JP6988383B2 - 補正値の算出方法、画像形成装置及びプログラム - Google Patents
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Description
感光体の表面を副走査方向に移動させる動作と、複数の光ビームにより前記感光体の表面を主走査方向に走査させる動作とを繰り返して前記感光体を露光し、当該露光により形成された静電潜像を現像して記録媒体に転写することで画像を形成する画像形成装置における濃度むらの補正に用いられる補正値の算出方法であって、
前記複数の光ビームとの干渉パターンが互いに異なる2以上の種別の個別検査画像が、それぞれ前記複数の光ビームに対して異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた検査画像を記録媒体に形成する検査画像形成工程、
前記検査画像の読取結果に基づいて、前記複数の光ビームの各々の位置ずれに起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第1補正値からなる第1補正値群、及び連続する前記走査における多重露光効果に起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第2補正値からなる第2補正値群を算出する補正値算出工程、
を含み、
前記補正値算出工程では、
前記検査画像に含まれる前記個別検査画像の各々について、当該個別検査画像の前記種別及び前記位相関係に基づいて、前記第1補正値群のうち当該個別検査画像の濃度に影響を及ぼす前記光ビームの位置ずれに係る第1補正値と、前記第2補正値群のうち当該個別検査画像が対応する画像パターンに応じた前記多重露光効果の影響量に係る第2補正値との組合せを特定し、
前記読取結果から得られた前記個別検査画像の各々の濃度に係る濃度情報と、前記個別検査画像の各々に対応する前記第1補正値及び前記第2補正値の前記組合せとに基づいて、前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出することを特徴としている。
前記個別検査画像は、前記副走査方向について前記走査の空間的な周期と同一の周期で形成された単位パターンを含み、
前記種別が異なる前記個別検査画像の各々は、互いに異なる前記単位パターンを含むことを特徴としている。
前記異なる複数の位相関係の数は、前記複数の光ビームにおける光ビームの数と同一であることを特徴としている。
前記検査画像形成工程では、前記異なる2以上の種別の個別検査画像が前記異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた画像ユニットが、前記主走査方向について異なる位置に複数配置された前記検査画像を形成し、
前記補正値算出工程では、
前記複数の画像ユニットの各々に基づいて前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出し、
算出された複数組の前記第2補正値群を平均して一組の前記第2補正値群を算出し、
前記一組の第2補正値群に基づいて、前記複数の画像ユニットの各々に対応する前記第1補正値群を再算出することを特徴としている。
前記検査画像形成工程では、前記異なる2以上の種別の個別検査画像が前記異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた画像ユニットが、前記主走査方向について異なる位置に複数配置された前記検査画像を形成し、
前記補正値算出工程では、
前記複数の画像ユニットの各々に基づいて前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出し、
得られた複数組の前記第1補正値群及び複数組の前記第2補正値群のうち少なくとも一方について、各組の補正値群を対象として、対象の組の補正値群を含む二以上の組の補正値群の、当該二以上の組の各々に対応する画像ユニット同士の主走査方向の距離に応じた重み付け平均値を算出し、前記対象の組の補正値群を前記重み付け平均値に更新することを特徴としている。
前記補正値算出工程では、前記複数の光ビームの各々に係る位置ずれ同士の間に所定の相関関係を仮定し、当該相関関係に基づいて前記第1補正値群を算出することを特徴としている。
前記検査画像形成工程では、前記複数の位相関係の各々について、前記種別及び前記位相関係が同一である2以上の前記個別検査画像を含む前記検査画像を形成することを特徴としている。
前記検査画像形成工程では、濃度及び前記副走査方向についての空間周波数が前記個別検査画像と同等であり、かつ前記複数の光ビームとの間で干渉パターンを有しない複数の参照画像を含む前記検査画像を形成し、
前記補正値算出工程では、前記参照画像の濃度に応じて補正された前記個別検査画像の濃度情報に基づいて前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出することを特徴としている。
読取手段により、所定の読取解像度、所定の空間フィルタ特性、及び画像領域の属性に応じた読取処理の設定に係る所定の領域判別設定で前記検査画像を読み取る読取工程を含み、
前記読取工程では、前記読取解像度、前記空間フィルタ特性及び前記領域判別設定のうち少なくとも一つを、前記個別検査画像との干渉が生じないように調整することを特徴としている。
前記検査画像形成工程の前に、前記複数の光ビームの光量ばらつきを低減させる光量調整工程を含むことを特徴としている。
前記複数の光ビームの各々による照射位置及び光量の少なくとも一方の変動を検出し、検出された変動の量に応じて前記第1補正値群に含まれる前記複数の第1補正値の少なくとも一部を修正する補正値修正工程を含むことを特徴としている。
感光体と、
複数の光ビームを射出する光源と、
前記感光体の表面を副走査方向に移動させる動作と、前記複数の光ビームにより前記感光体の表面を主走査方向に走査させる動作とを繰り返して前記感光体を露光し、当該露光により形成された静電潜像を現像して記録媒体に転写させることで画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段の動作を制御する画像形成制御手段と、
前記複数の光ビームの各々の位置ずれに起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第1補正値からなる第1補正値群、及び連続する前記走査における多重露光効果に起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第2補正値からなる第2補正値群を算出する補正値算出手段と、
を備え、
前記画像形成制御手段は、前記画像形成手段により、前記複数の光ビームとの干渉パターンが互いに異なる2以上の種別の個別検査画像が、それぞれ前記複数の光ビームに対して異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた検査画像を記録媒体に形成させ、
