JP7030581B2 - 半導体装置の製造方法、及び、遮光性吸着治具 - Google Patents
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Description
半導体基板の第1面に形成された酸化膜上に感光材を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程の後、遮光性吸着治具が写真マスクを貫通する吸着穴から前記半導体基板の前記第1面を吸引できるように、前記遮光性吸着治具を前記写真マスクの露光面に装着し、前記半導体基板の前記第1面側を前記遮光性吸着治具により吸引させることで前記写真マスクの接触面を前記半導体基板の前記第1面側に固定した状態で、光源から前記写真マスクを介して前記感光材に光を照射して、前記酸化膜上の前記感光材を選択的に感光させる露光工程と、
前記露光工程の後、感光した前記感光材を現像する現像工程と、を備え、
前記遮光性吸着治具は、前記光源が出力する前記光を遮光し且つ乱反射しないようになっていることを特徴とする。
前記遮光性吸着治具は、
前記写真マスクの前記露光面上に配置され、前記写真マスクを前記半導体基板に吸着させる時に前記遮光性吸着治具を前記写真マスクに係止する本体部と、
前記本体部から延在し且つ前記写真マスクの前記吸着穴に挿入される挿入部と、を有し、且つ、前記本体部と前記挿入部とを貫通する通気穴が設けられており、
前記露光工程において、前記遮光性吸着治具の前記本体部側から前記通気穴と前記吸着穴を介して前記半導体基板の前記第1面を吸引することにより、前記半導体基板の前記第1面側に前記写真マスクの前記接触面を吸着させる
ことを特徴とする。
前記遮光性吸着治具の前記通気穴は、前記露光工程において、前記光源が出力する前記光が、前記通気穴を介して、前記感光材の表面に直接到達しないように設けられている
ことを特徴とする。
前記写真マスクの前記露光面に平行な面における、前記吸着穴の断面が、丸、又は、多角形の形状を有する
ことを特徴とする。
前記遮光性吸着治具の前記挿入部が前記写真マスクの前記吸着穴に挿入された状態で、前記写真マスクの前記露光面に平行な面における、前記遮光性吸着治具の前記挿入部の断面が、丸、又は、多角形の形状を有する
ことを特徴とする。
前記遮光性吸着治具の前記挿入部の前記写真マスクの前記吸着穴への挿入方向と平行な面における、前記遮光性吸着治具の前記通気穴の断面は、Y字型、L字型、T字型、又は、千鳥型になっている
ことを特徴とする。
前記吸着穴の断面の大きさは、前記半導体基板に形成される1つの半導体チップの表面の大きさよりも、小さい
ことを特徴とする。
前記感光材は、ネガ型のレジストであることを特徴とする。
前記光は、紫外光であることを特徴とする。
前記光源は、水銀ランプであることを特徴とする。
前記写真マスクは、
前記光を透過する透過領域が選択的に設けられるとともに、前記吸着穴が形成されたガラス基板である
ことを特徴とする。
前記現像工程の後、残存する前記感光材をマスクとして、前記半導体基板の前記第1面上の前記酸化膜を選択的にエッチングして除去するエッチング工程をさらに備える
ことを特徴とする。
前記エッチング工程の後、前記酸化膜が選択的に残存する前記半導体基板の前記第1面上にNiをメッキしてNiメッキ層を形成するメッキ工程と、
前記メッキ工程の後、前記半導体基板の前記第1面上に、はんだクレームを印刷してリフローすることにより、前記Niメッキ層上に、はんだ部材を成膜するスクリーン印刷工程と、
前記スクリーン印刷工程の後、前記酸化膜を介して前記半導体基板の前記第1面にレーザを照射して、前記半導体基板の前記第1面に切り込みを形成するレーザ照射工程と、
前記レーザ照射工程の後、前記切り込みに沿って、前記半導体基板を切断する切断工程と、を備える
ことを特徴とする。
写真マスクを半導体基板に吸着させるための遮光性吸着治具であって、
前記写真マスクの露光面上に配置され、前記写真マスクを前記半導体基板に吸着させる時に前記遮光性吸着治具を前記写真マスクに係止する前記遮光性吸着治具を前記写真マスクに係止する本体部と、
前記本体部から延在し且つ前記写真マスクの吸着穴に挿入される挿入部と、を有し、
前記本体部と前記挿入部とを貫通する通気穴が設けられており、
露光工程において、前記遮光性吸着治具の前記本体部側から前記通気穴と前記吸着穴を介して前記半導体基板の前記第1面を吸引することにより、前記半導体基板の前記第1面側に前記写真マスクの前記接触面を吸着させるようになっている
ことを特徴とする。
W1 第1面
W2 第2面
R 感光材
X 遮光性吸着治具
Xb 本体部
Xh 挿入部
M 写真マスク
吸着穴Ma
MR 露光面
MS 接触面
L 光源
A1、A2 通気穴
Claims (15)
- 半導体基板の第1面に形成された酸化膜上に感光材を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程の後、遮光性吸着治具が写真マスクを貫通する吸着穴から前記半導体基板の前記第1面を吸引できるように、前記遮光性吸着治具を前記写真マスクの露光面に装着し、前記半導体基板の前記第1面側を前記遮光性吸着治具により吸引させることで前記写真マスクの接触面を前記半導体基板の前記第1面側に固定した状態で、光源から前記写真マスクを介して前記感光材に光を照射して、前記酸化膜上の前記感光材を選択的に感光させる露光工程と、
前記露光工程の後、感光した前記感光材を現像する現像工程と、を備え、
