JP7005155B2 - オゾン処理装置の制御装置および制御方法 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、オゾン処理装置の制御装置および制御方法に関する。

従来、オゾンを発生させ、発生させたオゾンを被処理水に注入することでオゾン処理を行うオゾン処理装置が知られている。

特開２００５－３２４１２１号公報

上記のような従来技術では、オゾンの発生量を適切に制御する必要がある。そのためには、被処理水の水量変化への対処性能と、被処理水の水質変化への対処性能と、の両立を図ることが望まれる。

実施形態によるオゾン処理装置の制御装置は、オゾンを発生させ、発生させた当該オゾンを被処理水に注入することでオゾン処理を行うオゾン処理装置の制御装置である。制御装置は、算出部と、出力部と、を備える。算出部は、被処理水の流入水量に対して一定の割合でオゾンガスが注入されるようにオゾン発生量を制御する注入率一定制御方式で決定されるオゾンの発生量の第１の目標値と、オゾン処理後に余る排オゾンの濃度が一定になるようにオゾン発生量を制御する排オゾン一定制御方式で決定されるオゾンの発生量の第２の目標値と、に基づいて、オゾンの発生量の第３の目標値を算出する。出力部は、第３の目標値と、オゾン発生器に流入するオゾンガスの流量及びオゾン発生器から流出するオゾンの濃度と、に基づいた操作量をオゾン処理装置に出力する。

図１は、実施形態によるオゾン処理システムの構成を示した例示的なブロック図である。 図２は、実施形態において用いられる注入率一定制御方式および排オゾン一定制御方式の水量変化への対処性能を説明するための例示的なグラフである。 図３は、実施形態において用いられる注入率一定制御方式および排オゾン一定制御方式の水質変化への対処性能を説明するための例示的なグラフである。 図４は、実施形態によるパラメータ設定部の機能的構成を示した例示的なブロック図である。 図５は、実施形態によるパラメータ設定部の動作を説明するための例示的なグラフである。 図６は、実施形態による制御盤が実行する処理の概略を示した例示的なフローチャートである。 図７は、実施形態によるパラメータ設定部が実行する処理を示した例示的なフローチャートである。

以下、実施形態を図面に基づいて説明する。以下に記載する実施形態の構成、ならびに当該構成によってもたらされる作用および結果（効果）は、あくまで一例であって、以下の記載内容に限られるものではない。

図１は、実施形態によるオゾン処理システムの構成を示した例示的なブロック図である。実施形態のオゾン処理システムは、水処理施設に設置される。以下では、この水処理施設に、実際の水処理（オゾン処理）を行う現場と、当該現場とは分離された中央監視室と、が存在するものとして説明する。中央監視室には、たとえば、オゾン処理システムの動作を監視するためのコンピュータ（不図示）が設けられる。

図１に示されるように、実施形態によるオゾン処理システムは、現場に設置されたオゾン処理装置１０と、当該オゾン処理装置１０に接続された制御盤２０と、を備える。オゾン処理装置１０は、オゾンを発生させ、発生させたオゾンを被処理水に注入することでオゾン処理を行う装置である。また、制御盤２０は、オゾン処理装置１０を制御する制御装置である。以下、オゾン処理装置１０および制御盤２０の構成について順番に説明する。

オゾン処理装置１０は、原料ガス供給装置１１と、オゾン発生器１２と、散気装置１３と、オゾン接触槽１４と、排オゾン処理装置１５と、を備えている。

原料ガス供給装置１１は、オゾンの原料となるガス（オゾン化ガス）を供給する。オゾン発生器１２は、原料ガス供給装置１１から供給されるオゾン化ガスに基づいて内部でオゾン（オゾンガス）を発生させる発生器本体１２ａと、当該発生器本体１２ａに電源を供給する電源装置１２ｂと、を備える。

散気装置１３は、オゾン発生器１２で発生したオゾンガスをオゾン接触槽１４内に出力する。オゾン接触槽１４は、外部から流入する被処理水を一時的に貯蔵し、当該被処理水を散気装置１３から出力されるオゾンガスと接触（反応）させることでオゾン処理を行い、反応後の被処理水をオゾン処理水として排出する。排オゾン処理装置１５は、オゾン処理後に余ったオゾンガスとしての排オゾンを分解して無害化し、排気する。