前記補正値算出手段は、
前記検査画像に含まれる前記個別検査画像の各々について、当該個別検査画像の前記種別及び前記位相関係に基づいて、前記第1補正値群のうち当該個別検査画像の濃度に影響を及ぼす前記光ビームの位置ずれに係る第1補正値と、前記第2補正値群のうち当該個別検査画像が対応する画像パターンに応じた前記多重露光効果の影響量に係る第2補正値との組合せを特定し、
前記検査画像の読取結果から得られた前記個別検査画像の各々の濃度に係る濃度情報と、前記個別検査画像の各々に対応する前記第1補正値及び前記第2補正値の前記組合せとに基づいて、前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出することを特徴としている。
前記画像の形成に用いられる画像データにおける画素の階調値を、前記第1補正値群のうち補正対象の画素に対応する第1補正値、及び前記第2補正値群のうち前記補正対象の画素に対応する第2補正値の少なくとも一方に基づいて補正する補正手段を備えることを特徴としている。
感光体と、複数の光ビームを射出する光源と、前記感光体の表面を副走査方向に移動させる動作と、前記複数の光ビームにより前記感光体の表面を主走査方向に走査させる動作とを繰り返して前記感光体を露光し、当該露光により形成された静電潜像を現像して記録媒体に転写させることで画像を形成する画像形成手段と、を備える画像形成装置のコンピューターを、
前記画像形成手段の動作を制御する画像形成制御手段、
前記複数の光ビームの各々の位置ずれに起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第1補正値からなる第1補正値群、及び連続する前記走査における多重露光効果に起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第2補正値からなる第2補正値群を算出する補正値算出手段、
として機能させ、
前記画像形成制御手段は、前記複数の光ビームとの干渉パターンが互いに異なる2以上の種別の個別検査画像が、それぞれ前記複数の光ビームに対して異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた検査画像を記録媒体に形成させ、
前記補正値算出手段は、
前記検査画像に含まれる前記個別検査画像の各々について、当該個別検査画像の前記種別及び前記位相関係に基づいて、前記第1補正値群のうち当該個別検査画像の濃度に影響を及ぼす前記光ビームの位置ずれに係る第1補正値と、前記第2補正値群のうち当該個別検査画像が対応する画像パターンに応じた前記多重露光効果の影響量に係る第2補正値との組合せを特定し、
前記検査画像の読取結果から得られた前記個別検査画像の各々の濃度に係る濃度情報と、前記個別検査画像の各々に対応する前記第1補正値及び前記第2補正値の前記組合せとに基づいて、前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出することを特徴としている。
画像形成装置100は、制御部11(画像形成制御手段、補正値算出手段、コンピューター)、記憶部12、操作部13、表示部14、通信部15、画像生成部16、画像メモリー17、画像処理装置GA、画像形成部18及び画像読取部19(読取手段)を備えている。
例えば、制御部11は、画像生成部16により生成され、画像メモリー17に保持された画像データを、画像処理装置GAにより画像処理させて、画像処理後の画像データに基づいて、画像形成部18により記録媒体上に画像を形成させる。
通信部15は、ネットワークを介してユーザー端末等から、画像を形成する指示内容がページ記述言語(PDL:Page Description Language)で記述されたデータ(以下、PDLデータという)を受信する。
画像生成部16の処理内容は、CPU、GPU(Graphics Processing Unit)等のプロセッサーにより画像生成用のプログラムを実行するソフトウェア処理により実現することができる。
例えば、画像生成部16は、ラスタライズ処理時に、PDLデータ中の文字コードの記述にしたがって描画した、かな、アルファベット、数字等の画像の各画素の属性を文字(Text)と決定することができる。また、画像生成部16は、DXF、SVG、WMF等のベクター形式の記述にしたがって描画した多角形、円、罫線等の画像の各画素の属性を図形(Graphics)と決定し、JPEG形式のファイルにより描画した写真画像等の画像の属性を写真(Image又はPhotograph)と決定することができる。
画像処理装置GAは、図1に示すように、γ補正部A1、疑似多階調処理部A2及びビーム補正部A3(補正手段)を備えている。
なお、文字、線等の画像が2値である場合、ビーム補正部A3による補正が特に有効であるが、これらの画像は、通常、疑似多階調処理の前後で変化が無い。よって、属性データを画像データとともに入力し、属性データが文字又は図形の属性を示す画素は、疑似多階調処理の対象外としてもよい。また、文字、線等の画像が多値である場合も同様にして疑似多階調処理の対象外としてもよい。
ビーム補正部A3の処理内容は、CPUやGPU等のプロセッサーにより、補正処理用のプログラムを読み出して実行するソフトウェア処理によって実現してもよいし、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、FPGA(Field-Programmable Gate
Array)等のハードウェアによって実現してもよい。
具体的には、画像形成部18は、C、M、Y及びKの色ごとに露光部、感光体、現像部等を備えている。画像形成部18では、露光部により、画像データの各画素の階調値に応じて変調したレーザービームで帯電した感光体上を露光走査して、静電潜像を形成した後、現像部によりトナーを供給して静電潜像を現像する。このようにして、画像形成部18では、C、M、Y及びKの各色の画像をそれぞれの感光体上に順次形成し、各感光体から中間転写ベルト等の転写体上に重ねて1次転写する。得られたカラー画像を転写体から記録媒体上へ2次転写した後、記録媒体を加熱及び加圧して定着処理する。
図2は、マルチビームを照射する露光部の概略構成を示す図である。
露光部は、図2に示すように、レーザー光源部20(光源)、コリメーターレンズ31、スリット32、シリンドリカルレンズ33、ポリゴンミラー34、fθレンズ35、シリンドリカルレンズ36、ミラー37及びセンサー38を備えて構成されている。
画像読取部19としては、例えばラインセンサー、エリアセンサー等を使用することができる。
上記画像形成装置100により記録媒体上に画像を形成する際、マルチビームの各レーザービームに位置ずれが生じると、画像の濃度変化が生じることがある。
図3は、レーザービームの位置ずれによる濃度変化を説明する図である。
