～１６０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１４７ｎｍ～１５６ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項１から３４のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項３６ 第３の位相調整層６２が、５６ｎｍ～８５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは６３ｎｍ～８０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは７３．５ｎｍ～７８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から３５のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項３７ 第３の位相調整層６２が、第１の層６４、第２の層６６、及び第３の層６８を含む、条項１から３６のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項３８ 第１の膜６４及び／又は第３の膜６８が、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む、条項３７の太陽光線制御コーティング３０。

条項３９ 第２の膜６６がスズ酸亜鉛を含む、条項３７又は３８の太陽光線制御コーティング３０。

条項４０ 第１の膜６４及び／又は第３の膜６８が、１７ｎｍ～４０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは２０ｎｍ～３５ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは２５ｎｍ～３５ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項３７から３９のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項４１ 第１の膜６４及び／又は第３の膜６８が、７ｎｍ～１６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは８ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１０ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項３７から４０のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項４２ 第２の膜６６が、８０ｎｍ～１２０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは８８ｎｍ～１１０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１０４ｎｍ～１０８ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項３７から４１のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項４３ 第２の膜６６が、４０ｎｍ～６０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは４４ｎｍ～５５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは５２ｎｍ～５４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項３７から４２のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項４４ 第３の金属層７０が金属銀膜を含む、条項１から４３のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項４５ 第３の金属層７０が、８．５ｎｍ～１６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１０ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１２ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から４４のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項４６ 第３のプライマー層７２がチタニアを含む、条項１から４５のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項４７ 第３のプライマー層７２が、２．５ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは３．５ｎｍ～８ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは５ｎｍ～６．５ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項１から４６のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項４８ 第３のプライマー層７２が、１ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１．５ｎｍ～３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは２ｎｍ～２．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から４７のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項４９ 第４の位相調整層８６が、４７ｎｍ～８２ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは５８ｎｍ～７５ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは６０ｎｍ～７３ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項１から４８のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項５０ 第４の位相調整層８６が、２３ｎｍ～４１ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは２９ｎｍ～３８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは３０ｎｍ～３７ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から４９のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項５１ 第４の位相調整層８６が第１の膜８８及び第２の膜９０を含む、条項１から５０のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項５２ 第１の膜８８が酸化スズ又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む、条項５１の太陽光線制御コーティング３０。

条項５３ 第２の膜９０がスズ酸亜鉛を含む、条項５１又は５２の太陽光線制御コーティング３０。

条項５４ 第１の膜８８が、１７ｎｍ～３０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは２０ｎｍ～２７ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは２０ｎｍ～２６ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項５１から５３のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項５５ 第１の膜８８が、８ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１０ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１０ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項５１から５４のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項５６ 第２の膜９０が、３０ｎｍ～５２ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは３６ｎｍ～５０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは３８ｎｍ～４８ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項５１から５５のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項５７ 第２の膜９０が、１５ｎｍ～２６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１８ｎｍ～２５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１９ｎｍ～２４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項５１から５６のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項５８ 保護層９２がシリカとアルミナの混合物を含む、条項１から５７のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項５９ 保護層９２が、１００ｎｍ～１８０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは１２０ｎｍ～１６０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１３０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項１から５８のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項６０ 保護層９２が、５０ｎｍ～９０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは６０ｎｍ～８０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは６５ｎｍ～７５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項１から５９のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項６１ 第１の位相調整層４０が、スズ酸亜鉛を含む第１の層４２と、ＺｎＯ ９０／１０を含む第２の層４４とを含み、第１の金属層４６が金属銀の連続層を含み、第１のプライマー層４８が、チタン金属として堆積されたチタニアを含み、第２の位相調整層５０が、ＺｎＯ ９０／１０を含む第１の層５２と、スズ酸亜鉛を含む第２の層５４と、ＺｎＯ ９０／１０を含む第３の層５６とを含み、第２の金属層５８が金属銀の連続層を含み、第２のプライマー層６０が、チタン金属として堆積されたチタニアを含み、第３の位相調整層６２が、ＺｎＯ ９０／１０を含む第１の層６４と、スズ酸亜鉛を含む第２の層６６と、ＺｎＯ ９０／１０を含む第３の層６８とを含み、第３の金属層７０が金属銀の連続層を含み、第３のプライマー層７２が、チタン金属として堆積されたチタニアを含み、第４の位相調整層８６が、ＺｎＯ ９０／１０を含む第１の層８８と、スズ酸亜鉛を含む第２の層９０とを含み、保護層９２がシリカとアルミナの混合物を含む、条項１から６０のいずれかの太陽光線制御コーティング３０。

