JP7001967B2 - 固体撮像素子および駆動方法、並びに電子機器 - Google Patents
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Description
・自動停止等の安全運転や、運転者の状態の認識等のために、自動車の前方や後方、周囲、車内等を撮影する車載用センサ、走行車両や道路を監視する監視カメラ、車両間等の測距を行う測距センサ等の、交通の用に供される装置
・ユーザのジェスチャを撮影して、そのジェスチャに従った機器操作を行うために、TVや、冷蔵庫、エアーコンディショナ等の家電に供される装置
・内視鏡や、赤外光の受光による血管撮影を行う装置等の、医療やヘルスケアの用に供される装置
・防犯用途の監視カメラや、人物認証用途のカメラ等の、セキュリティの用に供される装置
・肌を撮影する肌測定器や、頭皮を撮影するマイクロスコープ等の、美容の用に供される装置
・スポーツ用途等向けのアクションカメラやウェアラブルカメラ等の、スポーツの用に供される装置
・畑や作物の状態を監視するためのカメラ等の、農業の用に供される装置
(1)
光を光電変換により電荷に変換して蓄積する光電変換部と、
前記光電変換部に蓄積されている電荷を読み出す読み出し部と、
前記読み出し部を介して読み出された電荷を一時的に蓄積して増倍する増倍領域と、
前記増倍領域に蓄積されている電荷を、前記電荷を画素信号に変換する変換部に転送する転送部と
を備える固体撮像素子。
(2)
前記転送部を介して前記増倍領域から前記変換部に電荷を転送する際に、アバランシェ効果により電荷を増倍させるために、前記増倍領域に強電界領域を発生させる
上記(1)に記載の固体撮像素子。
(3)
前記転送部を介して前記増倍領域から前記変換部に電荷を転送する際に、前記読み出し部に対して任意の負バイアスを印加する
上記(1)または(2)に記載の固体撮像素子。
(4)
前記光電変換部と前記増倍領域とが、半導体基板の縦方向に積層して設けられる配置構成となっており、
前記読み出し部は、前記半導体基板の縦方向に前記電荷を読み出す縦型トランジスタ構造である
上記(1)から(3)までのいずれかに記載の固体撮像素子。
(5)
前記半導体基板に対して前記光電変換部を形成した後、前記半導体基板上に結晶成長を行ってエピタキシャル層を形成し、前記エピタキシャル層に前記増倍領域を形成することで、前記光電変換部と前記増倍領域とが積層するように配置される
上記(4)に記載の固体撮像素子。
(6)
同一の前記半導体基板に対して不純物をイオン注入する際の深さ方向を分離することで、前記光電変換部と前記増倍領域とが積層するように配置される
上記(4)に記載の固体撮像素子。
(7)
前記光電変換部が形成された第1の半導体基板と、前記増倍領域が形成された第2の半導体基板とを貼り合わせることで、前記光電変換部と前記増倍領域とが積層するように配置される
上記(4)に記載の固体撮像素子。
(8)
前記転送部は、前記増倍領域および前記変換部の間に配置されるとともに、前記光電変換部から電荷を読み出す縦型トランジスタ構造であり、
前記読み出し部を介して前記光電変換部から前記増倍領域に電荷を読み出す第1の駆動方法と、前記転送部を介して前記光電変換部から前記変換部に電荷を読み出す第2の駆動方法を切り替えることができる
上記(4)から(7)までのいずれかに記載の固体撮像素子。
(9)
積層するように配置される前記光電変換部と前記増倍領域との間に、前記増倍領域に入射する光を遮光する遮光膜を
さらに備える上記(4)から(8)までのいずれかに記載の固体撮像素子。
(10)
隣接する他の画素から前記増倍領域に入射する光を遮光する遮光部を
さらに備える上記(1)から(9)までのいずれかに記載の固体撮像素子。
(11)
前記増倍領域が形成される半導体基板の表面に、前記増倍領域から前記変換部へ電荷の転送を行う際に任意のバイアス電圧を印加する複数の電極が配置されている
上記(1)から(10)までのいずれかに記載の固体撮像素子。
(12)
半導体基板に形成されている前記光電変換部のみで光電変換が行われる
上記(1)から(11)までのいずれかに記載の固体撮像素子。
(13)
前記光電変換部が形成されている半導体基板に、所定の波長成分の光に感度を持つ有機膜または無機膜が積層されており、前記有機膜または前記無機膜において光電変換が行われるとともに、前記有機膜または前記無機膜を透過した前記特定の波長成分以外の光が前記光電変換部において光電変換が行われる
上記(1)から(12)までのいずれかに記載の固体撮像素子。
(14)
前記光電変換部と前記増倍領域とが、半導体基板の同層に設けられる配置構成となっている
上記(1)から(3)までのいずれかに記載の固体撮像素子。
(15)
所定個数の前記光電変換部により、前記転送部より後段に設けられるトランジスタにより画素回路を共有する画素共有構造となっている
上記(1)から(9)までのいずれかに記載の固体撮像素子。
(16)
光を光電変換により電荷に変換して蓄積する光電変換部と、
前記光電変換部に蓄積されている電荷を読み出す読み出し部と、
前記読み出し部を介して読み出された電荷を一時的に蓄積して増倍する増倍領域と、
前記増倍領域に蓄積されている電荷を、前記電荷を画素信号に変換する変換部に転送する転送部と
を備える固体撮像素子の駆動方法であって、
前記転送部を介して前記増倍領域から前記変換部に電荷を転送する際に、アバランシェ効果により電荷を増倍させるために、前記増倍領域に強電界領域を発生させる
ステップを含む駆動方法。
(17)
光を光電変換により電荷に変換して蓄積する光電変換部と、
前記光電変換部に蓄積されている電荷を読み出す読み出し部と、
前記読み出し部を介して読み出された電荷を一時的に蓄積して増倍する増倍領域と、
前記増倍領域に蓄積されている電荷を、前記電荷を画素信号に変換する変換部に転送する転送部と
を有する固体撮像素子を備える電子機器。
Claims (15)
- 光を光電変換により電荷に変換して蓄積する光電変換部と、