このうち図3(a)は、ビーム位置のずれがないときの斜線画像を示している。図3(a)に示すように、マルチビームMとマルチビームMのビーム間隔k1は一定であり、各レーザービームのビーム間隔k2も一定である場合、すなわちk1/(マルチビーム数)=k2となり、ビーム位置が常に等間隔となっている場合、一定濃度の斜線画像を形成することができる。
図3(b)に示すように、マルチビームの位置がずれ、マルチビームMとマルチビームMのビーム間隔k1が広くなると、各マルチビームMの境界上に位置する画像部分の線幅が太くなり、濃度が上昇する。ビーム間隔k1が狭くなる場合は、逆に線幅が短くなり、濃度が低下する。
図4は、マルチビームのビーム間隔のずれによって生じたモアレの一例を示す図である。
図4に示すように、マルチビームのビーム間隔が狭くなって濃度が低下した部分が上下方向に連続して現れている。この濃度が低下した部分は、斜線画像中に周期的に現れ、モアレとして視認される。
図5は、4つのレーザービームにより4画素幅の線画像を形成したときの各レーザービームの光量分布を示す図である。
上述のように、電子写真方式では、レーザービームで感光体40上を走査し、その表面電位を変化させてトナーを付着させており、トナーの付着量はレーザービームの光量に比例する。表面電位が変化しトナーが付着し始めるまで、一定量Th以上の光量が必要であり、光量が一定量Thを超える領域がトナーで形成される画像領域となる。図5中、Thに相当する光量を一点鎖線で表している。
画像形成装置100では、上述したレーザービームの位置ずれによる濃度変化の他に、マルチビームを用いて記録媒体上に画像を形成する際の多重露光効果によっても濃度変化が生じ、当該濃度変化により画像に濃度むらが生じることがある。
多重露光効果は、露光によって感光体40に与える光エネルギーの総量が同じであっても、1回で与えるよりは複数回に分けて与えた方が、感光体40の表面電位の変化量が大きくなる現象であり、相反則不軌とも呼ばれている。
2回の露光走査によって形成する場合も、4つのレーザービームにより同量の光エネルギーを与えるが、図6(c)に示すように、与える光エネルギーを2回に分けて時間をおいて与えるため、多重露光効果によって、先に走査したパターン部分と後に走査したパターン部分の境界において濃度上昇が生じてしまう。
図7(a)は、各レーザービームのスポットが目的とする1画素のサイズと同じである理想的なマルチビームで形成した斜線のパターン例を示している。この場合には、各レーザービームのスポットの重なりがないため、複数のレーザービームから同時に光エネルギーを付与する領域がない。このようなマルチビームMで露光走査しても多重露光効果は生じず、斜線のパターン内で濃度変化は生じない。
図4に示すように、複数の斜線のパターンを一定周期で繰り返し配置したラダーパターンでは、マルチビームの境界において濃度上昇した部分が副走査方向yに連続して現れている。この濃度上昇部分は、主走査方向xにおいても周期的に現れ、モアレとして観察される。
図8は、ビーム補正部A3の機能構成を示すブロック図である。
図8に示すように、ビーム補正部A3は、変換部1、補正部2、逆変換部3、ノイズ付与部4及びビット調整部5を備えている。
ビーム補正部A3は、画像データJ1の各画素を補正して画像データJ2として出力する。画像データJ1及びJ2は、解像度が1200dpiであり、各画素が4ビットすなわち0〜15の階調値を有する。なお、上記解像度は一例であり、これに限定されない。例えば、主走査方向xに1200dpi、副走査方向yに2400dpi等、主走査方向xと副走査方向yとで解像度が異なる場合もある。
ノイズ付与の方法は上記に限定されない。例えば、5ビットの擬似乱数を生成する各種既存の処理をディザマトリクスの代わりに用いても良い。
次に、第1補正部201による、レーザービームの位置ずれに起因する濃度むらの補正方法について説明する。
図9に示すように、第1補正部201では、画像データJ1の始点の画素を含む1×5画素から終点の画素を含む1×5画素を入力するまで、1×5画素の観察窓の位置を主走査方向xに1画素ずつシフトし、主走査方向xの終端に至ると副走査方向yに1画素シフトして、入力を繰り返す。
演算部21は、入力した1×3画素の各階調値を比較する(ステップS11)。
比較した各階調値が下記エッジパターンPe1及びPe2のいずれかに該当する場合(ステップS12:Y)、演算部21は、1×3画素の中心に位置する画素をオブジェクトの輪郭画素とするエッジを検出し、そのエッジ強度ΔLを算出する(ステップS13)。オブジェクトとは、文字や図形、写真等の前景のパターンをいう。
図11に示すように、1×3画素の各画素A〜Cの階調値をD[A]〜D[C]と表すと、エッジパターンPe1は、D[A]<D[B]≦D[C]を満たすパターンであり、エッジパターンPe2は、D[C]<D[B]≦D[A]を満たすパターンである。エッジパターンPe1に該当する場合、画素Aと画素Bの間にエッジが位置し、エッジパターンPe2に該当する場合、画素Bと画素Cの間にエッジが位置している。いずれのパターンPe1及びPe2においても、画素Bがオブジェクトの輪郭画素である。
(1) ΔL=|D[B]−D[A]|
(2) ΔL=|D[B]−D[C]|
演算部21は、下記式(3)により1×3画素の中心に位置する画素Bの階調値の階調補正量Kjを算出することができる。この階調補正量Kjを用いれば、下記式(4)に示すように、レーザービームの位置ずれに起因する補正ムラを補正した階調値D*[B]を算出することができる。
(3) Kj=w[n]×ΔL
(4) D*[B]=D[B]+Kj
エッジパターンPe1に該当する場合、画素B及びCは、オブジェクトの画素であり、画素Aはオブジェクトの背景の画素であり、画素A及びB間にエッジが位置している。
図12に示すように、輪郭画素Bの階調値に応じて変調されるレーザービームのビーム位置1が基準位置からオブジェクトの内側へずれると、オブジェクトの線幅が細くなってしまう。
具体的には、修正部22は、図9に示すように、第1補正部201に入力した1×5画素のうち、中央の3画素については階調補正量Kjを用いて上記式(4)に従って階調値を補正した3画素を配置して1×5画素を再構成する。再構成した1×5画素の両端の2画素は元の画素のままである。修正部22は、1×5画素の各階調値を比較し、各階調値のパターンが修正対象のパターンに該当するか否かを判断する。
図13に示すように、修正対象のパターンPb1〜Pb4は、注目画素の階調値か、注目画素とエッジを介して隣接する画素の階調値が、補正によって最大値を超えたパターンである。修正部22は、パターンPb1、Pb2、Pb3、Pb4の順に、該当するか否かを判断する。
次に、第2補正部202による、多重露光効果に起因する濃度むらの補正方法について説明する。
図14に示すように、第2補正部202では、画像データJ1の始点の画素を含む1×7画素から終点の画素を含む1×7画素を入力するまで、1×7画素の観察窓の位置を主走査方向xに1画素ずつシフトし、主走査方向xの終端に至ると副走査方向yに1画素シフトして、入力を繰り返す。