なお、オゾン処理装置１０には、各種の状態量を測定するための複数のセンサが設けられている。より具体的に、オゾン処理装置１０には、原料ガス供給装置１１から出力されるオゾン化ガスの流量を測定するオゾン化ガス流量計１６と、オゾン発生器１２で発生するオゾンガス（以下、発生オゾン）の濃度を測定する発生オゾン濃度計１７と、排オゾンの濃度を測定する排オゾン濃度計１８と、オゾン接触槽１４に流入する被処理水の流量（以下、流入水量とする）を測定する流入水量流量計１９と、が設けられている。

上記のようなオゾン処理装置１０では、オゾンガスの発生量（以下、オゾン発生量とする）を適切に制御する必要がある。そのためには、被処理水の水量変化への対処性能と、被処理水の水質変化への対処性能と、の両立を考慮して、オゾン発生量の目標値を決定することが望まれる。

そこで、実施形態による制御盤２０は、異なる２種類の制御方式で決定される２つの目標値の両方を考慮して、オゾン発生量の目標値を決定する。より具体的に、制御盤２０は、第１の制御方式で決定されるオゾン発生量の第１の目標値と、被処理水の水量変化への対処性能が第１の制御方式よりも低く、かつ被処理水の水質変化への対処性能が第１の制御方式よりも高い第２の制御方式で決定されるオゾン発生量の第２の目標値と、の両方に基づいて、オゾン発生量の第３の目標値を算出する。そして、制御盤２０は、第３の目標値に基づいた操作量をオゾン処理装置１０に出力することで、オゾン処理装置１０に適量のオゾンガスを発生させる。

実施形態では、第１の制御方式として、被処理水の流入水量に対して一定の割合でオゾンガスが注入されるようにオゾン発生量を制御する注入率一定制御方式が用いられ、第２の制御方式として、オゾン処理後に余る排オゾンの濃度が一定になるようにオゾン発生量を制御する排オゾン一定制御方式が用いられる例について説明する。しかしながら、実施形態では、水量変化および水質変化への対処性能に関する上記の条件を満たす第１の制御方式および第２の制御方式であれば、第１の制御方式として注入率一定制御方式以外の制御方式が用いられてもよいし、第２の制御方式として排オゾン一定制御方式以外の制御方式が用いられてもよい。第２の制御方式として用いられうる排オゾン一定制御方式以外の制御方式の具体例としては、オゾン処理後の被処理水の水質を測定する水質センサの出力値に基づいて当該水質の変化に応じてオゾン発生量を制御する水質対応制御方式や、オゾン処理後の被処理水に溶存している溶存オゾンの濃度が一定になるようにオゾン発生量を制御する溶存オゾン一定制御方式などが考えられる。なお、水質対応制御方式で用いる水質センサとは、被処理水中の有機物などの濃度を測定可能な蛍光強度計や紫外線式有機物計などである。

以下、実施形態において用いられる注入率一定制御方式および排オゾン一定制御方式の性能を図面に基づいて簡単に説明する。

図２は、実施形態において用いられる注入率一定制御方式および排オゾン一定制御方式の水量変化への対処性能を説明するための例示的なグラフである。図２において、実線Ｌ１０は、水量の時間変化の一例を表す。また、図２において、一点鎖線Ｌ１１は、実線Ｌ１０のような水量変化があった場合における注入率一定制御方式のもとでのオゾン発生量の時間変化の一例を表し、二点鎖線Ｌ１２は、実線Ｌ１０のような水量変化があった場合における排オゾン一定制御方式のもとでのオゾン発生量の時間変化の一例を表す。

上述したように、注入率一定制御方式は、流入水量に対して一定の割合でオゾンガスを注入するフィードフォワードの制御方式である。したがって、図２に示されるように、注入率一定制御方式では、水量変化に対してほとんど遅れ時間のないオゾン発生量の変化が実現される（実線Ｌ１０および一点鎖線Ｌ１１参照）。

一方、上述したように、排オゾン一定制御方式は、オゾン処理後に余る排オゾンの濃度を一定にするフィードバックの制御方式である。したがって、図２に示されるように、排オゾン一定制御方式では、水量変化が起こってからそれに対応したオゾン発生量の変化が起こるまでの間に、遅れ時間τ１が発生する（実線Ｌ１０および二点鎖線Ｌ１２参照）。