前記光電変換部に蓄積されている電荷を読み出す読み出し部と、
前記読み出し部を介して読み出された電荷を一時的に蓄積して増倍する増倍領域と、
前記増倍領域に蓄積されている電荷を、前記電荷を画素信号に変換する変換部に転送する転送部と
を備え、
前記光電変換部と前記増倍領域とが、半導体基板の縦方向に積層して設けられる配置構成となっており、
前記読み出し部は、前記半導体基板の縦方向に前記電荷を読み出す縦型トランジスタ構造であり、
前記転送部は、前記増倍領域および前記変換部の間に配置されるとともに、前記光電変換部から電荷を読み出す縦型トランジスタ構造であり、
前記読み出し部を介して前記光電変換部から前記増倍領域に電荷を読み出す第1の駆動方法と、前記転送部を介して前記光電変換部から前記変換部に電荷を読み出す第2の駆動方法を切り替えることができる
固体撮像素子。 - 前記転送部を介して前記増倍領域から前記変換部に電荷を転送する際に、アバランシェ効果により電荷を増倍させるために、前記増倍領域に強電界領域を発生させる
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 前記転送部を介して前記増倍領域から前記変換部に電荷を転送する際に、前記読み出し部に対して任意の負バイアスを印加する
請求項2に記載の固体撮像素子。 - 前記半導体基板に対して前記光電変換部を形成した後、前記半導体基板上に結晶成長を行ってエピタキシャル層を形成し、前記エピタキシャル層に前記増倍領域を形成することで、前記光電変換部と前記増倍領域とが積層するように配置される
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 同一の前記半導体基板に対して不純物をイオン注入する際の深さ方向を分離することで、前記光電変換部と前記増倍領域とが積層するように配置される
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 前記光電変換部が形成された第1の半導体基板と、前記増倍領域が形成された第2の半導体基板とを貼り合わせることで、前記光電変換部と前記増倍領域とが積層するように配置される
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 積層するように配置される前記光電変換部と前記増倍領域との間に、前記増倍領域に入射する光を遮光する遮光膜を
さらに備える請求項1に記載の固体撮像素子。 - 隣接する他の画素から前記増倍領域に入射する光を遮光する遮光部を
さらに備える請求項1に記載の固体撮像素子。 - 前記増倍領域が形成される半導体基板の表面に、前記増倍領域から前記変換部へ電荷の転送を行う際に任意のバイアス電圧を印加する複数の電極が配置されている
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 半導体基板に形成されている前記光電変換部のみで光電変換が行われる
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 前記光電変換部が形成されている半導体基板に、特定の波長成分の光に感度を持つ有機膜または無機膜が積層されており、前記有機膜または前記無機膜において光電変換が行われるとともに、前記有機膜または前記無機膜を透過した前記特定の波長成分以外の光が前記光電変換部において光電変換が行われる
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 前記光電変換部と前記増倍領域とが、半導体基板の同層に設けられる配置構成となっている
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 所定個数の前記光電変換部により、前記転送部より後段に設けられるトランジスタにより画素回路を共有する画素共有構造となっている
請求項1に記載の固体撮像素子。 - 光を光電変換により電荷に変換して蓄積する光電変換部と、
前記光電変換部に蓄積されている電荷を読み出す読み出し部と、
前記読み出し部を介して読み出された電荷を一時的に蓄積して増倍する増倍領域と、
前記増倍領域に蓄積されている電荷を、前記電荷を画素信号に変換する変換部に転送する転送部と
を備え、
前記光電変換部と前記増倍領域とが、半導体基板の縦方向に積層して設けられる配置構成となっており、
前記読み出し部は、前記半導体基板の縦方向に前記電荷を読み出す縦型トランジスタ構造であり、
前記転送部は、前記増倍領域および前記変換部の間に配置されるとともに、前記光電変換部から電荷を読み出す縦型トランジスタ構造である
固体撮像素子の駆動方法であって、
前記読み出し部を介して前記光電変換部から前記増倍領域に電荷を読み出す第1の駆動方法と、前記転送部を介して前記光電変換部から前記変換部に電荷を読み出す第2の駆動方法を切り替えることを含む
駆動方法。 - 光を光電変換により電荷に変換して蓄積する光電変換部と、
前記光電変換部に蓄積されている電荷を読み出す読み出し部と、
前記読み出し部を介して読み出された電荷を一時的に蓄積して増倍する増倍領域と、
前記増倍領域に蓄積されている電荷を、前記電荷を画素信号に変換する変換部に転送する転送部と
を有し、
前記光電変換部と前記増倍領域とが、半導体基板の縦方向に積層して設けられる配置構成となっており、
前記読み出し部は、前記半導体基板の縦方向に前記電荷を読み出す縦型トランジスタ構造であり、
前記転送部は、前記増倍領域および前記変換部の間に配置されるとともに、前記光電変換部から電荷を読み出す縦型トランジスタ構造であり、
前記読み出し部を介して前記光電変換部から前記増倍領域に電荷を読み出す第1の駆動方法と、前記転送部を介して前記光電変換部から前記変換部に電荷を読み出す第2の駆動方法を切り替えることができる
固体撮像素子を備える電子機器。
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