図15に示すように、第2補正部202は、入力した1×7画素の各階調値を取得する(ステップS21)。次に、第2補正部202は、照合に使用する複数のテンプレートを選択し(ステップS22)、入力した1×7画素を選択した各テンプレートと照合する。テンプレートは、レジスタや記憶部12等のメモリーに保持して、必要なテンプレートを取得すればよい。
図16に示す各テンプレートでは、1×7画素のなかで、マルチビームの境界が位置する画像パターンの有階調画素と、画像パターンの背景の無階調画素とが定められている。また、1×7画素の中心に位置する画素が補正対象画素として定められている。有階調画素は階調値が最小値よりも大きい画素であり、無階調画素は階調値が最小値である画素である。入力した1×7画素と有階調画素及び無階調画素の位置が同じテンプレートがあれば、当該テンプレートと一致したと判断することができる。なお、テンプレート中の評価外の画素は、有階調画素か無階調画素かを問わない画素である。
以下では、補正値L1〜L5を互いに区別しない場合には補正値Lと記し、補正値U1〜U5を互いに区別しない場合には補正値Uと記す。これらの補正値L、Uは、第2補正値に対応する。
(6) CJ2=CJ1−Kh
〔上記式(5)及び(6)において、Khは階調補正量を表す。ΣCは、補正対象画素と同じマルチビーム内に位置する画素群の階調値の総和を表す。kは、正負の符号を有する補正値L又は補正値Uのいずれかを表す。CJ2は補正後の補正対象画素の階調値を表し、CJ1は補正前の補正対象画素の階調値を表す。〕
テンプレートT13では、補正対象画素(注目画素)と同じマルチビーム内に位置する画素群は、マルチビームの境界より下に位置する3つの有階調画素である。この3つの有階調画素の階調値の総和ΣCに、テンプレートT13に設定された補正値L3を乗算して階調補正量Khを得ることができる。補正値L3が正の符号を有する場合、図17に示すように、補正対象画素の階調値をΣC×kだけ減らすことができる。
例えば、第2補正部202は、図16に示すテンプレートT12〜T14かテンプレートT23〜T25を選択し、テンプレートT52〜T54かテンプレートT63〜T65を選択して照合に用いることにより、画像パターンの外郭からマルチビームの境界までの間で補正対象画素の位置を決定することができる。
細線化処理を実施する場合、図18に示すように、細線化処理によって画像パターンの外郭の階調値が減らされる。テンプレートT13では、補正対象画素が細線化処理と同じ画像パターンの外郭に位置するため、補正を実施するとさらに階調値を減らすことになり、細線化処理で意図したよりも濃度が低下してしまう。また、細線化処理によって減った分だけ補正で減らせる階調値の幅も小さくなり、補正の効果も表れにくい。ここで、図18に示すように、テンプレートT13に代えてテンプレートT24を選択すれば、細線化処理とは異なる画素を補正対象画素とすることができ、細線化処理と補正の両方の効果が得られる。
テンプレートT11の補正値L1が負の符号を有する場合、補正対象画素の元の階調値が最大値であると、補正によって階調値を増やすことができない。この場合は、図19に示すように、テンプレートT11の代わりにテンプレートT21を選択して使用すれば、背景の外郭を補正対象画素として階調値を増やして、多重露光効果によって濃度が減る分だけ画像パターンの幅を太くすることができる。
図16に示す各テンプレートT11〜T15、T21〜25、T51〜T55及びT61〜T65では、補正対象画素と同じマルチビーム内に位置する画素群の範囲を、1〜5画素に設定しているので、第2補正部202は、多重露光効果が及ぶ範囲に応じた画素群の範囲が定められたテンプレートを選択すればよい。例えば、マルチビーム内で3つのレーザービームのスポットが重なり合い、マルチビームの境界から3、4画素まで多重露光効果が及ぶ場合、第2補正部202はテンプレートT11〜T14を選択して使用すればよい。また、マルチビーム内で5つのレーザービームのスポットが重なり合う場合、第2補正部202は、さらにテンプレートT15も選択すればよい。これにより、不要な演算を減らし、効率的な補正が可能になる。
マルチビームのレーザービーム数が少なく、画像パターン内に複数のマルチビームの境界が位置すると、補正の効果が少ない。そのため、補正対象画素と同じマルチビーム内に位置する画素群の幅(画素数)がマルチビームのレーザービーム数以下であり、補正が効果的な画像パターンのみを検出することにより、補正の効率化を図ることができる。
補正合成部203は、第1補正部201において算出した階調補正量Kjと、第2補正部202において算出した階調補正量Khとを、注目画素の階調値に加算し、多重露光効果及びレーザービームの位置ずれのそれぞれに起因する濃度むらを補正した階調値を逆変換部3に出力する。
次に、上述した第1補正部201による補正に用いられる補正値Cb、及び第2補正部202による補正に用いられる補正値L、Uの算出方法について説明する。
本実施形態の補正値の算出方法では、画像形成装置100により所定のテストチャートTC(検査画像)を記録媒体上に形成し、当該テストチャートTCの画像読取部19による読取結果を解析することで補正値Cb及び補正値L、Uを算出する。
以下では、図20〜図26を参照して、テストチャートTCの内容について説明する。ここでは、マルチビームを構成するレーザービームの数が16である場合を例に挙げて説明する。
テストチャートTCは、記録媒体m上に形成された画像であり、主走査方向xに沿って配列された5つの画像ユニットIUを有している。各画像ユニットIUの内容は、それぞれ同一である。
画像ユニットIUは、マトリクス状に配列された複数の略正方形の測定パッチP(個別検査画像)、及び測定パッチPの配置領域を検出するためのトンボTを有する。
画像ユニットIUには、レーザー光源部20から射出されるマルチビームとの干渉パターンが互いに異なる2つの種別の測定パッチPが含まれている。具体的には、画像ユニットIUには、副走査方向yについてのオン画像(トナーを付与する画素)及びオフ画素(トナーを付与しない空白画素)の配列数が互いに異なる「4On−12Off」の測定パッチP及び「8On−8Off」の測定パッチPが含まれている。また、画像ユニットIUでは、「4On−12Off」の測定パッチP及び「8On−8Off」の測定パッチPが、それぞれマルチビームに対して異なる16の位相関係を有するように(すなわち、マルチビームにおけるレーザービームの数と同一数の異なる位相関係を有するように)16パターン設けられている。この位相関係が異なる測定パッチPのパターンを、以下ではパッチパターンPPとも記す。図21の測定パッチP内に記された数字は、このパッチパターンPPの番号を表している。