前記遮光性吸着治具は、前記光源が出力する前記光を遮光し且つ乱反射しないようになっていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記遮光性吸着治具は、
前記写真マスクの前記露光面上に配置され、前記写真マスクを前記半導体基板に吸着させる時に前記遮光性吸着治具を前記写真マスクに係止する本体部と、
前記本体部から延在し且つ前記写真マスクの前記吸着穴に挿入される挿入部と、を有し、且つ、前記本体部と前記挿入部とを貫通する通気穴が設けられており、
前記露光工程において、前記遮光性吸着治具の前記本体部側から前記通気穴と前記吸着穴を介して前記半導体基板の前記第1面を吸引することにより、前記半導体基板の前記第1面側に前記写真マスクの前記接触面を吸着させる
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記遮光性吸着治具の前記通気穴は、前記露光工程において、前記光源が出力する前記光が、前記通気穴を介して、前記感光材の表面に直接到達しないように設けられている
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記写真マスクの前記露光面に平行な面における、前記吸着穴の断面が、丸、又は、多角形の形状を有する
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記遮光性吸着治具の前記挿入部が前記写真マスクの前記吸着穴に挿入された状態で、前記写真マスクの前記露光面に平行な面における、前記遮光性吸着治具の前記挿入部の断面が、丸、又は、多角形の形状を有する
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記遮光性吸着治具の前記挿入部の前記写真マスクの前記吸着穴への挿入方向と平行な面における、前記遮光性吸着治具の前記通気穴の断面は、Y字型、L字型、T字型、又は、千鳥型になっている
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記吸着穴の断面の大きさは、前記半導体基板に形成される1つの半導体チップの表面の大きさよりも、小さい
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記遮光性吸着治具は、樹脂、ゴム、又は、無機物から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記感光材は、ネガ型のレジストであることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記光は、紫外光であることを特徴とする請求項9に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記光源は、水銀ランプであることを特徴とする請求項10に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記写真マスクは、
前記光を透過する透過領域が選択的に設けられるとともに、前記吸着穴が形成されたガラス基板である
ことを特徴とする請求項11に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記現像工程の後、残存する前記感光材をマスクとして、前記半導体基板の前記第1面上の前記酸化膜を選択的にエッチングして除去するエッチング工程をさらに備える
ことを特徴とする請求項12に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記エッチング工程の後、前記酸化膜が選択的に残存する前記半導体基板の前記第1面上にNiをメッキしてNiメッキ層を形成するメッキ工程と、
前記メッキ工程の後、前記半導体基板の前記第1面上に、はんだクレームを印刷してリフローすることにより、前記Niメッキ層上に、はんだ部材を成膜するスクリーン印刷工程と、
前記スクリーン印刷工程の後、前記酸化膜を介して前記半導体基板の前記第1面にレーザを照射して、前記半導体基板の前記第1面に切り込みを形成するレーザ照射工程と、
前記レーザ照射工程の後、前記切り込みに沿って、前記半導体基板を切断する切断工程と、を備える
ことを特徴とする請求項13に記載の半導体装置の製造方法。 - 写真マスクを半導体基板に吸着させるための遮光性吸着治具であって、
前記写真マスクの露光面上に配置され、前記写真マスクを前記半導体基板に吸着させる時に前記遮光性吸着治具を前記写真マスクに係止する前記遮光性吸着治具を前記写真マスクに係止する本体部と、
前記本体部から延在し且つ前記写真マスクの吸着穴に挿入される挿入部と、を有し、
前記本体部と前記挿入部とを貫通する通気穴が設けられており、
露光工程において、前記遮光性吸着治具の前記本体部側から前記通気穴と前記吸着穴を介して前記半導体基板の第1面を吸引することにより、前記半導体基板の前記第1面側に前記写真マスクの接触面を吸着させるようになっている
ことを特徴とする遮光性吸着治具。
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2018
- 2018-03-19 JP JP2018051450A patent/JP7030581B2/ja active Active
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