条項６２ ポリマー中間層１３０によって第２の層１１８に連結された第１の層１１２を備える積層ガラス１１０であって、第１の層１１２が第１の主面１１４及び第２の主面１１６を有し、第２の層１１８が第３の主面１２０及び第４の主面１２２を有し、さらに、主面のうちの少なくとも１つに配置された、条項１から６１のいずれかの太陽光線制御コーティング３０を備える積層ガラス１１０。

条項６３ 太陽光線制御コーティング３０が第２の主面１１６にある、条項６２の積層ガラス１１０。

条項６４ 第１の層１１２と第２の層１１８が、異なるレベルの可視光透過率を有する、条項６２又は６３の積層ガラス１１０。

条項６５ 第１の層１１２が、第２の層１１８よりも高い可視光透過率を有する、条項６２から６４のいずれかの積層ガラス１１０。

条項６６ 第１の層１１２が透明ガラスを含み、第２の層１１８がティント・ガラスを含む、条項６２から６５のいずれかの積層ガラス１１０。

条項６７ ポリマー中間層１３０によって第２の層１１８に連結された第１の層１１２を備える積層ガラス１１０であって、第１の層１１２が第１の主面１１４及び第２の主面１１６を有し、第２の層１１８が第３の主面１２０及び第４の主面１２２を有し、積層ガラスがさらに、主面のうちの少なくとも１つに配置された太陽光線制御コーティング３０を備え、太陽光線制御コーティング３０が、第１の位相調整層４０と、第１の位相調整層４０の上にある第１の金属層４６と、第１の金属層４６の上にある第１のプライマー層４８と、第１のプライマー層４８の上にある第２の位相調整層５０と、第２の位相調整層５０の上にある第２の金属層５８と、第２の金属層５８の上にある第２のプライマー層６０と、第２のプライマー層６０の上にある第３の位相調整層６２と、第３の位相調整層６２の上にある第３の金属層７０と、第３の金属層７０の上にある第３のプライマー層７２と、第３のプライマー層７２の上にある第４の位相調整層８６と、第４の位相調整層８６の上にある保護層９２とを含み、第１の位相調整層４０が、４４ｎｍ～９０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは５１ｎｍ～８１ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは５３ｎｍ～７４ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、第２の位相調整層５０が、９７ｎｍ～１７６ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは９９ｎｍ～１５６ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１１８ｎｍ～１３６ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、第３の位相調整層６２が、１１２ｎｍ～１６９ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは１２６ｎｍ～１６０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１４７ｎｍ～１５６ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、及び／又は第４の位相調整層８６が、４７ｎｍ～８２ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは５８ｎｍ～７５ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは６０ｎｍ～７３ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、積層ガラス１１０。