4On−12Offの測定パッチPでは、副走査方向yについて、オン画素が4画素に亘って連続する部分と、オフ画素が12画素に亘って連続する部分とが交互に繰り返し現れるようにオン画像及びオフ画素が配置されている。また、測定パッチPのうち、16本のレーザービームを有するマルチビームによる1回の走査で形成される部分が、単位パターンPAを構成する。したがって、単位パターンPAは、副走査方向yについてマルチビームによる走査の空間的な周期と同一の周期で形成されている。
8On−8Offの測定パッチPでは、副走査方向yについて、オン画素が8画素に亘って連続する部分と、オフ画素が8画素に亘って連続する部分とが交互に繰り返し現れるようにオン画素及びオフ画素が配置されている。
8On−8Offの測定パッチPでも、パッチパターンPPの番号が1ずつ増加するに従って、位相が副走査方向yに1画素単位でシフトするように、すなわちオン画素が配置される範囲が副走査方向yに1画素ずつずれるようになっている。
測定パッチPでは、図24(a)に示されるように、単位パターンPAが副走査方向yに複数繰り返し設けられている。副走査方向yについての単位パターンPAの幅は、画像形成部18による副走査方向yの記録解像度と、マルチビームにおけるレーザービームの数に応じて定まり、本実施形態では約0.16mmである。各測定パッチPに含ませる単位パターンPAの数は、特には限られないが、画像読取部19による測定範囲が確保でき、かつ画像読取部による測定において測定パッチPの平均濃度(輝度)が読み取れるような数とすることが望ましい。具体的には、各測定パッチPには、10乃至100程度の単位パターンPAを設けることが望ましい。単位パターンPAの数が少ない場合(例えば、10未満)には、読取範囲によって測定対象となるオン画素の数とオフ画素の数との比率がばらつく不具合を避けるために、副走査方向yについて単位パターンの整数倍の大きさを有する領域の読取結果を用いることが望ましい。
また、測定パッチPをマトリクス状に配列する必要がない場合には、図24(c)のように、同一の単位パターンPAを副走査方向yに1画素ずつずらして配置することで複数の測定パッチPを形成しても良い。
本実施形態では、同一の測定パッチPが4個ずつ配置されている。よって、画像ユニットIUには2つの種別(4On−12Off及び8On−8Off)について各々16パターンの測定パッチPが4つずつ設けられており、2×16×4=128個の測定パッチPが含まれている。また、4つの同一の測定パッチPの位置の重心や分布範囲が互いに可能な限り近くなるように各測定パッチPの位置が定められている。
テクスチャーパターンパッチTPは、マルチビームとの間で干渉パターンを有しない画像であり、濃度及び副走査方向yについての空間周波数が測定パッチPと略同等となるように、かつ測定パッチPと同一の形状を有するように形成されている。このように、テクスチャーパターンパッチTPの濃度や空間周波数を測定パッチPと同等にすることにより、レーザービームの位置ずれ及び多重露光効果以外の要因の濃度変化の傾向がテクスチャーパターンパッチTPと測定パッチPとで同様となるようにすることができる。換言すれば、テクスチャーパターンパッチTP及び測定パッチPの濃度や空間周波数が同等であるとは、当該濃度や空間周波数の差が、テクスチャーパターンパッチTPと測定パッチPとで上記濃度変化の傾向が同様となる範囲内であることをいう。
ここでは、マルチビームにおける16本のレーザービームに対応する、レーザービームの位置ずれに係る補正値Cb01〜Cb16と、図16に示される多重露光効果に係る補正値L1〜L5及び補正値U1〜U5とを算出する。このうち、補正値Cb01〜Cb16からなる補正値の群が第1補正値群に相当し、補正値L1〜L5及び補正値U1〜U5からなる補正値の群が第2補正値群に相当する。
以下、補正値Cb及び補正値L、Uの算出方法を具体的に説明する。
補正値Cbの算出では、まず、図27の(a)列に示されるように、4On−12Off、8On−12Offの干渉パターンの各々に対し、1番〜16番のパッチパターンの各測定パッチPについての画像読取部19による読取結果である測定濃度(濃度に係る濃度情報)を取得する。ここでは、画像読取部19により、画像ユニットIUに含まれる各測定パッチPの中央付近を撮像し、反射光強度(輝度)を8bit階調で検出する。そして、種別及びパッチパターンPPの番号が等しい4つの測定パッチPの検出強度を平均したものを測定濃度としている。よって、図27、28における測定濃度は、数値が大きいほど濃度が低い(輝度が高い)ことを表している。
続いて、得られた測定濃度の平均値と、各測定パッチPの測定濃度との差分((b)列)を算出する。
例えば、4On−12Offの測定パッチPのうち1番のパッチパターンPPでは、1〜4のビーム位置にオン画素が配置されるため、レーザービームの位置ずれによる影響量は、1、4のビーム位置に各々対応する補正値Cbの差(補正値Cb01−Cb04)となる。また、8On−8Offの測定パッチPのうち1番のパッチパターンPPにおけるレーザービームの位置ずれによる影響量は、1、8のビーム位置に各々対応する補正値Cbの差(補正値Cb01−Cb08)となる。
例えば、4On−12Offの測定パッチPにおける14番のパッチパターンでは、図22に示されるように、マルチビームの境界の下側には1つのオン画素があり、当該下側の画像パターンに着目すると、図16におけるテンプレートT11又はT21に対応する。また、マルチビームの境界の上側には3つのオン画素があり、当該上側の画像パターンに着目すると、図16におけるテンプレートT53又はT64に対応する。したがって、当該14番のパッチパターンでは、テンプレートT11又はT21に対応する補正値L1、及びテンプレートT53又はT64に対応する補正値U3が測定濃度に影響する補正値となる。
具体的には、まず、4On−12Offの測定パッチPについての、仮の補正値Cb01を0とする。次に、図27における1番のパッチパターンPPに対する(b)列と(c)列との比較から、
1.218=Cb01−Cb04
=0−Cb04
との等式が成り立つため、仮の補正値Cb04が−1.218と算出される。次に、4番のパッチパターンに対する(b)列と(c)列との比較から、
0.335=Cb04−Cb07
=−1.218−Cb07
との等式が成り立つため、仮の補正値Cb07が−1.553と算出される。
このように、(f)列の算出順序に従うことで、(c)列における2つの補正値Cbのうち一方が確定したパッチパターンPPについて(b)列と(c)列とを比較することができ、仮の補正値Cb01〜Cb16を順次算出することができる。
また、4On−12Offの仮の補正値Cb01〜Cb16の算出と同様に、8On−8Offの仮の補正値Cb01〜Cb16を算出する。
なお、1番〜16番のパッチパターンPPに対応する16個の等式からなる連立方程式を解くことが可能な場合には、当該連立方程式から仮の補正値Cb01〜Cb16を直接算出しても良い。
例えば、4On−12Offの測定パッチPについての仮の補正値Cb03は、16番のパッチパターンPPに係る等式