したがって、水量変化に対する対処性能については、注入率一定制御方式の方が排オゾン一定制御方式よりも高いと言える。

図３は、実施形態において用いられる注入率一定制御方式および排オゾン一定制御方式の水質変化への対処性能を説明するための例示的なグラフである。図３において、実線Ｌ２０は、水質の時間変化の一例を表す。なお、図３において、縦軸の上側が、水質が悪い状態に対応し、縦軸の下側が、水質が良い状態に対応するものとする。また、図３において、一点鎖線Ｌ２１は、実線Ｌ２０のような水質変化があった場合における注入率一定制御方式のもとでのオゾン発生量の時間変化の一例を表し、二点鎖線Ｌ２２は、実線Ｌ２０のような水質変化があった場合における排オゾン一定制御方式のもとでのオゾン発生量の時間変化の一例を表す。以下では、水量変化が無視可能な程度に小さいものとする。

注入率一定制御方式は、流入水量だけを見てオゾンガスの注入率（以下、オゾン注入率とする）を決定し、オゾン発生量を制御する制御方式である。したがって、注入率一定制御方式では、流入水量に変化が無ければ、オゾン発生量にも変化はない。したがって、図３に示されるように、注入率一定制御方式は、水質変化があったとしても、その水質変化をオゾン発生量の制御に反映させることがない（実線Ｌ２０および一点鎖線Ｌ２１参照）。

一方、排オゾン一定制御方式は、オゾン処理後に余る排オゾンの濃度を見てオゾン発生量を制御する制御方式である。したがって、排オゾン一定制御方式によれば、水質が悪いほど排オゾンの濃度が小さくなり、水質が良いほど排オゾンの濃度が大きくなる。したがって、図３に示されるように、排オゾン一定制御方式では、ある程度の遅れ時間τ２は発生するものの、水質変化に応じたオゾン発生量の変化が実現される（実線Ｌ２０および二点鎖線Ｌ２２参照）。

したがって、水質変化に対する対処性能については、排オゾン一定制御方式の方が注入率一定制御方式よりも高いと言える。

このように、注入率一定制御方式および排オゾン一定制御方式は、それぞれ一長一短があり、単独では、水量変化に対する対処性能と、水質変化に対する対処性能と、の両立を図ることができない。

そこで、実施形態による制御盤２０は、前述したように、注入率一定制御方式で決定されるオゾン発生量の第１の目標値と、排オゾン一定制御方式で決定されるオゾン発生量の第２の目標値と、の両方に基づいて、オゾン発生量の第３の目標値を算出し、当該第３の目標値に基づいた操作量をオゾン処理装置１０に出力する。これにより、水量変化に対する対処性能と、水質変化に対する対処性能と、の両立を図ることが可能になる。以下、このような効果を実現するための制御盤２０の構成について具体的に説明する。

図１に戻り、制御盤２０は、制御器２１と、演算器２２と、パラメータ設定部２３と、演算器２４と、制御器２５と、を備える。演算器２２は、「算出部」の一例であり、制御器２５は、「出力部」の一例である。

制御器２１は、中央監視室のコンピュータ（不図示）などから入力される排オゾン一定制御方式での排オゾン濃度の目標値（ＳＶ）と、排オゾン濃度計１８から入力される排オゾンの濃度の測定値（ＰＶ）と、に基づいたＰＩＤ制御を実行することで、排オゾン濃度の操作量（ＭＶ）を出力する。

演算器２２は、中央監視室のコンピュータ（不図示）などから入力される注入率一定制御方式でのオゾン注入率の目標値と、制御器２１から入力される排オゾン濃度の操作量と、流入水量流量計１９から入力される流入水量の測定値と、α＋β＝１という条件を満たす２つのパラメータαおよびβと、に基づいて、オゾン発生量の目標値を算出する。より具体的に、演算器２２は、下記の式（１）で表される演算を実行することで、オゾン発生量の目標値を算出する。なお、パラメータαおよびβは、メモリ（不図示）などに記憶されている。

オゾン発生量の目標値＝（α×オゾン注入率の目標値＋β×排オゾン濃度の操作量）×流入水量の測定値 …（１）

上記の式（１）の右辺において、パラメータαが乗算される「オゾン注入率の目標値×流入水量の測定値」という値は、注入率一定制御方式でのオゾン発生量の目標値に対応する。また、パラメータβが乗算される「排オゾン濃度の操作量×流入水量の測定値」という値は、排オゾン一定制御方式でのオゾン発生量の目標値に対応する。