条項６８ 位相調整層４０、５０、６２、８６が誘電体材料又は半導体材料を含む、条項６７の積層ガラス１１０。

条項６９ 位相調整層４０、５０、６２、８６が非金属材料を含む、条項６７～６８のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７０ 第１の位相調整層４０が、２２ｎｍ～４５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは２５ｎｍ～４１ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは２６ｎｍ～３７ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第２の位相調整層５０が、３３ｎｍ～８８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは３３．５ｎｍ～７８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは５９ｎｍ～６８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第３の位相調整層６２が、５６ｎｍ～８５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは６３ｎｍ～８０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは７３．５ｎｍ～７８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、及び／又は第４の位相調整層８６が、２３ｎｍ～４１ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは２９ｎｍ～３８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは３０ｎｍ～３７ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項６７～６９のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７１ 第１のプライマー層４８が、６ｎｍ～１４ｎｍの範囲、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの範囲、より好ましくは８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、第２のプライマー層６０が、６ｎｍ～１３ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、及び／又は第３のプライマー層７２が、２．５ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは３．５ｎｍ～８ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは５ｎｍ～６．５ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項６７～７０のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７２ 第１のプライマー層４８が、２．５ｎｍ～５．５ｎｍの範囲、好ましくは３ｎｍ～４．５ｎｍの範囲、より好ましくは３．５ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第２のプライマー層６０が、２．５ｎｍ～５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは３ｎｍ～４．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは３．５ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、及び／又は第３のプライマー層７２が、１ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１．５ｎｍ～３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは２ｎｍ～２．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項６７～７１のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７３ 第１の金属層４６が、８ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは８ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは９ｎｍ～１１ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第２の金属層５８が、８．５ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１０ｎｍ～１３．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１０ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、及び／又は第３の金属層７０が、８．５ｎｍ～１６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１０ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１２ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、条項６７～７２のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７４ 保護層９２が６０ｎｍ～２００ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１２０ｎｍ～１６０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１３０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、条項６７～７３のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７５ 位相調整層４０、５０、６２のうちの少なくとも１つが金属酸化物、ドープ金属酸化物、非ドープ金属酸化物、金属酸化物の混合物、又は金属合金酸化物を含み、金属層４６、５８、７０のうちの少なくとも１つが金属銀の連続膜を含み、プライマー層４８、６０、７２のうちの少なくとも１つがチタニアを含む、条項６７～７４のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７６ 第１の位相調整層４０が、第１の膜４２と、第１の膜４２の上にある第２の膜４４とを有する複数膜構造体を含み、第１の膜４２が１５ｎｍ～３０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１８ｎｍ～２７ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１８ｎｍ～２５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第２の膜４４が７ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第１の膜４２が亜鉛とスズの合金の酸化物を含み、及び／又は第２の膜４４が酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む、条項６７～７５のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７７ 第２の位相調整層５０が第１の膜５２、第２の膜５４、及び第３の膜５６を含み、第１の膜５２及び／又は第３の膜５６が、７ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第２の膜５４が、３５ｎｍ～６５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは４０ｎｍ～５６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは４２ｎｍ～４９ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第１の膜５２及び第３の膜５６が酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含み、第２の膜５４がスズ酸亜鉛を含む、条項６７～７６のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７８ 第３の位相調整層６２が第１の膜６４、第２の膜６６、及び第３の膜６８を含み、第１の膜６４及び／又は第３の膜６８が、７ｎｍ～１６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは８ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１０ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第２の膜６６が、４０ｎｍ～６０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは４４ｎｍ～５５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは５２ｎｍ～５４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、第１の膜６４及び／又は第３の膜６８が酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含み、及び／又は第２の膜６６がスズ酸亜鉛を含む、条項６７～７７のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項７９ 保護層９２が、３０ｎｍ～１００ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは５０ｎｍ～９０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは６０ｎｍ～８０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは６５ｎｍ～７５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、保護層９２がシリカとアルミナの混合物を含む、条項６７～７８のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項８０ 第１の位相調整層４０が、スズ酸亜鉛を含む第１の層４２と、ＺｎＯ ９０／１０を含む第２の層４４とを含み、第１の金属層４６が金属銀の連続層を含み、第１のプライマー層４８が、チタン金属として堆積されたチタニアを含み、第２の位相調整層５０が、ＺｎＯ ９０／１０を含む第１の層５２と、スズ酸亜鉛を含む第２の層５４と、ＺｎＯ ９０／１０を含む第３の層５６とを含み、第２の金属層５８が金属銀の連続層を含み、第２のプライマー層６０が、チタン金属として堆積されたチタニアを含み、第３の位相調整層６２が、ＺｎＯ ９０／１０を含む第１の層６４と、スズ酸亜鉛を含む第２の膜６６と、ＺｎＯ ９０／１０を含む第３の膜６８とを含み、第３の金属層７０が金属銀の連続層を含み、第３のプライマー層７２が、チタン金属として堆積されたチタニアを含み、第４の位相調整層８６が、ＺｎＯ ９０／１０を含む第１の層８８と、スズ酸亜鉛を含む第２の層９０とを含み、保護層９２がシリカとアルミナの混合物を含む、条項６７～７９のいずれか一項の積層ガラス１１０。