−1.407=Cb16−Cb03
に基づいて算出されるが、当該等式の左辺の値には、図27の(e)列に示されるように、補正値U1、L3が影響している。したがって、この等式から導かれる補正値Cb03も、補正値U1、L3が影響していることとなり、図28の(j)列では、補正値Cb03の行に「U1、L3」が示されている。
本実施形態では、図29(a)の2本のグラフの値を平均して図29(b)のグラフを生成し、当該グラフの近似曲線AL上の値として補正値Cb01〜Cb16を確定させる。すなわち、マルチビームにおける16本のレーザービームの各々に係る位置ずれ同士の間に所定の相関関係(ここでは、同一の近似曲線AL上に乗る関係)を仮定し、当該相関関係に基づいて補正値Cb01〜Cb16を算出する。図29(b)の近似曲線ALは、
y=0.0016x^2−0.2115x+1.6447
であり、当該近似曲線ALのxにビーム位置(1〜16)を各々代入することで、補正値Cb01〜16が得られる(図28の(i)列)。
各測定パッチPの測定濃度((a)列)から、図28の(i)列のように求められた補正値Cbの影響を取り除くことで、レーザービームの位置ずれについての補正がなされた測定濃度が得られる((l)列)。詳しくは、図28の(i)列の補正値Cbの値を用いて、図27の(c)列に示されたレーザービームの位置ずれによる影響量を算出し((k)列)、その値を測定パッチPの測定濃度((a)列)から差し引くことで、(l)列の補正後の測定濃度が得られる。この(l)列の測定濃度のうち、マルチビームの境界を跨ぐパッチパターンPP(すなわち、(d)列に「○」が示されているパッチパターンPP)に対応する測定濃度のみに、多重露光効果の影響が現れているため、これらの測定濃度の値から補正値L、Uを求めることができる。
得られた偏差の各々が、図27の(e)列に示された補正値L、Uに関連する。例えば、4On−12Offの14番のパッチパターンに対応する偏差(−0.151)は、補正値U3+補正値L1に等しく、15番のパッチパターンに対応する偏差(−0.651)は、補正値U2+補正値L2に等しく、16番のパッチパターンに対応する偏差(0.957)は、補正値U1+補正値L3に等しい。8On−8Offの10番〜16番のパッチパターンについても、同様に補正値L、Uについての等式が導ける。これらの10個の等式から、補正値L1〜L5、U1〜U5を算出する。
まず、補正値U4、L4に対し、得られる等式がU4+L4=0.123の1つであるため、補正値U4、L4を独立に求めることはできないから、U4=L4と仮定して各補正値を算出する(0.062)。
また、補正値U5、L5についても、得られる等式がU5+L5=0.948の1つであるため、U5=L5と仮定して各補正値を算出する(0.474)。補正値U5、L5が確定すると、8On−8OffのパッチパターンPPに対する各等式から、補正値U1〜U3、L1〜L3を算出することができる。
図31の例では、補正値L1、U1が負の符号を有している。よって、第2補正部202による補正では、マルチビームの境界からの画像パターン内の画素数が1である場合(例えば、画像パターンが図16のテンプレートT11、T21、T51、T61に一致する場合)には、上述の式(6)に従って画素の階調値を増大させることで濃度を高くする補正がなされる。
また、本実施形態の方法では、補正値Cbは、レーザービームの数が偶数でないと値を一意に特定することができないため、レーザービームの数を奇数とした場合に、連立方程式を解くことで補正値Cbと、補正値L、Uと一意に確定させることはできない。このため、レーザービームの数を偶数としてレーザービームの位置ずれに係る補正値Cbを算出した後で、レーザービームの数を奇数として多重露光効果に係る補正値L、Uを算出すれば良い。
この結果、図20に示される5つの画像ユニットIUの各々について、補正値Cb01〜Cb16と、補正値L1〜L5、U1〜U5が算出される。
なお、補正値Cbに代えて、又は補正値Cbに加えて、補正値L、Uに対して上記の重み付け平均を行っても良い。
また、マルチビームにおける各レーザービームの照射位置や光量を直接測定することが可能な検出部を設けてレーザービームの照射位置や光量の変動量を検出し、検出された変動の量に応じて補正値Cb01〜Cb16の少なくとも一部を修正してもよい(補正値修正工程)。このような修正を、上述の方法による補正値Cb、補正値U、Lの算出頻度よりも高い頻度で行うことで、テストチャートTCの形成に起因する通常画像の形成の生産性低下を抑制しつつ、テストチャートTCの形成に用いられる記録媒体の消費量を低減させることができる。
図32は、補正設定処理の制御手順を示すフローチャートである。
補正設定処理は、例えばユーザーから操作部13に対して補正設定の実行を指示する入力操作がなされた場合に開始される。
このステップS104では、画像読取部19により、所定の読取解像度、所定の空間フィルタ特性、及び画像領域の属性に応じた読取処理の設定に係る所定の領域判別設定でテストチャートTCを読み取る。また、当該読み取りでは、上記の読取解像度、空間フィルタ特性及び領域判別設定のうち少なくとも一つを、測定パッチPとの干渉が生じないように調整する。
画像読取部19の読取解像度やMTF(Modulated Transfer Function)特性によっては、読取解像度と単位パターンPAの繰り返し周期との間で干渉が生じ、読取結果に影響を及ぼす場合がある。このため、画像読取部19の読取解像度を単位パターンPAと干渉を起こしにくい設定(例えば単位パターンPAの空間的な繰り返し周期より充分高い解像度)とするか、単位パターンPAの繰り返し周期でMTFが充分低くなるよう空間フィルタを掛ける等の手当てをすることが好ましい。
また、画像読取部19が、画像領域の属性の判別(例えば、文字に係る文字領域であるか、写真等の多階調画像領域であるかの判別)を行って、当該判別の結果に応じた読取処理を行うものである場合、当該読取処理の設定に係る領域判別設定を、上記干渉が生じないように変更した上で読み取りを行うことが好ましい。例えば、文字領域においてエッジ強調処理を行うように設定されている場合には、測定パッチPが文字領域と判別されると正確な濃度の測定ができなくなるおそれがあるため、画像領域の属性の判別を行わないように設定することが望ましい。
なお、補正値Cb及び補正値L、Uの適用方法はこれに限られない。例えば、レーザービームの位置ずれに係る補正値Cbに基づいて、図2におけるマルチビームの傾斜角度θや各種レンズの配置を調整することで、レーザービームの照射位置を調整してもよい。また、多重露光効果に係る補正値L、Uに基づいて、図2のスリット32やビーム光束の開口径を制限する図示しない絞り等を調節し、感光体40上でのビーム径を調整することで、多重露光効果による濃度の変動量を安定化させても良い。
補正値算出処理が呼び出されると、制御部11は、各測定パッチPの測定濃度を取得する(ステップS201)。