したがって、上記で定義した第１の目標値、第２の目標値、および第３の目標値という表現を使って上記の式（１）を書き換えると、下記の式（２）のようになる。

第３の目標値＝α×第１の目標値＋β×第２の目標値 …（２）

ここで、パラメータαおよびβは、上記のように、α＋β＝１という条件を満たしている。したがって、パラメータαは、第３の目標値の決定に対する第２の目標値との関係での第１の目標値の貢献度合、すなわち注入率一定制御方式と排オゾン一定制御方式との両方を考慮した実施形態の制御方式において注入率一定制御方式が排オゾン一定制御方式との関係でどの程度考慮されるか、を表すと言える。同様に、パラメータβは、第３の目標値の決定に対する第１の目標値との関係での第２の目標値の貢献度合、すなわち注入率一定制御方式と排オゾン一定制御方式との両方を考慮した実施形態の制御方式において排オゾン一定制御方式が注入率一定制御方式との関係でどの程度考慮されるか、を表すと言える。

これにより、実施形態では、パラメータαおよびβを種々に設定（変更）することで、水量変化への対処性能が高い注入率一定制御方式の方を重視してオゾン発生量を制御するか、水質変化への対処性能が高い排オゾン一定制御方式の方を重視してオゾン発生量を制御するか、を決定することができる。その結果、実施形態では、水量変化に対する対処性能と、水質変化に対する対処性能と、が両立した制御を実現することができる。なお、実施形態では、注入率一定制御方式と排オゾン一定制御方式との両方を同時に同程度に考慮する制御が実行されてもよい。

なお、パラメータαおよびβは、中央監視室の監視員などによって手動で設定（変更）されてもよいが、実際のオゾン処理の状況に応じて自動で設定（変更）されると、より便利である。

そこで、実施形態による制御盤２０には、パラメータαおよびβを状況に応じて自動で設定（変更）するための構成として、パラメータ設定部２３が設けられている。

図４は、実施形態によるパラメータ設定部２３の機能的構成を示した例示的なブロック図である。図４に示されるように、パラメータ設定部２３は、水量取得部２３ａと、傾き算出部２３ｂと、パラメータ決定部２３ｃと、を備える。

水量取得部２３ａは、流入水量流量計１９から流入水量の測定値を取得する。傾き算出部２３ｂは、水量取得部２３ａにより取得された流入水量の測定値を監視し、流入水量の移動平均の傾きＫを算出する。パラメータ決定部２３ｃは、傾き算出部２３ｂにより算出された傾きＫの大きさ（絶対値）に応じて、パラメータαおよびβを決定（設定）する。

たとえば、流入水量の移動平均の傾きＫの大きさが所定の閾値Ｒよりも大きい場合、流入水量が比較的急激に変化していると言える。したがって、この場合、水量変化への対処性能が高い注入率一定制御方式を排オゾン一定制御方式よりも重視した方が有意義である。したがって、この場合、パラメータ決定部２３ｃは、注入率一定制御方式の貢献度合を排オゾン一定制御方式のそれよりも高めるため、α＞βという条件を満たすように、パラメータαおよびβを決定する。

一方、流入水量の移動平均の傾きＫの大きさが所定の閾値Ｒよりも小さい場合、流入水量の変化が比較的少なく、流入水量が比較的安定していると言える。したがって、この場合、水質変化への対処性能が高い排オゾン一定制御方式を注入率一定制御方式よりも重視した方が有意義である。したがって、この場合、パラメータ決定部２３ｃは、排オゾン一定制御方式の貢献度合を注入率一定制御方式のそれよりも高めるため、β＞αという条件を満たすように、パラメータαおよびβを決定する。

なお、適切な閾値Ｒは、オゾン接触槽１４の容積やその他の設備のスペックなどに応じて変わるため、閾値Ｒは、水処理施設の現場毎に決定される。

このような構成により、実施形態によるパラメータ設定部２３は、以下のような動作を実行する。

図５は、実施形態によるパラメータ設定部２３の動作を説明するための例示的なグラフである。図５において、実線Ｌ３１は、水量変化の一例を表し、破線Ｌ３２は、水質変化の一例を表す。

図５の例では、水質は一定の範囲で比較的安定しているが（破線Ｌ３２参照）、水量は、期間Ｔ１で大きく変化し、その後の期間Ｔ２以降で安定する（実線Ｌ３１参照）。したがって、図５の例において、パラメータ設定部２３は、期間Ｔ１で、α＞βという条件を満たすパラメータαおよびβを設定し、期間Ｔ２で、β＞αという条件を満たすパラメータαおよびβを設定する。