条項８１ 太陽光線制御コーティング３０が第２の主面１１６にあり、及び／又は第１の層１１２が、第２の層１１８よりも高い可視光透過率を有する、条項６７～８０のいずれか一項の積層ガラス１１０。

上記に開示された概念から逸脱することなく本発明に修正が加えられ得ることが、当業者には容易に理解されよう。したがって、本明細書に詳細に説明された特定の実施例は例示的なものにすぎず、また、添付の特許請求の範囲及びそのあらゆる全ての等価物の全範囲が付与される本発明の範囲を限定するものではない。

Claims (15)

1. ポリマー中間層１３０によって第２の層１１８に連結された第１の層１１２を備える積層ガラス１１０であって、前記第１の層１１２が第１の主面１１４及び第２の主面１１６を有し、前記第２の層１１８が第３の主面１２０及び第４の主面１２２を有し、積層ガラスがさらに、前記主面のうちの少なくとも１つに配置された太陽光線制御コーティング３０を備え、前記太陽光線制御コーティング３０が、
   第１の位相調整層４０と、前記第１の位相調整層４０の上にある第１の金属層４６と、前記第１の金属層４６の上にある第１のプライマー層４８と、前記第１のプライマー層４８の上にある第２の位相調整層５０と、前記第２の位相調整層５０の上にある第２の金属層５８と、前記第２の金属層５８の上にある第２のプライマー層６０と、前記第２のプライマー層６０の上にある第３の位相調整層６２と、前記第３の位相調整層６２の上にある第３の金属層７０と、前記第３の金属層７０の上にある第３のプライマー層７２と、前記第３のプライマー層７２の上にある第４の位相調整層８６と、前記第４の位相調整層８６の上にある保護層９２とを含み、
   前記第１の位相調整層４０が、５３ｎｍ～７４ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、
   前記第２の位相調整層５０が、１１８ｎｍ～１３６ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、
   前記第３の位相調整層６２が、１４７ｎｍ～１５６ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、及び
   前記第４の位相調整層８６が、６０ｎｍ～７３ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、積層ガラス１１０。
2. 前記位相調整層４０、５０、６２、８６が誘電体材料又は半導体材料を含む、請求項１に記載の積層ガラス１１０。
3. 前記位相調整層４０、５０、６２、８６が非金属材料を含む、請求項１又は２に記載の積層ガラス１１０。
4. 前記第１の位相調整層４０が、２２ｎｍ～４５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは２５ｎｍ～４１ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは２６ｎｍ～３７ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
   前記第２の位相調整層５０が、３３ｎｍ～８８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは３３．５ｎｍ～７８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは５９ｎｍ～６８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
   前記第３の位相調整層６２が、５６ｎｍ～８５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは６３ｎｍ～８０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは７３．５ｎｍ～７８ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、及び／又は
   前記第４の位相調整層８６が、２３ｎｍ～４１ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは２９ｎｍ～３８ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは３０ｎｍ～３７ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、請求項１から３までのいずれかに記載の積層ガラス１１０。
5. 前記第１のプライマー層４８が、６ｎｍ～１４ｎｍの範囲、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの範囲、より好ましくは８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、
   前記第２のプライマー層６０が、６ｎｍ～１３ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さを有し、及び／又は
   前記第３のプライマー層７２が、２．５ｎｍ～１０ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは３．５ｎｍ～８ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは５ｎｍ～６．５ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、請求項１から４のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
6. 前記第１のプライマー層４８が、２．５ｎｍ～５．５ｎｍの範囲、好ましくは３ｎｍ～４．５ｎｍの範囲、より好ましくは３．５ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
   前記第２のプライマー層６０が、２．５ｎｍ～５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは３ｎｍ～４．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは３．５ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、及び／又は
   前記第３のプライマー層７２が、１ｎｍ～４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１．５ｎｍ～３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは２ｎｍ～２．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、請求項１から５のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
7. 前記第１の金属層４６が、８ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは８ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは９ｎｍ～１１ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
   前記第２の金属層５８が、８．５ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１０ｎｍ～１３．５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１０ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、及び／又は