ステップS204の処理が終了すると、制御部11は、処理を補正設定処理に戻す。
このような方法によれば、通常、テストチャートTCの読取結果から独立に算出することが困難である、レーザービームの位置ずれに係る補正値Cbと多重露光補正に係る補正値L、Uとを、テストチャートTCの読取結果に基づいて容易に各々独立に算出することができる。
通常、多重露光効果による濃度変化の大きさは、主走査方向xについてのばらつきが小さいため、複数の画像ユニットIUから求めた複数組の第2補正値群を平均することで、ノイズの影響を小さく抑えた補正値L、Uを得ることができる。また、このように求めた第2補正値群に基づいて第1補正値群(補正値Cb01〜Cb16)を再算出することで、異なる主走査方向xの位置におけるレーザービームの位置ずれに係る補正値Cbをより正確に求めることができる。
これにより、位置関係の近い補正値が相互に平均化されるため、主走査方向xについての位置に対する補正値の変動傾向を反映させつつ、ノイズの影響の少ない補正値を算出することができる。
このような複数のテクスチャーパターンパッチTPの濃度分布から、主走査方向x及び副走査方向yについての画像形成濃度のばらつきを把握することができるので、テクスチャーパターンパッチTPの濃度に応じて測定パッチPの濃度情報を補正することで、上記画像形成濃度のばらつきの影響を抑えて正確な補正値Cb及び補正値L、Uを算出することができる。
このような構成によれば、レーザービームの位置ずれに係る補正値Cbと多重露光補正に係る補正値L、Uとを、テストチャートCの読取結果に基づいて容易に各々独立に算出することができる。
例えば、測定パッチPの種別は、図22及び図23に示した4On−12Off及び8On−8Offに限られず、マルチビームにおける複数のレーザービームとの干渉パターンが互いに異なる他の種別の測定パッチPを用いても良い。ただし、測定パッチPの濃度が、画像読取部19による測定感度の高い範囲内となるようなパターン(濃度が高すぎたり低すぎたりする範囲を除いた中庸の濃度範囲)であることが望ましい。
また、使用する測定パッチPの種別の数は2つに限られず、複数のレーザービームとの干渉パターンが互いに異なる3つ以上の種別の測定パッチPを用いても良い。測定パッチPの種別の数によっては、各測定パッチPにおいて用意する位相状態の数(パッチパターンPPの数)を、レーザービームの数よりも少なくすることができる。
12 記憶部
12a プログラム
18 画像形成部(画像形成手段)
19 画像読取部(読取手段)
20 レーザー光源部(光源)
21 演算部
22 修正部
40 感光体
100 画像形成装置
201 第1補正部
202 第2補正部
A3 ビーム補正部(補正手段)
Cb01〜Cb16 補正値(第1補正値、第1補正値群)
IU 画像ユニット
L1〜L5、U1〜U5 補正値(第2補正値、第2補正値群)
M マルチビーム
m 記録媒体
P 測定パッチ(個別検査画像)
PA 単位パターン
PP パッチパターン
TC テストチャート
TP テクスチャーパターンパッチ(参照画像)
Claims (14)
- 感光体の表面を副走査方向に移動させる動作と、複数の光ビームにより前記感光体の表面を主走査方向に走査させる動作とを繰り返して前記感光体を露光し、当該露光により形成された静電潜像を現像して記録媒体に転写することで画像を形成する画像形成装置における濃度むらの補正に用いられる補正値の算出方法であって、
前記複数の光ビームとの干渉パターンが互いに異なる2以上の種別の個別検査画像が、それぞれ前記複数の光ビームに対して異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた検査画像を記録媒体に形成する検査画像形成工程、
前記検査画像の読取結果に基づいて、前記複数の光ビームの各々の位置ずれに起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第1補正値からなる第1補正値群、及び連続する前記走査における多重露光効果に起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第2補正値からなる第2補正値群を算出する補正値算出工程、
を含み、
前記補正値算出工程では、
前記検査画像に含まれる前記個別検査画像の各々について、当該個別検査画像の前記種別及び前記位相関係に基づいて、前記第1補正値群のうち当該個別検査画像の濃度に影響を及ぼす前記光ビームの位置ずれに係る第1補正値と、前記第2補正値群のうち当該個別検査画像が対応する画像パターンに応じた前記多重露光効果の影響量に係る第2補正値との組合せを特定し、
前記読取結果から得られた前記個別検査画像の各々の濃度に係る濃度情報と、前記個別検査画像の各々に対応する前記第1補正値及び前記第2補正値の前記組合せとに基づいて、前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出することを特徴とする補正値の算出方法。 - 前記個別検査画像は、前記副走査方向について前記走査の空間的な周期と同一の周期で形成された単位パターンを含み、
前記種別が異なる前記個別検査画像の各々は、互いに異なる前記単位パターンを含むことを特徴とする請求項1に記載の補正値の算出方法。 - 前記異なる複数の位相関係の数は、前記複数の光ビームにおける光ビームの数と同一であることを特徴とする請求項1又は2に記載の補正値の算出方法。
- 前記検査画像形成工程では、前記異なる2以上の種別の個別検査画像が前記異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた画像ユニットが、前記主走査方向について異なる位置に複数配置された前記検査画像を形成し、
前記補正値算出工程では、
前記複数の画像ユニットの各々に基づいて前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出し、
算出された複数組の前記第2補正値群を平均して一組の前記第2補正値群を算出し、
前記一組の第2補正値群に基づいて、前記複数の画像ユニットの各々に対応する前記第1補正値群を再算出することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の補正値の算出方法。 - 前記検査画像形成工程では、前記異なる2以上の種別の個別検査画像が前記異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた画像ユニットが、前記主走査方向について異なる位置に複数配置された前記検査画像を形成し、
前記補正値算出工程では、
前記複数の画像ユニットの各々に基づいて前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出し、