なお、実施形態では、期間Ｔ１から期間Ｔ２への移行時に、α＞βという条件を満たすパラメータαおよびβから、β＞αという条件を満たすパラメータαおよびβに急に切り替わるのを回避するため、期間Ｔ２の最初の方に、パラメータ移行期間Ｔ２１が設けられてもよい。そして、パラメータ移行期間Ｔ２１でαを徐々に小さくするとともにβを徐々に大きくすることで、β＞αという条件を満たすパラメータαおよびβが固定された期間Ｔ２２への移行が行われてもよい。

図１に戻り、演算器２４は、オゾン化ガス流量計１６から入力されるオゾン化ガスの流量の測定値と、発生オゾン濃度計１７から入力される発生オゾンの濃度と、に基づいて、オゾン発生量の実測値を算出する。

そして、制御器２５は、演算器２２から入力されるオゾン発生量の目標値と、演算器２４から入力されるオゾン発生量の実測値と、に基づいたＰＩＤ制御を実行し、操作量を算出する。そして、制御器２５は、算出した操作量をオゾン発生器１２（電源装置１２ｂ）に出力し、操作量に応じたオゾンガスをオゾン発生器１２（発生器本体１２ａ）に発生させる。

次に、実施形態において実行される処理について説明する。

図６は、実施形態による制御盤２０が実行する処理の概略を示した例示的なフローチャートである。この図６に示される一連の処理は、たとえば所定の制御周期で繰り返し実行される。

図６に示されるように、実施形態による制御盤２０の演算器２２は、まず、Ｓ１において、オゾン注入率の目標値と、流入水量の測定値と、排オゾン濃度の操作量と、を取得する。前述したように、オゾン注入率の目標値は、たとえば中央監視室のコンピュータ（不図示）から入力され、流入水量の測定値は、流入水量流量計１９から入力され、排オゾン濃度の操作量は、制御盤２０の制御器２１から入力される。

そして、Ｓ２において、演算器２２は、Ｓ１で取得した情報と、メモリ（不図示）などに記憶されたパラメータαおよびβと、に基づいて、上記の式（１）に基づいて、オゾン発生量の目標値を算出する。

そして、Ｓ３において、制御盤２０の制御器２５は、Ｓ２で算出された目標値などに基づいて操作量を算出し、算出した操作量をオゾン発生器１２（電源装置１２ｂ）に出力する。そして、処理が終了する。

図７は、実施形態によるパラメータ設定部２３が実行する処理を示した例示的なフローチャートである。この図７に示される一連の処理は、たとえば所定の周期で繰り返し実行される。なお、図７に示される一連の処理は、図６に示される一連の処理と別々に実行されてもよいし、同時に実行されてもよい。

図７に示されるように、実施形態によるパラメータ設定部２３の水量取得部２３ａは、まず、Ｓ１１において、流入水量の測定値を取得する。前述したように、流入水量の測定値は、流入水量流量計１９から入力される。

そして、Ｓ１２において、パラメータ設定部２３の傾き算出部２３ｂは、Ｓ１１で取得された流入水量を監視し、当該流入水量の移動平均の傾きＫを算出する。

そして、Ｓ１３において、パラメータ設定部２３のパラメータ決定部２３ｃは、Ｓ１２で算出された傾きＫの大きさに応じて、前述したオゾン発生量の目標値の算出に用いられるパラメータαおよびβを決定し、決定したパラメータαおよびβを演算器２２に出力する。そして、処理が終了する。

以上説明したように、実施形態による制御盤２０は、注入率一定制御方式で決定されるオゾン発生量の第１の目標値と、被処理水の水量変化への対処性能が注入率一定制御方式よりも低く、かつ被処理水の水質変化への対処性能が注入率一定制御方式よりも高い排オゾン一定制御方式で決定されるオゾン発生量の第２の目標値と、に基づいて、オゾンの発生量の第３の目標値を算出する演算器２２を備えている。これにより、被処理水の水量変化への対処性能と、被処理水の水質変化への対処性能と、の両立を図ることができる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、上述した実施形態はあくまで一例であって、発明の範囲を限定することは意図していない。上述した実施形態は、様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。上述した実施形態およびその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１０ オゾン処理装置
２０ 制御盤（制御装置）
２２ 演算器（算出部）
２３ パラメータ設定部
２５ 制御器（出力部）

Claims (8)