   前記第３の金属層７０が、８．５ｎｍ～１６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１０ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１２ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有する、請求項１から６のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
8. 前記保護層９２が、６０ｎｍ～２００ｎｍの範囲の光学的厚さ、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１２０ｎｍ～１６０ｎｍの範囲の光学的厚さ、より好ましくは１３０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲の光学的厚さを有する、請求項１から７のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
9. 前記位相調整層４０、５０、６２のうちの少なくとも１つが金属酸化物、ドープ金属酸化物、非ドープ金属酸化物、金属酸化物の混合物、又は金属合金酸化物を含み、
   前記金属層４６、５８、７０のうちの少なくとも１つが金属銀の連続膜を含み、
   前記プライマー層４８、６０、７２のうちの少なくとも１つがチタニアを含む、請求項１から８のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
10. 前記第１の位相調整層４０が、第１の膜４２、及び前記第１の膜４２の上にある第２の膜４４を有する複数膜構造体を含み、
    前記第１の膜４２が、１５ｎｍ～３０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは１８ｎｍ～２７ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１８ｎｍ～２５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
    前記第２の膜４４が、７ｎｍ～１５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
    前記第１の膜４２が亜鉛とスズの合金の酸化物を含み、
    前記第２の膜４４が酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む、請求項１から９のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
11. 前記第２の位相調整層５０が第１の膜５２、第２の膜５４、及び第３の膜５６を含み、
    前記第１の膜５２及び／又は第３の膜５６が、７ｎｍ～１３ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは８ｎｍ～１０ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
    前記第２の膜５４が、３５ｎｍ～６５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは４０ｎｍ～５６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは４２ｎｍ～４９ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
    前記第１の膜５２及び前記第３の膜５６が、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含み、
    前記第２の膜５４がスズ酸亜鉛を含む、請求項１から１０のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
12. 前記第３の位相調整層６２が第１の膜６４、第２の膜６６、及び第３の膜６８を含み、
    前記第１の膜６４及び／又は第３の膜６８が、７ｎｍ～１６ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは８ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは１０ｎｍ～１４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
    前記第２の膜６６が、４０ｎｍ～６０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは４４ｎｍ～５５ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは５２ｎｍ～５４ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
    前記第１の膜６４及び／又は前記第３の膜６８が、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含み、及び／又は
    前記第２の膜６６がスズ酸亜鉛を含む、請求項１から１１のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
13. 前記保護層９２が、３０ｎｍ～１００ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、好ましくは５０ｎｍ～９０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは６０ｎｍ～８０ｎｍの範囲の幾何学的厚さ、より好ましくは６５ｎｍ～７５ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有し、
    前記保護層９２がシリカとアルミナの混合物を含む、請求項１～１２のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
14. 前記第１の位相調整層４０が、スズ酸亜鉛を含む第１の膜４２と、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第２の膜４４とを含み、前記第１の金属層４６が金属銀の連続層を含み、前記第１のプライマー層４８が、チタン金属として堆積されたチタニアを含み、前記第２の位相調整層５０が、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第１の膜５２と、スズ酸亜鉛を含む第２の膜５４と、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第３の膜５６とを含み、前記第２の金属層５８が金属銀の連続層を含み、前記第２のプライマー層６０が、チタン金属として堆積されたチタニアを含み、前記第３の位相調整層６２が、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第１の膜６４と、スズ酸亜鉛を含む第２の層６６と、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第３の層６８とを含み、前記第３の金属層７０が金属銀の連続層を含み、前記第３のプライマー層７２が、チタン金属として堆積されたチタニアを含み、前記第４の位相調整層８６が、酸化亜鉛又はスズ・ドープ酸化亜鉛を含む第１の層８８と、スズ酸亜鉛を含む第２の層９０とを含み、前記保護層９２がシリカとアルミナの混合物を含む、請求項１から１３のいずれかに記載の積層ガラス１１０。
15. 前記太陽光線制御コーティング３０が前記第２の主面１１６にあり、前記第１の層１１２が、前記第２の層１１８よりも高い可視光透過率を有する、請求項１から１４のいずれかに記載の積層ガラス１１０。

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