得られた複数組の前記第1補正値群及び複数組の前記第2補正値群のうち少なくとも一方について、各組の補正値群を対象として、対象の組の補正値群を含む二以上の組の補正値群の、当該二以上の組の各々に対応する画像ユニット同士の主走査方向の距離に応じた重み付け平均値を算出し、前記対象の組の補正値群を前記重み付け平均値に更新することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の補正値の算出方法。 - 前記補正値算出工程では、前記複数の光ビームの各々に係る位置ずれ同士の間に所定の相関関係を仮定し、当該相関関係に基づいて前記第1補正値群を算出することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の補正値の算出方法。
- 前記検査画像形成工程では、前記複数の位相関係の各々について、前記種別及び前記位相関係が同一である2以上の前記個別検査画像を含む前記検査画像を形成することを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の補正値の算出方法。
- 前記検査画像形成工程では、濃度及び前記副走査方向についての空間周波数が前記個別検査画像と同等であり、かつ前記複数の光ビームとの間で干渉パターンを有しない複数の参照画像を含む前記検査画像を形成し、
前記補正値算出工程では、前記参照画像の濃度に応じて補正された前記個別検査画像の濃度情報に基づいて前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出することを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の補正値の算出方法。 - 読取手段により、所定の読取解像度、所定の空間フィルタ特性、及び画像領域の属性に応じた読取処理の設定に係る所定の領域判別設定で前記検査画像を読み取る読取工程を含み、
前記読取工程では、前記読取解像度、前記空間フィルタ特性及び前記領域判別設定のうち少なくとも一つを、前記個別検査画像との干渉が生じないように調整することを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の補正値の算出方法。 - 前記検査画像形成工程の前に、前記複数の光ビームの光量ばらつきを低減させる光量調整工程を含むことを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の補正値の算出方法。
- 前記複数の光ビームの各々による照射位置及び光量の少なくとも一方の変動を検出し、検出された変動の量に応じて前記第1補正値群に含まれる前記複数の第1補正値の少なくとも一部を修正する補正値修正工程を含むことを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載の補正値の算出方法。
- 感光体と、
複数の光ビームを射出する光源と、
前記感光体の表面を副走査方向に移動させる動作と、前記複数の光ビームにより前記感光体の表面を主走査方向に走査させる動作とを繰り返して前記感光体を露光し、当該露光により形成された静電潜像を現像して記録媒体に転写させることで画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段の動作を制御する画像形成制御手段と、
前記複数の光ビームの各々の位置ずれに起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第1補正値からなる第1補正値群、及び連続する前記走査における多重露光効果に起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第2補正値からなる第2補正値群を算出する補正値算出手段と、
を備え、
前記画像形成制御手段は、前記画像形成手段により、前記複数の光ビームとの干渉パターンが互いに異なる2以上の種別の個別検査画像が、それぞれ前記複数の光ビームに対して異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた検査画像を記録媒体に形成させ、
前記補正値算出手段は、
前記検査画像に含まれる前記個別検査画像の各々について、当該個別検査画像の前記種別及び前記位相関係に基づいて、前記第1補正値群のうち当該個別検査画像の濃度に影響を及ぼす前記光ビームの位置ずれに係る第1補正値と、前記第2補正値群のうち当該個別検査画像が対応する画像パターンに応じた前記多重露光効果の影響量に係る第2補正値との組合せを特定し、
前記検査画像の読取結果から得られた前記個別検査画像の各々の濃度に係る濃度情報と、前記個別検査画像の各々に対応する前記第1補正値及び前記第2補正値の前記組合せとに基づいて、前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出することを特徴とする画像形成装置。 - 前記画像の形成に用いられる画像データにおける画素の階調値を、前記第1補正値群のうち補正対象の画素に対応する第1補正値、及び前記第2補正値群のうち前記補正対象の画素に対応する第2補正値の少なくとも一方に基づいて補正する補正手段を備えることを特徴とする請求項12に記載の画像形成装置。
- 感光体と、複数の光ビームを射出する光源と、前記感光体の表面を副走査方向に移動させる動作と、前記複数の光ビームにより前記感光体の表面を主走査方向に走査させる動作とを繰り返して前記感光体を露光し、当該露光により形成された静電潜像を現像して記録媒体に転写させることで画像を形成する画像形成手段と、を備える画像形成装置のコンピューターを、
前記画像形成手段の動作を制御する画像形成制御手段、
前記複数の光ビームの各々の位置ずれに起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第1補正値からなる第1補正値群、及び連続する前記走査における多重露光効果に起因する濃度むらの補正に用いられる複数の第2補正値からなる第2補正値群を算出する補正値算出手段、
として機能させ、
前記画像形成制御手段は、前記複数の光ビームとの干渉パターンが互いに異なる2以上の種別の個別検査画像が、それぞれ前記複数の光ビームに対して異なる複数の位相関係を有するように複数設けられた検査画像を記録媒体に形成させ、
前記補正値算出手段は、
前記検査画像に含まれる前記個別検査画像の各々について、当該個別検査画像の前記種別及び前記位相関係に基づいて、前記第1補正値群のうち当該個別検査画像の濃度に影響を及ぼす前記光ビームの位置ずれに係る第1補正値と、前記第2補正値群のうち当該個別検査画像が対応する画像パターンに応じた前記多重露光効果の影響量に係る第2補正値との組合せを特定し、
前記検査画像の読取結果から得られた前記個別検査画像の各々の濃度に係る濃度情報と、前記個別検査画像の各々に対応する前記第1補正値及び前記第2補正値の前記組合せとに基づいて、前記第1補正値群及び前記第2補正値群を算出することを特徴とするプログラム。
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