1. オゾンを発生させ、発生させた当該オゾンを被処理水に注入することでオゾン処理を行うオゾン処理装置の制御装置であって、
   被処理水の流入水量に対して一定の割合でオゾンガスが注入されるようにオゾン発生量を制御する注入率一定制御方式で決定される前記オゾンの発生量の第１の目標値と、オゾン処理後に余る排オゾンの濃度が一定になるようにオゾン発生量を制御する排オゾン一定制御方式で決定される前記オゾンの発生量の第２の目標値と、に基づいて前記オゾンの発生量の第３の目標値を算出する算出部と、
   前記第３の目標値と、オゾン発生器に流入するオゾンガスの流量及びオゾン発生器から流出するオゾンの濃度と、に基づいた操作量を前記オゾン処理装置に出力する出力部と、
   を備える、オゾン処理装置の制御装置。
2. 前記算出部は、α＋β＝１という条件を満たす２つのパラメータαおよびβを用いた下記の式に基づいて、前記第３の目標値を算出する、
   前記第３の目標値＝α×前記第１の目標値＋β×前記第２の目標値
   請求項１に記載のオゾン処理装置の制御装置。
3. 前記オゾン処理装置に流入する前記被処理水の水量を取得し、当該水量の移動平均の傾きの大きさが閾値より大きい場合、α＞βという条件を満たすように前記２つのパラメータαおよびβを設定し、前記傾きの大きさが前記閾値より小さい場合、β＞αという条件を満たすように前記２つのパラメータαおよびβを設定するパラメータ設定部をさらに備える、
   請求項２に記載のオゾン処理装置の制御装置。
4. オゾンを発生させ、発生させた当該オゾンを被処理水に注入することでオゾン処理を行うオゾン処理装置の制御装置であって、
   被処理水の流入水量に対して一定の割合でオゾンガスが注入されるようにオゾン発生量を制御する注入率一定制御方式で決定される前記オゾンの発生量の第１の目標値と、オゾン処理後に余る排オゾンの濃度が一定になるようにオゾン発生量を制御する排オゾン一定制御方式、オゾン処理後の被処理水の水質を測定する水質センサの出力値に基づいて当該水質の変化に応じてオゾン発生量を制御する水質対応制御方式、およびオゾン処理後の被処理水に溶存している溶存オゾンの濃度が一定になるようにオゾン発生量を制御する溶存オゾン一定制御方式の少なくともいずれかで決定される前記オゾンの発生量の第２の目標値とを用い、α＋β＝１（前記オゾン処理装置に流入する前記被処理水の水量の移動平均の傾きの大きさが閾値より大きい場合はα＞β、前記傾きの大きさが前記閾値より小さい場合はβ＞α）という条件を満たす２つのパラメータαおよびβを用いた下記式に基づいて、前記オゾンの発生量の第３の目標値を算出する算出部と、
   前記第３の目標値＝α×前記第１の目標値＋β×前記第２の目標値
   前記第３の目標値に基づいた操作量を前記オゾン処理装置に出力する出力部と、
   を備える、オゾン処理装置の制御装置。
5. 前記第１の目標値は、前記注入率一定制御方式により決定され、
   前記第２の目標値は、前記水質対応制御方式により決定される、
   請求項４に記載のオゾン処理装置の制御装置。
6. 前記第１の目標値は、前記注入率一定制御方式により決定され、
   前記第２の目標値は、前記溶存オゾン一定制御方式により決定される、
   請求項４に記載のオゾン処理装置の制御装置。
7. 前記第１の目標値は、前記注入率一定制御方式により決定され、
   前記第２の目標値は、前記排オゾン一定制御方式により決定される、
   請求項４に記載のオゾン処理装置の制御装置。
8. オゾンを発生させ、発生させた当該オゾンを被処理水に注入することでオゾン処理を行うオゾン処理装置の制御方法であって、
   被処理水の流入水量に対して一定の割合でオゾンガスが注入されるようにオゾン発生量を制御する注入率一定制御方式で決定される前記オゾンの発生量の第１の目標値と、オゾン処理後に余る排オゾンの濃度が一定になるようにオゾン発生量を制御する排オゾン一定制御方式で決定される前記オゾンの発生量の第２の目標値と、に基づいて前記オゾンの発生量の第３の目標値を算出し、
   前記第３の目標値と、オゾン発生器に流入するオゾンガスの流量及び前記オゾン発生器から流出するオゾンの濃度と、に基づいた操作量を前記オゾン処理装置に出力する、オゾン処理装置の制御方法。

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